JPH03281390A - 平版印刷用版材料 - Google Patents
平版印刷用版材料Info
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- JPH03281390A JPH03281390A JP8532690A JP8532690A JPH03281390A JP H03281390 A JPH03281390 A JP H03281390A JP 8532690 A JP8532690 A JP 8532690A JP 8532690 A JP8532690 A JP 8532690A JP H03281390 A JPH03281390 A JP H03281390A
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は平版印刷用版材料に関するものである。
詳しくは、オフセット印刷に用いる平版印刷版の非画線
部を形成する材料に関するものである。
部を形成する材料に関するものである。
(従来の技術)
従来、平版印刷用版材料とくにいわゆるPS版としては
、支持体としてアルミニウムが多く用いられ、その表面
をいわゆる砂目立て処理で粗面化し、あるいは陽極酸化
皮膜を形成させることによって保水性を与え、その保水
性化せしめられたアルミニウム表面の上に感光性物質あ
るいは導電性物質の層を形成させたものが一般に用いら
れていた。このPS版を写真フィルムを通じて露光した
り、あるいは電子写真方式で潜像を形成させた後、現像
、後処理などの工程を経て平版としたものである。光が
あたって感光性物質や光導電性物質が残った部分は親油
性の性質を有するためにインキ受理部、すなわち画線部
となる。一方現像によって露出したアルミニウム板の表
面は、親水性の性質を有しているために水受理部となり
、インキを反発し非画線部となる。
、支持体としてアルミニウムが多く用いられ、その表面
をいわゆる砂目立て処理で粗面化し、あるいは陽極酸化
皮膜を形成させることによって保水性を与え、その保水
性化せしめられたアルミニウム表面の上に感光性物質あ
るいは導電性物質の層を形成させたものが一般に用いら
れていた。このPS版を写真フィルムを通じて露光した
り、あるいは電子写真方式で潜像を形成させた後、現像
、後処理などの工程を経て平版としたものである。光が
あたって感光性物質や光導電性物質が残った部分は親油
性の性質を有するためにインキ受理部、すなわち画線部
となる。一方現像によって露出したアルミニウム板の表
面は、親水性の性質を有しているために水受理部となり
、インキを反発し非画線部となる。
このようにして作成した平版を用いてオフセット印刷を
するときは、画線部とともにアルミニウム板の露出部は
常に摩擦されて次第に摩耗する。PS版の画線部は粗面
化された表面であるため摩擦係数が大きく、場合により
アルミニウム板、とくに砂目立てしたアルミニウム板の
表面の摩耗が、画線部よりも著しいことさえある。アル
ミニウム表面が摩耗すると、親水性の機能が低下して版
の汚れを生じ、印刷できなくなるという状況が住じてい
た。従来一般的なPS版に行われていた砂目立であるい
は陽極酸化による保水性付与は長時間あるいは大電力量
を要し、特殊な大がかりな装置を必要とするという欠点
があった。また、アルミニウムは高価であるためPS版
の低価格化が困難であった。
するときは、画線部とともにアルミニウム板の露出部は
常に摩擦されて次第に摩耗する。PS版の画線部は粗面
化された表面であるため摩擦係数が大きく、場合により
アルミニウム板、とくに砂目立てしたアルミニウム板の
表面の摩耗が、画線部よりも著しいことさえある。アル
ミニウム表面が摩耗すると、親水性の機能が低下して版
の汚れを生じ、印刷できなくなるという状況が住じてい
た。従来一般的なPS版に行われていた砂目立であるい
は陽極酸化による保水性付与は長時間あるいは大電力量
を要し、特殊な大がかりな装置を必要とするという欠点
があった。また、アルミニウムは高価であるためPS版
の低価格化が困難であった。
上記のような弊害をなくすため、親水性樹脂層または保
水性樹脂層上に感光性複写層を設けた印刷原版として、
ポリメタクリル酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロ
ーズナトリウム塩などのような有機ポリアシノド重合体
層上に感光性複写層を設けることも知られているが(特
