JPH08262198A - Ｘ線多層膜反射鏡 - Google Patents
Ｘ線多層膜反射鏡Info
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- JPH08262198A JPH08262198A JP6797195A JP6797195A JPH08262198A JP H08262198 A JPH08262198 A JP H08262198A JP 6797195 A JP6797195 A JP 6797195A JP 6797195 A JP6797195 A JP 6797195A JP H08262198 A JPH08262198 A JP H08262198A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成により、軟Ｘ線が照射された際
に、Ｘ線多層膜反射鏡の反射率が低下しない安定したＸ
線多層膜反射鏡を提供することを目的とする。 【構成】 Ｘ線多層膜反射鏡１９は、モリブデン膜２２
とシリコン膜２３とからなる多層膜と、基板２０との間
に、相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１を形成した
ため、基板２０と多層膜との間の原子の相互拡散が防止
できる。その結果、上述した軟Ｘ線レーザの共振器のＸ
線多層膜反射鏡として利用できる。
に、Ｘ線多層膜反射鏡の反射率が低下しない安定したＸ
線多層膜反射鏡を提供することを目的とする。 【構成】 Ｘ線多層膜反射鏡１９は、モリブデン膜２２
とシリコン膜２３とからなる多層膜と、基板２０との間
に、相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１を形成した
ため、基板２０と多層膜との間の原子の相互拡散が防止
できる。その結果、上述した軟Ｘ線レーザの共振器のＸ
線多層膜反射鏡として利用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＵＶ〜軟Ｘ線（波長
λ：０．２ｎｍ＜λ＜３０ｎｍ、２オングストローム〜
３００オングストローム）領域の波長を有する光に対し
て用いられるＸ線多層膜反射鏡に関し、例えばＸ線レー
ザ、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ線顕微鏡等に用いられる光
学素子として有用である。特に、Ｘ線レーザの共振器の
出力ミラーに用いて有効である。
λ：０．２ｎｍ＜λ＜３０ｎｍ、２オングストローム〜
３００オングストローム）領域の波長を有する光に対し
て用いられるＸ線多層膜反射鏡に関し、例えばＸ線レー
ザ、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ線顕微鏡等に用いられる光
学素子として有用である。特に、Ｘ線レーザの共振器の
出力ミラーに用いて有効である。
【０００２】
【従来の技術】従来から、使用するＸ線の波長域での屈
折率と真空中での屈折率（ｎ＝１）との差が大きい物質
（低屈折率）と、その差が小さい物質（高屈折率）とを
交互に何層も積層することで、それらの界面である反射
面を多数設け、それぞれの界面からの反射波の位相が一
致するように、光学的干渉理論に基づいて、各層の厚さ
を調整したＸ線多層膜反射鏡が知られ、代表的なＸ線多
層反射膜としては、Ｍｏ（モリブデン）／Ｓｉ（シリコ
ン）、Ｗ（タングステン）／Ｃ（炭素）等の多層膜があ
る。
折率と真空中での屈折率（ｎ＝１）との差が大きい物質
（低屈折率）と、その差が小さい物質（高屈折率）とを
交互に何層も積層することで、それらの界面である反射
面を多数設け、それぞれの界面からの反射波の位相が一
致するように、光学的干渉理論に基づいて、各層の厚さ
を調整したＸ線多層膜反射鏡が知られ、代表的なＸ線多
層反射膜としては、Ｍｏ（モリブデン）／Ｓｉ（シリコ
ン）、Ｗ（タングステン）／Ｃ（炭素）等の多層膜があ
る。
【０００３】しかし、Ｘ線レーザの共振器のミラーなど
に用いると、そのＸ線の強度が高いため、Ｘ線の一部が
Ｘ線多層反射膜およびその基板に吸収され、Ｘ線多層膜
反射鏡の温度が上昇する。そのため、Ｘ線多層反射膜を
構成する２種類の薄膜の界面および基板と多層膜との界
