JP6377572B2 - X線発生装置、及びその調整方法 - Google Patents
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Description
まず、電子線の調整を行う状態を準備する。具体的には、制御部18の電子線発生部制御部41が、電子線発生部11のフィラメント21(カソード)とアノード23との間に電子加速電圧を印加する。また、電子線発生部制御部41が、フィラメント21に電流を流し、フィラメント21を点灯する。その際、当該電流を通常のX線発生時の1/10程度に設定する。そして、電子線発生部制御部41が、バイアス電圧を印加し、最適電圧に調整する。
ここでは、電子線の光軸を調整する。調整の指標は、電子標的(ターゲット)に流れるターゲット電流であり、ローターターゲット制御部47がターゲット電流を検出する。具体的には、偏平・回転コイル13や集束コイル14に高磁場を生成させる。ターゲット電流をより増加させるよう、アライメントコイル12を調整する。
ここでは、電子線の焦点位置を調整する。調整の指標は、電子検出器が検出する電子量である。具体的には、検出される電子量に基づいて、集束コイル14に流す電流(集束コイル電流)を調整して、電子線のローターターゲット17における断面を所望の大きさにする。
ここでは、電子線の電子標的における断面形状を測定し、電子線の断面形状を調整する。調整の指標は、電子検出器が検出する電子量である。具体的には、電子標的における電子線の断面のうち、第1の方向に沿った幅(第1の幅)を取得し、続いて、第1の方向とは交差する第2の方向に沿った幅(第2の幅)を取得する。
Claims (7)
- 第1の金属と、前記第1の金属と異なる金属である第2の金属と、前記第2の金属と異なる金属である第3の金属と、が順に連続して第1の方向に沿って並んで配置される、電子標的と、
前記電子標的に照射するための電子線を出射する、電子線発生部と、
前記電子線発生部と前記電子標的との間に配置され、前記電子線発生部が出射する前記電子線を調整する、電子線調整部と、
前記電子線調整部と前記電子標的との間に配置され、前記電子標的に照射される前記電子線を前記第1の方向に偏向させる、電子線偏向部と、
前記電子線調整部と前記電子標的との間に配置され、前記電子標的が放出する電子を検出する、電子検出器と、
を備える、X線発生装置であって、
前記電子線調整部は、前記電子線の断面形状を第2の方向に偏平する形状へ変化させる、電子線断面形成部を、備える、ことを特徴とする、X線発生装置。 - 請求項1に記載のX線発生装置であって、
前記電子線調整部は、前記電子線を前記電子標的に向けて集束させるとともに、前記第2の方向から前記第1の方向へ前記電子線の前記断面形状を回転させる、電子線集束部を、備える、ことを特徴とする、X線発生装置。 - 請求項1又は2に記載のX線発生装置であって、
前記電子線調整部は、前記電子線の光軸を調整する、電子線光軸調整部を、備える、ことを特徴とする、X線発生装置。 - 請求項1に記載のX線発生装置であって、
前記電子線偏向部が、前記電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで走査し、前記電子検出器が、前記電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第1測定、を行う、 ことを特徴とする、X線発生装置。 - 第1の金属と、前記第1の金属と異なる金属である第2の金属と、前記第2の金属と異なる金属である第3の金属と、が順に連続して第1の方向に沿って並んで配置される、電子標的と、
前記電子標的に照射するための電子線を出射する、電子線発生部と、
前記電子線発生部と前記電子標的との間に配置され、前記電子線発生部が出射する前記電子線を調整する、電子線調整部と、
前記電子線調整部と前記電子標的との間に配置され、前記電子標的に照射される前記電子線を前記第1の方向に偏向させる、電子線偏向部と、
前記電子線調整部と前記電子標的との間に配置され、前記電子標的が放出する電子を検出する、電子検出器と、
を備える、X線発生装置であって、
前記電子線調整部は、前記電子線の断面形状を変化させる、電子線断面形成部を、備え、
前記電子線偏向部が、前記電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで走査し、前記電子検出器が、前記電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第1測定と、
前記電子線断面形成部が、前記電子標的における前記電子線の断面の、前記第1の方向と交差する第2の方向が、前記第1の方向になるよう、前記電子線を回転してなる、試験電子線を生成する、試験電子線生成と、
前記電子線偏向部が、前記試験電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで走査し、前記電子検出器が、前記試験電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第2測定と、
を行う、ことを特徴とする、X線発生装置。 - 請求項2に記載のX線発生装置であって、
前記電子線偏向部が、前記電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで走査し、前記電子検出器が、前記電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第1測定を、前記電子線集束部が前記電子線を集束させる複数の集束程度それぞれに対して行う、
ことを特徴とする、X線発生装置。 - 第1の金属と、前記第1の金属と異なる金属である第2の金属と、前記第2の金属と異なる金属である第3の金属と、が順に連続して第1の方向に沿って並んで配置される、電子標的、を備える、X線発生装置の調整方法であって、
電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで前記第1の方向に走査し、前記電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第1測定工程と、
前記第1測定工程において検出される検出結果に基づいて、前記電子線の前記第1の方向に沿った第1の幅を取得する、第1の幅取得工程と、
前記電子線の前記電子標的における前記断面の、前記第1の方向と交差する第2の方向が、前記第1の方向になるよう、前記電子線を回転してなる、試験電子線を生成する、試験電子線生成工程と、
前記試験電子線の前記電子標的における位置を、前記第1の金属から前記第3の金属まで前記第1の方向に走査し、前記試験電子線の前記電子標的における複数の位置それぞれにおいて、前記電子標的が放出する電子を検出する、第2測定工程と、
前記第2測定工程において検出される検出結果に基づいて、前記電子線の前記第2の方向に沿った第2の幅を取得する、第2の幅取得工程と、
を備える、X線発生装置の調整方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015096316A JP6377572B2 (ja) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | X線発生装置、及びその調整方法 |
US15/145,107 US10283313B2 (en) | 2015-05-11 | 2016-05-03 | X-ray generator and adjustment method therefor |
EP16001053.4A EP3093867B1 (en) | 2015-05-11 | 2016-05-10 | X-ray generator and adjustment method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015096316A JP6377572B2 (ja) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | X線発生装置、及びその調整方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016213078A JP2016213078A (ja) | 2016-12-15 |