公昭34−000706号公報)、有機ポリアシッド重
合体は水溶性であるので、耐久性の優れたものは得られ
ない。
水性樹脂層上に感光性複写層を設けた印刷原版として、
ポリメタクリル酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロ
ーズナトリウム塩などのような有機ポリアシノド重合体
層上に感光性複写層を設けることも知られているが(特
公昭34−000706号公報)、有機ポリアシッド重
合体は水溶性であるので、耐久性の優れたものは得られ
ない。
さらに、親水性層として水不溶性アクリル樹脂層を用い
る方法(特公昭49−2286号公報)や水溶性酸素酸
塩を含む液中にアルミニウムを浸漬し通電処理する方法
(特開昭50−125802)も知られているが、非直
vA部の親水性が不十分なため印刷適性が悪く、また摩
耗が速いために耐剛性が不十分であった。
る方法(特公昭49−2286号公報)や水溶性酸素酸
塩を含む液中にアルミニウムを浸漬し通電処理する方法
(特開昭50−125802)も知られているが、非直
vA部の親水性が不十分なため印刷適性が悪く、また摩
耗が速いために耐剛性が不十分であった。
本発明者は先に三次元架橋しうる水系樹脂組成物および
コロイダルシリカよりなる塗料組成物を版基材に塗布し
た後硬化せしめることによってなる親水性層が単純な工
程で製造でき、安価な版基材を使用でき、印刷適性に優
れ、印刷操作を簡易化し、耐剛性に関しても実用的な水
準である事を見い出した。
コロイダルシリカよりなる塗料組成物を版基材に塗布し
た後硬化せしめることによってなる親水性層が単純な工
程で製造でき、安価な版基材を使用でき、印刷適性に優
れ、印刷操作を簡易化し、耐剛性に関しても実用的な水
準である事を見い出した。
しかしながら商業印刷など非常に多数枚の印刷を必要と
する場合にはまだ耐剛性がまだ不十分であった。
する場合にはまだ耐剛性がまだ不十分であった。
(発明が解決しようとする課題)
平版印刷版の親水性層(または保水性層)は版基材と強
固な密着性を有していることが必要であるが、版基材の
材質によっては必ずしも密着性が良いとは限らない。
固な密着性を有していることが必要であるが、版基材の
材質によっては必ずしも密着性が良いとは限らない。
またPS版は通常水、酸、アルカリ、有機溶剤、溶液等
によって現像されるが、親水性層は原理的にこれらの液
体または溶液が浸透しやすいため、そのことによって親
水性層の皮膜自体の劣化および版基材との密着性の劣化
を引き起こされる。その結果十分な耐剛性が発現しない
ことになる。
によって現像されるが、親水性層は原理的にこれらの液
体または溶液が浸透しやすいため、そのことによって親
水性層の皮膜自体の劣化および版基材との密着性の劣化
を引き起こされる。その結果十分な耐剛性が発現しない
ことになる。
本発明者は上記の種々の欠点を解決するため、親水性層
と版基材との間に一層以上のプライマー層を設けること
により親水性層の密着性を向上させることができること
を見いだし、本発明に至った。
と版基材との間に一層以上のプライマー層を設けること
により親水性層の密着性を向上させることができること
を見いだし、本発明に至った。
〔発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、版基材上に一層以上のプライマー層を設け、
該プライマー層の上に親水性層(または保水性層)を設
けてなる平版印刷用版材料である。
該プライマー層の上に親水性層(または保水性層)を設
けてなる平版印刷用版材料である。
プライマー層は上記親水性層と版基材との密着の仲立ち
をし、かつ現像液の浸透を防ぐものである。
をし、かつ現像液の浸透を防ぐものである。
プライマー層は現像液である水、酸、アルカリ、有機溶
剤、溶液等が浸透しにくく、かつ版基材との密着性が高
いものであればどのようなものでもよい。
剤、溶液等が浸透しにくく、かつ版基材との密着性が高
いものであればどのようなものでもよい。
版基材が金属等の場合、プライマー層としてはたとえば
ホルムアルデヒド樹脂系、合成ゴム系、エポキシ樹脂系
、アクリル樹脂系、シアノアクリレート系、ポリウレタ
ン系、ポリアミド系、ポリイミド系、変性ポリプロピレ
ン系、およびこれらの混合系等がある。版基材が樹脂板
またはフィルム等の場合プライマー層としてはたとえば
クロロプレンゴム系、塩素化ポリプロピレン系、アクリ
ル樹脂系、ポリエチレンイミン系、ポリエステル系、ポ
