JP6266467B2 - 電子顕微鏡、およびモノクロメーターの調整方法 - Google Patents

電子顕微鏡、およびモノクロメーターの調整方法 Download PDF

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Description

本発明は、電子顕微鏡、およびモノクロメーターの調整方法に関する。
モノクロメーターは、透過電子顕微鏡における電子エネルギー損失分光の高分解能化を実現するため、また色収差低減による透過像の情報限界の向上のために用いられる。さらには、モノクロメーターは、電子線を単色化して低加速電圧での走査電子顕微鏡での色収差低減による分解能向上のために用いられる。
モノクロメーターは様々な方式が提案されているが、一般的に、電子線を分光してスペクトルを投影するエネルギーフィルター部と、スリット等を利用してスペクトルから所望のエネルギー幅の電子線を取り出して、電子線を単色化するエネルギー選択部と、で構成されている。
エネルギーフィルター部は電子線の光路中に偏向場を発生させ、偏向場中における電子の速度に依存する軌道の違いを利用して電子線を分光し、スペクトルを投影する。その分散能は数１０μｍ／ｅＶ程度である。
エネルギー選択部では、必要な単色化された電子線のエネルギー幅とエネルギーフィルター部の分散能を考慮した、数ミクロンからサブミクロン幅のスリットが必要となる。スリットは、例えば、金属薄膜に形成された溝である。顕微鏡の観察条件によって電子線のエネルギー幅を数種類のモードで選択可能なように、金属薄膜には、幅が異なるスリットが複数形成される（例えば、特許文献１参照）。金属薄膜は機械的な位置移動機構を介して位置制御が可能になっており、全ての幅のスリットが電子線の光路上に設置可能となっている。あるエネルギーの電子線はスリットにより遮断され、またあるエネルギーの電子線はスリットを通過し、結果としてスリットの幅に対応して電子線は単色化される。
特開２００３−３３１７６４号公報
ここで、上述したモノクロメーターにおいて、スリットを通過後の電子線ではスリットの形状を直接的に確認する事ができない。そのため、オペレーターはどの幅のスリットが光路上に設置されているかを直接確認する事ができない。
そのため、スリットの幅を切り替えて異なるエネルギー幅での像観察をする場合、オペレーターは金属薄膜を機械的に移動させてスリットの幅の切り替わりを指折り数え、どの幅のスリットが光路上に設置されているかを確認しなければならない。このように、モノクロメーターは、習熟していないオペレーターにとって扱いにくいものであった。
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、モノクロメーターの調整を容易に行うことが可能な電子顕微鏡を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、モノクロメーターの調整を容易に行うことが可能な、モノクロメーターの調整方法を提供することにある。
（１）本発明に係る電子顕微鏡は、
電子線を放出する電子線源と、
前記電子線をエネルギーに応じて分散させるエネルギーフィルター、および、エネルギー分散面上に配置され、かつ前記電子線の分散方向の幅が互いに異なる複数のエネルギー選択スリットが形成されたスリットプレートを有するモノクロメーターと、
前記モノクロメーターによって単色化された前記電子線が入射するレンズ系と、
前記電子線源から放出された前記電子線の強度を測定する第１測定部と、
前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度を測定する第２測定部と、
前記第１測定部の測定結果、および前記第２測定部の測定結果に基づいて、複数の前記エネルギー選択スリットのなかから前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定するスリット特定部と、
を含む。
このような電子顕微鏡では、電子線が通過したエネルギー選択スリットを特定することができる。そのため、このような電子顕微鏡では、モノクロメーターの調整の際に、例えばオペレーターがスリットの幅の切り替わりを指折り数えて、どの幅のスリットが光路上に設置されているかを特定する必要がない。したがって、このような電子顕微鏡では、モノクロメーターの調整を容易に行うことができる。
（２）本発明に係る電子顕微鏡において、
前記第２測定部で測定された前記電子線の強度をＩＬとし、前記第１測定部で測定された前記電子線の強度をＩｔとし、比例定数をαとしたときに、
前記スリット特定部は、前記エネルギー選択スリットの幅ＷＬを、下記関係式（１）を用いて求め、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定してもよい。
ＩＬ＝α・ＷＬ・Ｉｔ・・・（１）
このような電子顕微鏡では、容易に、電子線が通過したエネルギー選択スリットを特定することができる。
（３）本発明に係る電子顕微鏡において、
前記スリットプレートの位置を移動させる移動機構と、
前記移動機構を制御するスリット位置制御部と、
を含み、
前記スリット位置制御部は、
前記スリット特定部によって特定された前記エネルギー選択スリットと所望の前記エネルギー選択スリットとが一致するか否かを判定する処理と、
前記判定結果に基づいて前記移動機構を制御して、前記スリットプレートの位置を移動させて前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する処理と、
を行ってもよい。
このような電子顕微鏡では、所望のスリット幅のエネルギー選択スリットを電子線の光路上に配置することができる。したがって、このような電子顕微鏡では、モノクロメーターの調整を容易に行うことができる。
（４）本発明に係る電子顕微鏡において、
前記スリット位置制御部は、前記第２測定部の測定結果に基づいて前記移動機構を制御して、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する処理を行ってもよい。
このような電子顕微鏡では、エネルギー選択スリットの分散方向の位置の調整を、自動化することができる。したがって、このような電子顕微鏡では、容易に、最適化された電子線輝度（高輝度）での観察や分析を行うことができる。
（５）本発明に係る電子顕微鏡において、
複数の前記エネルギー選択スリットは、第１方向に配列され、
各前記エネルギー選択スリットの幅は、前記第１方向と直交する第２方向の前記エネルギー選択スリットの大きさであり、
前記スリット位置制御部は、
前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する処理では、前記スリットプレートを前記第１方向に移動させ、
前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する処理では、前記スリットプレートを前記第２方向に移動させてもよい。
このような電子顕微鏡では、移動機構によって、電子線が通過するエネルギー選択スリットの変更と、エネルギー選択スリットの分散方向の位置の調整の両方を行うことができる。
（６）本発明に係る電子顕微鏡において、
前記スリット位置制御部は、前記第２測定部の測定結果に基づいて前記エネルギーフィルターを制御して、前記エネルギー選択スリットに対する前記電子線の前記分散方向の位置を調整する処理を行ってもよい。
このような電子顕微鏡では、エネルギー選択スリットの分散方向の位置の調整を、自動化することができる。したがって、このような電子顕微鏡では、容易に、最適化された電子線輝度（高輝度）での観察や分析を行うことができる。さらに、このような電子顕微鏡では、電子線を偏向させることでエネルギー選択スリットに対する電子線の分散方向の位置を調整するため、例えば、機械的にスリットプレートを移動させて調整を行う場合と比べて、円滑に位置調整を行うことができる。
（７）本発明に係るモノクロメーターの調整方法は、
電子線源から放出された電子線をエネルギーに応じて分散させるエネルギーフィルター、およびエネルギー分散面上に配置され、かつ電子線の分散方向の幅が互いに異なる複数のエネルギー選択スリットが形成されたスリットプレートを有するモノクロメーターを備えた電子顕微鏡における、モノクロメーターの調整方法であって、
前記電子線源から放出された前記電子線の強度を測定する工程と、
前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度を測定する工程と、
前記電子線源から放出された前記電子線の強度、および前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて、複数の前記エネルギー選択スリットのなかから前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定する工程と、
を含む。
このようなモノクロメーターの調整方法では、電子線源から放出された電子線の強度、およびエネルギー選択スリットを通過した電子線の強度に基づいて、電子線が通過したエネルギー選択スリットを特定することができる。そのため、このようなモノクロメーターの調整方法では、例えばオペレーターがスリットの幅の切り替わりを指折り数えて、どの幅のスリットが光路上に設置されているかを特定する必要がない。したがって、このようなモノクロメーターの調整方法では、モノクロメーターの調整を容易に行うことができる。
（８）本発明に係るモノクロメーターの調整方法において、
前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度をＩＬとし、前記電子線源から放出された前記電子線の強度をＩｔとし、比例定数をαとしたときに、
前記エネルギー選択スリットを特定する工程では、前記エネルギー選択スリットの幅ＷＬを、下記関係式（１）を用いて求めて、前記エネルギー選択スリットを特定してもよい。
ＩＬ＝α・ＷＬ・Ｉｔ・・・（１）
このようなモノクロメーターの調整方法では、容易に、電子線が通過したエネルギー選択スリットを特定することができる。
（９）本発明に係るモノクロメーターの調整方法において、
前記エネルギー選択スリットを特定する工程で特定された前記エネルギー選択スリットと所望の前記エネルギー選択スリットとが一致するか否かを判定する工程と、
前記判定結果に基づいて前記スリットプレートの位置を移動させて、前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する工程と、
を含んでいてもよい。
このようなモノクロメーターの調整方法では、所望のスリット幅のエネルギー選択スリットを、電子線の光路上に配置することができる。
（１０）本発明に係るモノクロメーターの調整方法において、
前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて前記スリットプレートの位置を移動させて、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する工程を含んでいてもよい。
このようなモノクロメーターの調整方法では、最適化された電子線輝度（高輝度）での観察や分析を行うことができる。
（１１）本発明に係るモノクロメーターの調整方法において、
複数の前記エネルギー選択スリットは、第１方向に配列され、
各前記エネルギー選択スリットの幅は、前記第１方向と直交する第２方向の前記エネルギー選択スリットの大きさであり、
前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する工程では、前記スリットプレートを前記第１方向に移動させ、
前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する工程では、前記スリットプレートを前記第２方向に移動させてもよい。
このようなモノクロメーターの調整方法では、スリットプレートを移動させることによって、電子線が通過するエネルギー選択スリットの変更と、エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置の調整の両方を行うことができる。
（１２）本発明に係るモノクロメーターの調整方法において、
前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて前記エネルギーフィルターを制御して、前記エネルギー選択スリットに対する前記電子線の前記分散方向の位置を調整する工程を含んでいてもよい。
このようなモノクロメーターの調整方法では、例えば、機械的にスリットプレートを移動させる場合と比べて、円滑に位置調整を行うことができる。
第１実施形態に係る電子顕微鏡の構成を模式的に示す図。 第１実施形態に係る電子顕微鏡のスリットプレートを模式的に示す平面図。 第１実施形態に係る電子顕微鏡におけるモノクロメーターの調整方法の一例を示すフローチャート。 第１実施形態に係る電子顕微鏡におけるエネルギー選択スリットに対する電子線の分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャート。 第１実施形態に係る電子顕微鏡におけるモノクロメーターの調整方法の変形例を示すフローチャート。 第１実施形態に係る電子顕微鏡におけるエネルギー選択スリットの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャート。 第２実施形態に係る電子顕微鏡の構成を模式的に示す図。 第２実施形態に係る電子顕微鏡におけるモノクロメーターの調整方法の一例を示すフローチャート。 第２実施形態に係る電子顕微鏡におけるエネルギー選択スリットに対する電子線の分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャート。 第２実施形態に係る電子顕微鏡におけるモノクロメーターの調整方法の変形例を示すフローチャート。 第２実施形態に係る電子顕微鏡におけるエネルギー選択スリットの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャート。 第３実施形態に係る電子顕微鏡の構成を模式的に示す図。 第１実施形態に係る電子顕微鏡において、スリットプレートで吸収された電子線の電流量を測定するための構成を模式的に示す図。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
