JP2637546B2 - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
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- JP2637546B2 JP2637546B2 JP7095189A JP7095189A JP2637546B2 JP 2637546 B2 JP2637546 B2 JP 2637546B2 JP 7095189 A JP7095189 A JP 7095189A JP 7095189 A JP7095189 A JP 7095189A JP 2637546 B2 JP2637546 B2 JP 2637546B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＸ線露光装置、特にSOR光源等の光源からの
Ｘ線を発散させ、露光域を拡大して露光するＸ線露光装
置に関する。
Ｘ線を発散させ、露光域を拡大して露光するＸ線露光装
置に関する。
SOR光源は、水平方向には大きな発散角、垂直方向に
は小さな発散角をもつ、シート状の電磁波（Ｘ線等）を
照射する光源である。垂直方向の発散角が小さな為、SO
R光をそのまま照射したのでは垂直方向に小さな範囲し
か照明されない。そこで、SOR光源を用いるＸ線露光装
置では、SOR光源より照射されるＸ線の露光エリアを垂
直方向に広げるための何らかの方法が必要になる。
は小さな発散角をもつ、シート状の電磁波（Ｘ線等）を
照射する光源である。垂直方向の発散角が小さな為、SO
R光をそのまま照射したのでは垂直方向に小さな範囲し
か照明されない。そこで、SOR光源を用いるＸ線露光装
置では、SOR光源より照射されるＸ線の露光エリアを垂
直方向に広げるための何らかの方法が必要になる。
この為の方法として斜入射ミラーをSOR光源と露光面
との間に配置し、数mradの角度で振動させ、スリツト状
Ｘ線に露光域全域を走査させる方法（R.P.Haelbich他,
J.of Vac.Sci.Technol.B １（４）Oct−Dec.1983,P.1
262〜1266）が提案されている。
との間に配置し、数mradの角度で振動させ、スリツト状
Ｘ線に露光域全域を走査させる方法（R.P.Haelbich他,
J.of Vac.Sci.Technol.B １（４）Oct−Dec.1983,P.1
262〜1266）が提案されている。
しかしこの方法では、瞬間的には露光面の一部分しか
ビームが照射されないので、露光面、例えば露光用マス
クが部分的に膨張し、マスク上の転写すべきパターンに
歪が生じて転写誤差を生じる。これは、ミラーの振動周
期が十分に短くなければ除くことはできず、微細パター
ンの正確な転写が困難になる。一方、振動周期を十分に
短くするためには大きな駆動パラーが必要になり、Ｘ線
露光装置の様に大型のミラーを用いる場合には実際的で
ないという欠点があった。
ビームが照射されないので、露光面、例えば露光用マス
クが部分的に膨張し、マスク上の転写すべきパターンに
歪が生じて転写誤差を生じる。これは、ミラーの振動周
期が十分に短くなければ除くことはできず、微細パター
ンの正確な転写が困難になる。一方、振動周期を十分に
短くするためには大きな駆動パラーが必要になり、Ｘ線
露光装置の様に大型のミラーを用いる場合には実際的で
ないという欠点があった。
露光エリアを広げる他の方法として、曲面形状の斜入
射ミラーをSOR光源と露光面との間に配置し、ミラー曲
面での反射によって、Ｘ線ビームの垂直方向の発散角を
拡大する方法（Warren D.Grobman,Handbook on Sync
hrotron Radiation,Vol.1,Chapter 13,P.1135,Noth−
Holland Publishing Co.1983）が知られている。
射ミラーをSOR光源と露光面との間に配置し、ミラー曲
面での反射によって、Ｘ線ビームの垂直方向の発散角を
拡大する方法（Warren D.Grobman,Handbook on Sync
hrotron Radiation,Vol.1,Chapter 13,P.1135,Noth−
Holland Publishing Co.1983）が知られている。
この方法であれば上述した様なパターンの部分歪の問
