JPH0756000A - マイクロｘ線ターゲット - Google Patents
マイクロｘ線ターゲットInfo
- Publication number
- JPH0756000A JPH0756000A JP20341293A JP20341293A JPH0756000A JP H0756000 A JPH0756000 A JP H0756000A JP 20341293 A JP20341293 A JP 20341293A JP 20341293 A JP20341293 A JP 20341293A JP H0756000 A JPH0756000 A JP H0756000A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal plate
- ray
- light
- electron beam
- rays
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放出されるＸ線の広がりを押さえることが可
能なマイクロＸ線ターゲットを提供する。 【構成】 アルミニウムなどの軽金属板１０の中心に極
細のタングステン棒１３を埋め込んだことを特徴として
いる。
能なマイクロＸ線ターゲットを提供する。 【構成】 アルミニウムなどの軽金属板１０の中心に極
細のタングステン棒１３を埋め込んだことを特徴として
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非破壊検査等に用いる
Ｘ線を発生させるためのマイクロＸ線ターゲットに関す
るものである。
Ｘ線を発生させるためのマイクロＸ線ターゲットに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】非破壊検査等に用いるＸ線は、１０ｍｍ
φのタングステンのターゲットに電子ビームを照射する
ことにより発生させる。
φのタングステンのターゲットに電子ビームを照射する
ことにより発生させる。
【０００３】このＸ線発生装置においては、発生するＸ
線がターゲットを中心に円錐状に広がるため、非破壊検
査の精度をよくするためには、できるだけ広がりを押さ
えるようにするのが望ましい。
線がターゲットを中心に円錐状に広がるため、非破壊検
査の精度をよくするためには、できるだけ広がりを押さ
えるようにするのが望ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ターゲ
ットに照射する電子ビームを絞るには限度があり、また
ターゲットから放出されるＸ線を絞ることも困難であ
る。
ットに照射する電子ビームを絞るには限度があり、また
ターゲットから放出されるＸ線を絞ることも困難であ
る。
【０００５】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、放出されるＸ線の広がりを押さえることが可能なマ
イクロＸ線ターゲットを提供することにある。
し、放出されるＸ線の広がりを押さえることが可能なマ
イクロＸ線ターゲットを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、アルミニウムなどの軽金属板の中心に極細
のタングステン棒を埋め込んだものであり、タングステ
ン棒としては直径１〜１０μｍのものを用いる。
に本発明は、アルミニウムなどの軽金属板の中心に極細
のタングステン棒を埋め込んだものであり、タングステ
ン棒としては直径１〜１０μｍのものを用いる。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、軽金属板の中心に極細の１
〜１０μｍのタングステン棒を埋め込むことで、電子ビ
ームが照射されても極めて細いタングステン棒のみから
Ｘ線が放出されるため、点光源のＸ線が実現できると共
にＸ線の広がりも押さえることが可能となる。この場
合、直径１０μｍ以上ではＸ線が拡がり過ぎ、１μｍ以
下では製作が難しいと共に充分なＸ線量が得られなく好
ましくない。
〜１０μｍのタングステン棒を埋め込むことで、電子ビ
ームが照射されても極めて細いタングステン棒のみから
Ｘ線が放出されるため、点光源のＸ線が実現できると共
にＸ線の広がりも押さえることが可能となる。この場
合、直径１０μｍ以上ではＸ線が拡がり過ぎ、１μｍ以
下では製作が難しいと共に充分なＸ線量が得られなく好
ましくない。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て詳述する。
て詳述する。
【０００９】図１は本発明のマイクロＸ線ターゲットを
示したものである。
示したものである。
【００１０】図において、１０はアルミニウムなど厚さ
ｔを１〜２ｍｍの軽金属板で、内部には図示していない
が冷却通路が形成され、その出入口に冷却水の導入・排
出管１１，１２が接続される。
ｔを１〜２ｍｍの軽金属板で、内部には図示していない
が冷却通路が形成され、その出入口に冷却水の導入・排
出管１１，１２が接続される。
【００１１】この軽金属板１０の中心、すなわち電子ビ
ーム１４の照射される位置に１〜１０μｍのタングステ
ン棒１３が埋め込まれる。このタングステン棒１３は、
軽金属板１０の厚さと同じ長さに形成され、その両端面
が軽金属板１０の面と一致するように形成される。この
タングステン棒１３の埋め込みは、例えば中心にタング
ステン棒１３となるタングステン線の周りにアルミニウ
ムを適宜の径に形成し、このアルミニウムの筒体を金属
板１０の厚さと同じ長さに切断した後、軽金属板１０に
埋め込むようにして形成することで、タングステン棒１
３を軽金属板１０の中心に正確に位置させることができ
る。
ーム１４の照射される位置に１〜１０μｍのタングステ
ン棒１３が埋め込まれる。このタングステン棒１３は、
軽金属板１０の厚さと同じ長さに形成され、その両端面
が軽金属板１０の面と一致するように形成される。この
タングステン棒１３の埋め込みは、例えば中心にタング
ステン棒１３となるタングステン線の周りにアルミニウ
ムを適宜の径に形成し、このアルミニウムの筒体を金属
板１０の厚さと同じ長さに切断した後、軽金属板１０に
埋め込むようにして形成することで、タングステン棒１
３を軽金属板１０の中心に正確に位置させることができ
る。
【００１２】次に実施例の作用を述べる。
【００１３】本発明のマイクロＸ線ターゲットをＸ線発
生装置に組み込み、電子ビーム１４を照射すると、電子
ビーム１４は、タングステン棒１３に当りそこでＸ線１
５を放出する。この場合、軽金属板１０に当った電子ビ
ーム１４は吸収され、１〜１０μｍのタングステン棒１
３がＸ線源となるため、常に点光源のＸ線を放出でき
る。
生装置に組み込み、電子ビーム１４を照射すると、電子
ビーム１４は、タングステン棒１３に当りそこでＸ線１
５を放出する。この場合、軽金属板１０に当った電子ビ
ーム１４は吸収され、１〜１０μｍのタングステン棒１
３がＸ線源となるため、常に点光源のＸ線を放出でき
る。
【００１４】また電子ビーム１４の照射により発生した
熱は、軽金属板１０内に形成した冷却通路に冷却水を流
すことで除去できる。
熱は、軽金属板１０内に形成した冷却通路に冷却水を流
すことで除去できる。