１． 第１実施形態
１．１． 電子顕微鏡
まず、第１実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る電子顕微鏡１００の構成を模式的に示す図である。
電子顕微鏡１００は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）である。透過電子顕微鏡とは、試料を透過した電子で結像して、透過電子顕微鏡像（ＴＥＭ像）を得る装置である。なお、透過電子顕微鏡像は、明視野像や、暗視野像、回折図形（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ ｐａｔｔｅｒｎ）などを含む。
電子顕微鏡１００は、図１に示すように、電子線源１０と、モノクロメーター２０と、フィルター電源２６と、移動機構２８と、集束レンズ３０と、試料を保持する試料ステージ３２と、対物レンズ３４と、中間レンズ３６と、投影レンズ３８と、撮像部４０と、第１測定部５０と、第２測定部６０と、処理部７０と、操作部８０と、表示部８２と、記憶部８４と、を含む。
電子線源１０は、電子線ＥＢを放出する。電子線源１０としては、例えば、電界放出型電子銃を用いることができる。電子線源１０は、電子源（エミッタ、陰極）１２と、電子銃電極（引出電極、陽極）１４と、を有している。電子線源１０では、電子銃電極１４に印加された引出電圧によって電子源１２から所定の電流の電子を放出させ、加速電極（図
示せず）に印加された加速電圧によって所定のエネルギーの電子線を得る。なお、電子線源１０として、熱電子放出型電子銃や、ショットキー型電子銃を用いてもよい。
モノクロメーター２０は、電子線ＥＢを単色化する。ここで、単色化とは、所定のエネルギー幅の電子線ＥＢを選択することをいう。モノクロメーター２０は、エネルギーフィルター２２と、エネルギー選択スリット２５が形成されたスリットプレート２４と、を有する。
エネルギーフィルター２２は、入射した電子線ＥＢをエネルギーに応じて分散させる。エネルギーフィルター２２は、電子線ＥＢの光路中に偏向場（磁場、電場、または磁場および電場の両方）を発生させ、偏向場中における電子の速度に依存する軌道の違いを利用して電子線ＥＢを分光し、エネルギー分散面上にスペクトルを投影する。また、エネルギーフィルター２２では、偏向場を制御することによって、エネルギー分散面上における電子線ＥＢの分散方向の位置を移動させることができる。
エネルギーフィルター２２は、例えば、光軸に沿って進行する電子線ＥＢに対して互いに直交する電場および磁場を印加するウィーンフィルターで構成されている。なお、エネルギーフィルター２２は、電子線をエネルギーに応じて分散させることができればその形式は限定されない。例えば、エネルギーフィルター２２として、Ωフィルターを用いてもよい。エネルギーフィルター２２には、フィルター電源２６から動作用の電力が供給される。
スリットプレート２４は、エネルギー分散面上に配置される。スリットプレート２４には、エネルギー選択スリット２５が形成されている。エネルギー選択スリット２５を用いて、所望のエネルギー幅の電子線を取り出すことができる。
図２は、スリットプレート２４を模式的に示す平面図である。図２には、互いに直交する軸としてＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸を図示している。
スリットプレート２４は、例えば、金属の板である。スリットプレート２４には、図２に示すように、複数のエネルギー選択スリット２５が形成されている。複数のエネルギー選択スリット２５は、互いに電子線のエネルギー分散方向（Ｘ軸方向）の幅（スリット幅）が異なっている。複数のエネルギー選択スリット２５は、スリット幅が大きい順（エネルギー選択スリット２５−１，２５−２，２５−３，・・・，２５−Ｎ（Ｎは２以上の整数）の順）にＹ軸に沿って配列されている。エネルギー選択スリット２５の平面形状は、例えば、四角形である。エネルギー選択スリット２５のスリット幅は、例えば、数百ｎｍ〜数十μｍ程度である。スリットプレート２４には、さらに、入射した電子線ＥＢの全部を通過させるための開放穴２５０が設けられている。
スリットプレート２４は、移動機構２８を介して、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に移動可能である。スリットプレート２４をＹ軸方向に移動させることで、電子線ＥＢが通過する（電子線ＥＢの光路上に配置された）エネルギー選択スリット２５を変更することができる。また、例えば、スリットプレート２４をＸ軸方向に移動させることで、電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５のスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させるための調整を行うことができる。
移動機構２８は、スリットプレート２４を移動させるための機構である。移動機構２８は、スリットプレート２４を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の２方向に移動させることが可能である。移動機構２８は、例えば、モーターを含んで構成され、当該モーターによってスリットプレート２４をＸ軸方向またはＹ軸方向に移動させる。
集束レンズ３０は、モノクロメーター２０によって単色化された電子線ＥＢを集束して、試料ステージ３２に保持された試料に照射する。集束レンズ３０は、複数のコンデンサーレンズで構成されている。電子顕微鏡１００では、集束レンズ３０によって、試料に電子線ＥＢを照射するための照射レンズ系が構成されている。
対物レンズ３４は、試料を透過した電子線ＥＢで結像するための初段のレンズである。対物レンズ３４は、図示はしないが、上部磁極（ポールピースの上極）、および下部磁極（ポールピースの下極）を有している。対物レンズ３４は、上部磁極と下部磁極との間に磁場を発生させて電子線ＥＢを集束させる。
中間レンズ３６は、対物レンズ３４の後段に配置されている。投影レンズ３８は、中間レンズ３６の後段に配置されている。中間レンズ３６および投影レンズ３８は、対物レンズ３４によって結像された像をさらに拡大し、撮像部４０に結像させる。電子顕微鏡１００では、対物レンズ３４、中間レンズ３６、および投影レンズ３８によって、結像レンズ系が構成されている。
撮像部４０は、結像レンズ系３４，３６，３８によって結像された透過電子顕微鏡像を撮影する。撮像部４０は、例えば、ＣＣＤカメラ等のデジタルカメラである。
第１測定部５０は、電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度（電流量）を測定する。第１測定部５０は、例えば、電子線源１０の電子源（エミッタ、陰極）１２と、電子銃電極（陽極）と、の間に接続された電流計５２を含んで構成されている。第１測定部５０によって、電子線源１０から放出された電子線の電流量（放出電流量）を測定することができる。第１測定部５０は、測定結果（電子線ＥＢの電流量）の情報を、処理部７０に出力する。
第２測定部６０は、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度（電流量）を測定する。第２測定部６０は、ファラデーカップ６２と、ファラデーカップ６２に接続された電流計６４と、を含んで構成されている。
ファラデーカップ６２は、投影レンズ３８の後段（電子線ＥＢの下流側）に配置されている。なお、ファラデーカップ６２が配置される場所は、モノクロメーター２０の後段であれば特に限定されない。ファラデーカップ６２は、電子線ＥＢを検出する際には電子線ＥＢの光路上に位置し、電子線ＥＢの検出を行わないとき（例えば透過電子顕微鏡像の撮影時）には、電子線ＥＢの光路上から外れた場所に位置する。
ファラデーカップ６２を用いて電子線ＥＢの検出を行う際には、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢが、エネルギー選択スリット２５を通過してからファラデーカップ６２で検出されるまでの間で遮断されないように、電子顕微鏡１００のレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離、および電子線ＥＢを偏向するための偏向コイル（図示せず）の偏向角が調整される。ファラデーカップ６２を用いて電子線ＥＢの検出を行う際のレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離および偏向コイルの偏向角のデータ（電流検出用データ）は、あらかじめ記憶部８４に記憶されている。
電流計６４は、ファラデーカップ６２と接地電位との間に組み込まれている。電流計６４によって、ファラデーカップ６２で検出された電子線ＥＢの電流量を測定することができる。そのため、第２測定部６０では、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定することができる。第２測定部６０は、測定結果（電子線ＥＢの電流量）の情報を、処理部７０に出力する。
操作部８０は、オペレーターが操作情報を入力するためのものであり、入力された操作情報を処理部７０に出力する。操作部８０は、例えば、ボタン、キー、タッチパネル型ディスプレイ、マイクなどである。
表示部８２は、処理部７０によって生成された画像を表示するものであり、その機能は、ＬＣＤ、ＣＲＴなどにより実現できる。表示部８２は、例えば、電子線が通過したエネルギー選択スリット２５を特定するための情報を出力する。
記憶部８４は、処理部７０のワーク領域となるもので、その機能はＲＡＭなどにより実現できる。記憶部８４は、処理部７０が各種の計算処理や制御処理を行うためのプログラムやデータ等を記憶している。また、記憶部８４は、処理部７０の作業領域として用いられ、処理部７０が各種プログラムに従って実行した算出結果等を一時的に記憶するためにも使用される。
処理部７０は、記憶部８４に記憶されているプログラムに従って、各種の計算処理や制御処理を行う。処理部７０は、記憶部８４に記憶されているプログラムを実行することで、以下に説明する、スリット特定部７２、スリット位置制御部７４として機能する。処理部７０の機能は、各種プロセッサ（ＣＰＵ、ＤＳＰ等）、ＡＳＩＣ（ゲートアレイ等）などのハードウェアや、プログラムにより実現できる。なお、処理部７０の少なくとも一部をハードウェア（専用回路）で実現してもよい。処理部７０は、スリット特定部７２と、スリット位置制御部７４と、を含む。
スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果、および第２測定部６０の測定結果に基づいて、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌ（Ｌ＝１，２，３，・・・，Ｎ）を特定する。すなわち、スリット特定部７２は、現状、電子線ＥＢの光路上に配置されているエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する処理を行う。
具体的には、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果および第２測定部６０の測定結果から、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬと電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度Ｉｔとの関係式を用いて、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを求め、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する。
ここで、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬと電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度Ｉｔとの関係式について説明する。なお、ここでは、電子線ＥＢの強度を電子線ＥＢの電流量で表すが、後述するように電子線ＥＢの強度を、電子線ＥＢを検出する光電子増倍管（Ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ Ｔｕｂｅ、ＰＭＴ）のカウント数（ＰＭＴカウント）として表すこともできる。
電子線源１０から放出される電子線ＥＢの強度（放出電流量）Ｉｔと、電子顕微鏡１００で使用されるレンズ系の軸上の電子線ＥＢの強度（軸上電子線電流量）Ｉａとは、おおよそ比例の関係にある。さらに、軸上電子線強度とエネルギー選択スリット２５を通過する電子線の強度（電子線電流量）ＩＬも比例関係にある。そのため、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬと電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度Ｉｔとは下記関係式（１）で表される。
ＩＬ＝α・ＷＬ・Ｉｔ・・・（１）
但し、αは比例定数である。
