JPH0582419A - Ｘ線透過窓およびその製造方法 - Google Patents
Ｘ線透過窓およびその製造方法Info
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- JPH0582419A JPH0582419A JP3242047A JP24204791A JPH0582419A JP H0582419 A JPH0582419 A JP H0582419A JP 3242047 A JP3242047 A JP 3242047A JP 24204791 A JP24204791 A JP 24204791A JP H0582419 A JPH0582419 A JP H0582419A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 SOR 装置等の高真空中で発生したＸ線を大気
圧の環境中に設置された試料に照射するための窓に関
し，10Åまたはそれ以上の長波長のＸ線に対して高透過
率を有する窓を提供することを目的とする。 【構成】 例えば直径数/10mm,長さ100mm の細管を数千
本束ねて接合して所定面積の窓を形成する。この窓の形
成方法の一例としては,エッチングされやすい材料から
成る芯線上にエッチングされ難い材料から成る皮膜を形
成し, このような芯線を所定本数束ねて接合したのち,
芯線をエッチングで除去する。上記寸法例の細管から成
る窓は, その両側に大気圧とその1/10程度の圧力差を維
持できる。高真空のＸ線光源と上記窓とを, 所定寸法の
オリフィスが設けられた隔壁を介して接続された多段型
の差動排気装置で接続する。
圧の環境中に設置された試料に照射するための窓に関
し，10Åまたはそれ以上の長波長のＸ線に対して高透過
率を有する窓を提供することを目的とする。 【構成】 例えば直径数/10mm,長さ100mm の細管を数千
本束ねて接合して所定面積の窓を形成する。この窓の形
成方法の一例としては,エッチングされやすい材料から
成る芯線上にエッチングされ難い材料から成る皮膜を形
成し, このような芯線を所定本数束ねて接合したのち,
芯線をエッチングで除去する。上記寸法例の細管から成
る窓は, その両側に大気圧とその1/10程度の圧力差を維
持できる。高真空のＸ線光源と上記窓とを, 所定寸法の
オリフィスが設けられた隔壁を介して接続された多段型
の差動排気装置で接続する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造におけ
るＸ線リソグラフィ等に用いられるＸ線照射装置，とく
に，圧力差のある二つの容器の隔壁を成しかつこれら容
器間にＸ線を伝達させるためのＸ線透過窓に関する。
るＸ線リソグラフィ等に用いられるＸ線照射装置，とく
に，圧力差のある二つの容器の隔壁を成しかつこれら容
器間にＸ線を伝達させるためのＸ線透過窓に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の高密度化および高性能
化のために回路パターンの微細化が要求されつつある。
この微細パターンの形成を可能にする技術としてＸ線露
光法の開発が進められている。
化のために回路パターンの微細化が要求されつつある。
この微細パターンの形成を可能にする技術としてＸ線露
光法の開発が進められている。
【０００３】このようなＸ線露光において用いられる高
出力のＸ線光源としては，SOR(synchrotron orbital ra
diation)が期待されている。SOR 放射装置を用いる場合
には, 10-10Torr 程度の高真空中で発生したＸ線を, 一
般に大気圧の雰囲気中に置かれた半導体ウエハ等の試料
に照射する。このために, SOR 放射装置と試料室との間
には, ベリリウム(Be)板のようなＸ線透過率の高い物質
のＸ線透過窓が設けられる。
出力のＸ線光源としては，SOR(synchrotron orbital ra
diation)が期待されている。SOR 放射装置を用いる場合
には, 10-10Torr 程度の高真空中で発生したＸ線を, 一
般に大気圧の雰囲気中に置かれた半導体ウエハ等の試料
