WO2019064360A1 - X線分光分析装置、及び該x線分光分析装置を用いた化学状態分析方法 - Google Patents

X線分光分析装置、及び該x線分光分析装置を用いた化学状態分析方法 Download PDF

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佐藤 賢治
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株式会社島津製作所
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Definitions

  • the present invention relates to an X-ray spectral analysis apparatus for separating characteristic X-rays emitted from a sample irradiated with excitation beams such as primary X-rays and electron beams and detecting the intensity for each wavelength, and the X-ray spectral analysis apparatus It relates to the chemical state analysis method used.
  • the characteristic X-ray emitted from the sample irradiated with the excitation beam has energy (wavelength) determined by the element contained in the sample. Therefore, the composition of the sample can be determined by detecting the intensity per energy of characteristic X-rays.
  • An X-ray spectrometer 90 is described which comprises an X-ray linear sensor 94 provided with detection elements 941 aligned in a direction perpendicular to the slit (see FIG. 12).
  • characteristic X-rays are emitted from various positions in the irradiation area A in various directions, and those passing through the slit 92 among them Only reach the dispersive crystal.
  • characteristic X-rays having a specific energy (wavelength) are generated from one of the linear portions.
  • the X-ray spectrometer 90 is a sample such as liquid or powder whose composition is uniform regardless of the position, or even if it is nonuniform over the entire irradiation area A, it is uniform when averaged over linear portions. An analysis can be performed on the sample.
  • Patent Document 1 describes a method of analyzing the valence of an element contained in a sample using the above-mentioned X-ray spectrometer. Specifically, the energy of the characteristic X-ray differs by about several hundred meV to several eV by the difference of the valence of the element (this difference is sufficiently smaller than the difference of the energy of the characteristic X-ray due to the difference of the element) The valence of the element can be determined by precisely measuring the energy of characteristic X-rays.
  • valence analysis can be performed in real time without destroying the sample.
  • Such analysis of the chemical state is used, for example, for analysis of deterioration of the material due to chemical change, change of state of the battery material due to charge or discharge, identification of harmful elements (eg hexavalent chromium) based on difference in valence, etc. be able to.
  • the problem to be solved by the present invention is an X-ray spectrometer which can determine the energy of the detected characteristic X-ray with high accuracy, and a valence of an element contained in a sample using the X-ray spectrometer. It is an object of the present invention to provide a method capable of analyzing chemical states such as numbers with high accuracy.
  • An X-ray spectrometer which was made to solve the above-mentioned problems, a) an excitation source for irradiating excitation radiation for generating characteristic X-rays on a predetermined irradiation area of the sample surface; b) a dispersive crystal comprising a flat plate provided facing the irradiation area; c) the irradiation area and a slit parallel to a predetermined crystal plane of the dispersive crystal, provided between the irradiation area and the dispersive crystal; d) an X-ray linear sensor in which linear detection elements having a length in a direction parallel to the slit are arranged in a direction perpendicular to the slit; e) measuring the two characteristic X-rays by irradiating the excitation beam from the excitation source on the surface of a standard sample that generates two characteristic X-rays whose energy is known by irradiating the excitation beam; And an energy calibration unit configured
  • the energy calibration unit uses the standard sample to calibrate the energy of characteristic X-rays detected by each of the detection elements of the X-ray linear sensor. This calibration may be performed immediately before the measurement every time the measurement of the sample to be analyzed is performed, or may be performed periodically independently of the measurement of the sample.
  • one that generates two (or three or more) characteristic X-rays whose energy is known by irradiating excitation radiation from an excitation source is used.
  • the energy of two characteristic X-rays of the element may be used for calibration, and two kinds of elements whose valence is known (or In the case of having more than that, the energy of at least one characteristic X-ray of each element may be used for calibration.
  • One of the following two methods can be used to calibrate the energy of the characteristic X-ray detected by each of the detection elements of the X-ray linear sensor, which is performed by the energy calibration unit.
  • the position of the X-ray linear sensor is moved so that two types (or three or more types) of characteristic X-rays having different energies are respectively incident on predetermined detection elements.
  • the second method does not move the position of the X-ray linear sensor, but creates a calibration curve showing the relationship between each detection element and the energy based on the position of the detection element at which two or more types of characteristic X-rays are incident. .
  • the energy calibration unit calibrates the energy of the characteristic X-rays detected by each of the detection elements of the X-ray linear sensor using two characteristic X-rays of different energies emitted from the standard sample.
  • the energy of characteristic X-rays emitted from the sample can be determined with high accuracy by the X-ray linear sensor.
  • the chemical state of the sample such as the valence of the element contained in the sample to be analyzed, can be determined with high accuracy.
  • two characteristic X-rays (characteristic X-rays for calibration) generated from the standard sample
  • two (or more) characteristic X-rays emitted from one kind of element can be suitably used. In this case, it is not necessary to mix two or more elements when producing a standard sample.
  • the two characteristic X-rays are preferably K ⁇ 1 and K ⁇ 1, 3 in terms of intensity.
  • K ⁇ 1 rays emitted respectively from two or more types of elements as the two characteristic X-rays (characteristic X-rays for calibration) generated from the standard sample. Since the K ⁇ 1 ray has higher intensity than other characteristic X-rays, energy calibration can be performed with higher accuracy by using the K ⁇ 1 ray.
  • the two kinds of elements are the same element as the element contained in the sample to be measured, an element having an atomic number larger by one than the element, or an object to be measured It is preferable that it is an element whose atomic number is larger by one and an element larger by two than the elements contained in the sample.
  • Kbeta 1, 3 line element to be analyzed In analyzing the valence of the above-mentioned elements, and Kbeta 1, 3 line element to be analyzed is released, but Kbeta 1, 3-wire Kbeta 'line having an energy in the vicinity of the detection is performed, the analyte
  • the K ⁇ 1 line emitted from an element having one (and two) atomic numbers larger than that of the element generally has an energy close to the K ⁇ 1, 3 line or K ⁇ ′ line of the element to be analyzed. It helps to determine the energy of elemental K ⁇ 1 , 3 and K ⁇ 'lines more accurately.
  • the sample to be measured contains the two characteristic X-rays generated from the standard sample.
  • atomic number than the largest element atomic number of the elements can be used and K [alpha 1 line of one large element, the K [alpha 1 line of one element among the elements sample of the measurement target contains.
  • the energy resolution of the X-ray analysis apparatus is formed between the peaks of the K [alpha 2-wire K [alpha 1 line More preferably, the intensity at the valley is less than half the intensity at the peak of the K ⁇ 1 line. Thereby, the peak of K ⁇ 1 line and the peak of K ⁇ 2 line can be separated more clearly.
  • K [alpha 1 line and K [alpha 2-wire, and Kbeta 1, fitting by 3-wire and Kbeta 'line Lorentz function in addition to be performed on here mentioned characteristic X-ray obtained from a standard sample for the energy calibration It may be performed on characteristic X-rays obtained from a sample to be measured.
  • the fitting by Lorentz function of the characteristic X-ray obtained from the sample to be measured can also be performed in an X-ray spectrometer which does not perform energy calibration.
  • the X-ray spectrometer according to the present invention is further characterized in that the peak energy of the characteristic X-ray emitted from each of a plurality of standard samples of which the predetermined element to be contained and the valence number of the element are known and whose valence numbers are different.
  • a calibration curve creation unit can be provided that creates a calibration curve indicating the peak energy relative to the valence. According to this configuration, by applying the peak energy of the characteristic X-ray emitted from the measurement target sample to the calibration curve created by the calibration curve creation unit, the standard value of the predetermined element contained in the measurement target sample is obtained. The number can be estimated.
  • the chemical state analysis method is a method of analyzing the chemical state of elements in a sample to be measured using the above-mentioned X-ray spectrometer.
  • Each of the detection elements of the X-ray linear sensor based on the energy of at least two characteristic X-rays having different energies which are generated by irradiating the excitation beam from the excitation source to the surface of the standard sample
  • the valence number of the elements in the sample to be measured can be suitably specified as the chemical state.
  • the energy of the detected characteristic X-ray can be determined with higher accuracy by the X-ray analyzer according to the present invention.
  • the X-ray analyzer can analyze the chemical state such as the valence of the element contained in the sample with high accuracy.
  • the schematic side view which shows one Embodiment of the X-ray-analysis apparatus based on this invention.