題は無い。ただ、この文献にはこの方法をＸ線露光装置
に適用する為の構成についての開示はない。SOR光源か
らの出射Ｘ線光束は、水平軌道面内においては発散角ご
との強度分布がほぼ一様と見なせるが、この面に垂直な
面内においてはガウス分布になるので露光部の中央と端
部で露光強度に差が出てしまい、このままのＸ線を露光
に使用すると露光ムラを発生して露光装置としては不適
当である。
題は無い。ただ、この文献にはこの方法をＸ線露光装置
に適用する為の構成についての開示はない。SOR光源か
らの出射Ｘ線光束は、水平軌道面内においては発散角ご
との強度分布がほぼ一様と見なせるが、この面に垂直な
面内においてはガウス分布になるので露光部の中央と端
部で露光強度に差が出てしまい、このままのＸ線を露光
に使用すると露光ムラを発生して露光装置としては不適
当である。
本願発明は、この方法を具体的にＸ線露光装置に適用
可能にする事を目的とする。即ち、本発明は、上記従来
例の欠点に鑑み、優れた構成で露光に好適な曲率半径の
ミラーを備えたＸ線露光装置を提供せんとするものであ
る。
可能にする事を目的とする。即ち、本発明は、上記従来
例の欠点に鑑み、優れた構成で露光に好適な曲率半径の
ミラーを備えたＸ線露光装置を提供せんとするものであ
る。
本願発明は線源からのＸ線を拡散して露光面上に照射
する為の円柱面ミラーの曲率半径Ｒを ただし d1:線源の発光点から、円柱面ミラー面上のＸ線有効径
中心までの距離 d2:円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心から、露光面上
のＸ線有効径中心までの距離 α：円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心における入射Ｘ
線とミラー面との成す角 σ′：線源からの出射Ｘ線の重心波長における、ミラー
の母線に垂直な断面内での発散角ごとの強度分布の標準
偏差値 Δ:0.43a≦Δ≦4.0a （１−２） a:露光エリアのミラーによって拡散される方向の長さ とする事、あるいは ただし4.3×102a≦Δ′≦4.0×104a（２−２）とする事
により出射Ｘ線を露光面上に均一強度で、かつ有効に照
射できるものである。
する為の円柱面ミラーの曲率半径Ｒを ただし d1:線源の発光点から、円柱面ミラー面上のＸ線有効径
中心までの距離 d2:円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心から、露光面上
のＸ線有効径中心までの距離 α：円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心における入射Ｘ
線とミラー面との成す角 σ′：線源からの出射Ｘ線の重心波長における、ミラー
の母線に垂直な断面内での発散角ごとの強度分布の標準
偏差値 Δ:0.43a≦Δ≦4.0a （１−２） a:露光エリアのミラーによって拡散される方向の長さ とする事、あるいは ただし4.3×102a≦Δ′≦4.0×104a（２−２）とする事
により出射Ｘ線を露光面上に均一強度で、かつ有効に照
射できるものである。
尚、本明明細書において、SORビームの使用する波長
領域の重心波長とは次式で与えられる０を言う。
領域の重心波長とは次式で与えられる０を言う。
ここで、λは波長、ｅ（λ）は波長λにおける単位波
長当たりのSOR光のエネルギー、λ１は使用する波長領
域の下限値、λ２は使用する波長領域の上限値である。
長当たりのSOR光のエネルギー、λ１は使用する波長領
域の下限値、λ２は使用する波長領域の上限値である。
第１図は本発明の露光装置の照明系の構成を示す概観
図である。同図に於いて、１はSOR光源の発光点、２は
円柱凸面形状のミラー、３は露光面（ここではマスク
面）である。3aは露光面３と発光源１との間の不図示の
絞り等によって、露光面上で実際に露光される領域（露
光エリア）である。尚、図示はしていないが、光路中に
はミラー２の他に、Be窓等の種々の材料が挿入されてい
てもよい。マスク３の奥には不図示のウエハが位置す
る。
図である。同図に於いて、１はSOR光源の発光点、２は
円柱凸面形状のミラー、３は露光面（ここではマスク
面）である。3aは露光面３と発光源１との間の不図示の
絞り等によって、露光面上で実際に露光される領域（露