に照射する。このために, SOR 放射装置と試料室との間
には, ベリリウム(Be)板のようなＸ線透過率の高い物質
のＸ線透過窓が設けられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような構成か
ら, Ｘ線透過窓には, ほぼ大気圧の圧力差が印加され
る。この圧力差に耐える強度を有するために, Be板から
成るＸ線透過窓は, 例えばその開口面積を数mm×数10mm
とした場合, 0.2mm 程度の厚さを必要とする。しかし,
このようなBeＸ線透過窓には, 次のような解決すべき問
題が残されている。
ら, Ｘ線透過窓には, ほぼ大気圧の圧力差が印加され
る。この圧力差に耐える強度を有するために, Be板から
成るＸ線透過窓は, 例えばその開口面積を数mm×数10mm
とした場合, 0.2mm 程度の厚さを必要とする。しかし,
このようなBeＸ線透過窓には, 次のような解決すべき問
題が残されている。
【０００５】 Be中におけるＸ線の減衰は, 波長10Å
において, 約0.2dB/μm であり, また, 波長の増大とと
もに減衰は大きくなる。したがって, 透過率からみれ
ば, Ｘ線露光には短波長のＸ線を用いるのが有利であ
る。しかし, 露光マスクにおいてＸ線吸収体（例えば金
の膜）は，短波長のＸ線を透過しやすい。その結果, Ｘ
線露光において, Ｘ線吸収体パターンのコントラストが
低下し, 微細パターンの露光が困難になる。したがっ
て, BeＸ線透過窓の厚さをできるだけ小さくし, 長波長
のＸ線を用いることが望ましい。このためには, BeＸ線
透過窓の厚さを従来の1/10以下に低減することが必要と
なる。
において, 約0.2dB/μm であり, また, 波長の増大とと
もに減衰は大きくなる。したがって, 透過率からみれ
ば, Ｘ線露光には短波長のＸ線を用いるのが有利であ
る。しかし, 露光マスクにおいてＸ線吸収体（例えば金
の膜）は，短波長のＸ線を透過しやすい。その結果, Ｘ
線露光において, Ｘ線吸収体パターンのコントラストが
低下し, 微細パターンの露光が困難になる。したがっ
て, BeＸ線透過窓の厚さをできるだけ小さくし, 長波長
のＸ線を用いることが望ましい。このためには, BeＸ線
透過窓の厚さを従来の1/10以下に低減することが必要と
なる。
【０００６】 Ｘ線露光における高スループットを実
現するために, Ｘ線透過窓の開口面積を数10mm角程度に
拡大することがが望まれる。したがって, 10Å以上の長
波長Ｘ線に対して高い透過率と数10mm角の開口面積を有
し, かつ, 大気圧程度の圧力差に耐え得るＸ線透過窓が
要望されているが,現在のところ，上記のようなBe板を
用いて実現することは困難である。
現するために, Ｘ線透過窓の開口面積を数10mm角程度に
拡大することがが望まれる。したがって, 10Å以上の長
波長Ｘ線に対して高い透過率と数10mm角の開口面積を有
し, かつ, 大気圧程度の圧力差に耐え得るＸ線透過窓が
要望されているが,現在のところ，上記のようなBe板を
用いて実現することは困難である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記従来の問題点は，各
々が所定の内径および長さを有する細管の所定本数を互
いに平行に束ねて接合して形成されたことを特徴とする
本発明に係るＸ線透過窓，または，エッチング剤によっ
て除去可能な第１の材料から成る所定の直径を有する線
状部材の表面を該エッチング剤によって除去されない第
２の材料から成る層で被覆し，該第２の材料で被覆され
た複数本の該線状部材を互いに並行に束ねて接合して成
り且つ所定の厚さを有する板状部材を作製し，該板状部
材における該線状部材を該エッチング剤によって選択的
に除去することにより該第２の材料から成り且つ互いに
接合された複数本の細管から成る第２の板状部材を形成
する諸工程を含むことを特徴とする本発明に係るＸ線透
過窓の製造方法によって解決される。
々が所定の内径および長さを有する細管の所定本数を互
いに平行に束ねて接合して形成されたことを特徴とする