  • the graph which shows an example of the wavelength spectrum of the characteristic X-ray obtained from the sample of measurement object by the X-ray analyzer which concerns on this invention.
  • the schematic which shows the dimension of X-ray-analysis apparatus which measured FIG. 2, and arrangement
  • the graph which shows the detection result of the characteristic X ray each obtained from the same element of a different valence contained in the sample of measurement object.
  • FIG. 10 is a schematic view showing a case (b) of moving the X-ray linear sensor away from the dispersive crystal (b) and a state (c) after adjustment of the distance from the dispersive crystal and the position in the direction in which the detection elements are arranged.
  • Embodiments of the X-ray analyzer and the chemical state analysis method according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11.
  • FIG. 1 is a schematic side view of the X-ray spectrometer 10 of this embodiment.
  • the X-ray spectrometer 10 has an excitation source 11, a slit 12, a dispersive crystal 13 consisting of a flat plate, an X-ray linear sensor 14, a sample holder 15, and an energy calibration unit 16 (see FIG. 1).
  • the calibration curve creation unit 17 shown in the inside may not be included in the X-ray spectrometer 10. The details of the calibration curve creation unit 17 will be described later).
  • the excitation source 11 is an X-ray source that irradiates the sample S held by the sample holder 15 with an X-ray as excitation light (excitation beam) as described later.
  • An electron beam source may be used instead of the X-ray source.
  • Excitation light is irradiated to the planar irradiation area A on the sample S by the excitation source 11.
  • the excitation light is irradiated perpendicularly to the irradiation area A, but the excitation light may be irradiated at an angle inclined to the irradiation area A.
  • the slit 12 is disposed between the irradiation area A and the dispersive crystal 13.
  • the dispersive crystal 13 one having a predetermined crystal plane parallel to the surface of the crystal is used.
  • the slits 12 are arranged in parallel (perpendicularly to the paper surface in FIG. 1) to the irradiation area A and the crystal plane of the dispersive crystal 13 used to detect the characteristic X-ray (that is, the surface of the dispersive crystal 13).
  • the X-ray linear sensor 14 is provided with a plurality of linear detection elements 141 having a length in a direction parallel to the slit 12 (perpendicular to the sheet of FIG. 1) and aligned in a direction perpendicular to the slit 12 It is.
  • Each detection element 141 only needs to detect the intensity (number) of X-rays incident thereon, and the function of precisely detecting the wavelength and energy of the incident X-rays is not necessary.
  • the sample S may be solid, liquid or gas, and the sample holder 15 uses one corresponding to the state of the sample. That is, if the sample S is solid, a table for placing the sample S is used for the sample holder 15, and if the sample S is liquid, a container for storing the sample S is used for the sample holder 15. If it exists, a container for sealing the sample S is used as the sample holder 15.
  • the energy calibration unit 16 includes an X-ray linear sensor position fine adjustment unit 161 and a control unit 162.
  • the X-ray linear sensor position fine adjustment unit 161 moves the X-ray linear sensor 14 in the direction in which the detection elements 141 are arranged, and also moves in a direction perpendicular to the direction and perpendicular to the length direction of the detection elements 141 By doing this, the position of the X-ray linear sensor 14 is finely adjusted.
  • the control unit 162 controls the X-ray linear sensor position fine adjustment unit 161 based on the measurement results of the two characteristic X-rays emitted by irradiating the surface of the standard sample with the excitation beam from the excitation source 11. The position of the X-ray linear sensor 14 is moved. Details of control by the control unit 162 will be described later.
  • the characteristic X-rays enter the dispersive crystal 13 only at one incident angle (90- ⁇ 2 ) ° different from the incident angle (90- ⁇ 1 ) °.
  • the light is diffracted (reflected) at the diffraction angle ⁇ only when it has a wavelength satisfying the interval (n is the order).
  • Characteristic X-rays diffracted (reflected) by the dispersive crystal 13 are detected by one of the detection elements 141 of the X-ray linear sensor 14.
  • FIG. 1 An example of the data of the wavelength spectrum obtained in this way is shown in FIG.
  • This data is obtained by measuring stainless steel as sample S, and within the measured energy range, K alpha rays of Fe (iron), K alpha rays and K beta rays of Cr (chromium), and K alpha rays of Mn (manganese) Is observed.
  • K alpha rays of Fe iron
  • K alpha rays and K beta rays of Cr chromium
  • K alpha rays of Mn mangaganese
  • K 2 CrO 4 and Cr 2 O 3 (same-circles, +3) for an example of specifying the valence of Cr based on the K ⁇ line of Cr Shown (note that FIG. 4 is different from the data of K ⁇ line of Cr shown in FIG. 2). From this data, the K ⁇ 1, 3 line released from +3 Cr is higher in energy by 1.4 eV than the K ⁇ 1, 3 line released from +6 Cr. This energy difference makes it possible to specify whether Cr contained in the sample to be measured is +3 or +6. Further, the valence number of Cr contained in the sample to be measured can also be specified from the difference in the energy of the K ⁇ ′ ray appearing on the lower energy side than K ⁇ 1 , 3 .
  • the optical paths of the diffracted light diffracted at each point on the surface of the dispersive crystal 13 in the plane shown in FIG. 5 all intersect at a point P which is one point on the slit 12 in front of the dispersive crystal 13.
  • a point P which is one point on the slit 12 in front of the dispersive crystal 13.
  • they intersect at one point P '(point P, points on the surface of the dispersive crystal 13 and point P' are connected to form an isosceles triangle).
  • the distance between the detection element 141 M at the center of the X-ray linear sensor 14 and the point P ′ is L.
  • FIG. 6 shows an example in which the relationship between each detection element 141 and the energy of characteristic X-rays is specified.
  • the X-ray linear sensor 14 is arranged as designed by the method described in the section (2-2) above Although it is ideal, in practice, even if the X-ray linear sensor 14 is disposed at a position deviated from the designed position, or once arranged as designed, a slight displacement occurs due to vibration during use, etc. Sometimes. Therefore, in the present embodiment, the position of the X-ray linear sensor 14, that is, the energy (wavelength) detected by each detection element 141 is calibrated as follows. First, a standard sample used for calibration is attached to the sample holder 15, and excitation light is irradiated from the excitation source 11 to the irradiation area A of the surface of the standard sample.
  • a standard sample one that generates at least two characteristic X-rays whose energy is known by irradiating excitation light from the excitation source 11 is used.
  • the energy of the characteristic X-ray generated in this manner is known, the element contained in the standard sample and the valence thereof need not necessarily be known.
  • the X-ray linear sensor 14 passes only the slit 12 and is diffracted by the dispersive crystal 13. To detect. At that time, in each detection element 141 of the X-ray linear sensor 14, only characteristic X-rays emitted from a specific linear portion of the irradiation area A and having specific energy determined by the incident angle to the dispersive crystal 13 enter. .
  • characteristic X-rays having two different energies (energy when the detected intensity (number) becomes largest peak energy) E 1 and E 2 in the X-ray linear sensor 14 It is detected.
  • the control unit 162 controls the X-ray linear sensor position fine adjustment unit 161 such that the two characteristic X-rays are incident on the predetermined detection element 141 corresponding to the energy respectively, thereby the X-ray linear sensor 14 Move
  • calibration was performed using two characteristic X-rays whose energy emitted from the standard sample is known, but if the energies of three or more characteristic X-rays emitted from the standard sample are known, Calibration can be performed with higher accuracy by using three or more characteristic X-rays.
  • the value of the energy allocated to each detection element 141 may be changed while the position of the X-ray linear sensor 14 is fixed.
  • the energy of the detected characteristic X-ray is assigned as a detection value of the energy in the detection element 141 to the detection element 141 in which two (or three or more) characteristic X-rays are detected.
  • the other detection element 141 is a new calibration curve equation obtained by correcting the values of L and n (or L and n and ⁇ M ) based on the energy of two characteristic X-rays and the equation (3). The assignment may be performed using (3) '.
  • each detection element 141 can be performed using equation (3) ′ of the new calibration curve respectively replaced with L, n, ⁇ M (constants for calibration).
  • a first example of a desirable standard sample is when the energies of the K ⁇ 1 and K ⁇ 1, 3 rays emitted from the same element that it contains are known.
