JP3276486B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP3276486B2 JP3276486B2 JP28264493A JP28264493A JP3276486B2 JP 3276486 B2 JP3276486 B2 JP 3276486B2 JP 28264493 A JP28264493 A JP 28264493A JP 28264493 A JP28264493 A JP 28264493A JP 3276486 B2 JP3276486 B2 JP 3276486B2
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- refracting
- optical axis
- peripheral side
- exposure apparatus
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は同心円状の周期的グレー
ティングパターンを露光する装置に関するものである。
ティングパターンを露光する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、グレーティングレンズやフレネル
レンズ、同心円グレーティングカプラや同心円集光グレ
ーティングカプラなどの平面構成の新しい光学素子の研
究開発が盛んであり、これらの光学素子を作成するため
の同心円状の周期的グレーティングパターンの露光法，
露光装置の研究開発も活発にされている。特に、グレー
ティングレンズやフレネルレンズ、同心円集光グレーテ
ィングカプラで必要とされるグレーティングは外周に向
かうほど狭ピッチとなるものである。
レンズ、同心円グレーティングカプラや同心円集光グレ
ーティングカプラなどの平面構成の新しい光学素子の研
究開発が盛んであり、これらの光学素子を作成するため
の同心円状の周期的グレーティングパターンの露光法，
露光装置の研究開発も活発にされている。特に、グレー
ティングレンズやフレネルレンズ、同心円集光グレーテ
ィングカプラで必要とされるグレーティングは外周に向
かうほど狭ピッチとなるものである。
【０００３】以下、図面を参照しながら、上記した従来
のグレーティングパターン露光装置の一例について、特
開平３−47878号公報を引用して説明する。図３はこの
従来例における露光装置の構成を示す断面図である。図
３において、１はレーザー光源、２はシャッター、３は
可変アッテネータ、４は１／４波長板、５はビーム拡大
レンズ、６は空間フィルター、７はコリメーションレン
ズ、８はＮＤフィルター、９は干渉レンズ、10は試料基
板、11は試料基板10上に形成された感光膜、12はレーザ
光の光軸である。
のグレーティングパターン露光装置の一例について、特
開平３−47878号公報を引用して説明する。図３はこの
従来例における露光装置の構成を示す断面図である。図
３において、１はレーザー光源、２はシャッター、３は
可変アッテネータ、４は１／４波長板、５はビーム拡大
レンズ、６は空間フィルター、７はコリメーションレン
ズ、８はＮＤフィルター、９は干渉レンズ、10は試料基
板、11は試料基板10上に形成された感光膜、12はレーザ
光の光軸である。
【０００４】ＮＤフィルター８は光軸を中心とする円を
境に透過率の異なるフィルターであり、その対称軸(中
心軸)は図示せざるＸＹ軸ステージにより干渉レンズ９
の中心軸９Ｌに一致するよう調整されている。干渉レン
ズ９は中心軸９Ｌに対し回転対称な形状をなし、入射面
９Ｐは平面、出射面９Ｓは円錐面に近く、凸面の内周側
で凹面をなす回転面である。また、干渉レンズ９は図示
せざるＸＹ軸ステージ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成さ
れ、これらのステージにより中心軸９Ｌがレーザ光源１
からのレーザー光の光軸12に一致するように調整され
る。試料基板10は図示せざるＸＹＺ軸ステージ，ＸＹ軸
傾斜ステージ上に構成され、基板表面が中心軸９Ｌと直
交するとともに試料基板10を中心軸９Ｌ、すなわち矢印
13に沿って動かすことができる。
境に透過率の異なるフィルターであり、その対称軸(中
心軸)は図示せざるＸＹ軸ステージにより干渉レンズ９
の中心軸９Ｌに一致するよう調整されている。干渉レン
ズ９は中心軸９Ｌに対し回転対称な形状をなし、入射面
９Ｐは平面、出射面９Ｓは円錐面に近く、凸面の内周側
で凹面をなす回転面である。また、干渉レンズ９は図示