電子線源１０から放出される電子線ＥＢの強度（電流量）Ｉｔは、第１測定部５０の測定結果に対応する。また、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線の強度ＩＬは、第２測定部６０の測定結果に対応する。また、比例定数αは、既知のエネルギー選択スリット２５を用いて測定を行うことで求めることができる。
そのため、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果および第２測定部６０の測定結果から、上記関係式（１）を用いて、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを求めることができる。
また、スリット特定部７２は、例えば、求めたスリット幅ＷＬを、各エネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｌのスリット幅Ｗ１〜ＷＮのデータベースと照合して、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する。比例定数αや、当該データベースは、あらかじめ記憶部８４に記憶させておいてもよい。
スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御する。スリット位置制御部７４は、スリット特定部７２によって特定されたエネルギー選択スリット２５−Ｌが所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍか否かを判定する処理と、判定結果に基づいて移動機構２８を制御してスリットプレート２４の位置を移動させて、電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌを変更する処理と、を行う。
スリット位置制御部７４は、さらに、第２測定部６０の測定結果に基づいて、エネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向（Ｘ軸方向）の位置を調整する処理を行う。具体的には、スリット位置制御部７４は、例えば、第２測定部６０で測定された電子線ＥＢの電流量が最大となるように、エネルギーフィルター２２を制御する。この処理により、電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５のスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
１．２． モノクロメーターの調整方法
次に、第１実施形態に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法について図面を参照しながら説明する。具体的には、電子顕微鏡１００において、オペレーターが選択したエネルギー選択スリット２５−Ｍ（Ｍ＝１，２，３，・・・，Ｎ）を電子線ＥＢの光路上に配置する処理について説明する。なお、以下では、現状、電子線ＥＢの光路上に配置されているエネルギー選択スリット２５−Ｌは、Ｎ個のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのうちどのエネルギー選択スリットであるかは不明であるものとする。
図３は、第１実施形態に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法の一例を示すフローチャートである。
まず、処理部７０は、オペレーターによって選択されたエネルギー分散スリット（所望のエネルギー分散スリット）２５−Ｍの情報を取得する（ステップＳ１００）。具体的には、処理部７０は、オペレーターによって所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍの情報が操作部８０を介して入力されると、当該エネルギー選択スリット２５−Ｍの情報を取得して記憶部８４に記憶させる。
次に、処理部７０は、現在の電子顕微鏡１００のレンズ系３０，３４，３６，３８の設定、および電子線を偏向するための偏向系（図示せず）の設定を記憶部８４に保存する（ステップＳ１０２）。例えば、処理部７０は、現在の電子顕微鏡１００のレンズ系３０，
３４，３６，３８の焦点距離の情報や、電子線ＥＢを偏向するための偏向コイルの偏向角の情報を記憶部８４に保存する。
次に、処理部７０は、記憶部８４から、ファラデーカップ６２を用いて電子線ＥＢを検出するためのレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離のデータ、および電子線ＥＢを偏向するための偏向コイル（図示せず）の偏向角のデータを読み出す（ステップＳ１０４）。そして、処理部７０は、当該データに基づいて、レンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離および偏向コイルの偏向角を設定する。
次に、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ１０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。なお、本ステップＳ１０６の詳細については後述する。
次に、スリット特定部７２は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度（電流量）ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１０８）。
次に、スリット特定部７２は、第１測定部５０で測定された、電子線源１０から放出された電子線の強度（放出電流量）Ｉｔの情報を取得する（ステップＳ１１０）。なお、電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度Ｉｔの情報を取得した後に（ステップＳ１１０の後に）、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬの情報を取得してもよい（ステップＳ１０８）。
次に、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果（電流量Ｉｔ）および第２測定部６０の測定結果（電流量ＩＬ）に基づいて、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを、関係式（１）を用いて算出する（ステップＳ１１２）。
次に、スリット特定部７２は、求めたエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬから、エネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する（ステップＳ１１６）。スリット特定部７２は、例えば、求めたスリット幅ＷＬを、予め記憶部８４に記憶されていた、各エネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのスリット幅Ｗ１〜ＷＮのデータベースと照合して、エネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する。
次に、スリット位置制御部７４は、スリット特定部７２によって特定されたエネルギー選択スリット２５−Ｌが所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍと一致するか否かを判定する（ステップＳ１１８）。
特定したエネルギー選択スリット２５−Ｌと所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致しなかった場合（ステップＳ１１８でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、Ｌ＞Ｍを満たすか否かを判定する（ステップＳ１２０）。
ここで、図２に示すように、エネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎは、番号が大きくなるほどスリット幅が小さくなる。したがって、Ｌ＞Ｍを満たすか否かを判定することは、言い換えると、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬがエネルギー選択スリット２５−Ｍのスリット幅ＷＭよりも小さい（ＷＬ＜ＷＭ）か否かを判定すると言い換えることができる。
Ｌ＞Ｍを満たす場合（ステップＳ１２０でＹｅｓの場合）、すなわち、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬがエネルギー選択スリット２５−Ｍのスリット幅ＷＭよりも小さい場合、スリット位置制御部７４は、現状のエネルギー選択スリット２５−Ｌから、＋Ｙ軸方向に隣り合うエネルギー選択スリット２５−（Ｌ−１）に変更する処理を行う（ステップＳ１２２〜ステップＳ１３２）。
一方、Ｌ＞Ｍを満たさない場合（ステップＳ１２０でＮｏの場合）、すなわち、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬがエネルギー選択スリット２５−Ｍのスリット幅ＷＭよりも大きい場合、スリット位置制御部７４は、現状のエネルギー選択スリット２５−Ｌから、−Ｙ軸方向に隣り合うエネルギー選択スリット２５−（Ｌ＋１）に変更する処理を行う（ステップＳ１３４〜ステップＳ１４４）。
以下、エネルギー選択スリット２５−Ｌを変更する処理（ステップＳ１２２〜ステップＳ１３２、ステップＳ１３４〜ステップＳ１４４）について説明する。
Ｌ＞Ｍを満たす場合（ステップＳ１２０でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１２２）。ここで、距離ΔＹは、例えば、電子線ＥＢのビーム径よりも大きく、隣り合うエネルギー選択スリット２５間の距離よりも小さい値である。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２２でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１２４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２４で取得された電流量ＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ１２６）。ここで、ＩＬ＝０の場合とは、電子線ＥＢの光路が隣り合うエネルギー選択スリット２５−Ｌ，２５−（Ｌ−１）間に位置しており、電子線ＥＢがスリットプレート２４で遮断されている状態である。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ１２６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１２２）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１２４）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たすまで、ステップＳ１２２，Ｓ１２４，Ｓ１２６の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ１２６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御してスリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１２８）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２８でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１３０）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２８で取得された電流量ＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ１３２）。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ１３２でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１２８）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１３０）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たさなくなるまで、すなわ
ち、電子線ＥＢの光路が次のエネルギー選択スリット２５−（Ｌ−１）に位置するまで、ステップＳ１２８，Ｓ１３０，Ｓ１３２の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ１３２でＮｏの場合）、すなわち、電子線ＥＢがエネルギー選択スリット２５−（Ｌ−１）を通過した場合、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌ（Ｌ＝Ｌ−１）に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ１０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