【００１５】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、軽金属板
の中心に極細のタングステン棒を埋め込むことで、電子
ビームが照射されても極めて細いタングステン棒のみか
らＸ線が放出されるため、点光源のＸ線が実現できると
共にＸ線の広がりも押さえることが可能となる。
の中心に極細のタングステン棒を埋め込むことで、電子
ビームが照射されても極めて細いタングステン棒のみか
らＸ線が放出されるため、点光源のＸ線が実現できると
共にＸ線の広がりも押さえることが可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略斜視図である。
１０ 軽金属板 １３ タングステン棒 １４ 電子ビーム
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウムなどの軽金属板の中心に極
細のタングステン棒を埋め込んだことを特徴とするマイ
クロＸ線ターゲット。 - 【請求項２】 タングステン棒の直径が１〜１０μｍで
ある請求項１に記載のマイクロＸ線ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20341293A JPH0756000A (ja) | 1993-08-17 | 1993-08-17 | マイクロｘ線ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20341293A JPH0756000A (ja) | 1993-08-17 | 1993-08-17 | マイクロｘ線ターゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0756000A true JPH0756000A (ja) | 1995-03-03 |
Family
ID=16473648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20341293A Pending JPH0756000A (ja) | 1993-08-17 | 1993-08-17 | マイクロｘ線ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0756000A (ja) |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002039792A3 (en) * | 2000-11-09 | 2002-08-22 | Steris Inc | Target for production of x-rays |
| WO2013168468A1 (ja) * | 2012-05-11 | 2013-11-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置及びｘ線発生方法 |
| JP2013541803A (ja) * | 2010-08-25 | 2013-11-14 | ジーエーエムシー バイオテック デベロップメント カンパニー リミテッド | 透過型ｘ線管用の厚いターゲット |
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| US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
| US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
| US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
| US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
| US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
| US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
| US10349908B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
| US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
| US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
| US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
| US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
| US10845491B2 (en) | 2018-06-04 | 2020-11-24 | Sigray, Inc. | Energy-resolving x-ray detection system |
| US10962491B2 (en) | 2018-09-04 | 2021-03-30 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray fluorescence with filtering |
| USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| US11056308B2 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-06 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
| US11152183B2 (en) | 2019-07-15 | 2021-10-19 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
-
1993
- 1993-08-17 JP JP20341293A patent/JPH0756000A/ja active Pending
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6463123B1 (en) | 2000-11-09 | 2002-10-08 | Steris Inc. | Target for production of x-rays |
| JP2004514120A (ja) * | 2000-11-09 | 2004-05-13 | ステリス インコーポレイテッド | 製品用ｘ線ターゲット |
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| US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
| US10991538B2 (en) | 2018-07-26 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
| US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
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