面において、原子の相互拡散や化合物形成などの反応が
促進され、、短時間に多層膜の構造が劣化し、その結果
としてＸ線多層膜反射鏡の反射率が低下するという問題
が知られていた。
に用いると、そのＸ線の強度が高いため、Ｘ線の一部が
Ｘ線多層反射膜およびその基板に吸収され、Ｘ線多層膜
反射鏡の温度が上昇する。そのため、Ｘ線多層反射膜を
構成する２種類の薄膜の界面および基板と多層膜との界
面において、原子の相互拡散や化合物形成などの反応が
促進され、、短時間に多層膜の構造が劣化し、その結果
としてＸ線多層膜反射鏡の反射率が低下するという問題
が知られていた。
【０００４】そこで、従来は、特開平２−２４２２０１
号などに示されるように、モリブデンとシリコンからな
る多層膜の界面に、反応性スパッタにより形成した酸化
珪素（ＳｉＯ2 ）層を設けることや、特開平５−２３２
２９８号などに示されるように、モリブデンとシリコン
からなる多層膜において、そのシリコン膜の両界面を酸
化珪素だけで形成し、その内部はシリコンの組成比を徐
々に増加させる特殊な膜を形成することが提案されてい
る。
号などに示されるように、モリブデンとシリコンからな
る多層膜の界面に、反応性スパッタにより形成した酸化
珪素（ＳｉＯ2 ）層を設けることや、特開平５−２３２
２９８号などに示されるように、モリブデンとシリコン
からなる多層膜において、そのシリコン膜の両界面を酸
化珪素だけで形成し、その内部はシリコンの組成比を徐
々に増加させる特殊な膜を形成することが提案されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来方法においては、Ｘ線多層膜反射鏡の多層膜の界面に
おける原子の相互拡散などが改善されるが、Ｘ線多層膜
反射鏡を構成する要件の内、基板と多層膜との界面で
は、従来と同様な原子の相互拡散などにより、反射率が
劣化するという問題があった。
来方法においては、Ｘ線多層膜反射鏡の多層膜の界面に
おける原子の相互拡散などが改善されるが、Ｘ線多層膜
反射鏡を構成する要件の内、基板と多層膜との界面で
は、従来と同様な原子の相互拡散などにより、反射率が
劣化するという問題があった。
【０００６】また、Ｘ線レーザの共振器の出力ミラー
に、このようなＸ線多層膜反射鏡を用いる場合には、Ｘ
線多層膜反射鏡の基板の裏面側より、基板全体を除去
し、多層膜のみで構成する方法や、基板の裏面側より基
板の一部をエッチングし窓を形成する方法が提案されて
いる。ところが、このように形成したＸ線多層膜反射鏡
の多層膜に、縮み方向の内部応力が残っていると、多層
膜に、いわゆる皺が発生し、多層膜の界面が乱れ、反射
率が低下するという問題があった。
に、このようなＸ線多層膜反射鏡を用いる場合には、Ｘ
線多層膜反射鏡の基板の裏面側より、基板全体を除去
し、多層膜のみで構成する方法や、基板の裏面側より基
板の一部をエッチングし窓を形成する方法が提案されて
いる。ところが、このように形成したＸ線多層膜反射鏡
の多層膜に、縮み方向の内部応力が残っていると、多層
膜に、いわゆる皺が発生し、多層膜の界面が乱れ、反射
率が低下するという問題があった。
【０００７】本発明は、上記問題点を解決し、簡単な構
成により、軟Ｘ線等が照射された際に、Ｘ線多層膜反射
鏡の反射率が低下しない安定したＸ線多層膜反射鏡を提
供することを目的とする。
成により、軟Ｘ線等が照射された際に、Ｘ線多層膜反射
鏡の反射率が低下しない安定したＸ線多層膜反射鏡を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１では、Ｘ線を反
射させるべく基板の表面上に、高屈折率膜・低屈折率膜
を交互に多層積層した多層膜を有するＸ線多層膜反射鏡
において、 前記基板と前記多層膜との間に、前記基板
と前記多層膜との原子の相互拡散を防止する相互拡散防
止膜を設けたことを特徴とする。
射させるべく基板の表面上に、高屈折率膜・低屈折率膜
を交互に多層積層した多層膜を有するＸ線多層膜反射鏡
において、 前記基板と前記多層膜との間に、前記基板
と前記多層膜との原子の相互拡散を防止する相互拡散防
止膜を設けたことを特徴とする。
【０００９】請求項２では、前記請求項１において、前
記基板の裏面側の一部に出力窓を形成し、前記相互拡散