一方、Ｌ＞Ｍを満たさない場合（ステップＳ１２０でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１３４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１３４でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１３６）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１３６で取得した電流量ＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ１３８）。ここで、ＩＬ＝０の場合とは、電子線ＥＢの光路が隣り合うエネルギー選択スリット２５−Ｌ，２５−（Ｌ＋１）間に位置しており、電子線ＥＢがスリットプレート２４で遮断されている状態である。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ１３８でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１３４）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１３６）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たすまで、ステップＳ１３４，Ｓ１３６，Ｓ１３８の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ１３８でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御してスリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１４０）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１４０でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１４２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１４２で取得した電流量ＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ１４４）。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ１４４でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１４０）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢの電流量ＩＬの情報を取得する（ステップＳ１４２）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たさなくなるまで、すなわち、電子線ＥＢの光路が次のエネルギー選択スリット２５−（Ｌ＋１）に位置するまで、ステップＳ１４０，Ｓ１４２，Ｓ１４４の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ１４４でＮｏの場合）、すなわち、電子線ＥＢがエネルギー選択スリット２５−（Ｌ＋１）を通過した場合、スリット位置制御部７４は
、第２測定部６０の測定結果に基づいて、エネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌ（Ｌ＝Ｌ＋１）に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ１０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
以上の処理（ステップＳ１２２〜ステップＳ１３２、ステップＳ１３４〜ステップＳ１４４）により、エネルギー選択スリット２５−Ｌを変更することができる。
処理部７０は、エネルギー選択スリット２５−Ｌがエネルギー選択スリット２５−Ｍと一致するまで（ステップＳ１１８でＮｏと判定されるまで）、上述したステップＳ１０６〜ステップＳ１４４の処理を繰り返し行う。
そして、エネルギー選択スリット２５−Ｌとエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致した場合（ステップＳ１１８でＮｏの場合）、すなわち、所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍが電子線ＥＢの光路上に配置された場合、処理部７０は、ステップＳ１０２で記憶部８４に記憶された、電子顕微鏡１００のレンズ系３０，３４，３６，３８の設定、および電子線ＥＢを偏向するための偏向コイルの設定を読み出す（ステップＳ１４６）。そして、処理部７０は、当該設定の情報に基づいて、レンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離および偏向コイルの偏向角を設定する。これにより、電子顕微鏡１００のレンズ系３０，３４，３６，３８および偏向コイルを、モノクロメーター２０の調整を行う前の状態に戻すことができる。そして、処理部７０は処理を終了する。
以上の処理により、オペレーターが選択したエネルギー選択スリット２５−Ｍを電子線ＥＢの光路上に配置することができる。
次に、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する処理（ステップＳ１０６）について説明する。図４は、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャートである。
まず、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ１６０）。
次に、スリット位置制御部７４は、エネルギーフィルター２２の偏向場を制御するフィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ増加させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６２で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ１６４）。
次に、スリット位置制御部７４は、電流量ＩＬ１が電流量ＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ１６６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ１６６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ１６０、ステップＳ１６２、ステップＳ１６４、ステップＳ１６６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ１６０、ステップＳ１６２、ステップＳ１６４、ステップＳ１６６の処理を繰り返
す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ１６６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ減少させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６８）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６８で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ１７０）。
次に、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ減少させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１７２で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ１７４）。
次に、スリット位置制御部７４は、電流量ＩＬ１が電流量ＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ１７６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ１７６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ１７０、ステップＳ１７２、ステップＳ１７４、ステップＳ１７６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ１７０、ステップＳ１７２、ステップＳ１７４、ステップＳ１７６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ１７６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ増加させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７８）。
以上の処理により、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整して、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
電子顕微鏡１００は、例えば、以下の特徴を有する。
電子顕微鏡１００では、電子線源１０から放出された電子線ＥＢの電流量を測定する第１測定部５０と、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定する第２測定部６０と、第１測定部５０の測定結果、および第２測定部６０の測定結果に基づいて、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定するスリット特定部７２と、を含む。そのため、電子顕微鏡１００では、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定することができる。すなわち、電子顕微鏡１００では、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する処理を自動化することができる。これにより、電子顕微鏡１００では、例えばオペレーターがスリットの幅の切り替わりを指折り数えて、どの幅のスリットが光路上に設置されているかを特定する必要がない。したがって、電子顕微鏡１００では、操作の簡略化を図ることができ、モノクロメーター２０の調整を容易に行うことができる。
電子顕微鏡１００では、スリット特定部７２は、エネルギー選択スリット２５−Ｌの幅ＷＬを、関係式（１）を用いて求め、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５を特定する。そのため、電子顕微鏡１００では、容易に、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５を特定することができる。
電子顕微鏡１００では、スリット位置制御部７４は、スリット特定部７２によって特定されたエネルギー選択スリット２５−Ｌと所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致するか否かを判定する処理（ステップＳ１１８）と、当該判定の結果に基づいて移動機構２８を制御して、スリットプレート２４の位置を移動させて電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌを変更する処理と、を行う。そのため、電子顕微鏡１００では、スリット位置制御部７４によって所望のスリット幅のエネルギー選択スリット２５−Ｍを、電子線ＥＢの光路上に配置することができる。すなわち、電子顕微鏡１００では、所望のスリット幅のエネルギー選択スリット２５−Ｍを電子線ＥＢの光路上に配置する処理を、自動化することができる。したがって、電子顕微鏡１００では、操作の簡略化を図ることができ、モノクロメーター２０の調整を容易に行うことができる。
電子顕微鏡１００では、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する処理を行う。そのため、電子顕微鏡１００では、エネルギー選択スリット２５−Ｌの位置の調整を、自動化することができる。したがって、電子顕微鏡１００では、容易に、最適化された電子線輝度（高輝度）での観察や分析を行うことができる。さらに、電子顕微鏡１００では、電子線ＥＢを偏向させることで、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整するため、例えば、機械的にスリットプレート２４を移動させて調整を行う場合と比べて、円滑に位置調整を行うことができる。
電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度（電流量）Ｉｔを測定する工程（ステップＳ１１０）と、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度（電流量）ＩＬを測定する工程（ステップＳ１０８）と、電子線源１０から放出された電子線ＥＢの強度Ｉｔ、およびエネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬに基づいて、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する工程（ステップＳ１１６）と、を含む。そのため、このようなモノクロメーター２０の調整方法では、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定することができる。したがって、例えばオペレーターがスリットの幅の切り替わりを指折り数えて、どの幅のスリットが光路上に設置されているかを特定する必要がない。よって、このようなモノクロメーター２０の調整方法では、モノクロメーター２０の調整を容易に行うことができる。