光エリア）である。尚、図示はしていないが、光路中に
はミラー２の他に、Be窓等の種々の材料が挿入されてい
てもよい。マスク３の奥には不図示のウエハが位置す
る。
第２図は本発明の露光装置の照明系の構成の光軸を含
んだ垂直方向（ya）の断面図である。以下同様の部材は
同じ符号で示す。d1はSOR光源の発光点１から円柱凸面
ミラー２上の有効径中心までの距離、d2は円柱凸面ミラ
ー２上の有効径中心から露光面３までの距離、Ｒは円柱
凸面ミラー２の垂直断面の曲率半径、αは円柱凸面ミラ
ー２の有効径中心におけるミラー面とSORからの入射Ｘ
線ビームとのなす角、σ′はSOR光源からの出射光のSOR
ビームの使用する波長領域の重心波長に於ける有効径中
心1aを含み、ミラー２の母線に垂直な断面（xaya面）内
での発散角ごとの強度分布の標準偏差値（角度:rad）を
示すものである。ここでSOR光源からの出射Ｘ線のSOR水
平軌道面（第１図xaza面）に垂直な断面（xaya面）内の
発散角ごとの強度分布は通常ガウス分布となる。
んだ垂直方向（ya）の断面図である。以下同様の部材は
同じ符号で示す。d1はSOR光源の発光点１から円柱凸面
ミラー２上の有効径中心までの距離、d2は円柱凸面ミラ
ー２上の有効径中心から露光面３までの距離、Ｒは円柱
凸面ミラー２の垂直断面の曲率半径、αは円柱凸面ミラ
ー２の有効径中心におけるミラー面とSORからの入射Ｘ
線ビームとのなす角、σ′はSOR光源からの出射光のSOR
ビームの使用する波長領域の重心波長に於ける有効径中
心1aを含み、ミラー２の母線に垂直な断面（xaya面）内
での発散角ごとの強度分布の標準偏差値（角度:rad）を
示すものである。ここでSOR光源からの出射Ｘ線のSOR水
平軌道面（第１図xaza面）に垂直な断面（xaya面）内の
発散角ごとの強度分布は通常ガウス分布となる。
第１図または第２図において、SOR光源の発光点１か
ら出射したＸ線はSORの水平軌道面近傍を進み円柱凸面
ミラー２に入射する。ミラー２は垂直方向（ya方向）に
曲率をもつので、入射Ｘ線ビームの垂直方向の発散角を
拡大して出射する。従って、露光面３上で垂直方向にも
十分広がったＸ線ビームが得られるものである。この場
合もxaza面内での発散角ごとの強度分布はガウス分布の
ままである。
ら出射したＸ線はSORの水平軌道面近傍を進み円柱凸面
ミラー２に入射する。ミラー２は垂直方向（ya方向）に
曲率をもつので、入射Ｘ線ビームの垂直方向の発散角を
拡大して出射する。従って、露光面３上で垂直方向にも
十分広がったＸ線ビームが得られるものである。この場
合もxaza面内での発散角ごとの強度分布はガウス分布の
ままである。
次に、円柱凸面形状ミラー２の適切な曲率半径を与え
る式（前出の（１−１），（１−２），（２−１），
（２−２）式）の導出とその意味について説明する。
る式（前出の（１−１），（１−２），（２−１），
（２−２）式）の導出とその意味について説明する。
先ず、ミラー２の母線に垂直な断面における焦点距離
ｆは （Ｒ＞0,α＞0,f＜０） で与えられる。このミラーを薄肉レンズで近似し、軸上
物点（SOR発光点）から出射する近軸光線が露光面上で
どの程度に広がるかを調べることにする。
ｆは （Ｒ＞0,α＞0,f＜０） で与えられる。このミラーを薄肉レンズで近似し、軸上
物点（SOR発光点）から出射する近軸光線が露光面上で
どの程度に広がるかを調べることにする。
第３図は上記薄肉レンズの近軸関係を示した図であ
り、同図において１′はSOR発光点中心位置を、２′は
ミラーを近似した薄肉レンズを、３は露光面を示し、ま
たψは薄肉レンズ（即ちミラー）の屈折力（＝1/f）
を、d1は発光点中心位置１′から薄肉レンズ２までの距
離を、d2は薄肉レンズ２′から露光面３までの距離を
u1,u2はそれぞれ発光点中心１′と薄肉レンズ２′を出
射した直後のＸ線ビームの有効径部の発散半角、h1,h2
はそれぞれ薄肉レンズ２′と露光面３′に入射するＸ線
ビームのya方向の有効半径（入射高）を表わすものであ
り、符合は同図に示したとおりであるとする。
り、同図において１′はSOR発光点中心位置を、２′は
ミラーを近似した薄肉レンズを、３は露光面を示し、ま
たψは薄肉レンズ（即ちミラー）の屈折力（＝1/f）
を、d1は発光点中心位置１′から薄肉レンズ２までの距
離を、d2は薄肉レンズ２′から露光面３までの距離を
