JPS63123000A - Ｘ線光学系のアライメント方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｘ線を回転体の内面で反射させて集光するよ
うにしたＸ線光学系におけるアライメント方法に関する
。

［従来の技術］ Ｘ線顕微鏡等において、Ｘ線を集光する手段として中空
の回転体が用いられているが、Ｘ線は該回転体の内面で
全反射されて集光され、試料等に照射される。この時、
該回転体は中空であり、その部分から試料に向うＸ線を
阻止するため、円盤状の遮蔽部材が設けられている。こ
の回転体や円盤状の遮蔽部材は、光軸に対して軸対称に
配置する必要があり、もし、この対称性が崩れると、回
転体の内面で反射された必要なＸ線が遮蔽されたり、逆
に、回転体の中空部分を通るＸ線が必要なＸ線と混ざり
合うことになる。そのため、実際の試料の顕微鏡Ｉｌｌ
察に先立って、回転体や遮蔽部材の正確なアライメント
が要求される。

［発明が解決しようとする問題点］ 上記アライメントは、Ｘ線源に代えて可視光源を配置し
、該光源からの可視光を回転体や遮蔽部材を含むＸ線光
学系に入射させ、該光学系を通つてきた可視光を観察す
ることによって行うことができるかもしれない。しかし
ながら、この可視光によってｘｍ光学系のアライメント
がある程度できたとしても、その後、可視光源に代えて
Ｘ線源を配置しなければならず、その際、光源とＸ線光
学系との位置関係が崩れてしまい、結果として、充分な
アライメントを行うことができない。

本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、光源の
交換を行うことなくアライメントを正確に行い得るＸ線
光学系のアライメント方法を提供することを目的として
いる。

［問題点を解決するための手段］ 本発明に基づくＸ線光学系のアライメント方法は、Ｘ線
発生源からのＸ線をその内面で反射させて集光する回転
面鏡と、該回転面鏡の中空部分を通過するＸ線を遮蔽す
る遮蔽部材とを備えたＸ線光学系において、該Ｘ線光学
系を通ったＸ線の光路上にＸ線穎像手段を配置し、該回
転面鏡によって反射されず該遮蔽部材によっても遮蔽さ
れないＸ線と、該回転面鏡によって反射されたＸ線とを
検出するようにしたことを特徴としている。

［実施例〕 以下本発明の一実施例を添附図面に基づいて詳述する。

図面は本発明を実施するＸ線光学系の一例を示しており
、図中１はＸ線管、２は電子銃、３は収束レンズ、４は
偏向コイル、５はＸｔａ発生ターゲット、６はＸ線透過
窓、７は回転双曲面鏡８と回転放物面１１９より成る回
転面鏡、１０はＸ線遮蔽板、１１はＸ線ビジコンカメラ
、１２は画像処理回路を含む制御装置、１３は偏向信号
発生回路、１４は該回転面鏡７の位置調整機構、１５は
該Ｘ線遮蔽板１０の位置調整機構、１６は陰極線管であ
る。

上述した如き構成において、電子銃２から発生した電子
線は、収束レンズ３によってＸ線発生ターゲット５上に
細く収束される。該ターゲットへの電子線の照射に伴っ
て発生したＸ線は、透過窓６を透過して回転面鏡７に向
う。該回転面ｍ７に向ったＸ線は、まず回転双曲面鏡８
によって全反射され、更に回転放物面鏡９の内面で全反
射されて集光される。この実施例では、２種の回転面鏡
によって全反射されたＸ線は、Ｘ線光軸０と平行に集光
される。該回転面鏡７の後段にはリング状のスリット１
０ｓを有したＸ線遮蔽板１０が配置されており、該スリ
ット１０ｓ以外の部分に入射するＸ線は該遮蔽板１０に
よって遮蔽される。該スリット１０ｓを通過したＸ線は
Ｘ線ビジコンカメラ１１に入射するが、該スリット１０
ｓを通過するＸ線は、図中細線で示す回転面鏡７によっ
て反射、集光されたＸ線Ｘ１と、回転面鏡７によって反
射されず、直接スリット１０ｓを通過するＸ線Ｘ２であ
る。