電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度ＩＬに基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する工程（ステップＳ１０６）を含む。そのため、このようなモノクロメーター２０の調整方法では、電子線ＥＢを偏向させることで、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整するため、例えば、機械的にスリットプレート２４を移動させて調整を行う場合と比べて、円滑に位置調整を行うことができる。
１．３． モノクロメーターの調整方法の変形例
次に、第１実施形態に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法の変形例について図面を参照しながら説明する。図５は、第１実施形態に係る電子顕微鏡
１００におけるモノクロメーター２０の調整方法の変形例を示すフローチャートである。
上述した図３に示す第１実施形態に係るモノクロメーター２０の調整方法では、ステップＳ１０６において、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整した。
これに対して、図５に示す本変形例に係るモノクロメーター２０の調整方法では、ステップＳ１０６ｄにおいて、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいて移動機構２８を制御して、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する。
なお、図５に示すフローチャートのその他のステップについては、図３に示すフローチャートの同じ番号を付したステップと同じであり、その説明を省略する。
図６は、エネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャートである。なお、図６に示すフローチャートにおいて、上述した図４に示すフローチャートと同様のステップについては、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
まず、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ１６０）。
次に、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６２ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６２ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ１６４）。
次に、スリット位置制御部７４は、電流量ＩＬ１が電流量ＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ１６６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ１６６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ１６０、ステップＳ１６２ｄ、ステップＳ１６４、ステップＳ１６６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ１６０、ステップＳ１６２ｄ、ステップＳ１６４、ステップＳ１６６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ１６６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６８ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６８ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ１７０）。
次に、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７２ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１７２ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの電流量ＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ１７４）。
次に、スリット位置制御部７４は、電流量ＩＬ１が電流量ＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ１７６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ１７６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ１７０、ステップＳ１７２ｄ、ステップＳ１７４、ステップＳ１７６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ１７０、ステップＳ１７２ｄ、ステップＳ１７４、ステップＳ１７６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ１７６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７８ｄ）。
以上の処理により、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整して、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
本変形例に係る電子顕微鏡１００は、例えば、以下の特徴を有する。
本変形例に係る電子顕微鏡１００では、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいて移動機構２８を制御して、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する処理を行う。そのため、本変形例に係る電子顕微鏡１００では、第１実施形態と同様に、エネルギー選択スリット２５−Ｌの位置の調整を、自動化することができる。
本変形例に係る電子顕微鏡１００では、スリット位置制御部７４は、電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌを変更する処理では、スリットプレート２４をＹ軸方向（第１方向）に移動させ、エネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する処理では、スリットプレート２４をＸ軸方向（第２方向）に移動させる。そのため、本変形例に係る電子顕微鏡１００では、スリットプレート２４を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の２軸で移動させる１つの移動機構２８によって、電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌの変更、およびエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置の調整を行うことができる。したがって、本変形例に係る電子顕微鏡１００では、装置構成を簡略化することができる。
本変形例に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度ＩＬに基づいてスリットプレート２４の位置を移動させて、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する工程（ステップＳ１０６ｄ）を含む。これにより、最適化された電子線輝度（高輝度）での観察や分析を行うことができる。
本変形例に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌを変更する工程（ステップＳ１２２〜ステップＳ１３２、ステップＳ１３４〜ステップＳ１４４）では、スリットプレート２４をＹ軸方向に移動させ、エネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する工
程（ステップＳ１０６ｄ）では、スリットプレート２４をＸ軸方向に移動させる。そのため、このようなモノクロメーター２０の調整方法では、スリットプレート２４を移動させることによって、電子線ＥＢが通過するエネルギー選択スリット２５−Ｌの変更と、エネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置の調整の両方を行うことができる。
２． 第２実施形態
２．１． 電子顕微鏡
次に、第２実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図７は、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００の構成を模式的に示す図である。以下、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００において、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）であった。
これに対して、電子顕微鏡２００は、走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）である。走査透過電子顕微鏡は、電子プローブで試料上を走査し、試料を透過した電子を検出して走査透過電子顕微鏡像（ＳＴＥＭ像）を得るための装置である。
電子顕微鏡２００は、電子線走査部２１０を含んで構成されている。電子線走査部２１０は、電子線ＥＢを偏向させて、集束レンズ３０および対物レンズ３４（対物レンズ３４の上部磁極３４ａ）で集束された電子線（電子プローブ）で試料上を走査する。なお、電子顕微鏡２００では、集束レンズ３０および対物レンズ３４（対物レンズ３４の上部磁極３４ａ）によって、照射レンズ系が構成されている。電子線走査部２１０は、例えば、電子線ＥＢを偏向させる走査コイルを含んで構成されている。電子線走査部２１０は、走査信号生成部（図示せず）で生成された走査信号に基づいて、電子線（電子プローブ）の走査を行う。
第２測定部６０は、電子線検出器２２２と、アンプ２２４と、を含んで構成されている。電子線検出器２２２は、電子顕微鏡２００の結像レンズ系で導かれた電子線ＥＢを検出する。なお、電子顕微鏡２００の結像レンズ系は、対物レンズ３４（対物レンズ３４の下部磁極３４ｂ）、中間レンズ３６、投影レンズ３８で構成されている。電子線検出器２２２は、入射した電子線ＥＢを光に変換するシンチレーターと、当該光を導くライトガイドと、ライトガイドで導かれた光を電気信号に変換する光電子増倍管（Ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ Ｔｕｂｅ、ＰＭＴ）と、を含んで構成されている。電子線検出器２２２で検出された検出信号（ＰＭＴカウントの情報）は、アンプ２２４で増幅されて、処理部７０に送られる。
電子線検出器２２２を用いて電子線ＥＢの検出を行う際には、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢが、エネルギー選択スリット２５を通過してから電子線検出器２２２で検出されるまでの間で遮断されないように、電子顕微鏡２００のレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離、および電子線ＥＢを偏向するための偏向コイル（図示せず）の偏向角が調整される。また、第２測定部６０において、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線の強度ＩＬを測定する際には、電子線の強度ＩＬを光電子増倍管のカウント数（ＰＭＴカウント）から常に一定の条件で比較できるように、アンプ２２４の利得が調整される。電子線検出器２２２を用いて電子線ＥＢの検出を行う際のレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離のデータ、偏向コイルの偏向角のデータ、およびアンプ２２４の利得のデータは、あらかじめ記憶部８４に記憶されている。
処理部７０では、アンプ２２４で増幅された検出信号を、走査信号に同期させて画像化
する処理が行われる。ここで、走査透過電子顕微鏡像（ＳＴＥＭ像）とは、検出信号と、走査信号とを同期させて得られた、試料上での位置に対応した信号量（電子線の強度）の分布を示す像である。このようにして、生成された画像（ＳＴＥＭ像）は、表示部８２に表示される。
スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果、および第２測定部６０の測定結果に基づいて、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する。具体的には、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果および第２測定部６０の測定結果から、上述した関係式（１）を用いて、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを求め、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５を特定する。
なお、電子顕微鏡２００では、上記式（１）におけるエネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線ＥＢの強度ＩＬは、光電子増倍管のカウント数（ＰＭＴカウント）で表される。すなわち、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線ＥＢの強度ＩＬは、第２測定部６０の測定結果に対応する。
２．２． モノクロメーターの調整方法