  • those indicated by a symbol (a) and connected by thick lines indicate the K ⁇ 1 line and the K ⁇ 1, 3 line of Ni.
  • the sample to be measured measuring the K ⁇ 1, 3-wire Ni is the same element as that used in the calibration.
  • K ⁇ 1 line and K ⁇ 1, 3 line of the element emitted from the standard sample after performing calibration using a may be measured K ⁇ 1, 3-wire of the elements in the sample to be measured.
  • a second example of a desirable standard sample is when the energy of K ⁇ 1 rays emitted from two (or three or more) elements that it contains is known.
  • those indicated by the symbol (b-1) and connected by thick lines indicate the K ⁇ 1 line of Ni and the K ⁇ 1 line of Cu.
  • the K ⁇ 1,3 line of Ni which is the same element as that used in the calibration, is measured.
  • reference numeral (b-2) in FIG. 8 even using K ⁇ 1, K ⁇ 1 line of K [alpha 1 line and Zn in Cu energy is close to the 3-wire to be measured Ni Good.
  • the energy calibration is performed using the K ⁇ 1 line of Cr and the K ⁇ 1 line of Fe with two atomic numbers apart, You may measure K beta 1, 3 lines.
  • (b-3) is in addition to the K ⁇ 1, 3-wire Cr, also K ⁇ 1, 3-wire K [alpha 1 line and K [alpha 1 line of Fe and energy is near V and Mn and Cr as measured Good.
  • calibration can be performed with high accuracy using a K ⁇ 1 ray whose intensity is detected by the detection element 141 is large.
  • FIG. 9 shows the results of fitting with Lorentz functions for the K ⁇ line of Fe and FIG. 10 for the K ⁇ line of Mn. In FIG. 9, fitting was performed as superposition of the Lorentz function by the K ⁇ 1 line and the Lorentz function by the K ⁇ 2 line, and the energy at the peak of the K ⁇ 1 line was specified.
  • the intensity I v at the valley formed between the peak of the K ⁇ 1 line and the peak of the K ⁇ 2 line is less than half the intensity I 1 at the peak of the K ⁇ 1 line.
  • the valley of the intensity I v is the case not be less than 1/2 of the intensity I 1 at the peak of the K [alpha 1 line is possible to accurately identify the peak energy of the K [alpha 1 line I can not
  • fitting was performed as superposition of Lorentz function by K ⁇ 1 , 3 line and Lorentz function by K ⁇ ′ line, and energy at the peak of K ⁇ 1 , 3 line was specified.
  • the energy spectrum of the characteristic X-ray emitted from the standard sample and used to calibrate the energy of the detection element 141 is fitted with the Lorentz function, but the energy spectrum of the characteristic X-ray emitted from the sample to be measured is the Lorentz function It may be fitted.
  • chemical states such as valence of an element contained in a sample to be measured, can be analyzed with high accuracy.
  • the X-ray spectrometer 10 of this embodiment may include a calibration curve generator 17 (see FIG. 1) in addition to the above-described components.
  • the calibration curve creating unit 17 is configured to determine the valence based on the peak energy of the characteristic X-ray emitted from each of the plurality of standard samples having known elements and the valences of the elements and having different valences. Prepare a calibration curve showing the peak energy.
  • the target element is Mn, and MnO (+2 valence), Mn 2 O 3 (+ trivalent), MnO 2 (+4 valence) and KMoO 4 (+7) as standard samples.
  • the energy of K ⁇ 1, 3 line emitted from each standard sample was measured using The calibration curve shown in FIG. 11 was created by expressing the relationship between the energy and the valence obtained by this measurement as a linear function.

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Abstract

X線分光分析装置(10)は、試料(S)表面の所定の照射領域(A)に、特性X線を発生させるための励起線を照射する励起源(11)と、照射領域(A)に面して設けられた、平板から成る分光結晶(13)と、照射領域(A)と分光結晶(13)の間に設けられた、照射領域(A)及び分光結晶(13)の所定の結晶面に平行なスリット(12)と、スリット(12)に平行な方向に長さを有する線状の検出素子(141)がスリット(12)に垂直な方向に並ぶように設けられたX線リニアセンサ(14)と、前記励起線を照射することでエネルギーが既知である2つの特性X線を生成する標準試料の表面に、励起源(11)から該励起線を照射することによって該2つの特性X線を測定し、該測定した2つの特性X線のエネルギーに基づいて、X線リニアセンサ(14)の検出素子(141)の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正するエネルギー較正部(16)とを備える。測定対象試料が放出する特性X線のエネルギーをより高精度に求めることができる。

Description

X線分光分析装置、及び該X線分光分析装置を用いた化学状態分析方法
 本発明は、1次X線や電子線等の励起線が照射された試料が発する特性X線を分光して波長毎の強度を検出するX線分光分析装置、及び該X線分光分析装置を用いた化学状態分析方法に関する。
 励起線が照射された試料が発する特性X線は、その試料が含有する元素により定まるエネルギー(波長)を有している。そのため、特性X線のエネルギー毎の強度を検出することにより、該試料の組成を決定することができる。
 特許文献1には、試料Sの表面の所定の照射領域Aに、特性X線を発生させるための励起線を照射する励起源91と、照射領域Aに面して設けられた分光結晶93と、照射領域A及び分光結晶93の所定の結晶面に平行になるように照射領域Aと分光結晶93の間に設けられたスリット92と、スリット92に平行な方向に長さを有する線状の検出素子941が該スリットに垂直な方向に並ぶように設けられたX線リニアセンサ94を備えるX線分光分析装置90が記載されている(図12参照)。