本発明に係るＸ線透過窓，または，エッチング剤によっ
て除去可能な第１の材料から成る所定の直径を有する線
状部材の表面を該エッチング剤によって除去されない第
２の材料から成る層で被覆し，該第２の材料で被覆され
た複数本の該線状部材を互いに並行に束ねて接合して成
り且つ所定の厚さを有する板状部材を作製し，該板状部
材における該線状部材を該エッチング剤によって選択的
に除去することにより該第２の材料から成り且つ互いに
接合された複数本の細管から成る第２の板状部材を形成
する諸工程を含むことを特徴とする本発明に係るＸ線透
過窓の製造方法によって解決される。
【０００８】
【作用】図１は本発明のＸ線透過窓の原理的構造を説明
するための部分拡大斜視図であって，Ｘ線透過窓１は,
所定の内径(D) と長さ(L) を有する複数の細管２が, 互
いに平行に束ねられて接合されたものである。上記内径
(D) と長さ(L) は, 各々の細管２が, Ｘ線透過窓１の両
側に所定の圧力差を生じることができるコンダクタンス
を有するように決められている。
するための部分拡大斜視図であって，Ｘ線透過窓１は,
所定の内径(D) と長さ(L) を有する複数の細管２が, 互
いに平行に束ねられて接合されたものである。上記内径
(D) と長さ(L) は, 各々の細管２が, Ｘ線透過窓１の両
側に所定の圧力差を生じることができるコンダクタンス
を有するように決められている。
【０００９】すなわち，内径(D) と長さ(L) を有する各
々の細管２のコンダクタンスC0は次式で与えられる。 C0＝1349(D4/L)（P1＋P2)/2 ・・・・・ (1) ここに, 定数1349は, 細管２中を20℃の空気が流れると
仮定して求められた値であり, また, P1とP2は細管２の
両端における圧力である。
々の細管２のコンダクタンスC0は次式で与えられる。 C0＝1349(D4/L)（P1＋P2)/2 ・・・・・ (1) ここに, 定数1349は, 細管２中を20℃の空気が流れると
仮定して求められた値であり, また, P1とP2は細管２の
両端における圧力である。
【００１０】上記のコンダクタンスを有する細管２をｎ
本束ねて接合して成るＸ線透過窓１のコンダクタンスは
ｎC0である。
本束ねて接合して成るＸ線透過窓１のコンダクタンスは
ｎC0である。
【００１１】
【実施例】予備実験として, 内径1.7mm,長さ100mm の管
の一方を排気速度 500L/min を有するロータリポンプで
排気したとき, 一気圧のHeに対して1/10の圧力が得られ
た。(1) 式によれば, 内径0.2mm,長さ100mm の細管を52
20本束ねると上記の管に相当するコンダクタンスとな
り, 開口面積は72倍となる。
の一方を排気速度 500L/min を有するロータリポンプで
排気したとき, 一気圧のHeに対して1/10の圧力が得られ
た。(1) 式によれば, 内径0.2mm,長さ100mm の細管を52
20本束ねると上記の管に相当するコンダクタンスとな
り, 開口面積は72倍となる。
【００１２】前述のように, 波長10ÅのＸ線に対する厚
さ0.2mm (200μm)のBeの透過率は約0.0001である。これ
に対して本発明のＸ線透過窓の透過率は１である。した
がって, 本発明のＸ線透過窓における細管２の有効開口
面積率が50％と見積もっても, 従来のBeＸ線透過窓に比
べて5000倍近く透過率が高い。また, 大気圧との圧力差
に対しても耐えることができる。
さ0.2mm (200μm)のBeの透過率は約0.0001である。これ
に対して本発明のＸ線透過窓の透過率は１である。した
がって, 本発明のＸ線透過窓における細管２の有効開口
面積率が50％と見積もっても, 従来のBeＸ線透過窓に比
べて5000倍近く透過率が高い。また, 大気圧との圧力差
に対しても耐えることができる。
【００１３】上記例の本発明のＸ線透過窓を用いる場合
には, その低圧側の圧力が大気圧に対して約1/10であ
る。したがって, 高真空のＸ線光源とＸ線透過窓との間
には,図２に示すような差動排気装置を設ける必要があ
る。すなわち，Ｘ線が照射される試料（例えば半導体ウ