せざるＸＹ軸ステージ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成さ
れ、これらのステージにより中心軸９Ｌがレーザ光源１
からのレーザー光の光軸12に一致するように調整され
る。試料基板10は図示せざるＸＹＺ軸ステージ，ＸＹ軸
傾斜ステージ上に構成され、基板表面が中心軸９Ｌと直
交するとともに試料基板10を中心軸９Ｌ、すなわち矢印
13に沿って動かすことができる。
【０００５】以上のように構成された従来の露光装置に
ついて、その動作を説明する。
ついて、その動作を説明する。
【０００６】図３において、レーザー光源１を出射する
波長λのレーザー光はシャッター２により光の通過を制
御され、可変アッテネータ３により光量を段階的に調整
される。また１／４波長板４を透過することで円偏光に
変換され、ビーム拡大レンズ５により集束光に変換され
て空間フィルター６の円形スリット内に集光し、これを
通過してコリメーションレンズ７によりビーム径の拡大
された平面波に変換される。
波長λのレーザー光はシャッター２により光の通過を制
御され、可変アッテネータ３により光量を段階的に調整
される。また１／４波長板４を透過することで円偏光に
変換され、ビーム拡大レンズ５により集束光に変換され
て空間フィルター６の円形スリット内に集光し、これを
通過してコリメーションレンズ７によりビーム径の拡大
された平面波に変換される。
【０００７】この平面波はＮＤフィルター８を経てその
一部が減衰され、干渉レンズ９の入射面９Ｐに垂直入射
し、出射面９Ｓを光束12a，12b，12Ａ，12Ｂのごとく屈
折して感光膜11上に入射する。
一部が減衰され、干渉レンズ９の入射面９Ｐに垂直入射
し、出射面９Ｓを光束12a，12b，12Ａ，12Ｂのごとく屈
折して感光膜11上に入射する。
【０００８】１／４波長板４の挿入は光を円偏光にする
ことでベクトル波としての光の回転対称性、すなわち干
渉縞の回転対称性を保つためであり、直線偏光のままで
屈折することによる (1)屈折光量が光の振動面と屈折面
法線の方位関係に依存し、屈折位置(偏角)に応じた強弱
が発生すること、(2)屈折光の斜入射に伴う露光面での
干渉が光の振動面方位に依存すること、などの問題を回
避できる効果がある。
ことでベクトル波としての光の回転対称性、すなわち干
渉縞の回転対称性を保つためであり、直線偏光のままで
屈折することによる (1)屈折光量が光の振動面と屈折面
法線の方位関係に依存し、屈折位置(偏角)に応じた強弱
が発生すること、(2)屈折光の斜入射に伴う露光面での
干渉が光の振動面方位に依存すること、などの問題を回
避できる効果がある。
【０００９】光束12aと12Ａおよび12bと12Ｂは、それぞ
れ中心軸９Ｌに対する同一円周上の対角に位置し、感光
膜11上で光束12aはこれより内周側の光束12Ｂと、光束1
2Ａはこれより内周側の光束12bと干渉し、全体として中
心軸９Ｌを中心とする同心円の干渉縞を形成する。その
露光パターンを現像すれば、同心円の周期的グレーティ
ングパターンが得られる。
れ中心軸９Ｌに対する同一円周上の対角に位置し、感光
膜11上で光束12aはこれより内周側の光束12Ｂと、光束1
2Ａはこれより内周側の光束12bと干渉し、全体として中
心軸９Ｌを中心とする同心円の干渉縞を形成する。その
露光パターンを現像すれば、同心円の周期的グレーティ
ングパターンが得られる。
【００１０】図４(a)は周期的パターン形成原理を示す
図であり、図４(b)は現像後のグレーティングを示す断
面図である。図４(a)に示すように感光膜11にθA，θB
の角で入射する２つの光束12a，12Ｂにより生ずる干渉
縞は、この面上で入射面を含む方向(動径方向)に(数１)
の周期Λを持つ。
図であり、図４(b)は現像後のグレーティングを示す断
面図である。図４(a)に示すように感光膜11にθA，θB
の角で入射する２つの光束12a，12Ｂにより生ずる干渉
縞は、この面上で入射面を含む方向(動径方向)に(数１)
の周期Λを持つ。
【００１１】
【数１】Λ／λ＝１／(sinθA＋sinθB) 感光膜11の現像後には、図４(b)に示すような同心円状
のグレーティング14が得られる。
のグレーティング14が得られる。
【００１２】図５は従来例における露光装置の屈折光の
光線追跡図である。屈折面は点Ｐの外側で凸面、内側で
凹面をなす。したがって、点Ｐの外周側を屈折する光束
12a，12Ａは集束性の光となり、内周側を屈折する光束1
2ｂ，12Ｂは発散性の光となる。したがって、感光膜11