 このX線分光分析装置90では、励起線を照射領域Aに照射することによって、照射領域A内の様々な位置から様々な方向に特性X線が放出されるが、そのうちスリット92を通過するものだけが分光結晶に到達する。照射領域Aをスリットに平行な線状部分(図12のA1、A2…)に分割して考えると、特定のエネルギー(波長)を有する特性X線は、そのうちの或る1つの線状部分から放出されるもののみが、スリット92を通過して分光結晶に1つの入射角で入射した回折条件を満たして回折され、X線リニアセンサ94の検出素子941のうちの特定の1つで検出される。そして、互いにエネルギーが異なる特性X線は、互いに異なる線状部分から放出されるもののみが、スリット92を通過して分光結晶で回折され、互いに異なる検出素子941で検出される。従って、X線リニアセンサ94に現れるピークの位置を検出することにより、照射領域Aから放出された特性X線のエネルギーを特定することができ、試料の元素分析が可能となる。このX線分光分析装置90は、液体や粉末のように組成が位置に依らず均一である試料や、照射領域Aの全体では不均一であっても線状部分で平均を取ると均一である試料に対して分析を行うことができる。
 特性X線のエネルギーは、試料が含有する元素の電子軌道の状態によって僅かに変化するため、特性X線のエネルギーを測定することにより、価数や結合状態等の、電子軌道に影響を及ぼす化学状態を分析することができる。特許文献1には、上記X線分光分析装置を用いて、試料が含有する元素の価数を分析する方法が記載されている。具体的には、元素の価数の相違によって特性X線のエネルギーが数100meVから数eV程度相違する(この相違は、元素の相違による特性X線のエネルギーの相違よりも十分に小さい)ことから、特性X線のエネルギーを精密に測定することによって当該元素の価数を求めることができる。この方法によれば、試料を破壊することなく且つリアルタイムで価数の分析を行うことができる。このような化学状態の分析は、例えば、化学変化による材料の劣化、充電又は放電による電池材料の状態の変化、価数の相違に基づく有害元素(例えば六価クロム)の識別等の分析に用いることができる。
米国公開特許公報第2017/0160213号
 特許文献1の装置において元素の価数を高精度に求めるためには、X線リニアセンサで検出した特性X線のエネルギーを高精度に求める必要がある。本発明が解決しようとする課題は、検出した特性X線のエネルギーをより高精度に求めることができるX線分光分析装置、及び該X線分光分析装置を用いて、試料が含有する元素の価数等の化学状態を高精度に分析することができる方法を提供することである。
 上記課題を解決するために成された本発明に係るX線分光分析装置は、
 a) 試料表面の所定の照射領域に、特性X線を発生させるための励起線を照射する励起源と、
 b) 前記照射領域に面して設けられた、平板から成る分光結晶と、
 c) 前記照射領域と前記分光結晶の間に設けられた、該照射領域及び該分光結晶の所定の結晶面に平行なスリットと、
 d) 前記スリットに平行な方向に長さを有する線状の検出素子が該スリットに垂直な方向に並ぶように設けられたX線リニアセンサと、
 e) 前記励起線を照射することでエネルギーが既知である2つの特性X線を生成する標準試料の表面に、前記励起源から該励起線を照射することによって該2つの特性X線を測定し、該測定した2つの特性X線のエネルギーに基づいて、該X線リニアセンサの前記検出素子の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正するエネルギー較正部と
 を備えることを特徴とする。
 本発明に係るX線分光分析装置を使用する際には、エネルギー較正部は標準試料を用いて、X線リニアセンサの検出素子の各々が検出する特性X線のエネルギーの較正を行う。この較正は、分析対象の試料の測定を行う毎に該測定の直前に行ってもよいし、試料の測定とは無関係に定期的に行ってもよい。
 標準試料には、励起源からの励起線を照射することによってエネルギーが既知である2つ(又は3つ以上)の特性X線を生成するものを用いる。具体的には、価数が既知である元素を1種類のみ有する場合には、該元素の2つの特性X線のエネルギーを較正に用いればよく、価数が既知である元素を2種類(又はそれ以上)有する場合には、各元素の少なくとも1つの特性X線のエネルギーを較正に用いればよい。
 エネルギー較正部が行う、X線リニアセンサの検出素子の各々により検出される特性X線のエネルギーの較正には、以下の2つの方法のいずれかを用いることができる。第1の方法では、エネルギーが異なる2種類(又は3種類以上)の特性X線がそれぞれ所定の検出素子に入射するように、X線リニアセンサの位置を移動させる。第2の方法では、X線リニアセンサの位置は移動させず、2種類以上の特性X線がそれぞれ入射した検出素子の位置に基づいて、各検出素子とエネルギーの関係を示す較正曲線を作成する。
 以上のように標準試料から放出されるエネルギーの異なる2つの特性X線を用いて、エネルギー較正部がX線リニアセンサの検出素子の各々で検出される特性X線のエネルギーを較正することにより、分析対象の試料を測定した際に、該試料から放出される特性X線のエネルギーをX線リニアセンサにおいて高精度に求めることができる。これにより、分析対象の試料が含有する元素の価数等の、該試料の化学状態を高精度に求めることができる。
 前記標準試料から生成される前記2つの特性X線(較正用の特性X線)は、1種類の元素から放出される2つ(又はそれ以上)の特性X線を好適に用いることができる。この場合には、標準試料を作製する際に2種類以上の元素を混合させる必要がない。それら2つの特性X線は、強度の点でKα1線及びKβ1, 3線であることが好ましい。また、当該1種類の元素には、測定対象の試料が含有する元素と同じ元素を用いることが好ましい。
 また、前記標準試料から生成される前記2つの特性X線(較正用の特性X線)は、2種類以上の元素からそれぞれ放出されるKα1線を用いることも好ましい。Kα1線が他の特性X線よりも強度が大きいことから、Kα1線を用いることによってエネルギーの較正をより高精度に行うことができる。
 較正用の特性X線としてKα1線を用いる場合において、前記2種類の元素は、測定対象の試料が含有する元素と同じ元素と、該元素よりも原子番号が1つ大きい元素、又は測定対象の試料が含有する元素よりも原子番号が1つ大きい元素と2つ大きい元素であることが好ましい。前述した元素の価数を分析する際には、分析対象の元素が放出するKβ1, 3線や、Kβ1, 3線の近傍のエネルギーを有するKβ'線の検出が行われるが、分析対象の元素よりも原子番号が1つ(及び2つ)大きい元素から放出されるKα1線は、一般に分析対象の元素のKβ1, 3線やKβ'線に近いエネルギーを有するため、分析対象の元素のKβ1, 3線やKβ'線のエネルギーをより高精度に求めることに資する。
 あるいは、測定対象の試料が含有する元素が、原子番号が連続する2種類以上の元素である場合には、前記標準試料から生成される前記2つの特性X線として、前記測定対象の試料が含有する元素のうち原子番号が最も大きい元素よりも原子番号が1つ大きい元素のKα1線と、前記測定対象の試料が含有する元素のうちの1つの元素のKα1線を用いることができる。
 標準試料から放出されるKα1線を較正用の特性X線の少なくとも1つとして検出する際には、Kα1線とKα2線が重なった状態で、X線リニアセンサにより検出される。この場合、Kα1線とKα2線の強度はそれぞれ、エネルギーを変数とするローレンツ関数で近似することができる。そこで、エネルギー較正部は、X線リニアセンサの複数の検出素子に亘って検出されるKα1線及びKα2線が重畳した強度をKα1線のローレンツ関数とKα2線のローレンツ関数でフィッティングすることにより、Kα1線の強度のピークエネルギー(強度がピークとなるときのエネルギー)を特定することが望ましい。
 上記のようにKα1線のローレンツ関数とKα2線のローレンツ関数でフィッティングを行う場合において、X線分光分析装置のエネルギー分解能は、Kα1線のピークとKα2線のピークの間に形成される谷における強度が、Kα1線のピークにおける強度の1/2以下となる分解能を有することがより望ましい。これにより、Kα1線のピークとKα2線のピークをより明確に分離することができる。
 Kβ1, 3線を較正用の特性X線の1つとして用いる場合には、Kβ1, 3線とKβ’線が重なった状態で、X線リニアセンサにより検出される。この場合、Kα1線の場合と同様に、Kβ1, 3線とKβ’線が重畳した強度をKβ1, 3線のローレンツ関数とKβ’線のローレンツ関数でフィッティングすることにより、Kβ1, 3線の強度のピークエネルギーを特定することが望ましい。
 なお、Kα1線とKα2線、及びKβ1, 3線とKβ’線のローレンツ関数によるフィッティングは、ここで述べたエネルギー較正のための標準試料から得られる特性X線に対して行う他に、測定対象の試料から得られる特性X線に対して行ってもよい。この測定対象の試料から得られる特性X線のローレンツ関数によるフィッティングは、エネルギー較正を行わないX線分光分析装置において行うこともできる。
 本発明に係るX線分光分析装置はさらに、含有する所定の元素及び該元素の価数が既知であって該価数が異なる複数個の標準試料からそれぞれ放出される特性X線のピークエネルギーに基づいて、価数に対するピークエネルギーを示す検量線を作成する検量線作成部を備えることができる。この構成によれば、測定対象試料から放出される特性X線のピークエネルギーを、検量線作成部で作成された検量線に適用することにより、測定対象試料が含有する前記所定の元素の標準価数を見積もることができる。
 本発明に係る化学状態分析方法は、上記X線分光分析装置を用いて測定対象試料中の元素の化学状態を分析する方法であって、
 前記標準試料の表面に前記励起源から前記励起線を照射することによって生成される、互いにエネルギーが異なる少なくとも2つの特性X線の該エネルギーに基づいて、該X線リニアセンサの前記検出素子の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正するエネルギー較正工程と、