エハ）４が収容される容器３と, 差動排気装置の最終段
（最も高圧力側）５との間に, 上記のような本発明のＸ
線透過窓１が設けられている。容器３には, 例えば１気
圧のヘリウム(He)ガスで充満されている。Heの一部は,
Ｘ線透過窓１を通過して最終段５に流れ込み, 例えばロ
ータリポンプ６により排気される。したがって, 容器３
には, この損失分のHeが定常的に供給される。
には, その低圧側の圧力が大気圧に対して約1/10であ
る。したがって, 高真空のＸ線光源とＸ線透過窓との間
には,図２に示すような差動排気装置を設ける必要があ
る。すなわち，Ｘ線が照射される試料（例えば半導体ウ
エハ）４が収容される容器３と, 差動排気装置の最終段
（最も高圧力側）５との間に, 上記のような本発明のＸ
線透過窓１が設けられている。容器３には, 例えば１気
圧のヘリウム(He)ガスで充満されている。Heの一部は,
Ｘ線透過窓１を通過して最終段５に流れ込み, 例えばロ
ータリポンプ６により排気される。したがって, 容器３
には, この損失分のHeが定常的に供給される。
【００１４】差動排気装置の最終段５と高真空に排気さ
れているＸ線光源８との間には, 複数の中間段71, 72,
・・・が接続されている。中間段71, 72, ・・・の各々
は,例えば高排気速度のターボポンプTP1, TP2, ・・・
によって排気されている。中最終段５と中間段71, 72,
・・・, およびＸ線光源８の間は, 5mm ×20mm程度のオ
リフィスが設けられた隔壁９によって仕切られている。
各々の隔壁９における前記オリフィスとＸ線透過窓１と
は, 一直線上に配列するように設けられていることは言
うまでもない。このようにして, 10-10Torr 程度の高真
空のＸ線光源８と1/10気圧程度の最終段５とが接続され
る。なお, 符号10は露光マスクである。
れているＸ線光源８との間には, 複数の中間段71, 72,
・・・が接続されている。中間段71, 72, ・・・の各々
は,例えば高排気速度のターボポンプTP1, TP2, ・・・
によって排気されている。中最終段５と中間段71, 72,
・・・, およびＸ線光源８の間は, 5mm ×20mm程度のオ
リフィスが設けられた隔壁９によって仕切られている。
各々の隔壁９における前記オリフィスとＸ線透過窓１と
は, 一直線上に配列するように設けられていることは言
うまでもない。このようにして, 10-10Torr 程度の高真
空のＸ線光源８と1/10気圧程度の最終段５とが接続され
る。なお, 符号10は露光マスクである。
【００１５】上記のような差動排気装置を用いた場合
に, Ｘ線透過窓１の代わりに, 厚さが10μm 程度のBeＸ
線透過窓を適用することを考えてみる。BeＸ線透過窓の
場合には, 最終段５の圧力をほぼ大気圧に等しくしなけ
れば, 圧力差に耐えられない。このためには, 最終段５
と中間段71との間に, さらに多段の差動排気装置を設置
する必要がある。したがって, Ｘ線照射装置の設置面積
とコストの増大が避けられず, 実用上問題が生じる。
に, Ｘ線透過窓１の代わりに, 厚さが10μm 程度のBeＸ
線透過窓を適用することを考えてみる。BeＸ線透過窓の
場合には, 最終段５の圧力をほぼ大気圧に等しくしなけ
れば, 圧力差に耐えられない。このためには, 最終段５
と中間段71との間に, さらに多段の差動排気装置を設置
する必要がある。したがって, Ｘ線照射装置の設置面積
とコストの増大が避けられず, 実用上問題が生じる。
【００１６】しかし, 本発明のＸ線透過窓と組み合わせ
ることによって, 上記のような多段差動装置に係わる問
題なしに，厚さ10μm程度の薄いBeＸ線透過窓を使用す
ることができる。これを図３を参照して説明する。図３
のＸ線照射装置は, 図２とほとんど同じ構成であり, オ
リフィス91の位置に, 上記薄いBeＸ線透過窓20が設けら
れている点が異なる。
ることによって, 上記のような多段差動装置に係わる問
題なしに，厚さ10μm程度の薄いBeＸ線透過窓を使用す
ることができる。これを図３を参照して説明する。図３
のＸ線照射装置は, 図２とほとんど同じ構成であり, オ