u1,u2はそれぞれ発光点中心１′と薄肉レンズ２′を出
射した直後のＸ線ビームの有効径部の発散半角、h1,h2
はそれぞれ薄肉レンズ２′と露光面３′に入射するＸ線
ビームのya方向の有効半径（入射高）を表わすものであ
り、符合は同図に示したとおりであるとする。
近軸関係から、 h1＝−d1・u1 （５） u2＝u1・h1ψ （６） h2＝h1−d2u2 （７） が成り立ち、（５），（６），（７）からh1とu2を消去
すると、h2は h2＝−u1（d1＋d2）＋d1d2u1ψ （８） と表わされる。さらに（８）式に（４）式の関係を代入
すると、 h2＝−u1（d1＋d2）−2u1d1d2/Rα （９） となり、これが露光面でのＸ線の垂直方向の広がりを表
わす近軸関係である。従って、SORビームの使用する波
長領域の重心波長に於ける垂直方向の放射光の発散角ご
との強度分布の標準偏差値をσ′（＞０）とすると、こ
の標準偏差値がＸ線ビームの有効径部の発散半角とほぼ
一致するので、この角度で出射したＸ線の露光面での光
軸からの広がりh2は（９）式においてu1＝−σ′とおく
ことにより h2＝σ′（d1＋d2）＋２σ′d1d2/Rα （10） と求めることができる。
すると、h2は h2＝−u1（d1＋d2）＋d1d2u1ψ （８） と表わされる。さらに（８）式に（４）式の関係を代入
すると、 h2＝−u1（d1＋d2）−2u1d1d2/Rα （９） となり、これが露光面でのＸ線の垂直方向の広がりを表
わす近軸関係である。従って、SORビームの使用する波
長領域の重心波長に於ける垂直方向の放射光の発散角ご
との強度分布の標準偏差値をσ′（＞０）とすると、こ
の標準偏差値がＸ線ビームの有効径部の発散半角とほぼ
一致するので、この角度で出射したＸ線の露光面での光
軸からの広がりh2は（９）式においてu1＝−σ′とおく
ことにより h2＝σ′（d1＋d2）＋２σ′d1d2/Rα （10） と求めることができる。
（10）式のh2をΔとおいて、Ｒについて解くと（１）
式が得られる。また、（２）式は、以上の議論から分か
るように、標準偏差を与える光線の位置の範囲を規定す
るものであり、Δが小さければ小さな広がりのビーム
を、Δが大きければ大きな広がりのビームを得ることが
できる。このΔの露光に適正な値の範囲について以下に
説明する。第４図はxaya面内においてＸ線の発散角毎の
強度分布がガウス分布の場合のa/Δ（露光エリアのya方
向長さａの、露光面３′でのＸ線ビームのya方向有効半
径Δに対する比率）と露光面3a上でのya方向の露光ムラ
（露光エリア内でのya方向の（最大露光強度−最小露光
強度）／最大露光強度の値）との関係を表わすグラフで
ある。ただしza方向には強度変化（露光ムラ）はないも
のとしてある。このグラフから、露光ムラを50％以下に
する為にはa/Δを略2.3以下の範囲にとどめる必要があ
る。言い換えるとΔを約0.43a以上にしなければ、露光
エリア内における最大露光強度と最小露光強度との差の
最大露光強度に対する大きさが半分以下になり、露光エ
リア内の露光ムラが大きくなって露光装置として使用す
るには不適当となってしまう。
式が得られる。また、（２）式は、以上の議論から分か
るように、標準偏差を与える光線の位置の範囲を規定す
るものであり、Δが小さければ小さな広がりのビーム
を、Δが大きければ大きな広がりのビームを得ることが
できる。このΔの露光に適正な値の範囲について以下に
説明する。第４図はxaya面内においてＸ線の発散角毎の
強度分布がガウス分布の場合のa/Δ（露光エリアのya方
向長さａの、露光面３′でのＸ線ビームのya方向有効半
径Δに対する比率）と露光面3a上でのya方向の露光ムラ
（露光エリア内でのya方向の（最大露光強度−最小露光
強度）／最大露光強度の値）との関係を表わすグラフで
ある。ただしza方向には強度変化（露光ムラ）はないも
のとしてある。このグラフから、露光ムラを50％以下に
する為にはa/Δを略2.3以下の範囲にとどめる必要があ
る。言い換えるとΔを約0.43a以上にしなければ、露光
エリア内における最大露光強度と最小露光強度との差の
最大露光強度に対する大きさが半分以下になり、露光エ
リア内の露光ムラが大きくなって露光装置として使用す
るには不適当となってしまう。
次に第５図は第４図と同条件における前述a/Δと、使