 前記測定対象試料の表面に前記励起源から前記励起線を照射することによって生成される特性X線のエネルギーに基づいて、該測定対象試料中の元素の化学状態を特定する化学状態特定工程と
 を有することを特徴とする。
 前記化学状態特定工程において、化学状態として、測定対象試料中の元素の価数の特定を好適に行うことができる。
 本発明に係るX線分析装置により、検出した特性X線のエネルギーをより高精度に求めることができる。
 また、本発明に係るX線分析装置により、試料が含有する元素の価数等の化学状態を高精度に分析することができる。
本発明に係るX線分析装置の一実施形態を示す概略側面図。 本発明に係るX線分析装置により測定対象の試料から得られる、特性X線の波長スペクトルの一例を示すグラフ。 図2の測定を行ったX線分析装置の寸法及び各構成要素の配置を示す概略図。 測定対象の試料に含まれる、異なる価数の同一元素からそれぞれ得られた特性X線の検出結果を示すグラフ。 本実施形態のX線分析装置においてX線リニアセンサの配置を設計する方法を説明するための図。 X線リニアセンサの各検出素子と検出されるエネルギーの関係の一例を示すグラフ。 本実施形態のX線分析装置においてX線リニアセンサの各検出素子により検出される特性X線のエネルギーを較正する方法を示し、X線リニアセンサを分光結晶に近づける方向に移動させる場合(a)、X線リニアセンサを分光結晶から離れる方向に移動させる場合(b)、及び分光結晶との距離及び検出素子が並ぶ方向の位置の調整を行った後の状態(c)を示す概略図。 エネルギーの較正に用いる標準試料の含有元素及び該含有元素の特性X線の例を示す図。 FeのKα線のエネルギースペクトルについてローレンツ関数でフィッティングを行った結果を示すグラフ。 MnのKβ線のエネルギースペクトルについてローレンツ関数でフィッティングを行った結果を示すグラフ。 Mnに関して価数と特性X線のエネルギーの関係を表した検量線を示すグラフ。 従来のX線分光分析装置の一例を示す概略側面図(a)及び概略斜視図(b)。
 図1~図11を用いて、本発明に係るX線分析装置及び化学状態分析方法の実施形態を説明する。
(1) 本実施形態のX線分析装置の構成
 図1は、本実施形態のX線分光分析装置10の概略側面図である。このX線分光分析装置10は、励起源11と、スリット12と、平板から成る分光結晶13と、X線リニアセンサ14と、試料ホルダ15と、エネルギー較正部16とを有する(なお、図1中に示した検量線作成部17は、X線分光分析装置10が備えていなくてもよい。検量線作成部17の詳細は後述する)。
 励起源11は、後述のように試料ホルダ15に保持された試料Sに、励起光(励起線)であるX線を照射するX線源である。X線源の代わりに電子線源を用いてもよい。この励起源11により、励起光は、試料S上の面状の照射領域Aに照射される。本実施形態では照射領域Aに垂直に励起光を照射するが、照射領域Aに対して傾斜した角度で励起光を照射してもよい。
 スリット12は、照射領域Aと分光結晶13の間に配置される。本実施形態では、分光結晶13には所定の結晶面が、結晶の表面に平行になっているものを用いる。スリット12は、照射領域A及び特性X線の検出に用いる分光結晶13の結晶面(すなわち分光結晶13の表面)に対して平行に(図1では紙面に垂直に)配置される。
 X線リニアセンサ14は、スリット12に平行(図1の紙面に垂直)な方向に長さを有する線状の検出素子141が複数、該スリット12に垂直な方向に並ぶように設けられたものである。個々の検出素子141は、それに入射するX線の強度(個数)のみを検出すればよく、入射したX線の波長やエネルギーを厳密に検出する機能は不要である。
 試料Sは固体、液体、気体のいずれであってもよく、試料ホルダ15にはそれら試料の状態に対応したものを用いる。すなわち、試料Sが固体であれば試料ホルダ15には試料Sを載置する台を用い、試料Sが液体であれば試料ホルダ15には試料Sを貯留する容器を用い、試料Sが気体であれば試料ホルダ15には試料Sを封入する容器を用いる。
 エネルギー較正部16は、X線リニアセンサ位置微調整部161と制御部162から成る。X線リニアセンサ位置微調整部161は、X線リニアセンサ14を、検出素子141が並ぶ方向に移動させると共に、及び該方向に垂直であって検出素子141の長さ方向に垂直な方向に移動させることにより、X線リニアセンサ14の位置を微調整するものである。制御部162は、標準試料の表面に励起源11から励起線を照射することによって放出される2つの特性X線の測定結果に基づいてX線リニアセンサ位置微調整部161を制御することにより、X線リニアセンサ14の位置を移動させるものである。制御部162による制御の詳細は後述する。
(2) 本実施形態のX線分析装置の動作
 次に、本実施形態のX線分光分析装置10の動作を説明する。ここでは説明の都合上、まず、測定対象の試料Sに励起光を照射することによって放出される特性X線の測定方法及び試料Sに含まれる元素の価数を特定する方法を述べ、その後、標準試料を用いて検出素子141の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正する方法について述べる。
(2-1) 測定対象の試料Sから放出される特性X線の測定方法
 まず、試料ホルダ15に試料Sを保持させたうえで、励起源11から試料S表面の照射領域Aに、励起光であるX線を照射する。これにより、照射領域Aの全体から、試料Sを構成する元素によって異なるエネルギーを有する特性X線が、照射領域A内の様々な位置から様々な方向に放出される。これらの特性X線は、従来のX線分光分析装置90について説明したように照射領域Aをスリット12に平行な線状部分(図12のA1、A2…を参照)に分割すると、分光結晶13の表面に特定の1つの入射角(90-θ)°(θは特性X線が分光結晶13でブラッグ反射される場合の回折角)で入射する方向に放出されたもののみがスリット12を通過する。そして、この位置が異なる線状部分同士では、スリット12を通過して分光結晶13に入射する特性X線の入射角が異なることとなる。例えば、図1に示した線状部分A1から放出される特性X線は、1つの入射角(90-θ1)°のみで分光結晶13に入射し、別の線状部分A2から放出される特性X線は、前記入射角(90-θ1)°とは異なる1つの入射角(90-θ2)°のみで分光結晶13に入射する。
 照射領域Aの各線状部分から分光結晶13に入射した特性X線は、ブラッグ反射の条件であるλ=(2d/n)sinθ(λは特性X線の波長、dは分光結晶13の結晶面間隔、nは次数)を満たす波長を有するときにのみ、回折角θで回折(反射)される。分光結晶13で回折(反射)された特性X線は、X線リニアセンサ14の検出素子141の1つで検出される。前述のように分光結晶13には照射領域A内の線状部分によって異なる特定の1つの入射角(90-θ)°で分光結晶13に入射することから、線状部分毎に、異なる特定の1つの波長の特性X線のみがX線リニアセンサ14に入射し、且つ、異なる検出素子141で検出される。例えば、図1に示した線状部分A1から放出される特性X線は、波長λ1=(2d/n)sinθ1を有するもののみがX線リニアセンサ14に入射して1つの検出素子1411で検出され、線状部分A2から放出される特性X線は、λ1とは異なる波長λ2=(2d/n)sinθ2を有するもののみがX線リニアセンサ14に入射して検出素子1411とは異なる検出素子1412で検出される。従って、X線リニアセンサ14の検出素子141毎に、入射するX線の強度(個数)を検出することにより、照射領域Aから放出される特性X線の波長スペクトルが得られる。
 こうして得られる波長スペクトルのデータの一例を図2に示す。このデータは、ステンレス鋼を試料Sとして測定したものであり、測定したエネルギー範囲内において、Fe(鉄)のKα線、Cr(クロム)のKα線及びKβ線、並びにMn(マンガン)のKα線が観測されている。FeのKαは、高エネルギー側の方が強度が約2倍である2つのピークが観測されているが、それらのうち高エネルギー側のピークはKα1線を示し、低エネルギー側のピークはKα2線を示している。図2の測定を行ったX線分光分析装置10の寸法及び各構成要素の配置を図3に示す。
 図4に、K2CrO4(図中の黒丸、+6価)とCr2O3(同・白丸、+3価)について、CrのKβ線に基づいてCrの価数を特定した例を示す(なお、図4は、図2に示したCrのKβ線のデータとは異なる)。このデータより、+3価のCrから放出されるKβ1, 3線は、+6価のCrから放出されるKβ1, 3線よりもエネルギーが1.4eV高い。このエネルギーの相違により、測定対象の試料に含まれるCrが+3価であるか+6価であるかを特定することができる。また、Kβ1, 3よりも低エネルギー側に表れるKβ’線のエネルギーの相違からも、測定対象の試料に含まれるCrの価数を特定することができる。
(2-2) X線リニアセンサの検出素子の配置の設計
 ここで、図5を参照しつつ、X線リニアセンサ14の各検出素子141をどの位置に配置するかを設計する方法を説明する。まず、分光結晶13に入射する特性X線のうち、検出素子141の長さ方向に垂直な断面(図5に示す面)で分光結晶13の中心CMで回折するもの(回折角をθMとする)がX線リニアセンサ14の中心(N/2個目)の検出素子141Mに入射し、波長が最も長い(回折角が大きい)ものがX線リニアセンサ14の一方の端(0個目)の検出素子141Lに入射するように、X線リニアセンサ14を配置する。その際、分光結晶13の中心CMで回折する特性X線は、検出素子141が並ぶ方向に対して垂直に入射するようにX線リニアセンサ14の傾きを調整する。
 図5に示す面で分光結晶13の表面の各点でそれぞれ回折される回折光の光路は全て、分光結晶13の手前でスリット12上の1点である点Pで交差すると共に、分光結晶13の裏側(X線リニアセンサ14の反対側)に延長すると1つの点P’で交差する(点P、分光結晶13の表面の各点、及び点P’を結ぶと二等辺三角形となる)。X線リニアセンサ14の中心の検出素子141Mと点P’の距離をLとする。
 X線リニアセンサ14の中心から距離X(X=μ(n-N/2);nは検出素子番号、μは検出素子間隔、Nは検出素子数)だけ離れた検出素子141Xに入射する特性X線の波長λXと分光結晶13における回折角θX