リフィス91の位置に, 上記薄いBeＸ線透過窓20が設けら
れている点が異なる。
【００１７】前述のように, 作動排気装置の最終段５の
圧力は1/10気圧程度である。したがって, BeＸ線透過窓
20は，従来の約1/10の圧力差に耐えればよい。このよう
な条件の下では, ば寸法30mm×30mm, 厚さ10μm のBeＸ
線透過窓20を用いることができる。これにともなって,
オリフィス92, 93, ・・・の開口面積を30mm×30mmに拡
大しても差支えないことになる。このような構成におい
ては, 中間段71, 72,・・・は作動排気装置としての機
能から開放されるので, 図２の構成に比べてより簡略化
することができる。図３の構成によれば, 試料４に対す
るＸ線照射面積が増大し, Ｘ線リソグラフ工程のスルー
プットを向上可能となる。
圧力は1/10気圧程度である。したがって, BeＸ線透過窓
20は，従来の約1/10の圧力差に耐えればよい。このよう
な条件の下では, ば寸法30mm×30mm, 厚さ10μm のBeＸ
線透過窓20を用いることができる。これにともなって,
オリフィス92, 93, ・・・の開口面積を30mm×30mmに拡
大しても差支えないことになる。このような構成におい
ては, 中間段71, 72,・・・は作動排気装置としての機
能から開放されるので, 図２の構成に比べてより簡略化
することができる。図３の構成によれば, 試料４に対す
るＸ線照射面積が増大し, Ｘ線リソグラフ工程のスルー
プットを向上可能となる。
【００１８】上記本発明のＸ線透過窓を製造する実施例
を以下に説明する。図４(a) に示すように, 直径0.2mm
の例えばアルミニウム線11の表面に, 厚さ約20μm のニ
ッケル層12を形成する。ニッケル層12の形成は, 無電解
メッキ, 真空蒸着等の周知の方法を用いて行えばよい。
ニッケル層12が形成されたアルミニウム線11の例えば52
20本を, 図４(b) に示すように, 互いに平行に束ねて接
合する。この接合は, アルミニウム線11の融点以下で溶
融する鑞を用いて行えばよい。上記のようにして接合さ
れた複数のアルミニウム線11から成る板状の部材を,例
えば研磨等の周知の方法により100mm の厚さに加工す
る。そののち, この板状部材を, 例えばアルカリ溶液に
浸漬してアルミニウム線11を溶解する。アルミニウム線
11が除去されたのちには, ニッケル層12の細管から成る
本発明のＸ線透過窓が残る。
を以下に説明する。図４(a) に示すように, 直径0.2mm
の例えばアルミニウム線11の表面に, 厚さ約20μm のニ
ッケル層12を形成する。ニッケル層12の形成は, 無電解
メッキ, 真空蒸着等の周知の方法を用いて行えばよい。
ニッケル層12が形成されたアルミニウム線11の例えば52
20本を, 図４(b) に示すように, 互いに平行に束ねて接
合する。この接合は, アルミニウム線11の融点以下で溶
融する鑞を用いて行えばよい。上記のようにして接合さ
れた複数のアルミニウム線11から成る板状の部材を,例
えば研磨等の周知の方法により100mm の厚さに加工す
る。そののち, この板状部材を, 例えばアルカリ溶液に
浸漬してアルミニウム線11を溶解する。アルミニウム線
11が除去されたのちには, ニッケル層12の細管から成る
本発明のＸ線透過窓が残る。
【００１９】本発明のＸ線透過窓を製造する別の実施例
としては, 図５(a) に示すように,例えばステンレスか
ら成る厚さ 100μm の薄膜14をエッチングして, 直径0.
2mmの開口15を形成する。開口15は, 互いに接触しない
ようにしてできるだけ密に規則的に配列する。開口15が
形成された薄膜14の例えば1000枚を, 図５(b) に示すよ
うに, 各々における開口15を位置合わせして重ね合わせ
て接合する。この接合は, 鑞付けその他の周知の方法を
適宜用いて行えばよい。このようにして内径0.2mm , 長
さ100mm の複数の細管を有する本発明のＸ線透過窓が得
られる。
としては, 図５(a) に示すように,例えばステンレスか
ら成る厚さ 100μm の薄膜14をエッチングして, 直径0.