用光量比（光源より出射されるＸ線の全発光量に対する
露光エリア3a内の露光量の比）との関係を表わすグラフ
である。ただし露光エリア3aのza方向の長さはＸ線光束
のza方向の巾にほぼ一致し、かつ不変であるとしてあ
る。このグラフは、言い換えるとSORからの出射Ｘ線がa
/Δの値によりどれだけ有効に露光に使用されるかを示
すグラフであるが、このグラフで使用光量比が1/10を下
回る様だと露光装置としては無駄が多く使用に耐えな
い。このグラフからわかる様に使用光量比を1/10以上に
する為にはa/Δを0.25以上にする必要がある。即ちΔ≦
4aがＸ線露光装置としての条件となる。
用光量比（光源より出射されるＸ線の全発光量に対する
露光エリア3a内の露光量の比）との関係を表わすグラフ
である。ただし露光エリア3aのza方向の長さはＸ線光束
のza方向の巾にほぼ一致し、かつ不変であるとしてあ
る。このグラフは、言い換えるとSORからの出射Ｘ線がa
/Δの値によりどれだけ有効に露光に使用されるかを示
すグラフであるが、このグラフで使用光量比が1/10を下
回る様だと露光装置としては無駄が多く使用に耐えな
い。このグラフからわかる様に使用光量比を1/10以上に
する為にはa/Δを0.25以上にする必要がある。即ちΔ≦
4aがＸ線露光装置としての条件となる。
以上より理解される様にＸ線露光装置におけるΔの条
件としては、実際に露光される領域の、Ｘ線光束拡大方
向（第１図ya方向）長さａを考慮して 0.43a≦Δ≦4.0a （１−２） が求まる。よってミラー２の曲率半径は 0.43a≦Δ≦0.40a 即ち が条件となることがわかる。
件としては、実際に露光される領域の、Ｘ線光束拡大方
向（第１図ya方向）長さａを考慮して 0.43a≦Δ≦4.0a （１−２） が求まる。よってミラー２の曲率半径は 0.43a≦Δ≦0.40a 即ち が条件となることがわかる。
ところで（１−１）式はΔ′＝Δ／σ′とする事によ
り （ここでΔ′＝Δ／σ′） と変形できる。一般にSOR光源においてはσ′の値は 0.1×10-3≦σ′≦1.0×10-3（rad） （12） となっているので（１−２），（12）式より 4.3×102a≦Δ′≦4.0×104a （13） となり（１−１），（13）式より 4.3×102a≦Δ′≦４×104a 即ち、 とできることがわかる。
り （ここでΔ′＝Δ／σ′） と変形できる。一般にSOR光源においてはσ′の値は 0.1×10-3≦σ′≦1.0×10-3（rad） （12） となっているので（１−２），（12）式より 4.3×102a≦Δ′≦4.0×104a （13） となり（１−１），（13）式より 4.3×102a≦Δ′≦４×104a 即ち、 とできることがわかる。
以下具体的に実施例を述べる。
式（１−１）における各パラメータを以下の値に設定
した。
した。
d1＝5000（mm） d2＝5000（mm） σ′＝5.0×10-4（rad） α＝1.0×10-2（rad） ａ＝30（mm） この様にパラメータを設定すると（11）式より 2.21×104≦Ｒ≦3.2×105 （15） （単位:mm） となる。各パラメータを上述条件にした状態でＲがそれ
ぞれ250m（Δ＝a/2）,100m（Δ＝ａ）,45.5m（Δ＝2
a）、となっている円柱ミラーを使って露光エリアとＸ
線露光強度との関係をそれぞれ求めた。第６図にその結
果を示す。図で横軸は露光エリアの中心を原点としてya
方向位置、縦軸は各点のＸ線強度（円柱ミラーより出射
するＸ線の強度の露光面上での面積積分値に対する各点
でのＸ線強度の相対値で示す）である。
ぞれ250m（Δ＝a/2）,100m（Δ＝ａ）,45.5m（Δ＝2
a）、となっている円柱ミラーを使って露光エリアとＸ
線露光強度との関係をそれぞれ求めた。第６図にその結
果を示す。図で横軸は露光エリアの中心を原点としてya
方向位置、縦軸は各点のＸ線強度（円柱ミラーより出射
するＸ線の強度の露光面上での面積積分値に対する各点
でのＸ線強度の相対値で示す）である。
比較例として第７図に本発明で規定した曲率半径の範
囲外となるＲ＝8.5m（Δ＝10a）となっている円柱ミラ
ーと、Ｒ＝∞（Δ＝a/6）となるミラー、即ち平面ミラ
ーとで同様にして求めたＸ線強度分布のグラフを示す。
囲外となるＲ＝8.5m（Δ＝10a）となっている円柱ミラ