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001



の関係を満たす。一方、距離Xと距離Lの関係は
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002





である。これら(1)式及び(2)式より、検出素子141Xに入射する特性X線の波長λXは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003



で求められる。
 (3)式より、分光結晶において回折角θMで回折されるX線が入射する位置にX線リニアセンサ14の中心の位置を合わせ、距離Lの値を調整することにより、各検出素子141とそれに入射する特性X線のエネルギーの関係を特定することができる。図6に、各検出素子141と特性X線のエネルギーの関係を特定した一例を示す。
(2-3) 各検出素子により検出される特性X線のエネルギーを較正する方法
 X線リニアセンサ14は、上記(2-2)節で述べた方法で設計された通りに配置されるのが理想的であるが、実際には、X線リニアセンサ14が設計された位置からずれて配置されたり、一旦は設計通りに配置されたとしても、使用中の振動等によりわずかに位置ずれを生じることがある。そのため、本実施形態では以下のように、X線リニアセンサ14の位置、すなわち各検出素子141で検出されるエネルギー(波長)の較正を行う。まず、較正に用いる標準試料を試料ホルダ15に取り付け、励起源11から標準試料の表面の照射領域Aに励起光を照射する。ここで標準試料には、励起源11から励起光を照射することによって、エネルギーが既知である少なくとも2つの特性X線を生成するものを用いる。このように生成される特性X線のエネルギーが既知でさえあれば、標準試料が含有する元素やその価数は必ずしも既知である必要はない。
 X線リニアセンサ14は、試料Sの測定の場合と同様に、励起光の照射により標準試料から放出される特性X線のうち、スリット12を通過して分光結晶13で回折されたもののみを検出する。その際、X線リニアセンサ14の各検出素子141では、照射領域Aのうち特定の線状部分から放出され、分光結晶13への入射角で定まる特定のエネルギーを有する特性X線のみが入射する。ここでは上記標準試料を用いていることから、X線リニアセンサ14では異なる2つのエネルギー(検出強度(個数)が最も大きくなるときのエネルギー=ピークエネルギー)E1及びE2を有する特性X線が検出される。制御部162は、これら2つの特性X線がそれぞれエネルギーに対応して予め定められた検出素子141に入射するように、X線リニアセンサ位置微調整部161を制御することでX線リニアセンサ14を移動させる。
 具体的には、2つの特性X線がそれぞれ入射するように予め定められた2個の検出素子141A0、141B0間よりも遠い2個の検出素子141A1、141B1に入射した場合(図7(a))には、分光結晶13に近づける方向にX線リニアセンサ14を移動させる。一方、2つの特性X線が予め定められた2個の検出素子141A0、141B0間よりも近い2個の検出素子141A2、141B2に入射した場合(図7(b))には、分光結晶13から離れる方向にX線リニアセンサ14を移動させる。これにより、2つの特性X線がそれぞれ入射する2個の検出素子141の間隔を設計通りに修正することができる。そのうえで、検出素子141が並ぶ方向にX線リニアセンサ14を移動させる(図7(c))ことにより、2つの特性X線がそれぞれ、予め定められた検出素子141A0、141B0に入射するようになる。こうして、各検出素子により検出される特性X線のエネルギーの較正が完了する。
 なお、ここでは標準試料から放出されるエネルギーが既知の2つの特性X線を用いて較正を行ったが、標準試料から放出される3つ以上の特性X線のエネルギーが既知であれば、それら3つ以上の特性X線を用いることにより、より高精度に較正を行うことができる。
 また、ここではX線リニアセンサ14を移動させることにより較正を行ったが、X線リニアセンサ14の位置は固定したままで、各検出素子141に割り当てられるエネルギーの値を変更してもよい。具体的には、2つ(又は3つ以上)の特性X線がそれぞれ検出された検出素子141には、検出された特性X線のエネルギーを当該検出素子141におけるエネルギーの検出値として割り当てる。その他の検出素子141には、2つの特性X線のエネルギーと(3)式に基づいて、Lとn(またはLとnとθM)の値を補正して得られる新たな較正曲線の式(3)’を用いて割り当てればよい。例えば、(3)式においてLの値を"L+a"に、nの値を"n+b"に、θMの値を"θM +c"に(a, b, cはそれぞれ、L, n, θMを較正する定数)、それぞれ置き換えた新たな較正曲線の式(3)’を用いて、各検出素子141の較正を行うことができる。
(2-4) 使用する標準試料の例
 図8を用いて、エネルギーの較正に用いる標準試料の含有元素及び該含有元素の特性X線の例を述べる。図8では、3d遷移金属であるSc(スカンジウム), Ti(チタン), V(バナジウム), Cr, Mn, Fe, Co(コバルト), Ni(ニッケル), Cu(銅)及びZn(亜鉛)につき、励起線を照射することにより放出されるKα1線(図中の黒丸)及びKβ1, 3線(同白丸及び二重丸)のエネルギーを示している。図中の二重丸は、測定対象の試料が含有する元素の例である。標準試料は、最低限、エネルギーが既知である2つの特性X線をX線リニアセンサ14に入射させることができるものであればよいが、以下の標準試料を用いることが望ましい。
 望ましい標準試料の第1の例は、それが含有する同一の元素から放出されるKα1線及びKβ1, 3線のエネルギーが既知である場合である。図8中に符号(a)を付して太線で結んだものは、NiのKα1線及びKβ1, 3線を示している。標準試料から放出されるこれら2つの特性X線を用いて較正を行ったうえで、測定対象の試料では、較正で用いたものと同じ元素であるNiのKβ1, 3線を測定する。なお、ここでNiを挙げたのは一例を示したに過ぎず、他の元素が測定対象の元素である場合には、標準試料から放出される当該元素のKα1線及びKβ1, 3線を用いて較正を行ったうえで、測定対象の試料では当該元素のKβ1, 3線を測定すればよい。
 望ましい標準試料の第2の例は、それが含有する2つ(又は3つ以上)の元素から放出されるKα1線のエネルギーがそれぞれ既知である場合である。図8中に符号(b-1)を付して太線で結んだものは、NiのKα1線及びCuのKα1線を示している。標準試料から放出されるこれら2つの特性X線を用いて較正を行ったうえで、測定対象の試料では、較正で用いた物と同じ元素であるNiのKβ1, 3線を測定する。また、図8中に符号(b-2)を付して示したように、測定対象のNiのKβ1, 3線にエネルギーが近いCuのKα1線及びZnのKα1線を用いてもよい。あるいは、図8中に符号(b-3)を付して示したように、原子番号が2つ離れたCrのKα1線とFeのKα1線を用いてエネルギーの較正を行い、CrのKβ1, 3線を測定してもよい。(b-3)の場合には、CrのKβ1, 3線の他に、CrのKα1線及びFeのKα1線とエネルギーが近いVやMnのKβ1, 3線を測定対象としてもよい。いずれの場合にも、検出素子141で検出される強度が大きいKα1線を用いて、高精度に較正を行うことができる。
(2-5) 検出した特性X線のフィッティング
 標準試料から放出されてX線リニアセンサ14で検出される特性X線のエネルギースペクトルをローレンツ関数でフィッティングすることにより、該特性X線のピークにおけるエネルギーを精度良く求めることができ、当該エネルギーを用いて各検出素子141で検出される特性X線のエネルギーを高精度に較正することができる。図9にFeのKα線について、図10にMnのKβ線について、それぞれローレンツ関数でフィッティングを行った結果を示す。図9では、Kα1線によるローレンツ関数とKα2線によるローレンツ関数の重ね合わせとしてフィッティングを行い、Kα1線のピークにおけるエネルギーを特定した。Kα1線のピークとKα2線のピークの間に形成される谷における強度Ivは、Kα1線のピークにおける強度I1の1/2以下となっている。この例では、Kα1線とKα2線を明瞭に分離することができた。X線分光分析装置のエネルギー分解能が悪く、谷の強度Ivが、Kα1線のピークにおける強度I1の1/2以下にならない場合には、Kα1線のピークエネルギーを正確に特定することができない。図10では、Kβ1, 3線によるローレンツ関数とKβ’線によるローレンツ関数の重ね合わせとしてフィッティングを行い、Kβ1, 3線のピークにおけるエネルギーを特定した。
 ここでは標準試料から放出される、検出素子141のエネルギーの較正に用いる特性X線のエネルギースペクトルをローレンツ関数でフィッティングしたが、測定対象の試料から放出される特性X線のエネルギースペクトルをローレンツ関数でフィッティングしてもよい。これにより、測定対象の試料が含有する元素の価数等の化学状態を高精度に分析することができる。
(2-6) 検量線の作成
 本実施形態のX線分光分析装置10は、前述の各構成要素の他に、検量線作成部17(図1参照)を備えていてもよい。検量線作成部17は、含有する元素及び該元素の価数が既知であって、該価数が異なる複数個の標準試料からそれぞれ放出される特性X線のピークエネルギーに基づいて、価数に対するピークエネルギーを示す検量線を作成する。例えば、図11に示すように、対象とする元素をMnとし、標準試料としてMnO(+2価)、Mn2O3(+3価)、MnO2(+4価)及びKMoO4(+7価)を用い、それら各標準試料から放出されるKβ1, 3線のエネルギーを測定した。この測定により得られたエネルギーと価数の関係を1次関数で表すことにより、図11に示した検量線を作成した。
 次に、Mn原子の数の比が約1:1となるようにMn2O3とMnO2を混合した試料についてX線分光分析装置10を用いて測定し、得られたKβ1, 3線のエネルギーの値を図11の検量線に適用したところ、「3.59価」との価数の値が得られた。この価数は、当該試料におけるMnの平均価数である。
 以上、本発明の一実施形態であるX線分光分析装置10、及び該装置を用いた化学状態分析方法の実施形態を説明したが、本発明はこれらの実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