2mmの開口15を形成する。開口15は, 互いに接触しない
ようにしてできるだけ密に規則的に配列する。開口15が
形成された薄膜14の例えば1000枚を, 図５(b) に示すよ
うに, 各々における開口15を位置合わせして重ね合わせ
て接合する。この接合は, 鑞付けその他の周知の方法を
適宜用いて行えばよい。このようにして内径0.2mm , 長
さ100mm の複数の細管を有する本発明のＸ線透過窓が得
られる。
【００２０】図６は本発明のＸ線透過窓のさらに別の実
施例説明図である。すなわち，Ｘ線透過窓を構成する各
々の細管17の内径を一方向に漸減した構造とする。つま
り,細管17の内面にテーパーを付与する。通常, Ｘ線光
源に設けられている鏡で反射れたＸ線は, その走行距離
１m につき, 横方向に６ミリラジアン(mrad)広がる。し
たがって, Ｘ線透過窓の細管17のように, Ｘ線入射側に
広がるテーパーが付与されていることにより, Ｘ線が射
出側に向かって集光され, 照射強度が向上される。この
ような細管17の内面を, 例えば白金(Pt)のような反射材
料で被覆しておくことにより, 窓の透過効率がより向上
され, また, 細管17の曲がりや複数の細管17相互の平行
度のバラツキによる損失が低減され, さらに, 窓材料の
保護にも有効である。
施例説明図である。すなわち，Ｘ線透過窓を構成する各
々の細管17の内径を一方向に漸減した構造とする。つま
り,細管17の内面にテーパーを付与する。通常, Ｘ線光
源に設けられている鏡で反射れたＸ線は, その走行距離
１m につき, 横方向に６ミリラジアン(mrad)広がる。し
たがって, Ｘ線透過窓の細管17のように, Ｘ線入射側に
広がるテーパーが付与されていることにより, Ｘ線が射
出側に向かって集光され, 照射強度が向上される。この
ような細管17の内面を, 例えば白金(Pt)のような反射材
料で被覆しておくことにより, 窓の透過効率がより向上
され, また, 細管17の曲がりや複数の細管17相互の平行
度のバラツキによる損失が低減され, さらに, 窓材料の
保護にも有効である。
【００２１】本実施例の構造の細管17は, 図４の実施例
においては, アルミニウム線11として, 直径の漸減する
ものを用い,ニッケル層12の下に白金層を形成しておく
か,ニッケル層12全体を白金層に置き換えればよい。ま
た, 図５の実施例においては, 1000枚の薄膜14に設ける
開口15を, 薄膜14ごとに漸次拡大または縮小して形成し
ておき, その表面に白金を被覆したのち, 積層すればよ
い。
においては, アルミニウム線11として, 直径の漸減する
ものを用い,ニッケル層12の下に白金層を形成しておく
か,ニッケル層12全体を白金層に置き換えればよい。ま
た, 図５の実施例においては, 1000枚の薄膜14に設ける
開口15を, 薄膜14ごとに漸次拡大または縮小して形成し
ておき, その表面に白金を被覆したのち, 積層すればよ
い。
【００２２】本発明のＸ線透過窓を構成する材料は上記
実施例に述べた組み合わせに限定されないことは言うま
でもない。
実施例に述べた組み合わせに限定されないことは言うま
でもない。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば, 従来のBeＸ線透過窓に
比べて,大きな差に耐えることができ, かつ, Ｘ線透過
率が高く,Ｘ線照射装置の設置面積やコストに関して実
用性の高いＸ線透過窓を提供することを可能にし, その
結果, 微細パターンの形成を必要とする高密度, 高性能
の半導体集積回路の開発および実用を促進する効果があ
る。
比べて,大きな差に耐えることができ, かつ, Ｘ線透過
率が高く,Ｘ線照射装置の設置面積やコストに関して実
用性の高いＸ線透過窓を提供することを可能にし, その
結果, 微細パターンの形成を必要とする高密度, 高性能
の半導体集積回路の開発および実用を促進する効果があ
る。
【図１】 本発明のＸ線透過窓の原理的構造説明図
【図２】 本発明のＸ線透過窓を適用したＸ線照射装置
の一実施例説明図
の一実施例説明図
【図３】 本発明のＸ線透過窓を適用したＸ線照射装置
の別の実施例説明図
の別の実施例説明図
【図４】 本発明のＸ線透過窓の製造方法の一実施例説
明図
明図
【図５】 本発明のＸ線透過窓の製造方法の別の実施例
説明図
説明図
【図６】 本発明のＸ線透過窓の構造の別の実施例説明
図 １ Ｘ線透過窓 ９ 隔壁 ２ 細管 10 露光マス
ク ３ 容器 11 アルミニ
ウム線 ４ 試料 12 ニッケル
層 ５ 差動排気装置の最終段 14 薄膜 ６ ロータリポンプ 15 開口 71, 72 中間段 17 細管 ８ Ｘ線光源 20 BeＸ線透
過窓
図 １ Ｘ線透過窓 ９ 隔壁 ２ 細管 10 露光マス
ク ３ 容器 11 アルミニ
ウム線 ４ 試料 12 ニッケル
層 ５ 差動排気装置の最終段 14 薄膜 ６ ロータリポンプ 15 開口 71, 72 中間段 17 細管 ８ Ｘ線光源 20 BeＸ線透
過窓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奈良 安雄 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 各々が所定の内径および長さを有する細
管の所定本数を互いに平行に束ねて接合して形成されこ
とを特徴とするＸ線透過窓。 - 【請求項２】 互いに接続された圧力P1なる第１の容器
および圧力P2なる第２の容器（ただしP1＞P2）の間に設
けられた隔壁を成し且つ該二つの容器の一方から他方に
Ｘ線を通過させるための窓であって，互いに平行に束ね
て接合されたｎ本の細管から成り，排気速度Ｇを有する
ポンプで排気された前記第２の容器が前記P2またはそれ
以下の圧力に維持されるように, 各々の該細管はＧ≧ｎ
C0なるコンダクタンスC0を与える内径と長を有すること
を特徴とするＸ線透過窓。 - 【請求項３】 前記接合された細管はその内径が一方向
に漸減するように形成されており且つその内面がＸ線反
射率の高い物質で被覆されていることを特徴とする請求
項１記載のＸ線透過窓。 - 【請求項４】 エッチング剤によって除去可能な第１の
材料から成る所定の直径を有する線状部材の表面を該エ
ッチング剤によって除去されない第２の材料から成る層
で被覆する工程と， 該第２の材料で被覆された複数本の該線状部材を互いに
並行に束ねて接合して成り且つ所定の厚さを有する板状
部材を作製する工程と, 該板状部材における該線状部材を該エッチング剤によっ
て選択的に除去することにより該第２の材料から成り且
つ互いに接合された複数本の細管から成る第２の板状部
材を形成する工程とを含むことを特徴とするＸ線透過窓
の製造方法。 - 【請求項５】 所定厚さを有する薄膜に所定面積を有す
る複数の開口を形成する工程と, 該開口が形成された所定枚数の該薄膜を各々の該薄膜に