防止膜を露出させたことを特徴とする。請求項３では、
前記請求項２において、前記露出した相互拡散防止膜
は、Ｘ線を透過させることを特徴とする。請求項４で
は、前記請求項１において、前記相互拡散防止膜は、窒
化珪素（ＳｉＮ）であることを特徴とする。
記基板の裏面側の一部に出力窓を形成し、前記相互拡散
防止膜を露出させたことを特徴とする。請求項３では、
前記請求項２において、前記露出した相互拡散防止膜
は、Ｘ線を透過させることを特徴とする。請求項４で
は、前記請求項１において、前記相互拡散防止膜は、窒
化珪素（ＳｉＮ）であることを特徴とする。
【００１０】請求項５では、前記請求項１において、前
記相互拡散防止膜は、四窒化三珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）であ
ることを特徴とする。請求項６では、前記請求項１にお
いて、前記低屈折率膜は、モリブデンシリサイド（Ｍｏ
Ｓｉ2 ）であることを特徴とする。
記相互拡散防止膜は、四窒化三珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）であ
ることを特徴とする。請求項６では、前記請求項１にお
いて、前記低屈折率膜は、モリブデンシリサイド（Ｍｏ
Ｓｉ2 ）であることを特徴とする。
【００１１】
【発明の作用効果】本発明は、Ｘ線多層膜反射鏡の基板
と多層膜との間に、前記基板と前記多層膜との原子の相
互拡散を防止する相互拡散防止膜を設けたことにより、
基板と多層膜との界面における原子の相互拡散が防止で
きる。このため、従来に比較して、多種類の材料の基板
がＸ線多層膜反射鏡基板として利用できる。
と多層膜との間に、前記基板と前記多層膜との原子の相
互拡散を防止する相互拡散防止膜を設けたことにより、
基板と多層膜との界面における原子の相互拡散が防止で
きる。このため、従来に比較して、多種類の材料の基板
がＸ線多層膜反射鏡基板として利用できる。
【００１２】さらに基板の裏面側の一部に窓を形成し、
前記相互拡散防止膜を露出させた場合も、内部応力によ
る影響が小さくなり、出力窓部分に皺が発生しにくくな
る。
前記相互拡散防止膜を露出させた場合も、内部応力によ
る影響が小さくなり、出力窓部分に皺が発生しにくくな
る。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照しつつ
説明する。図１は、本発明のＸ線多層膜反射鏡を利用し
た軟Ｘ線レーザ発振装置の全体構成図である。ＹＡＧレ
ーザ装置１１から発振した励起用レーザ−光１２（波長
λ＝１．０６μｍ、パルス幅３ｎｓ、発振周期１０〜１
０００Ｈｚ、エネルギー出力２．３Ｊ）を、半透明反射
鏡１３で反射させて、軟Ｘ線レーザ発振装置１４内に導
入する。一方、半透明反射鏡１３を透過したレーザは、
レーザパワーモニター１５に入る。
説明する。図１は、本発明のＸ線多層膜反射鏡を利用し
た軟Ｘ線レーザ発振装置の全体構成図である。ＹＡＧレ
ーザ装置１１から発振した励起用レーザ−光１２（波長
λ＝１．０６μｍ、パルス幅３ｎｓ、発振周期１０〜１
０００Ｈｚ、エネルギー出力２．３Ｊ）を、半透明反射
鏡１３で反射させて、軟Ｘ線レーザ発振装置１４内に導
入する。一方、半透明反射鏡１３を透過したレーザは、
レーザパワーモニター１５に入る。
【００１４】励起用レーザー光１２は、装置１４内に設
けられたシリンドリカルレンズ１６により、固体ターゲ
ット１７表面において、５０μｍ以下の線幅の線状に、
いわゆるラインフォーカスさせて集光させる。図２は、
軟Ｘ線レーザの発振が得られる概念図である。アルミ製
の固体ターゲット１７の表面に、ラインフォーカスとし
て集光した励起用レーザ１２が照射されると、固体ター
ゲット１７の表面近傍２０に、高温プラズマが発生す
る。この高温プラズマ中の多価イオンが軟Ｘ線レーザの
媒質となり、この媒質から発生した光が、共振器として
両端に設けられた、後述する一対のＸ線多層膜反射鏡１
８、１９で反射され、媒質へ戻されて増幅されのを、何
度も繰り返すことにより強められたＸ線レーザ光の一部
が出力側のＸ線多層膜反射鏡１８の中央の窓部分からレ
ーザ光Ｌとして出力される。
けられたシリンドリカルレンズ１６により、固体ターゲ
ット１７表面において、５０μｍ以下の線幅の線状に、