では外周に向かうほど光束12a，12Ａと12b，12Ｂの入射
角が大きくなるので、(数１)よりグレーティングの周期
Λは外周に向かうほど小さくなる。すなわち、凸面と凹
面での屈折波の干渉によって、グレーティングレンズや
同心円集光グレーティングカプラなどの回折素子で必要
とされる、外周に向かうほど狭ピッチとなるグレーティ
ング14を作製できる。
光線追跡図である。屈折面は点Ｐの外側で凸面、内側で
凹面をなす。したがって、点Ｐの外周側を屈折する光束
12a，12Ａは集束性の光となり、内周側を屈折する光束1
2ｂ，12Ｂは発散性の光となる。したがって、感光膜11
では外周に向かうほど光束12a，12Ａと12b，12Ｂの入射
角が大きくなるので、(数１)よりグレーティングの周期
Λは外周に向かうほど小さくなる。すなわち、凸面と凹
面での屈折波の干渉によって、グレーティングレンズや
同心円集光グレーティングカプラなどの回折素子で必要
とされる、外周に向かうほど狭ピッチとなるグレーティ
ング14を作製できる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の露光
装置において以下の問題点があった。
装置において以下の問題点があった。
【００１４】すなわち図５で明らかなように、感光膜11
での光束の光強度は屈折前の各光束の断面積に比例する
ので、屈折前での光強度が一様(ＮＤフィルター８がな
い状態)であれば、感光膜11では２光束(12a，12Ｂ)間の
光強度が大きく異なり、コントラストの低下を引き起こ
す。したがって、点Ｐの外周側に対応する位置の透過光
量を減衰させるＮＤフィルター８を挿入することで、２
光束間の光強度を揃えさせ、コントラストを改善させな
ければならない。このようなＮＤフィルター８は図５に
示すようにフィルター部に金属薄膜８aを成膜して作製
するが、金属薄膜にピンホールが発生し易く、これがス
ペックル発生の原因となり、良好なグレーティングパタ
ーンの作製を困難にしている。
での光束の光強度は屈折前の各光束の断面積に比例する
ので、屈折前での光強度が一様(ＮＤフィルター８がな
い状態)であれば、感光膜11では２光束(12a，12Ｂ)間の
光強度が大きく異なり、コントラストの低下を引き起こ
す。したがって、点Ｐの外周側に対応する位置の透過光
量を減衰させるＮＤフィルター８を挿入することで、２
光束間の光強度を揃えさせ、コントラストを改善させな
ければならない。このようなＮＤフィルター８は図５に
示すようにフィルター部に金属薄膜８aを成膜して作製
するが、金属薄膜にピンホールが発生し易く、これがス
ペックル発生の原因となり、良好なグレーティングパタ
ーンの作製を困難にしている。
【００１５】また凹面を屈折する光束12Ｂは発散性なの
で、凹面部の幅は露光部の幅よりも狭くなる。例えば露
光部の幅を１mm程度とすると、凹面部の幅は100〜200ミ
クロンといった大きさであり、この領域での傷や僅かな
形状誤差がグレーティングのピッチ変調特性(半径に対
するピッチの関係)に与える影響が大きい。すなわち、
干渉レンズ９の凹面部における加工精度がかなり厳しい
ものとなっている。
で、凹面部の幅は露光部の幅よりも狭くなる。例えば露
光部の幅を１mm程度とすると、凹面部の幅は100〜200ミ
クロンといった大きさであり、この領域での傷や僅かな
形状誤差がグレーティングのピッチ変調特性(半径に対
するピッチの関係)に与える影響が大きい。すなわち、
干渉レンズ９の凹面部における加工精度がかなり厳しい
ものとなっている。
【００１６】本発明はかかる問題点に鑑み、ＮＤフィル
ターがなくともコントラストの高い露光を実現でき、露
光に関与する屈折部の幅も広く、精度と均一性の良好な
同心円状周期パターンを露光する装置を提供することを
目的とする。
ターがなくともコントラストの高い露光を実現でき、露
光に関与する屈折部の幅も広く、精度と均一性の良好な
同心円状周期パターンを露光する装置を提供することを
目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を解
決し、目的を達成するために、レーザー光源から出射す
るレーザー光を透過、屈折する屈折体と、レーザー光の
光軸にほぼ直交する平板上に形成された感光膜とからな
り、屈折体の屈折面は光軸を軸とする回転面であり、屈
折面の各対角母線を屈折する光束が光軸近傍で交差，干
渉して光軸法平面上で同心円状の周期的明暗縞をなし、
この明暗縞が前記感光膜を感光するものであり、屈折面
は２つの凸面(または凹面と凸面)を含み、外周側の凸面
(または凹面)を屈折し光軸を通過した後の光束Ａと、対