リイソシアネート系、およびこれらの混合系等がある。
ホルムアルデヒド樹脂系、合成ゴム系、エポキシ樹脂系
、アクリル樹脂系、シアノアクリレート系、ポリウレタ
ン系、ポリアミド系、ポリイミド系、変性ポリプロピレ
ン系、およびこれらの混合系等がある。版基材が樹脂板
またはフィルム等の場合プライマー層としてはたとえば
クロロプレンゴム系、塩素化ポリプロピレン系、アクリ
ル樹脂系、ポリエチレンイミン系、ポリエステル系、ポ
リイソシアネート系、およびこれらの混合系等がある。
版基材が無機材料等の場合プライマー層としてはシラン
系等がある。しかしこれらに限定されず、版基材の種類
によって種々のものを選ぶことができる。
系等がある。しかしこれらに限定されず、版基材の種類
によって種々のものを選ぶことができる。
ブライマー層形成用物質または組成物には、液状、同形
、フィルム等種々の形態がある。プライマー層を施す方
法は、ブライマー層形成用物質または組成物を塗布、熱
熔融、圧着等適当な方法で基材に施した後、適当な方法
で硬化させ皮膜とする。硬化の方法には常温放置、熱硬
化、放射線硬化、酸化硬化、湿気硬化等があるが、これ
らに限らずブライマー層形成用物質または組成物に適し
た方法をとればよい。
、フィルム等種々の形態がある。プライマー層を施す方
法は、ブライマー層形成用物質または組成物を塗布、熱
熔融、圧着等適当な方法で基材に施した後、適当な方法
で硬化させ皮膜とする。硬化の方法には常温放置、熱硬
化、放射線硬化、酸化硬化、湿気硬化等があるが、これ
らに限らずブライマー層形成用物質または組成物に適し
た方法をとればよい。
いずれにしてもそのまま放置するか、熱風炉、放射線硬
化装置等に一定時間入れておくか一定速度で通過させる
だけでもよい。版基材に応じて適当なプライマー層を選
択すれば版基材がどのようなものであっても親水性層を
強固に密着させることができる。
化装置等に一定時間入れておくか一定速度で通過させる
だけでもよい。版基材に応じて適当なプライマー層を選
択すれば版基材がどのようなものであっても親水性層を
強固に密着させることができる。
したがって耐剛性が著しく向上する。またブライマーは
必要に応じて2層以上としてもよい。
必要に応じて2層以上としてもよい。
親水性層は十分な親水性・保水性を有していて湿し水を
受理し、インキを反発することが必要である。
受理し、インキを反発することが必要である。
本発明による親水性層は、
(A)三次元架橋しうる水系樹脂組成物(B)コロイダ
ルシリカ を含み、全固形分重量に対する(B)の固形分重量比が
15〜85%である組成物を塗布し硬化せしめてなる親
水性層である。
ルシリカ を含み、全固形分重量に対する(B)の固形分重量比が
15〜85%である組成物を塗布し硬化せしめてなる親
水性層である。
コロイダルシリカとは、水ガラスの脱ナトリウム(イオ
ン交換法、酸分解法、解膠法)によって製造され、−次
粒子径が5〜1100nで、このものは通常水性分散体
として供給されており、それをそのまま使用することが
できる。該コロイダルシリカは水分散液の状態で酸性側
、塩基性側のいずれであっても使用でき酸性側のコロイ
ダルシリカ、たとえば商品名スノーテックス−Oまたは
スノーテックス−0L(口座化学工業(株)製)で市販
されている非安定化シリカ(pH2〜4)が利用できる
。一方、塩基性コロイダルシリカとしては、微量のアル
カリ金属イオン、アルミニウムイオン、アンモニウムイ
オンまたはアミンの添加によって安定化したコロイダル
シリカ(pH8,4〜10)があり、商品名スノーテッ
クス−20、スノーテックス−N1スノテツクスーC、
スノーテックス−XL、スノーテックス−YL、スノー
テックス−ZL(口座化学工業(株)製)などがある。
ン交換法、酸分解法、解膠法)によって製造され、−次
粒子径が5〜1100nで、このものは通常水性分散体
として供給されており、それをそのまま使用することが
できる。該コロイダルシリカは水分散液の状態で酸性側
、塩基性側のいずれであっても使用でき酸性側のコロイ
ダルシリカ、たとえば商品名スノーテックス−Oまたは
スノーテックス−0L(口座化学工業(株)製)で市販
されている非安定化シリカ(pH2〜4)が利用できる
。一方、塩基性コロイダルシリカとしては、微量のアル
カリ金属イオン、アルミニウムイオン、アンモニウムイ
オンまたはアミンの添加によって安定化したコロイダル
シリカ(pH8,4〜10)があり、商品名スノーテッ