おける対応する該開口が互いに重なるようにして所定枚
数積層して相互に接合する工程とを含むことを特徴とす
るＸ線透過窓の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242047A JPH0582419A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | Ｘ線透過窓およびその製造方法 |
| US07/945,047 US5276724A (en) | 1991-09-20 | 1992-09-15 | X-ray exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242047A JPH0582419A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | Ｘ線透過窓およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582419A true JPH0582419A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17083483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3242047A Withdrawn JPH0582419A (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | Ｘ線透過窓およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5276724A (ja) |
| JP (1) | JPH0582419A (ja) |
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| JP2009212268A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Ushio Inc | 極端紫外光が出射する装置と極端紫外光が導入される装置との接続装置 |
| JP2013072785A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Hitachi Ltd | 低真空軟ｘ線実験装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| SE9404149D0 (sv) * | 1994-11-30 | 1994-11-30 | X Ray Capillary Optics Ab | Bärbar mikroröntgen spektrometer |
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| JP2002131488A (ja) * | 2000-10-18 | 2002-05-09 | Vision Arts Kk | Ｘ線レンズおよびそのｘ線レンズの製造方法 |
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| US9291578B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-03-22 | David L. Adler | X-ray photoemission microscope for integrated devices |
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| US9448190B2 (en) | 2014-06-06 | 2016-09-20 | Sigray, Inc. | High brightness X-ray absorption spectroscopy system |
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| US9449781B2 (en) | 2013-12-05 | 2016-09-20 | Sigray, Inc. | X-ray illuminators with high flux and high flux density |
| US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
| US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
| US9570265B1 (en) | 2013-12-05 | 2017-02-14 | Sigray, Inc. | X-ray fluorescence system with high flux and high flux density |
| USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
| US9823203B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-11-21 | Sigray, Inc. | X-ray surface analysis and measurement apparatus |
| US9594036B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-03-14 | Sigray, Inc. | X-ray surface analysis and measurement apparatus |
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| JP6937380B2 (ja) | 2017-03-22 | 2021-09-22 | シグレイ、インコーポレイテッド | Ｘ線分光を実施するための方法およびｘ線吸収分光システム |
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-
1991
- 1991-09-20 JP JP3242047A patent/JPH0582419A/ja not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-09-15 US US07/945,047 patent/US5276724A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5276724A (en) | 1994-01-04 |
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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