角位置にある内周側の凸面を屈折し光軸を通過する前の
光束Ｂとの干渉で明暗縞が得られ、干渉面上で光束Ａは
発散光、光束Ｂは集束光であることを特徴とする。
決し、目的を達成するために、レーザー光源から出射す
るレーザー光を透過、屈折する屈折体と、レーザー光の
光軸にほぼ直交する平板上に形成された感光膜とからな
り、屈折体の屈折面は光軸を軸とする回転面であり、屈
折面の各対角母線を屈折する光束が光軸近傍で交差，干
渉して光軸法平面上で同心円状の周期的明暗縞をなし、
この明暗縞が前記感光膜を感光するものであり、屈折面
は２つの凸面(または凹面と凸面)を含み、外周側の凸面
(または凹面)を屈折し光軸を通過した後の光束Ａと、対
角位置にある内周側の凸面を屈折し光軸を通過する前の
光束Ｂとの干渉で明暗縞が得られ、干渉面上で光束Ａは
発散光、光束Ｂは集束光であることを特徴とする。
【００１８】
【作用】本発明によれば、屈折面の各対角母線を屈折す
る光束が光軸近傍で交差、干渉して光軸法平面上で同心
円状の周期的明暗縞をなし、この明暗縞が感光膜を露光
することとなる。光束Ａは光軸を通過し干渉面上で発散
光となるので、干渉面に対する入射角は外周になるほど
大きくなる。集束光の光束Ｂは光軸を通過する前に干渉
面に入射するので、その入射角も外周になるほど大きく
なる。したがって、干渉縞のピッチが動径の増大に伴っ
て効果的に狭くなる。
る光束が光軸近傍で交差、干渉して光軸法平面上で同心
円状の周期的明暗縞をなし、この明暗縞が感光膜を露光
することとなる。光束Ａは光軸を通過し干渉面上で発散
光となるので、干渉面に対する入射角は外周になるほど
大きくなる。集束光の光束Ｂは光軸を通過する前に干渉
面に入射するので、その入射角も外周になるほど大きく
なる。したがって、干渉縞のピッチが動径の増大に伴っ
て効果的に狭くなる。
【００１９】
【実施例】図１は本発明の一実施例における露光装置の
構成を示す断面図である。図１において、従来例と同一
の部材には同一番号を付して説明する。本発明の一実施
例は干渉レンズ９の母線形状が異なることとＮＤフィル
ター８がないこと以外は、その構成が従来例と同じであ
る。干渉レンズ９は中心軸９Ｌに対し回転対称な形状を
なし、入射面９Ｐは平面、出射面９Ｓは円錐面に近い回
転面である。干渉レンズ９は、図示せざるＸＹ軸ステー
ジ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成され、これらのステー
ジにより中心軸９Ｌがレーザ光源１からのレーザー光の
光軸12に一致するように調整される。試料基板10は図示
せざるＸＹＺ軸ステージ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成
され、基板表面が中心軸９Ｌと直交するとともに試料基
板10を中心軸９Ｌ、すなわち矢印13に沿って動かすこと
ができる。
構成を示す断面図である。図１において、従来例と同一
の部材には同一番号を付して説明する。本発明の一実施
例は干渉レンズ９の母線形状が異なることとＮＤフィル
ター８がないこと以外は、その構成が従来例と同じであ
る。干渉レンズ９は中心軸９Ｌに対し回転対称な形状を
なし、入射面９Ｐは平面、出射面９Ｓは円錐面に近い回
転面である。干渉レンズ９は、図示せざるＸＹ軸ステー
ジ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成され、これらのステー
ジにより中心軸９Ｌがレーザ光源１からのレーザー光の
光軸12に一致するように調整される。試料基板10は図示
せざるＸＹＺ軸ステージ，ＸＹ軸傾斜ステージ上に構成
され、基板表面が中心軸９Ｌと直交するとともに試料基
板10を中心軸９Ｌ、すなわち矢印13に沿って動かすこと
ができる。
【００２０】以上のように構成された露光装置につい
て、以下、その動作を説明する。
て、以下、その動作を説明する。
【００２１】図１において、レーザー光源１を出射する
レーザー光はシャッター２により光の通過を制御され、
可変アッテネータ３により光量を段階的に調整される。
また１／４波長板４を透過することで円偏光に、ビーム
拡大レンズ５により集束光に変換され、空間フィルター
６の円形スリット内に集光し、これを通過してコリメー
ションレンズ７によりビーム径の拡大された平面波に変
換される。
レーザー光はシャッター２により光の通過を制御され、
可変アッテネータ３により光量を段階的に調整される。
また１／４波長板４を透過することで円偏光に、ビーム
拡大レンズ５により集束光に変換され、空間フィルター