10、90…X線分光分析装置
11、91…励起源
12、92…スリット
13、93…分光結晶
14、94…X線リニアセンサ
141、1411、1412、141L、141M、141X、141A0、141B0、141A1、141B1、141A2、141B2、941…検出素子
15…試料ホルダ
16…エネルギー較正部
161…X線リニアセンサ位置微調整部
162…制御部
17…検量線作成部
A…照射領域
A1、A2…照射領域の線状部分
S…試料

Claims (16)

  1.  a) 試料表面の所定の照射領域に、特性X線を発生させるための励起線を照射する励起源と、
     b) 前記照射領域に面して設けられた、平板から成る分光結晶と、
     c) 前記照射領域と前記分光結晶の間に設けられた、該照射領域及び該分光結晶の所定の結晶面に平行なスリットと、
     d) 前記スリットに平行な方向に長さを有する線状の検出素子が該スリットに垂直な方向に並ぶように設けられたX線リニアセンサと、
     e) 前記励起線を照射することでエネルギーが既知である2つの特性X線を生成する標準試料の表面に、前記励起源から該励起線を照射することによって該2つの特性X線を測定し、該測定した2つの特性X線のエネルギーに基づいて、該X線リニアセンサの前記検出素子の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正するエネルギー較正部と
     を備えることを特徴とするX線分光分析装置。
  2.  前記標準試料から生成される前記2つの特性X線が、1種類の元素から放出される2つの特性X線であることを特徴とする請求項1に記載のX線分光分析装置。
  3.  前記2つの特性X線が、Kα1線及びKβ1, 3線であることを特徴とする請求項2に記載のX線分光分析装置。
  4.  前記1種類の元素が、測定対象の試料が含有する元素であることを特徴とする請求項2に記載のX線分光分析装置。
  5.  前記1種類の元素が、測定対象の試料が含有する元素であることを特徴とする請求項3に記載のX線分光分析装置。
  6.  前記エネルギー較正部が、前記X線リニアセンサで検出されるKα1線及びKα2線が重畳した強度をKα1線のローレンツ関数とKα2線のローレンツ関数でフィッティングすることにより、Kα1線の強度のピークエネルギーを特定することを特徴とする請求項3に記載のX線分光分析装置。
  7.  前記Kα1線のピークとKα2線のピークの間に形成される谷における強度が、Kα1線のピークにおける強度の1/2以下となるエネルギー分解能を有することを特徴とする請求項6に記載のX線分光分析装置。
  8.  前記エネルギー較正部が、前記X線リニアセンサで検出されるKβ1, 3線とKβ’線が重畳した強度をKβ1, 3線のローレンツ関数とKβ’線のローレンツ関数でフィッティングすることにより、Kβ1, 3線の強度のピークエネルギーを特定することを特徴とする請求項3に記載のX線分光分析装置。
  9.  前記標準試料から生成される前記2つの特性X線が、2種類の元素からそれぞれ放出されるKα1線であることを特徴とする請求項1に記載のX線分光分析装置。
  10.  前記2種類の元素が、測定対象の試料が含有する元素と同じ元素と該元素よりも原子番号が1つ大きい元素、又は測定対象の試料が含有する元素よりも原子番号が1つ大きい元素と2つ大きい元素であることを特徴とする請求項9に記載のX線分光分析装置。
  11.  測定対象の試料が含有する元素が、原子番号が連続する2種類以上の元素であって、前記標準試料から生成される前記2つの特性X線が、前記測定対象の試料が含有する元素のうち原子番号が最も大きい元素よりも原子番号が1つ大きい元素のKα1線と、前記測定対象の試料が含有する元素のうちの1つの元素のKα1線であることを特徴とする請求項9に記載のX線分光分析装置。
  12.  前記エネルギー較正部が、前記X線リニアセンサで検出されるKα1線及びKα2線が重畳した強度をKα1線のローレンツ関数とKα2線のローレンツ関数でフィッティングすることにより、Kα1線の強度のピークエネルギーを特定することを特徴とする請求項9に記載のX線分光分析装置。
  13.  前記Kα1線のピークとKα2線のピークの間に形成される谷における強度が、Kα1線のピークにおける強度の1/2以下となるエネルギー分解能を有することを特徴とする請求項12に記載のX線分光分析装置。
  14.  さらに、含有する所定の元素及び該元素の価数が既知であって該価数が異なる複数個の標準試料からそれぞれ放出される特性X線のピークエネルギーに基づいて、価数に対するピークエネルギーを示す検量線を作成する検量線作成部を備えることを特徴とする請求項1に記載のX線分光分析装置。
  15.  請求項1~14のいずれかに記載のX線分光分析装置を用いて測定対象試料中の元素の化学状態を分析する方法であって、
     前記標準試料の表面に前記励起源から前記励起線を照射することによって生成される、互いにエネルギーが異なる少なくとも2つの特性X線の該エネルギーに基づいて、該X線リニアセンサの前記検出素子の各々により検出される特性X線のエネルギーを較正するエネルギー較正工程と、
     前記測定対象試料の表面に前記励起源から前記励起線を照射することによって生成される特性X線のエネルギーに基づいて、該測定対象試料中の元素の化学状態を特定する化学状態特定工程と
     を有することを特徴とする化学状態分析方法。
  16.  前記化学状態として、前記測定対象試料中の元素の価数を特定することを特徴とする請求項15に記載の化学状態分析方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110987990A (zh) * 2019-12-30 2020-04-10 南京理工大学 一种高能单色闪光x射线衍射成像方法及系统
CN112782204A (zh) * 2019-11-06 2021-05-11 株式会社岛津制作所 试样成分估计方法及其装置、学习方法以及记录介质
US11137360B2 (en) 2017-09-27 2021-10-05 Shimadzu Corporation X-ray spectrometer and chemical state analysis method using the same
JP2021188961A (ja) * 2020-05-27 2021-12-13 株式会社島津製作所 X線分析装置およびx線分析方法
US11378530B2 (en) 2018-02-21 2022-07-05 Shimadzu Corporation Apparatus and method for analyzing chemical state of battery material

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
EP3627146A4 (en) 2017-05-18 2020-05-13 Shimadzu Corporation X-RAY SPECTROMETER
US10845491B2 (en) 2018-06-04 2020-11-24 Sigray, Inc. Energy-resolving x-ray detection system
GB2591630B (en) 2018-07-26 2023-05-24 Sigray Inc High brightness x-ray reflection source
US11056308B2 (en) 2018-09-07 2021-07-06 Sigray, Inc. System and method for depth-selectable x-ray analysis
JP6887982B2 (ja) * 2018-12-18 2021-06-16 日本電子株式会社 キャリブレーション方法および分析装置
JP7030077B2 (ja) * 2019-05-31 2022-03-04 日本電子株式会社 X線分析装置
JP2021012054A (ja) * 2019-07-04 2021-02-04 日本電子株式会社 蛍光x線分析装置及びその校正方法
CN114729907B (zh) 2019-09-03 2023-05-23 斯格瑞公司 用于计算机层析x射线荧光成像的系统和方法
US11175243B1 (en) 2020-02-06 2021-11-16 Sigray, Inc. X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples
WO2021171691A1 (ja) * 2020-02-27 2021-09-02 株式会社島津製作所 X線分析装置およびx線分析方法
JP7144475B2 (ja) * 2020-03-30 2022-09-29 日本電子株式会社 分析方法および分析装置
CN115667896B (zh) 2020-05-18 2024-06-21 斯格瑞公司 使用晶体分析器和多个检测元件的x射线吸收光谱的系统和方法
JP2021189088A (ja) * 2020-06-02 2021-12-13 株式会社島津製作所 分析装置および分析方法
JP2023542674A (ja) 2020-09-17 2023-10-11 シグレイ、インコーポレイテッド X線を用いた深さ分解計測および分析のためのシステムおよび方法
US11686692B2 (en) 2020-12-07 2023-06-27 Sigray, Inc. High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source
US11992350B2 (en) 2022-03-15 2024-05-28 Sigray, Inc. System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector
US11885755B2 (en) 2022-05-02 2024-01-30 Sigray, Inc. X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59222747A (ja) * 1983-06-02 1984-12-14 Hitachi Ltd X線分光分析方法とその装置