クス−20、スノーテックス−N1スノテツクスーC、
スノーテックス−XL、スノーテックス−YL、スノー
テックス−ZL(口座化学工業(株)製)などがある。
コロイダルシリカは通常水性分散体として供給されてい
るので、三次元架橋してコロイダルシリカを固定させる
バインダー樹脂と混合することにより親水性層形成用塗
料組成物が得られる。有機溶剤が多く存在するとコロイ
ダルシリカの分散が不安定になるため、また引火性、作
業環境の面からも、バインダー樹脂は水系であることが
好ましい。バインダー樹脂は三次元架橋しろろ水系樹脂
組成物であればどのようなものでもよく、たとえばエポ
キシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリエステル・アルキッ
ド樹脂系、ポリアミド樹脂系、ウレタン樹脂系、ビニル
樹脂系などがあり、また必要に応じてメラミン樹脂、フ
ェノール樹脂などの架橋剤を併用することも可能である
が、これらに限定されるものではない。
るので、三次元架橋してコロイダルシリカを固定させる
バインダー樹脂と混合することにより親水性層形成用塗
料組成物が得られる。有機溶剤が多く存在するとコロイ
ダルシリカの分散が不安定になるため、また引火性、作
業環境の面からも、バインダー樹脂は水系であることが
好ましい。バインダー樹脂は三次元架橋しろろ水系樹脂
組成物であればどのようなものでもよく、たとえばエポ
キシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリエステル・アルキッ
ド樹脂系、ポリアミド樹脂系、ウレタン樹脂系、ビニル
樹脂系などがあり、また必要に応じてメラミン樹脂、フ
ェノール樹脂などの架橋剤を併用することも可能である
が、これらに限定されるものではない。
上記のようにして得た塗料組成物を適当な方法で均一に
プライマー層上に塗布した後、硬化・架橋させ皮膜とす
る。硬化の方法には熱硬化、放射線硬化、酸化硬化等が
あるが、これらに限らずバインダー樹脂系に適した方法
をとればよい。いずれにしても熱風炉、放射線硬化装置
等に一定時間入れておくか、一定速度で通過させるか、
あるいはそのまま放置するだけでよい。
プライマー層上に塗布した後、硬化・架橋させ皮膜とす
る。硬化の方法には熱硬化、放射線硬化、酸化硬化等が
あるが、これらに限らずバインダー樹脂系に適した方法
をとればよい。いずれにしても熱風炉、放射線硬化装置
等に一定時間入れておくか、一定速度で通過させるか、
あるいはそのまま放置するだけでよい。
塗料組成物中の全固形分重量に対するコロイダルシリカ
の固形分重量比は15〜85重量%の範囲が好ましい。
の固形分重量比は15〜85重量%の範囲が好ましい。
コロイダルシリカが15重量%未満では皮膜の親水性が
不十分で印刷適性が無い、一方、コロイダルシリカの固
形分重量比が85重量%を超えると均一な被膜にならな
かったり、もろい被膜となったりあるいは表面が著しく
マットになって耐剛性が著しく悪くなり、好ましくない
。
不十分で印刷適性が無い、一方、コロイダルシリカの固
形分重量比が85重量%を超えると均一な被膜にならな
かったり、もろい被膜となったりあるいは表面が著しく
マットになって耐剛性が著しく悪くなり、好ましくない
。
こうして得られた親水性層は印刷適性がよく、しかも湿
し水の供給量がごく少量でよい。また該親水性層は水に
ぬれると透明になるので湿し水を与えたときに水がのっ
ているかどうかが一目瞭然であり、平版印刷操作が容易
になる。
し水の供給量がごく少量でよい。また該親水性層は水に
ぬれると透明になるので湿し水を与えたときに水がのっ
ているかどうかが一目瞭然であり、平版印刷操作が容易
になる。
該親水性層の上に感光性樹脂層や導電性物質層等を設け
ることにより平版印刷原版が得られる。したかって版基
材上には少なくとも3層以上の層が設けられることにな
る。以後−船釣な平版印刷原版と同様の工程で製版し平
版印刷版を作製する。
ることにより平版印刷原版が得られる。したかって版基
材上には少なくとも3層以上の層が設けられることにな
る。以後−船釣な平版印刷原版と同様の工程で製版し平
版印刷版を作製する。
こうして得られた平版印刷版は耐剛性に優れ、多数枚の
印刷を必要とする場合にも版の交換をすることなく連続
して印刷を行なうことができる。
印刷を必要とする場合にも版の交換をすることなく連続