いわゆるラインフォーカスさせて集光させる。図２は、
軟Ｘ線レーザの発振が得られる概念図である。アルミ製
の固体ターゲット１７の表面に、ラインフォーカスとし
て集光した励起用レーザ１２が照射されると、固体ター
ゲット１７の表面近傍２０に、高温プラズマが発生す
る。この高温プラズマ中の多価イオンが軟Ｘ線レーザの
媒質となり、この媒質から発生した光が、共振器として
両端に設けられた、後述する一対のＸ線多層膜反射鏡１
８、１９で反射され、媒質へ戻されて増幅されのを、何
度も繰り返すことにより強められたＸ線レーザ光の一部
が出力側のＸ線多層膜反射鏡１８の中央の窓部分からレ
ーザ光Ｌとして出力される。
【００１５】なお、この軟Ｘ線レーザ装置のターゲット
としては、特開平２−２５６２８５号に示されるような
表面に凹凸を設けたターゲットや、ドラム形状のターゲ
ットも利用可能である。次に、本発明のＸ線多層膜反射
鏡１８、１９について、図３に基づいて説明する。図３
（Ａ）は、軟Ｘ線レーザ発振装置の共振器としてのＸ線
多層膜反射鏡１９の断面図を示し、図３（Ｂ）は、軟Ｘ
線レーザ発振装置の出力側のＸ線多層膜反射鏡（出力窓
の形成された）１８の断面図を示す。
としては、特開平２−２５６２８５号に示されるような
表面に凹凸を設けたターゲットや、ドラム形状のターゲ
ットも利用可能である。次に、本発明のＸ線多層膜反射
鏡１８、１９について、図３に基づいて説明する。図３
（Ａ）は、軟Ｘ線レーザ発振装置の共振器としてのＸ線
多層膜反射鏡１９の断面図を示し、図３（Ｂ）は、軟Ｘ
線レーザ発振装置の出力側のＸ線多層膜反射鏡（出力窓
の形成された）１８の断面図を示す。
【００１６】ここで、このＸ線多層膜反射鏡１８、１９
の構成・製作方法を説明する。基板２０として、シリコ
ンウエハを用いた。シリコンウエハの裏側はウェットエ
ッチングする為に、あらかじめ研磨するとよい。基板２
０の表面に、相互拡散防止膜として、約１０００オング
ストローム程度の窒化珪素（ＳｉＮ、Ｓｉ3 Ｎ4 ）膜２
１、いわゆるシリコンナイトライドを、スパッタ法によ
り成膜する。
の構成・製作方法を説明する。基板２０として、シリコ
ンウエハを用いた。シリコンウエハの裏側はウェットエ
ッチングする為に、あらかじめ研磨するとよい。基板２
０の表面に、相互拡散防止膜として、約１０００オング
ストローム程度の窒化珪素（ＳｉＮ、Ｓｉ3 Ｎ4 ）膜２
１、いわゆるシリコンナイトライドを、スパッタ法によ
り成膜する。
【００１７】次に、このように相互拡散防止膜としての
窒化珪素膜２１を形成した後、窒化珪素膜２１の上に、
スッパタリングにより多層膜の低屈折率膜と高屈折率膜
となるモリブデン層２２とシリコン層２３を交互に積層
する。一対のモリブデン層２２とシリコン層２３は、膜
厚６５オングストロームで成膜され、これらを交互に５
０層ずつ積層して多層膜を成膜した。
窒化珪素膜２１を形成した後、窒化珪素膜２１の上に、
スッパタリングにより多層膜の低屈折率膜と高屈折率膜
となるモリブデン層２２とシリコン層２３を交互に積層
する。一対のモリブデン層２２とシリコン層２３は、膜
厚６５オングストロームで成膜され、これらを交互に５
０層ずつ積層して多層膜を成膜した。
【００１８】なお、多層膜を成膜する方法としては、公
知の方法を利用でき、例えば複数のターゲットが同時に
固定されるとともに、イオン源に対して回転可能なター
ゲットホルダを用いるスッパタ装置を利用し、まずモリ
ブデンターゲットにイオンビームを照射し、モリブデン
膜２２を、所定膜厚だけ成膜した後、ターゲットホルダ
を回転させ、シリコンターゲットにイオンビームを照射
してシリコン膜２３を所定膜厚だけ成膜する。
知の方法を利用でき、例えば複数のターゲットが同時に
固定されるとともに、イオン源に対して回転可能なター
ゲットホルダを用いるスッパタ装置を利用し、まずモリ
ブデンターゲットにイオンビームを照射し、モリブデン
膜２２を、所定膜厚だけ成膜した後、ターゲットホルダ
を回転させ、シリコンターゲットにイオンビームを照射
してシリコン膜２３を所定膜厚だけ成膜する。
【００１９】このようにして基板２０と窒化珪素膜２１
と多層膜とからＸ線多層膜反射鏡１９が製造される。こ
のＸ線多層膜反射鏡１９は、モリブデン膜２２とシリコ