該Ｘ線ビジコンカメラ１１によって検出された映像信号
は、制御装置１２に供給され、その後、陰極線管１６に
供給されて該カメラ１１に入射するＸ線の像が表示され
る。該ｘＩｉ像は、内側に回転面鏡７によって反射され
たＸ　［Ｉ　Ｘ　１の像が表示され、外側に直接スリッ
ト１０ｓを通過したＸ線Ｘ２の像が表示される。この２
種のリング状の像Ｘ１．Ｘｚが正確に同心円となってい
る場合には、Ｘ線発生ターゲット５上の電子線の照射位
置（Ｘ線発生点）１回転面鏡７およびＸ線遮蔽板とが正
確にアライメントされていることになり、一方、２種の
リング状の像が同心となっていなかったり、又、リング
状の像が歪んでいたりした場合には、Ｘ線光源を含むＸ
線光学系のアライメントが正確になされていないことに
なる。この実施例では、ビジコンカメラの検出信号が制
御装置１２に供給され、該制ｔｉｔ装置内部の画像処理
回路によって像の解析が行われ、この像の状態に応じて
制御装置１２は、偏向信号発生回路１３を制御し、Ｘ線
管１の偏向コイルに適宜な偏向信号を供給してＸ線発生
ターゲット５上の電子線照射位置を変化させてＸ線光源
の位置の調整を行う。更に、該制御装置１２は、回転面
鏡７とＸ線遮蔽板１０の機械的な位置調整機構１４．１
５に制御信号を供給し、該回転面鏡７とＸ線遮蔽板１０
の位置を調整し、２種のＸ線像Ｘ＋　、Ｘ２が同心円と
なるように制御している。

このように、２種のＸ線像に基づいてＸ線光学系のアラ
イメントを行った後、Ｘ線ビジコンカメラ１１ばＸ線の
通路上から取り除かれ、回転面鏡７によって反射集光さ
れたＸ線は後段の別のＸ線集光系によって集光され、観
察試料に照射されて試料のｖＡ察が行われる。なお、こ
のとき、回転面鏡７によって反射されずにｘｉ″！ＩＸ
蔽板１０のスリット１０ｓを通過するＸ　ＩＩＡＸ　２
を遮蔽するため、別個のＸ線遮蔽部材をカメラ１１に代
えて配置することは望ましい。

以上本発明の一実施例を上述したが、本発明はこの実施
例に限定されず幾多の変形が可能である。

例えば、ｘｉ（ｇｌの画像処理を行い、制御装置によっ
てＸ線管や回転面鏡等の調整を自動的に行ったが、陰極
線管に表示されたｘｓｓｍを観察しながら、手動にてＸ
ｔＱ光学系の各要素を制御１１するようにしても良い。

又、回転面鏡として回転双曲面鏡や回転放物面鏡を用い
たが、他の回転面鏡を用いた光学系にも本発明を適用す
ることができる。

［効果〕 本発明においては、アライメントすべき光学系の後段に
Ｘ線撮像手段を配置するようにしたので、アライメント
時と実際の試料の顕微鏡観察等の時とで光源を交換する
必要がなく、正確にアライメントを行うことができる。

【図面の簡単な説明】

添附図面は、本発明を実施するためのＸ線システムの一
例を示す図である。 １・・・Ｘ線管　　　　　　２・・・電子銃３・・・収
束レンズ　　　　４・・・偏向コイル５・・・Ｘ線発生
ターゲット ６・・・Ｘ線透過窓　　　　７・・・回転面鏡８・・・
回転双曲面鏡８　９・・・回転放物面鏡１０・・・Ｘ線
遮蔽板 １１・・・Ｘ線ビジコンカメラ １２・・・制御装置 １３・・・偏向信号発生回路 １４・・・回転面ｖＬ７の位置調整機構１５・・・Ｘ線
遮蔽板１０の位置調整機構１６・・・陰極線管

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）Ｘ線発生源からのＸ線をその内面で反射させて集
   光する回転面鏡と、該回転面鏡の中空部分を通過するＸ
   線を遮蔽する遮蔽部材とを備えたＸ線光学系において、
   該Ｘ線光学系を通つたＸ線の光路上にＸ線撮像手段を配
   置し、該回転面鏡によって反射されず該遮蔽部材によっ
   ても遮蔽されないＸ線と、該回転面鏡によって反射され
   たＸ線とを検出するようにしたＸ線光学系のアライメン
   ト方法。
2. （２）該撮像手段からの検出信号の画像を分析して自動
   的に該光学系の機械的配置を調整するようにした特許請
   求の範囲第１項記載のＸ線光学系のアライメント方法。