ーと、Ｒ＝∞（Δ＝a/6）となるミラー、即ち平面ミラ
ーとで同様にして求めたＸ線強度分布のグラフを示す。
両図より理解される様にＲが本願範囲内であれば、露
光ムラは許容範囲内（端の光量が中央の1/2以上）にお
さまる。又、全光量に対する使用光量の割合も小さくな
りすぎる事はない。
光ムラは許容範囲内（端の光量が中央の1/2以上）にお
さまる。又、全光量に対する使用光量の割合も小さくな
りすぎる事はない。
以上説明したように、本発明のＸ線露光装置は一括露
光方式が可能なため、ミラーの揺動を必要とせず、従来
例での欠点であるＸ線ビームの移動にともなうマスクの
部分的な熱歪みもなく、更に、実用的な露光装置として
必要な露光エリアを確保するのに適した曲率半径のミラ
ーを具備するものであるため、Ｘ線露光装置の実用化を
より容易にするものである。
光方式が可能なため、ミラーの揺動を必要とせず、従来
例での欠点であるＸ線ビームの移動にともなうマスクの
部分的な熱歪みもなく、更に、実用的な露光装置として
必要な露光エリアを確保するのに適した曲率半径のミラ
ーを具備するものであるため、Ｘ線露光装置の実用化を
より容易にするものである。
第１図は本発明の露光装置の構成を示す概観図、 第２図は本発明の露光装置の構成の垂直断面図、 第３図はミラー光学系の近軸関係を示す図、 第４図，第５図はそれぞれa/Δに対する露光ムラ、使用
光量比の関係を示すグラフ、 第６図は本発明の数値実施例における露光面上Ｘ線強度
分布を示すグラフ、 第７図は比較用グラフである。 図中、 １……SOR光源の発光点 ２……円柱凸面形状のミラー ３……露光面 d1……SOR光源からミラーまでの距離 d2……ミラーから露光面までの距離 α……ミラーの傾き角 Ｒ……ミラーの曲率半径（垂直断面内） である。
光量比の関係を示すグラフ、 第６図は本発明の数値実施例における露光面上Ｘ線強度
分布を示すグラフ、 第７図は比較用グラフである。 図中、 １……SOR光源の発光点 ２……円柱凸面形状のミラー ３……露光面 d1……SOR光源からミラーまでの距離 d2……ミラーから露光面までの距離 α……ミラーの傾き角 Ｒ……ミラーの曲率半径（垂直断面内） である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−156000（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−244400（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−504271（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】線源からのＸ線を拡散して露光面上に照射
する為の円柱面ミラーを有する露光装置であって、前記
円柱面ミラーの曲率半径Ｒが ただし d1:線源の発光点から、円柱面ミラー面上のＸ線有効径
中心までの距離 d2:円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心から、露光面上
のＸ線有効径中心までの距離 α：円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心における入射Ｘ
線とミラー面との成す角 σ′：線源からの出射Ｘ線の重心波長における、ミラー
の母線に垂直な断面内での発散角ごとの強度分布の標準
偏差値 Δ:0.43a≦Δ≦4.0a a:露光エリアのミラーによって拡散される方向の長さ を満たす事を特徴とするＸ線露光装置。 - 【請求項２】線源からのＸ線を拡散して露光面上に照射
する為の円柱面ミラーを有する露光装置であって、前記
円柱面ミラーの曲率半径Ｒが ただし d1:線源の発光点から、円柱面ミラー面上のＸ線有効径
中心までの距離 d2:円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心から、露光面上
のＸ線有効径中心までの距離 α：円柱面ミラー面上のＸ線有効径中心における入射Ｘ
線とミラー面との成す角 Δ′:4.3×102a≦Δ′≦4.0×104a a:露光エリアのミラーによって拡散される方向の長さ を満たす事を特徴とするＸ線露光装置。
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