ン膜２３とからなる多層膜と、基板２０との間に、相互
拡散防止膜としての窒化珪素膜２１を形成したため、基
板２０と多層膜との間の原子の相互拡散が防止できる。
その結果、上述した軟Ｘ線レーザの共振器のＸ線多層膜
反射鏡１９（図２参照）として利用できる。次に、図２
に示した軟Ｘ線レーザの出力側のＸ線多層膜反射鏡１８
について、図３（Ｂ）に基づいて説明する。
と多層膜とからＸ線多層膜反射鏡１９が製造される。こ
のＸ線多層膜反射鏡１９は、モリブデン膜２２とシリコ
ン膜２３とからなる多層膜と、基板２０との間に、相互
拡散防止膜としての窒化珪素膜２１を形成したため、基
板２０と多層膜との間の原子の相互拡散が防止できる。
その結果、上述した軟Ｘ線レーザの共振器のＸ線多層膜
反射鏡１９（図２参照）として利用できる。次に、図２
に示した軟Ｘ線レーザの出力側のＸ線多層膜反射鏡１８
について、図３（Ｂ）に基づいて説明する。
【００２０】図２（Ａ）に示したように、基板２０の表
面上に、相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１、多層
膜としてのモリブデン膜２２とシリコン膜２３を成膜す
る点は、上述したＸ線多層膜反射鏡１９と同じである。
その後、基板２０の裏面側から、ウエットエッチングに
より、出力窓２４を形成する。出力窓２４は、開口部分
の形状は、円形、または正方形で、その直径、または一
辺は約１ｍｍ程度である。この出力窓２４を介して、前
記相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１が露出してい
る。この時の窒化珪素膜２１の膜厚は、軟Ｘ線レーザ光
を透過できる程度の膜厚に設定され、かつ出力窓２４の
開口部分の多層膜に、皺が発生しない程度かつ過度の変
形が生じない程度の膜厚が好ましい。
面上に、相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１、多層
膜としてのモリブデン膜２２とシリコン膜２３を成膜す
る点は、上述したＸ線多層膜反射鏡１９と同じである。
その後、基板２０の裏面側から、ウエットエッチングに
より、出力窓２４を形成する。出力窓２４は、開口部分
の形状は、円形、または正方形で、その直径、または一
辺は約１ｍｍ程度である。この出力窓２４を介して、前
記相互拡散防止膜としての窒化珪素膜２１が露出してい
る。この時の窒化珪素膜２１の膜厚は、軟Ｘ線レーザ光
を透過できる程度の膜厚に設定され、かつ出力窓２４の
開口部分の多層膜に、皺が発生しない程度かつ過度の変
形が生じない程度の膜厚が好ましい。
【００２１】この出力窓２４を有するＸ線多層膜反射鏡
１８は、上記軟Ｘ線レーザ発振装置の共振器の出力側の
Ｘ線多層膜反射鏡として使用され、レーザー光Ｌが、上
記出力窓２４の開口部を透過して出力される。なお、上
記Ｘ線多層膜反射鏡１８、１９の多層膜は、多層膜間で
原子の相互拡散が生じる場合があるため、一旦多層膜を
全て成膜後、７００°Ｃ程度の熱処理を実施し、モリブ
デン膜２２を、モリブデンシリサイド（ＭｏＳｉ2 ）膜
に改質すると、より安定した多層膜、すなわち反射率の
劣化が少ない多層膜を作ることができる。また、多層膜
を全て成膜した後に熱処理する他に、多層膜の第１層の
モリブデン膜２２とシリコン膜２３を成膜後、この第１
層のみを熱処理し、モリブデン膜の全てを熱的に安定し
たモリブデンシリサイドに改質してもよい。なお、これ
らの様な熱処理を実施する場合は、シリコン膜の一部が
改質されるため、熱処理後にもシリコン膜が残るよう
に、予め膜厚を厚めに成膜する必要がある。
１８は、上記軟Ｘ線レーザ発振装置の共振器の出力側の
Ｘ線多層膜反射鏡として使用され、レーザー光Ｌが、上
記出力窓２４の開口部を透過して出力される。なお、上
記Ｘ線多層膜反射鏡１８、１９の多層膜は、多層膜間で
原子の相互拡散が生じる場合があるため、一旦多層膜を
全て成膜後、７００°Ｃ程度の熱処理を実施し、モリブ
デン膜２２を、モリブデンシリサイド（ＭｏＳｉ2 ）膜
に改質すると、より安定した多層膜、すなわち反射率の
劣化が少ない多層膜を作ることができる。また、多層膜
を全て成膜した後に熱処理する他に、多層膜の第１層の
モリブデン膜２２とシリコン膜２３を成膜後、この第１
層のみを熱処理し、モリブデン膜の全てを熱的に安定し