次に、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法について図面を参照しながら説明する。図８は、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法の一例を示すフローチャートである。以下、図８示すフローチャートにおいて、上述した図３に示す第１実施形態に係るフローチャートと同様のステップについては、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
まず、処理部７０は、オペレーターによって選択されたエネルギー分散スリット（所望のエネルギー分散スリット）２５−Ｍの情報を取得する（ステップＳ１００）。
次に、処理部７０は、現在の電子顕微鏡２００のレンズ系３０，３４，３６，３８の設定、電子線ＥＢを偏向するための偏向コイル（図示せず）の設定、およびアンプ２２４の設定を記憶部８４に保存する（ステップＳ２０２）。例えば、処理部７０は、現在の電子顕微鏡２００のレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離の情報や、電子線ＥＢを偏向するための偏向コイルの偏向角の情報、アンプ２２４の利得の情報を記憶部８４に保存する。
次に、処理部７０は、記憶部８４から、電子線検出器２２２を用いて電子線ＥＢを検出するためのレンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離のデータ、電子線ＥＢを偏向するための偏向コイル（図示せず）の偏向角のデータ、およびアンプ２２４の利得のデータを読み出す（ステップＳ２０４）。そして、処理部７０は、読み出したデータに基づいて、レンズ系３０，３４，３６，３８の焦点距離、偏向コイルの偏向角、およびアンプ２２４の利得を設定する。
次に、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ２０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５のスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。なお、本ステップＳ２０６の詳細については後述する。
次に、スリット特定部７２は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢの強度（ＰＭＴカウント）ＩＬの情報を取得する（ステップＳ２０８）。
次に、スリット特定部７２は、第１測定部５０で測定された、電子線源１０から放出された電子線の強度（放出電流量）Ｉｔの情報を取得する（ステップＳ１１０）。
次に、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果（電流量Ｉｔ）および第２測定部６０の測定結果（ＰＭＴカウントＩＬ）に基づいて、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを、関係式（１）を用いて求める（ステップＳ１１２）。
次に、スリット特定部７２は、求めたエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬから、エネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する（ステップＳ１１６）。
次に、スリット位置制御部７４は、スリット特定部７２によって特定されたエネルギー選択スリット２５−Ｌが所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍと一致するか否かを判定する（ステップＳ１１８）。
特定したエネルギー選択スリット２５−Ｌと所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致しなかった場合（ステップＳ１１８でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、Ｌ＞Ｍを満たすか否かを判定する（ステップＳ１２０）。
Ｌ＞Ｍを満たす場合（ステップＳ１２０でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１２２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２２でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２２４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ２２４で取得されたＰＭＴカウントＩＬがＩＬ＝０であるか否かの判定を行う（ステップＳ２２６）。ここで、ＩＬ＝０の場合とは、電子線ＥＢの光路が隣り合うエネルギー選択スリット２５−Ｌ，２５−（Ｌ−１）間に位置しており、電子線ＥＢがスリットプレート２４で遮断されている状態である。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ２２６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１２２）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２２４）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たすまで、ステップＳ１２２，Ｓ２２４，Ｓ２２６の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ２２６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御してスリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１２８）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２８でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２３０）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１２８で取得されたＰＭＴカウントＩＬがＩＬ＝０であるか否かの判定を行う（ステップＳ２３２）。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ２３２でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は
、再び、スリットプレート２４を−Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１２８）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２３０）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たさなくなるまで、すなわち、電子線ＥＢの光路が次のエネルギー選択スリット２５−（Ｌ−１）に位置するまで、ステップＳ１２８，Ｓ２３０，Ｓ２３２の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ２３２でＮｏの場合）、すなわち、電子線ＥＢがエネルギー選択スリット２５−（Ｌ−１）を通過した場合、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌ（Ｌ＝Ｌ−１）に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ２０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
一方、Ｌ＞Ｍを満たさない場合（ステップＳ１２０でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１３４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１３４でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２３６）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ２３６で取得したＰＭＴカウントＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ２３８）。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ２３８でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１３４）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２３６）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たすまで、ステップＳ１３４，Ｓ２３６，Ｓ２３８の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ２３８でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御してスリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させる（ステップＳ１４０）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１４０でスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２４２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ２４２で取得されたＰＭＴカウントＩＬがＩＬ＝０を満たすか否かの判定を行う（ステップＳ２４４）。
ＩＬ＝０を満たす場合（ステップＳ２４４でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、スリットプレート２４を＋Ｙ軸方向に距離ΔＹ移動させ（ステップＳ１４０）、スリットプレート２４を移動させた後の電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬの情報を取得する（ステップＳ２４２）。スリット位置制御部７４は、ＩＬ＝０を満たさなくなるまで、すなわち、電子線ＥＢの光路が次のエネルギー選択スリット２５−（Ｌ＋１）に位置するまで、ステップＳ１４０，Ｓ２４２，Ｓ２４４の処理を繰り返す。
ＩＬ＝０を満たさない場合（ステップＳ２４４でＮｏの場合）、すなわち、電子線ＥＢ
の光路がエネルギー選択スリット２５−（Ｌ＋１）に位置した場合、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５−Ｌ（Ｌ＝Ｌ＋１）に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する（ステップＳ２０６）。これにより、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
処理部７０は、エネルギー選択スリット２５−Ｌとエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致するまで（ステップＳ１１８でＮｏと判定されるまで）、上述したステップＳ２０６〜ステップＳ２４４の処理を繰り返し行う。
そして、エネルギー選択スリット２５−Ｌと所望のエネルギー選択スリット２５−Ｍとが一致した場合（ステップＳ１１８でＮｏの場合）、処理部７０は、ステップＳ２０２で記憶部８４に保存された、電子顕微鏡２００のレンズ系３０，３４，３６，３８の設定、偏向コイル（図示せず）の設定、およびアンプ２２４の設定を読み出す（ステップＳ２４６）。そして、処理部７０は、当該設定の情報に基づいて、レンズ系３０，３４，３６，３８、偏向コイル、およびアンプ２２４を設定する。これにより、電子顕微鏡２００のレンズ系３０，３４，３６，３８、偏向コイル、およびアンプ２２４を、モノクロメーター２０の調整を行う前の状態に戻すことができる。そして、処理部７０は処理を終了する。
以上の処理により、オペレーターが選択したエネルギー選択スリット２５−Ｍを電子線ＥＢの光路上に配置することができる。
次に、第２測定部６０の測定結果に基づいてエネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する処理（ステップＳ２０６）について説明する。図９は、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャートである。以下、図９示すフローチャートにおいて、上述した図４に示すフローチャートと同様のステップについては、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
まず、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ２６０）。