JP2016213078A5 JP2016213078A5 (ja) | 2018-03-08 |
JP6377572B2 true JP6377572B2 (ja) | 2018-08-22 |
Family
ID=56108434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015096316A Active JP6377572B2 (ja) | 2015-05-11 | 2015-05-11 | X線発生装置、及びその調整方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10283313B2 (ja) |
EP (1) | EP3093867B1 (ja) |
JP (1) | JP6377572B2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
EP3312868A1 (en) * | 2016-10-21 | 2018-04-25 | Excillum AB | Structured x-ray target |
EP3413691A1 (en) * | 2017-06-08 | 2018-12-12 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus for generating x-rays |
US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
EP3589082A1 (en) * | 2018-06-25 | 2020-01-01 | Excillum AB | Determining width and height of electron spot |
EP3599619A1 (de) | 2018-07-25 | 2020-01-29 | Siemens Healthcare GmbH | Target zum erzeugen von röntgenstrahlung, röntgenemitter und verfahren zum erzeugen von röntgenstrahlung |
CN112470245A (zh) | 2018-07-26 | 2021-03-09 | 斯格瑞公司 | 高亮度x射线反射源 |
DE112019004433T5 (de) | 2018-09-04 | 2021-05-20 | Sigray, Inc. | System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung |
WO2020051221A2 (en) * | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
CN110049610B (zh) | 2019-04-24 | 2021-01-22 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 焦点大小的控制方法、装置、设备及存储介质 |
US11152183B2 (en) | 2019-07-15 | 2021-10-19 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
US11101098B1 (en) | 2020-04-13 | 2021-08-24 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray generation apparatus with electron passage |
US11145481B1 (en) * | 2020-04-13 | 2021-10-12 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray generation using electron beam |
US11961694B2 (en) * | 2021-04-23 | 2024-04-16 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | Fiber-optic communication for embedded electronics in x-ray generator |
US11864300B2 (en) | 2021-04-23 | 2024-01-02 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | X-ray source with liquid cooled source coils |
DE102021210851B3 (de) * | 2021-09-28 | 2023-03-02 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren und System zur Kalibration eines Röntgenstrahlers |
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US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
US20240130028A1 (en) * | 2022-10-18 | 2024-04-18 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | Reflection target X-ray source with steered beam on target |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS63122985A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビ−ムの密度分布測定装置 |
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JP6166145B2 (ja) * | 2013-10-16 | 2017-07-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
-
2015
- 2015-05-11 JP JP2015096316A patent/JP6377572B2/ja active Active
-
2016
- 2016-05-03 US US15/145,107 patent/US10283313B2/en active Active
- 2016-05-10 EP EP16001053.4A patent/EP3093867B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016213078A (ja) | 2016-12-15 |
EP3093867A1 (en) | 2016-11-16 |
US10283313B2 (en) | 2019-05-07 |
US20160336140A1 (en) | 2016-11-17 |
EP3093867B1 (en) | 2021-05-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180118 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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