たモリブデンシリサイドに改質してもよい。なお、これ
らの様な熱処理を実施する場合は、シリコン膜の一部が
改質されるため、熱処理後にもシリコン膜が残るよう
に、予め膜厚を厚めに成膜する必要がある。
【００２２】ここで、多層膜を構成する低屈折率と高屈
折率の層としては、次のものを用いることができる。す
なわち低屈折率層としては、モリブデン、モリブデンシ
リサイドの他に、白金、金、イリジウム、鉄、ニッケ
ル、タングステン、タンタルなどが用いることができ、
高屈折率層としては、珪素（シリコン）の他に、炭素、
ベリリウムなどが用いることができる。
折率の層としては、次のものを用いることができる。す
なわち低屈折率層としては、モリブデン、モリブデンシ
リサイドの他に、白金、金、イリジウム、鉄、ニッケ
ル、タングステン、タンタルなどが用いることができ、
高屈折率層としては、珪素（シリコン）の他に、炭素、
ベリリウムなどが用いることができる。
【００２３】また、上記相互拡散防止膜としては、窒化
珪素膜、四窒化三珪素のほかに、珪素の酸化物、炭化物
でもよい。以上説明したように、Ｘ線多層膜反射鏡１９
は、モリブデン膜２２とシリコン膜２３とからなる多層
膜と、基板２０との間に、相互拡散防止膜としての窒化
珪素膜２１を形成したため、基板２０と多層膜との間の
原子の相互拡散が防止できる。その結果、上述した軟Ｘ
線レーザの共振器のＸ線多層膜反射鏡として利用でき
る。
珪素膜、四窒化三珪素のほかに、珪素の酸化物、炭化物
でもよい。以上説明したように、Ｘ線多層膜反射鏡１９
は、モリブデン膜２２とシリコン膜２３とからなる多層
膜と、基板２０との間に、相互拡散防止膜としての窒化
珪素膜２１を形成したため、基板２０と多層膜との間の
原子の相互拡散が防止できる。その結果、上述した軟Ｘ
線レーザの共振器のＸ線多層膜反射鏡として利用でき
る。
【図１】図１は、本発明のＸ線多層膜反射鏡を利用した
軟Ｘ線レーザ発振装置の全体構成図である。
軟Ｘ線レーザ発振装置の全体構成図である。
【図２】図２は、軟Ｘ線レーザ発振装置の発振が得られ
る概念図である。
る概念図である。
【図３】図３（Ａ）は、軟Ｘ線レーザ発振装置の共振器
としてのＸ線多層膜反射鏡１９の断面図を示し、図３
（Ｂ）は、軟Ｘ線レーザ発振装置の出力側のＸ線多層膜
反射鏡（出力窓の形成された）１８の断面図を示す。
としてのＸ線多層膜反射鏡１９の断面図を示し、図３
（Ｂ）は、軟Ｘ線レーザ発振装置の出力側のＸ線多層膜
反射鏡（出力窓の形成された）１８の断面図を示す。
１８ Ｘ線多層膜反射鏡 １９ Ｘ線多層膜反射鏡 ２０ 基板 ２１ 窒化珪素膜 ２２ モリブデン膜 ２３ シリコン膜
フロントページの続き (72)発明者 服部 正 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｘ線を反射させるべく基板の表面上に、
高屈折率膜・低屈折率膜を交互に多層積層した多層膜を
有するＸ線多層膜反射鏡において、 前記基板と前記多層膜との間に、前記基板と前記多層膜
との原子の相互拡散を防止する相互拡散防止膜を設けた
ことを特徴とするＸ線多層膜反射鏡。 - 【請求項２】 前記請求項１において、前記基板の裏面
側の一部に出力窓を形成し、前記相互拡散防止膜を露出
させたことを特徴とするＸ線多層膜反射鏡。 - 【請求項３】 前記請求項２において、前記露出した相
互拡散防止膜は、Ｘ線を透過させることを特徴とするＸ
線多層膜反射鏡。 - 【請求項４】 前記請求項１において、前記相互拡散防
止膜は、窒化珪素（ＳｉＮ）であることを特徴とするＸ
線多層膜反射鏡。 - 【請求項５】 前記請求項１において、前記相互拡散防
止膜は、四窒化三珪素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）であることを特徴
とするＸ線多層膜反射鏡。 - 【請求項６】 前記請求項１において、前記低屈折率膜
は、モリブデンシリサイド（ＭｏＳｉ2 ）であることを