次に、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ増加させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６２で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ２６４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ＰＭＴカウントＩＬ１がＰＭＴカウントＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ２６６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ２６６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ２６０、ステップＳ１６２、ステップＳ２６４、ステップＳ２６６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ２６０、ステップＳ１６２、ステップＳ２６４、ステップＳ２６６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ２６６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ減少させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１６８）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６８で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ２７０）。
次に、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ減少させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７２）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１７２で電子線ＥＢの位置を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ２７４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ＰＭＴカウントＩＬ１がＰＭＴカウントＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かの判定する（ステップＳ２７６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ２７６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ２７０、ステップＳ１７２、ステップＳ２７４、ステップＳ２７６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ２７０、ステップＳ１７２、ステップＳ２７４、ステップＳ２７６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ２７６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、フィルター電源２６の出力Ｉを微小量ΔＩ増加させて、スリットプレート２４上での電子線ＥＢの位置を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７８）。
以上の処理により、エネルギー選択スリット２５−Ｌに対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整して、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
第２実施形態に係る電子顕微鏡２００では、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００と同様の作用効果を奏することができる。同様に、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法と同様の作用効果を奏することができる。
２．３． モノクロメーターの調整方法の変形例
次に、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法の変形例について図面を参照しながら説明する。図１０は、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法の変形例を示すフローチャートである。
上述した図８に示す第２実施形態に係るモノクロメーター２０の調整方法では、ステップＳ２０６において、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいて、エネルギーフィルター２２を制御して、エネルギー選択スリット２５に対する電子線ＥＢの分散方向の位置を調整した。
これに対して、図１０に示す本変形例に係るモノクロメーター２０の調整方法では、ステップＳ２０６ｄにおいて、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０の測定結果に基づいて移動機構２８を制御して、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する。
なお、図１０に示すフローチャートのその他のステップについては、図８に示すフローチャートの同じ番号を付したステップと同じであり、その説明を省略する。
図１１は、エネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整する方法の一例を示すフローチャートである。なお、図１１に示すフローチャートにおいて、上述した図６に示すフローチャートおよび図９に示すフローチャートと同様のステップについては、同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
まず、スリット位置制御部７４は、第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ２６０）。
次に、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸだけ移動させる（ステップＳ１６２ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６２ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ２６４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ＰＭＴカウントＩＬ１がＰＭＴカウントＩＬ２よりも大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ２６６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ２６６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ２６０、ステップＳ１６２ｄ、ステップＳ２６４、ステップＳ２６６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ２６０、ステップＳ１６２ｄ、ステップＳ２６４、ステップＳ２６６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ２６６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｘ軸方向に距離ΔＸだけ移動させる（ステップＳ１６８ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１６８ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ１の情報を取得する（ステップＳ２７０）。
次に、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を−Ｘ軸方向に距離ΔＸ移動させる（ステップＳ１７２ｄ）。
次に、スリット位置制御部７４は、ステップＳ１７２ｄでスリットプレート２４を移動させた後に第２測定部６０で測定された、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢのＰＭＴカウントＩＬ２の情報を取得する（ステップＳ２７４）。
次に、スリット位置制御部７４は、ＰＭＴカウントＩＬ１がＰＭＴカウントＩＬ２より
も大きい（ＩＬ１＞ＩＬ２）か否かを判定する（ステップＳ２７６）。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たさない場合（ステップＳ２７６でＮｏの場合）、スリット位置制御部７４は、再び、ステップＳ２７０、ステップＳ１７２ｄ、ステップＳ２７４、ステップＳ２７６の処理を行う。スリット位置制御部７４は、ＩＬ１＞ＩＬ２を満たすまで、ステップＳ２７０、ステップＳ１７２ｄ、ステップＳ２７４、ステップＳ２７６の処理を繰り返す。
ＩＬ１＞ＩＬ２を満たす場合（ステップＳ２７６でＹｅｓの場合）、スリット位置制御部７４は、移動機構２８を制御して、スリットプレート２４を＋Ｘ軸方向に距離ΔＸだけ移動させる（ステップＳ１７８ｄ）。
以上の処理により、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌの分散方向の位置を調整して、分散された電子線ＥＢのスペクトルの強度の中心と、エネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅方向（Ｘ軸方向）の中心と、を一致させることができる。
本変形例に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、上述した第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法と同様の作用効果を奏することができる。
３． 第３実施形態
３．１． 電子顕微鏡
次に、第３実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図１２は、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００の構成を模式的に示す図である。以下、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００において、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００および第２実施形態に係る電子顕微鏡２００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）であった。
これに対して、電子顕微鏡３００は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）である。
電子顕微鏡３００は、図１２に示すように、電子線源１０と、モノクロメーター２０と、移動機構２８と、集束レンズ３０と、対物レンズ３４と、電子線走査部２１０と、試料ステージ３２と、第１測定部５０と、第２測定部６０と、処理部７０と、操作部８０と、表示部８２と、記憶部８４と、を含む。
電子顕微鏡３００では、電子線源１０で発生した電子線ＥＢをレンズ系３０，３４で絞って電子プローブとし、電子線走査部２１０により当該電子プローブで試料表面を走査したときに電子プローブの照射点から放出される二次電子または反射電子を電子線検出器（二次電子検出器）２２２で検出して画像化する。
スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果、および第２測定部６０の測定結果に基づいて、複数のエネルギー選択スリット２５−１〜２５−Ｎのなかから電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌを特定する。具体的には、スリット特定部７２は、第１測定部５０の測定結果および第２測定部６０の測定結果から、上述した関係式（１）を用いて、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５−Ｌのスリット幅ＷＬを求め、電子線ＥＢが通過したエネルギー選択スリット２５を特定する。
なお、電子顕微鏡３００では、上記式（１）におけるエネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線ＥＢの強度ＩＬは、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢが照射されることによって試料から放出された反射電子または二次電子を電子線検出器２２２で検出したときの光電子増倍管のカウント数（ＰＭＴカウント）で表される。すなわち、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線ＥＢの強度ＩＬは、第２測定部６０の測定結果に対応する。
第２測定部６０は、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過した電子線ＥＢが照射されることによって試料から放出された二次電子または反射電子を検出してＰＭＴカウントとして出力することにより、エネルギー選択スリット２５−Ｌを通過する電子線ＥＢの強度ＩＬを間接的に測定する。
３．２． モノクロメーターの調整方法
次に、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００におけるモノクロメーター２０の調整方法について説明する。
上述した第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、第２測定部６０において、電子線検出器（光電子増倍管）２２２で、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢを検出し、光電子増倍管のカウント（ＰＭＴカウント）をエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度ＩＬとして、モノクロメーター２０の調整を行っていた。