JPH10318945A (ja) * 1997-05-16 1998-12-04 Toyota Motor Corp 軟x線反射率測定方法とそのための装置
JP2002189004A (ja) * 2000-12-21 2002-07-05 Jeol Ltd X線分析装置
JP2009264926A (ja) * 2008-04-25 2009-11-12 Shimadzu Corp 波長分散型x線分光器
JP2013096750A (ja) * 2011-10-28 2013-05-20 Hamamatsu Photonics Kk X線分光検出装置
US20170160213A1 (en) * 2015-12-08 2017-06-08 Shimadzu Corporation X-ray spectroscopic analysis apparatus and elementary analysis method

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1472229B2 (de) 1965-12-23 1970-05-27 Siemens AG, 1000 Berlin u. 8000 München Röntgenspektrometer-Zusatzeinrichtung für ein Korpuskularstrahlgerät, insbesondere ein Elektronenmikroskop
US3663812A (en) * 1969-02-27 1972-05-16 Mc Donnell Douglas Corp X-ray spectrographic means having fixed analyzing and detecting means
US4362935A (en) * 1979-02-09 1982-12-07 Martin Marietta Corporation Field portable element analysis unit
SU868503A1 (ru) 1980-01-29 1981-09-30 Предприятие П/Я М-5912 Рентгеновский спектрометр
GB2208925A (en) 1987-08-25 1989-04-19 Le N Proizv Ob Burevestnik Multichannel x-ray spectrometer
JPH0382943A (ja) 1989-08-25 1991-04-08 Nec Corp 全反射蛍光x線分析装置
GB9223592D0 (en) 1992-11-11 1992-12-23 Fisons Plc X-ray analysis apparatus
WO1997013142A1 (en) * 1995-10-03 1997-04-10 Philips Electronics N.V. Apparatus for simultaneous x-ray diffraction and x-ray fluorescence measurements
DE19603000A1 (de) * 1996-01-27 1997-07-31 Philips Patentverwaltung Verfahren zum Kalibrieren einer Anordnung zur Ermittlung des Impulsübertragsspektrums und Kalibriereinheit zur Durchführung des Verfahrens
JP3511826B2 (ja) 1997-01-23 2004-03-29 株式会社島津製作所 蛍光x線分析装置
JP2003098126A (ja) 2001-09-26 2003-04-03 Rigaku Industrial Co 蛍光・回折共用x線分析装置
JP2003294659A (ja) 2002-04-01 2003-10-15 Jeol Ltd X線分析装置
GB0500535D0 (en) 2005-01-12 2005-02-16 Koninkl Philips Electronics Nv Computer tomography apparatus
JP5525523B2 (ja) 2009-07-01 2014-06-18 株式会社リガク X線装置、その使用方法およびx線照射方法
JP2013053893A (ja) 2011-09-02 2013-03-21 Shimadzu Corp X線分析装置
EP2748594B1 (en) 2011-10-26 2016-06-08 Koninklijke Philips N.V. Radiographic apparatus for detecting photons with offset correction
JP6009963B2 (ja) 2013-02-14 2016-10-19 日本電子株式会社 試料分析方法および試料分析装置
JP6009975B2 (ja) 2013-03-06 2016-10-19 日本電子株式会社 放射線検出装置および試料分析装置
JP2014209098A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 株式会社リガク X線分析装置
DE102013207160A1 (de) * 2013-04-19 2014-10-23 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der energetischen Zusammensetzung von elektromagnetischen Wellen
JP6325338B2 (ja) 2014-05-20 2018-05-16 株式会社堀場製作所 分析装置及び校正方法
JP2015219198A (ja) 2014-05-20 2015-12-07 株式会社堀場製作所 分析装置及び校正方法
CN107110798B (zh) 2014-12-25 2019-08-16 株式会社理学 掠入射荧光x射线分析装置和方法
WO2016110421A1 (en) 2015-01-07 2016-07-14 Koninklijke Philips N.V. Correction device for correcting energy-dependent projection values
EP3627146A4 (en) 2017-05-18 2020-05-13 Shimadzu Corporation X-RAY SPECTROMETER
US10914694B2 (en) * 2017-08-23 2021-02-09 Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce X-ray spectrometer
WO2019064360A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 株式会社島津製作所 X線分光分析装置、及び該x線分光分析装置を用いた化学状態分析方法
KR102390689B1 (ko) * 2018-02-21 2022-04-26 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 전지 재료의 화학 상태 분석 장치 및 방법
JP2021012054A (ja) * 2019-07-04 2021-02-04 日本電子株式会社 蛍光x線分析装置及びその校正方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59222747A (ja) * 1983-06-02 1984-12-14 Hitachi Ltd X線分光分析方法とその装置
JPH10318945A (ja) * 1997-05-16 1998-12-04 Toyota Motor Corp 軟x線反射率測定方法とそのための装置
JP2002189004A (ja) * 2000-12-21 2002-07-05 Jeol Ltd X線分析装置
JP2009264926A (ja) * 2008-04-25 2009-11-12 Shimadzu Corp 波長分散型x線分光器
JP2013096750A (ja) * 2011-10-28 2013-05-20 Hamamatsu Photonics Kk X線分光検出装置
US20170160213A1 (en) * 2015-12-08 2017-06-08 Shimadzu Corporation X-ray spectroscopic analysis apparatus and elementary analysis method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11137360B2 (en) 2017-09-27 2021-10-05 Shimadzu Corporation X-ray spectrometer and chemical state analysis method using the same
US11378530B2 (en) 2018-02-21 2022-07-05 Shimadzu Corporation Apparatus and method for analyzing chemical state of battery material
CN112782204A (zh) * 2019-11-06 2021-05-11 株式会社岛津制作所 试样成分估计方法及其装置、学习方法以及记录介质
CN110987990A (zh) * 2019-12-30 2020-04-10 南京理工大学 一种高能单色闪光x射线衍射成像方法及系统
CN110987990B (zh) * 2019-12-30 2023-07-14 南京理工大学 一种高能单色闪光x射线衍射成像方法及系统
JP2021188961A (ja) * 2020-05-27 2021-12-13 株式会社島津製作所 X線分析装置およびx線分析方法
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