特徴とするＸ線多層膜反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6797195A JPH08262198A (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6797195A JPH08262198A (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262198A true JPH08262198A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=13360391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6797195A Pending JPH08262198A (ja) | 1995-03-27 | 1995-03-27 | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08262198A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1675164A1 (en) * | 2003-10-15 | 2006-06-28 | Nikon Corporation | Multilayer film reflection mirror, production method for multilayer film reflection mirror, and exposure system |
| US7342715B2 (en) | 2004-03-26 | 2008-03-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Multilayer film reflector for soft X-rays and manufacturing method thereof |
| US7920323B2 (en) | 2004-12-23 | 2011-04-05 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Thermally stable multilayer mirror for the EUV spectral region |
| JP2013051400A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-14 | General Electric Co <Ge> | クレーザデバイス、撮像システムおよび撮像方法 |
-
1995
- 1995-03-27 JP JP6797195A patent/JPH08262198A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1675164A4 (en) * | 2003-10-15 | 2010-01-06 | Nikon Corp | MULTILAYER FILM REFLECTION MIRROR, METHOD OF MANUFACTURING A MULTILAYER FILM REFLECTION MIRROR AND EXPOSURE SYSTEM |
| US7706058B2 (en) | 2003-10-15 | 2010-04-27 | Nikon Corporation | Multilayer mirror, method for manufacturing the same, and exposure equipment |
| US7342715B2 (en) | 2004-03-26 | 2008-03-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Multilayer film reflector for soft X-rays and manufacturing method thereof |
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| JP2013051400A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-14 | General Electric Co <Ge> | クレーザデバイス、撮像システムおよび撮像方法 |
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