６の円形スリット内に集光し、これを通過してコリメー
ションレンズ７によりビーム径の拡大された平面波に変
換される。
【００２２】この平面波は干渉レンズ９の入射面９Ｐに
垂直入射し、出射面９Ｓを光束12a，12b，12Ａ，12Ｂの
ごとく屈折して感光膜11上に入射する。光束12aと12Ａ
および12bと12Ｂは中心軸９Ｌに対し、それぞれ同一円
周上の対角位置にあり、感光膜11上で光束12aはこれよ
り内周側の光束12Ｂと、光束12Ａはこれより内周側の光
束12bと干渉し、全体として中心軸９Ｌを中心とする同
心円の干渉縞を形成する。この露光パターンを現像すれ
ば、同心円の周期的グレーティングパターンが得られ
る。
垂直入射し、出射面９Ｓを光束12a，12b，12Ａ，12Ｂの
ごとく屈折して感光膜11上に入射する。光束12aと12Ａ
および12bと12Ｂは中心軸９Ｌに対し、それぞれ同一円
周上の対角位置にあり、感光膜11上で光束12aはこれよ
り内周側の光束12Ｂと、光束12Ａはこれより内周側の光
束12bと干渉し、全体として中心軸９Ｌを中心とする同
心円の干渉縞を形成する。この露光パターンを現像すれ
ば、同心円の周期的グレーティングパターンが得られ
る。
【００２３】図２は本発明の一実施例における露光装置
の屈折光の光線追跡図である。屈折面は点Ｐの外側で凸
面、内側でも凸面をなす。点Ｐの外周側を屈折する光束
12a，12Ａは集束性の光であるが、集束点を経て感光膜1
1上では発散性の光となる。内周側を屈折する光束12b、
12Ｂは集束性の光であり、集束光のまま感光膜11上に至
る。また、屈折面の母線は点Ｐを境に屈曲しており、母
線接線と中心軸９Ｌのなす角が点Ｐの外側で小さくなっ
ている。このため、点Ｐの外周側では全反射に近く屈折
角も大きいので、光束12a，12Ａは感光膜11の手前で中
心軸９Ｌと交差することができる。これに対し、点Ｐの
内周側では屈折角が小さく、光束12b，12Ｂは中心軸９
Ｌと交差する前に感光膜11に至る。このとき、感光膜11
では外周に向かうほど光束12a，12Ａと12b，12Ｂの入射
角が大きくなるので、(数１)よりグレーティング14(図
４(b)参照)の周期Λは外周に向かうほど小さくなる。す
なわち、本実施例によりグレーティングレンズや同心円
集光グレーティングカプラなどの回折素子で必要とされ
る、外周に向かうほど狭ピッチとなるグレーティングを
作製できる。
の屈折光の光線追跡図である。屈折面は点Ｐの外側で凸
面、内側でも凸面をなす。点Ｐの外周側を屈折する光束
12a，12Ａは集束性の光であるが、集束点を経て感光膜1
1上では発散性の光となる。内周側を屈折する光束12b、
12Ｂは集束性の光であり、集束光のまま感光膜11上に至
る。また、屈折面の母線は点Ｐを境に屈曲しており、母
線接線と中心軸９Ｌのなす角が点Ｐの外側で小さくなっ
ている。このため、点Ｐの外周側では全反射に近く屈折
角も大きいので、光束12a，12Ａは感光膜11の手前で中
心軸９Ｌと交差することができる。これに対し、点Ｐの
内周側では屈折角が小さく、光束12b，12Ｂは中心軸９
Ｌと交差する前に感光膜11に至る。このとき、感光膜11
では外周に向かうほど光束12a，12Ａと12b，12Ｂの入射
角が大きくなるので、(数１)よりグレーティング14(図
４(b)参照)の周期Λは外周に向かうほど小さくなる。す
なわち、本実施例によりグレーティングレンズや同心円
集光グレーティングカプラなどの回折素子で必要とされ
る、外周に向かうほど狭ピッチとなるグレーティングを
作製できる。
【００２４】感光膜11での各光束の光強度は屈折前の光
束の断面積に比例する。図２で明らかなように、２光束
(12a，12Ｂ)の屈折前の断面積には大きな差がない。し
たがって、ＮＤフィルター８がなくとも、感光膜11では
２光束(12a，12Ｂ)間の光強度に大きな差はなく、干渉
のコントラストは高い。これは光束12Ｂに集束光を用い
たので、従来例に比べ屈折前の光束の断面積を大きくで
きたことによる。また屈折部の幅も広いので、この領域
での傷や形状誤差がグレーティングのピッチ変調特性
(半径に対するピッチの関係)に与える影響は小さい。
束の断面積に比例する。図２で明らかなように、２光束
(12a，12Ｂ)の屈折前の断面積には大きな差がない。し
たがって、ＮＤフィルター８がなくとも、感光膜11では
２光束(12a，12Ｂ)間の光強度に大きな差はなく、干渉
のコントラストは高い。これは光束12Ｂに集束光を用い
たので、従来例に比べ屈折前の光束の断面積を大きくで
きたことによる。また屈折部の幅も広いので、この領域