これに対して、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、第２測定部６０において、電子線検出器（光電子増倍管）２２２で、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢが試料に照射されることによって試料から放出された二次電子の強度、または反射電子の強度を検出し、光電子増倍管のカウント（ＰＭＴカウント）をエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度ＩＬとして、モノクロメーター２０の調整を行っている。
第３実施形態に係る電子顕微鏡３００におけるモノクロメーター２０の調整方法のその他の点については、上述した図８に示す第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法と同様であり、その説明を省略する。
第３実施形態に係る電子顕微鏡３００では、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００と同様の作用効果を奏することができる。同様に、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００におけるモノクロメーター２０の調整方法では、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００におけるモノクロメーター２０の調整方法と同様の作用効果を奏することができる。
また、第２実施形態に係る電子顕微鏡２００におけるモノクロメーター２０の調整方法について適用される変形例（２．３． モノクロメーターの調整方法の変形例）は、第３実施形態に係る電子顕微鏡３００におけるモノクロメーター２０の調整方法においても同様に適用される。
４． その他の実施形態
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、上述した第１実施形態に係る電子顕微鏡１００では、第２測定部６０は、図１に示すように、ファラデーカップ６２と、ファラデーカップ６２に接続された電流計６４
と、によって、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度（電流量）を測定したが、エネルギー選択スリット２５を通過せずにスリットプレート２４で吸収された電子線ＥＢの電流量を測定し、当該測定結果からエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度（電流量）を求めてもよい。すなわち、スリットプレート２４で吸収された電子線ＥＢの電流量から間接的にエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの強度（電流量）を測定してもよい。
図１３は、電子顕微鏡１００において、スリットプレート２４で吸収された電子線ＥＢの電流量を測定するための構成を模式的に示す図である。
第２測定部６０は、図１３に示すように、電流計６４を含んで構成されている。電流計６４は、フィルター電源２６の接地電位とスリットプレート２４との間に組み込まれている。電流計６４は、エネルギー選択スリット２５を通過せずにスリットプレート２４に吸収された電子線ＥＢの電流量を測定することができる。電流計６４の測定結果は、処理部７０に送られる。
ここで、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量は、エネルギーフィルター２２からスリットプレート２４に入射する電子線ＥＢの全電流量とスリットプレート２４に吸収された電子線ＥＢの電流量との差である。そのため、スリットプレート２４に吸収された電子線ＥＢの電流量を測定することで、間接的に、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定することができる。
エネルギーフィルター２２からスリットプレート２４に入射する電子線ＥＢの全電流量は、例えば、エネルギー選択スリット２５を通過する電子線ＥＢの電流量を零、すなわち、電子線ＥＢの全部がスリットプレート２４によって遮られるようにして、スリットプレート２４に吸収された電流量を測定することで求めることができる。
スリットプレート２４に吸収された電子線ＥＢの電流量を測定することで、間接的に、エネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定することにより、例えば投影レンズ３８の後段にファラデーカップ６２を配置して電子線ＥＢの電流量を直接測定する場合（例えば図１参照）と比べて、より正確にエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定することができる。
仮に、投影レンズ３８の後段にファラデーカップ６２を配置して電流量を測定した場合、エネルギー選択スリット２５を通過してからファラデーカップ６２に到達するまでの光学系（レンズや絞り等）により電子線ＥＢがカットされて、エネルギー選択スリット２５を通過した電流量を正確に測定できない場合がある。これに対して、スリットプレート２４に吸収された電子線ＥＢの電流量から間接的にエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定した場合、このような問題が生じず、より正確にエネルギー選択スリット２５を通過した電子線ＥＢの電流量を測定することができる。
なお、上述した第２実施形態に係る電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）２００および第３実施形態に係る電子顕微鏡（ＳＥＭ）３００においても、図１３に示す変形例を同様に適用することができる。
また、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実
施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
１０…電子線源、１２…電子源、１４…電子銃電極、２０…モノクロメーター、２２…エネルギーフィルター、２４…スリットプレート、２５…エネルギー選択スリット、２６…フィルター電源、２８…移動機構、３０…集束レンズ、３２…試料ステージ、３４…対物レンズ、３４ａ…上部磁極、３４ｂ…下部磁極、３６…中間レンズ、３８…投影レンズ、４０…撮像部、５０…第１測定部、５２…電流計、６０…第２測定部、６２…ファラデーカップ、６４…電流計、７０…処理部、７２…スリット特定部、７４…スリット位置制御部、８０…操作部、８２…表示部、８４…記憶部、１００，２００…電子顕微鏡、２１０…電子線走査部、２２２…電子線検出器、２２４…アンプ、２５０…開放穴、３００…電子顕微鏡

Claims (12)

  1. 電子線を放出する電子線源と、
    前記電子線をエネルギーに応じて分散させるエネルギーフィルター、および、エネルギー分散面上に配置され、かつ前記電子線の分散方向の幅が互いに異なる複数のエネルギー選択スリットが形成されたスリットプレートを有するモノクロメーターと、
    前記モノクロメーターによって単色化された前記電子線が入射するレンズ系と、
    前記電子線源から放出された前記電子線の強度を測定する第１測定部と、
    前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度を測定する第２測定部と、
    前記第１測定部の測定結果、および前記第２測定部の測定結果に基づいて、複数の前記エネルギー選択スリットのなかから前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定するスリット特定部と、
    を含む、電子顕微鏡。
  2. 請求項１において、
    前記第２測定部で測定された前記電子線の強度をＩＬとし、前記第１測定部で測定された前記電子線の強度をＩｔとし、比例定数をαとしたときに、
    前記スリット特定部は、前記エネルギー選択スリットの幅ＷＬを、下記関係式（１）を用いて求め、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定する、電子顕微鏡。
    ＩＬ＝α・ＷＬ・Ｉｔ・・・（１）
  3. 請求項１または２において、
    前記スリットプレートの位置を移動させる移動機構と、
    前記移動機構を制御するスリット位置制御部と、
    を含み、
    前記スリット位置制御部は、
    前記スリット特定部によって特定された前記エネルギー選択スリットと所望の前記エネルギー選択スリットとが一致するか否かを判定する処理と、
    前記判定結果に基づいて前記移動機構を制御して、前記スリットプレートの位置を移動させて前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する処理と、
    を行う、電子顕微鏡。
  4. 請求項３において、
    前記スリット位置制御部は、前記第２測定部の測定結果に基づいて前記移動機構を制御して、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する処理を行う、電子顕微鏡。
  5. 請求項４において、
    複数の前記エネルギー選択スリットは、第１方向に配列され、
    各前記エネルギー選択スリットの幅は、前記第１方向と直交する第２方向の前記エネルギー選択スリットの大きさであり、
    前記スリット位置制御部は、
    前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する処理では、前記スリットプレートを前記第１方向に移動させ、
    前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する処理では、前記スリットプレートを前記第２方向に移動させる、電子顕微鏡。
  6. 請求項３において、
    前記スリット位置制御部は、前記第２測定部の測定結果に基づいて前記エネルギーフィ
    ルターを制御して、前記エネルギー選択スリットに対する前記電子線の前記分散方向の位置を調整する処理を行う、電子顕微鏡。
  7. 電子線源から放出された電子線をエネルギーに応じて分散させるエネルギーフィルター、およびエネルギー分散面上に配置され、かつ電子線の分散方向の幅が互いに異なる複数のエネルギー選択スリットが形成されたスリットプレートを有するモノクロメーターを備えた電子顕微鏡における、モノクロメーターの調整方法であって、
    前記電子線源から放出された前記電子線の強度を測定する工程と、
    前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度を測定する工程と、
    前記電子線源から放出された前記電子線の強度、および前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて、複数の前記エネルギー選択スリットのなかから前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットを特定する工程と、
    を含む、モノクロメーターの調整方法。
  8. 請求項７において、
    前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度をＩＬとし、前記電子線源から放出された前記電子線の強度をＩｔとし、比例定数をαとしたときに、
    前記エネルギー選択スリットを特定する工程では、前記エネルギー選択スリットの幅ＷＬを、下記関係式（１）を用いて求めて、前記エネルギー選択スリットを特定する、モノクロメーターの調整方法。
    ＩＬ＝α・ＷＬ・Ｉｔ・・・（１）
  9. 請求項７または８において、
    前記エネルギー選択スリットを特定する工程で特定された前記エネルギー選択スリットと所望の前記エネルギー選択スリットとが一致するか否かを判定する工程と、
    前記判定結果に基づいて前記スリットプレートの位置を移動させて、前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する工程と、
    を含む、モノクロメーターの調整方法。
  10. 請求項７ないし９のいずれか１項において、
    前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて前記スリットプレートを移動させて、前記電子線が通過した前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する工程を含む、モノクロメーターの調整方法。
  11. 請求項１０において、
    複数の前記エネルギー選択スリットは、第１方向に配列され、
    各前記エネルギー選択スリットの幅は、前記第１方向と直交する第２方向の前記エネルギー選択スリットの大きさであり、
    前記電子線が通過する前記エネルギー選択スリットを変更する工程では、前記スリットプレートを前記第１方向に移動させ、
    前記エネルギー選択スリットの前記分散方向の位置を調整する工程では、前記スリットプレートを前記第２方向に移動させる、モノクロメーターの調整方法。
  12. 請求項７ないし９のいずれか１項において、
    前記エネルギー選択スリットを通過した前記電子線の強度に基づいて前記エネルギーフィルターを制御して、前記エネルギー選択スリットに対する前記電子線の前記分散方向の位置を調整する工程を含む、モノクロメーターの調整方法。
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