JP2008536653A5 - - Google Patents

Claims (29)

1. 出力ビームを発生させるレーザ源と、
   不均一なエネルギプロファイルを有する処置ビームを提供するように前記出力ビームを変換する光学システムであって、前記処置ビームは、照射強度の低い区域にそれぞれ囲まれた複数の照射強度の高い区域を備え、前記照射強度の高い区域はコラーゲンを収縮させる第１の温度まで対象組織の選択された箇所を加熱し、前記照射強度の低い区域はコラーゲン生成を刺激するのに十分なエネルギを周辺組織に供給する光学システムとを備えた処置システム。
2. 請求項１において、前記照射強度の高い区域が前記組織を70℃以上の温度にまで加熱する処置システム。
3. 請求項１において、前記レーザ源がNd:YAGレーザを備えた処置システム。
4. 請求項１において、前記出力ビームの波長が約1.3〜1.6μｍである処置システム。
5. 請求項４において、前記出力ビームの波長が約1.40〜1.44μｍである処置システム。
6. 請求項１において、前記処置ビームが、前記対象組織部位において約7〜10ｍｍの直径を有する処置システム。
7. 請求項６において、前記処置ビームの平均フルエンスが、前記対象組織部位において約10J/cm²未満である処置システム。
8. 請求項１において、前記出力ビームが0.1〜100ｍ秒のパルス幅を有する処置システム。
9. 請求項８において、前記出力ビームが1〜5ｍ秒のパルス幅を有する処置システム。
10. 請求項１において、前記光学システムがファイバ束を備えた処置システム。
11. 請求項１０において、前記ファイバ束が1000〜2000の数のファイバを備えた処置システム。
12. 請求項１０において、前記光学システムが、前記出力ビームを前記ファイバ束の近位端に結合させる集束レンズと、前記ファイバ束の遠位端と前記対象組織との間に位置する光学窓とを備え、この光学窓により、前記ファイバ束の各ファイバから出射されるビームが対象皮膚に到達する前に発散して、各ビームが前記束の隣り合うファイバからのビームと部分的に重なり合う、処置システム。
13. 請求項１２において、前記光学窓が1〜5ｍｍの厚さである処置システム。
14. 請求項１０において、前記処置ビームの平均フルエンスが約10J/cm²未満である処置システム。
15. 請求項１０において、前記光学システムが、前記出力パルスを前記レーザ源から、前記ファイバ束を収容するハンドピースに運ぶ伝送ファイバを備えた処置システム。
16. 請求項１において、前記光学システムが、レーザ源と前記処置部位の間の光路に配置された回折レンズアレイを備え、このアレイ内の各レンズが、照射強度の低い区域に囲まれた照射強度の高い区域をそれぞれもたらす処置システム。
17. 請求項１６において、前記回折レンズアレイがアレイ内に約2000以下の数のレンズを備えた処置システム。
18. 請求項１６において、前記レンズがそれぞれ直径約150〜450μｍである処置システム。
19. 請求項１６において、前記回折レンズアレイが直径7〜10ｍｍである処置システム。
20. 請求項１９において、前記レーザ出力ビームの平均フルエンスが約10J/cm²未満である処置システム。
21. 請求項１６において、前記出力ビームのパルス幅が0.1〜100ｍ秒である処置システム。
22. 請求項１６において、前記出力ビームのパルス幅が1〜5ｍ秒である処置システム。
23. 請求項１において、さらに、
    前記光学システムを収容する先端ハウジングであって、この先端ハウジングの遠位端が、処置を受ける人の対象組織部位に接触できるようにされている先端ハウジングと、
    前記先端ハウジングに冷気を送る導管であって、前記先端ハウジングの遠位端に冷気を送るように曲げられた出口を有する導管とを備えた処置システム。
24. 出力ビームを発生させるレーザ源と、
    複数の個別のファイバを有するファイバ束であって、近位端および遠位端を有するファイバ束と、
    前記出力ビームを前記ファイバ束の近位端に結合させる集束レンズと、
    前記ファイバ束の遠位端に位置する光学窓であって、この光学窓により、前記ファイバ束の各ファイバから出射されるビームがこの光学窓を通過する際に発散されて、各ビームが前記束の隣り合うファイバからのビームと部分的に重なり合う光学窓とを備えたレーザシステム。
25. 約10 J/cm²未満の平均フルエンスを有する出力ビームを発生させるレーザ源と、
    このレーザ源と処置部位との間の光路に配置された回折レンズアレイであって、前記出力ビームがこのレンズアレイを通過する際に、照射強度の低い領域に隣接してそれぞれ囲まれた複数の照射強度の高い区域を備えた、不均一な処置ビームが生成される回折レンズアレイとを備えたレーザシステム。
26. 請求項１において、さらに、前記レーザ源と一体化されたパルス光源を備えた処置システム。
27. 請求項２６において、前記パルス光源がフラッシュランプを備えた処置システム。
28. 請求項２７において、前記フラッシュランプがキセノンフラッシュランプを備えた処置システム。
29. 約10 J/cm²未満の平均フルエンスを有する出力ビームを発生させるレーザ源と、
    このレーザ源と処置部位との間の光路に配置された回折レンズアレイであって、前記出力ビームがこのレンズアレイを通過する際に、照射強度の低い領域に隣接してそれぞれ囲まれた複数の照射強度の高い区域を備えた、不均一な処置ビームが生成される回折レンズアレイと、
    前記レーザ源と一体化されたパルス光源とを備えた処置システム。