での傷や形状誤差がグレーティングのピッチ変調特性
(半径に対するピッチの関係)に与える影響は小さい。
【００２５】なお、上記実施例では点Ｐの外側で凸面の
屈折面としたが、凹面であってもよい。このとき、点Ｐ
の外周側を屈折する光束12a，12Ａは発散性の光であ
り、発散光のまま感光膜11上に至る。上記実施例と同じ
く、光束12a，12Ａが感光膜11の手前で中心軸９Ｌと交
差すれば、感光膜11上での光束12a，12Ａの入射角は外
周に向かうほど大きくなる。したがって、(数１)よりグ
レーティングの周期Λは外周に向かうほど小さくでき、
上記実施例と同一の効果が得られる。
屈折面としたが、凹面であってもよい。このとき、点Ｐ
の外周側を屈折する光束12a，12Ａは発散性の光であ
り、発散光のまま感光膜11上に至る。上記実施例と同じ
く、光束12a，12Ａが感光膜11の手前で中心軸９Ｌと交
差すれば、感光膜11上での光束12a，12Ａの入射角は外
周に向かうほど大きくなる。したがって、(数１)よりグ
レーティングの周期Λは外周に向かうほど小さくでき、
上記実施例と同一の効果が得られる。
【００２６】また、上記実施例で光束12a，12Ａは感光
膜11の手前で中心軸９Ｌと交差することができたのは、
点Ｐで母線形状を屈曲させ外周側での屈折角を大きくさ
せたことによるが、この屈曲は外周側での屈折角を大き
くできるのであれば不連続な曲げ方であってもよい。
膜11の手前で中心軸９Ｌと交差することができたのは、
点Ｐで母線形状を屈曲させ外周側での屈折角を大きくさ
せたことによるが、この屈曲は外周側での屈折角を大き
くできるのであれば不連続な曲げ方であってもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光装置
は、ＮＤフィルターがなくともコントラストの高い露光
を実現でき、露光に関与する屈折部の幅も広いので、精
度と均一性の良好な同心円状周期グレーティングパター
ンを露光できる。
は、ＮＤフィルターがなくともコントラストの高い露光
を実現でき、露光に関与する屈折部の幅も広いので、精
度と均一性の良好な同心円状周期グレーティングパター
ンを露光できる。
【図１】本発明の一実施例における露光装置の構成を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】本発明の一実施例における露光装置の屈折光の
光線追跡図である。
光線追跡図である。
【図３】従来例における露光装置の構成を示す断面図で
ある。
ある。
【図４】周期的パターン形成原理を示す図(a)と現像後
のグレーティングを示す断面図(b)である。
のグレーティングを示す断面図(b)である。
【図５】従来例における露光装置の屈折光の光線追跡図
である。
である。
１…レーザー光源、 ２…シャッター、 ３…可変アッ
テネータ、 ４…１／４波長板、 ５…ビーム拡大レン
ズ、 ６…空間フィルター、 ７…コリメーションレン
ズ、 ９…干渉レンズ、 10…試料基板、 11…感光
膜、 12Ａ，12Ｂ，12a，12b…光束。
テネータ、 ４…１／４波長板、 ５…ビーム拡大レン
ズ、 ６…空間フィルター、 ７…コリメーションレン
ズ、 ９…干渉レンズ、 10…試料基板、 11…感光
膜、 12Ａ，12Ｂ，12a，12b…光束。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大嶋 希代子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−90185（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−177101（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−144001（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−77782（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−283750（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/18 G03F 7/20 505
Claims (6)
- 【請求項１】 レーザー光源から出射するレーザー光を
透過、屈折する屈折体と、前記レーザー光の光軸にほぼ
直交する平板上に形成された感光膜とからなり、前記屈
折体の屈折面は光軸を軸とする回転面であり、前記屈折
面の各対角母線を屈折する光束が光軸近傍で交差，干渉
して光軸法平面上で同心円状の周期的明暗縞をなし、こ
の明暗縞が前記感光膜を感光する露光装置において、前
記屈折面は２つの凸面を含み、外周側の凸面を屈折し光
軸を通過した後の光束Ａと、対角位置にある内周側の凸
面を屈折し光軸を通過する前の光束Ｂとの干渉で前記明
暗縞が得られ、干渉面上で光束Ａは発散光、光束Ｂは集
束光であることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 レーザー光源から出射するレーザー光を
透過、屈折する屈折体と、前記レーザー光の光軸にほぼ
直交する平板上に形成された感光膜とからなり、前記屈
折体の屈折面は光軸を軸とする回転面であり、前記屈折
面の各対角母線を屈折する光束が光軸近傍で交差，干渉
して光軸法平面上で同心円状の周期的明暗縞をなし、こ
の明暗縞が前記感光膜を感光する露光装置において、前
記屈折面は凹面と凸面を含み、外周側の凹面を屈折し光
軸を通過した後の光束Ａと、対角位置にある内周側の凸
面を屈折し光軸を通過する前の光束Ｂとの干渉で前記明
暗縞が得られ、干渉面上で光束Ａは発散光、光束Ｂは集
束光であることを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記外周側の凸面と前記内周側の凸面と
の間で前記母線に屈曲点または不連続点が存在すること
を特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記外周側の凹面と前記内周側の凸面と
の間で前記母線に屈曲点または不連続点が存在すること
を特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記屈折面の回転軸と母線とを含む面内
で、前記外周側の凸面を屈折する光の屈折角が前記内周
側の凸面を屈折する光の屈折角よりも大きいことを特徴
とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項６】 前記屈折面の回転軸と母線とを含む面内
で、前記外周側の凹面を屈折する光の屈折角が前記内周
側の凸面を屈折する光の屈折角よりも大きいことを特徴
とする請求項２記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28264493A JP3276486B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28264493A JP3276486B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07134203A JPH07134203A (ja) | 1995-05-23 |
| JP3276486B2 true JP3276486B2 (ja) | 2002-04-22 |
Family
ID=17655206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28264493A Expired - Lifetime JP3276486B2 (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3276486B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100350489B1 (ko) * | 2000-07-14 | 2002-08-28 | 삼성전자 주식회사 | 광감쇠기를 이용한 이득 평탄화 필터의 제작 장치 |
| KR20020049493A (ko) * | 2000-12-19 | 2002-06-26 | 박호군 | 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치 |
| KR101961893B1 (ko) | 2012-02-21 | 2019-03-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광기 및 노광기 제어 방법 |
-
1993
- 1993-11-11 JP JP28264493A patent/JP3276486B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07134203A (ja) | 1995-05-23 |
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