して印刷を行なうことができる。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するもので
はない。なお、実施例における「部」および「%」は、
各々重量部および重量%を表すものである。
以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するもので
はない。なお、実施例における「部」および「%」は、
各々重量部および重量%を表すものである。
(製造例1)
商品名エピコート828(油化シェルエポキシ(株)製
)2部、ポリアミド系硬化剤であるハーサミド115(
ヘンケル白水■製)3部を混合撹拌し、プライマー層形
成用組成物(A)を得た。
)2部、ポリアミド系硬化剤であるハーサミド115(
ヘンケル白水■製)3部を混合撹拌し、プライマー層形
成用組成物(A)を得た。
(製造例2)
フェノール1260部、ホルムアルデヒドの40%水溶
液1750部、苛性ソーダ30部を90°Cで3時間加
熱撹拌した。その後温度を55°Cにし、ニトリルゴム
の50%ジアセトン溶液600部を加えた。2時間後に
硫黄5部、ポリ酢酸ビニルエマルジタン(固形分40%
)12部を加え1時間撹拌してブライマー層形成用組成
物(B)を得た。
液1750部、苛性ソーダ30部を90°Cで3時間加
熱撹拌した。その後温度を55°Cにし、ニトリルゴム
の50%ジアセトン溶液600部を加えた。2時間後に
硫黄5部、ポリ酢酸ビニルエマルジタン(固形分40%
)12部を加え1時間撹拌してブライマー層形成用組成
物(B)を得た。
(製造例3)
N−メ千ロールアクリルアミド100部を過硫酸アンモ
ニウム1部を含む水400部に80″Cに保ちながら滴
下して重合し、ポリN−メチロールアクリルアミド水溶
液をえた。これに商品名ブナコールEX−830(長瀬
化成(株)製)173部を加えて水系樹脂組成物をえた
。この水系樹脂組成物とコロイダルシリカ商品名スノー
テックス−N(日量化学工業c株)製、平均粒子径10
〜20 nm)を、コロイダルシリカの固形分重量比を
50%として混合撹拌し、親水性層形成用塗料組成物を
得た。
ニウム1部を含む水400部に80″Cに保ちながら滴
下して重合し、ポリN−メチロールアクリルアミド水溶
液をえた。これに商品名ブナコールEX−830(長瀬
化成(株)製)173部を加えて水系樹脂組成物をえた
。この水系樹脂組成物とコロイダルシリカ商品名スノー
テックス−N(日量化学工業c株)製、平均粒子径10
〜20 nm)を、コロイダルシリカの固形分重量比を
50%として混合撹拌し、親水性層形成用塗料組成物を
得た。
(実施例1)
版基材として厚さ0.2mmの鋼板を用い、製造例1で
得たブライマー層形成用組成物(A)を#7のバーコー
ターにて塗布し、150°Cの熱風炉中で20分間加熱
して硬化させ、プライマー層を形成した。硬化後の皮膜
厚は108mであった。次に該プライマー層の上に製造
例3で得た親水性層形成用塗料組成物を#16のバーコ
ーターで塗布し、150°Cの熱風炉中で30分間加熱
して硬化させ、親水性層を形成した。この親水性層の上
に平版印刷版用感光性樹脂である商品名ワイプオンポジ
(光陽化学(株)製)を乾燥後の膜厚が3μmになるよ
うに塗布し、写真フィルムを通して露光し、処方にした
がって処理し、平版印刷版を作製した。これを枚葉オフ
セット印刷機に取付は印刷を行なったところ、約30万
枚まで良好な印刷物が得られた。
得たブライマー層形成用組成物(A)を#7のバーコー
ターにて塗布し、150°Cの熱風炉中で20分間加熱
して硬化させ、プライマー層を形成した。硬化後の皮膜
厚は108mであった。次に該プライマー層の上に製造
例3で得た親水性層形成用塗料組成物を#16のバーコ
ーターで塗布し、150°Cの熱風炉中で30分間加熱
して硬化させ、親水性層を形成した。この親水性層の上
に平版印刷版用感光性樹脂である商品名ワイプオンポジ
(光陽化学(株)製)を乾燥後の膜厚が3μmになるよ
うに塗布し、写真フィルムを通して露光し、処方にした
がって処理し、平版印刷版を作製した。これを枚葉オフ
セット印刷機に取付は印刷を行なったところ、約30万
枚まで良好な印刷物が得られた。
(実施例2)
版基材として厚さ0.2mmの鋼板を用い、製造例2で
得たブライマー層形成用組成物(B)を#7のバーコー
ターにて塗布し、140°Cの熱風炉中で10分間加熱
して硬化させ、プライマー層を形成した。硬化後の皮膜
厚は108mであった。以下、実施例Iと同様に親水性
層を形成した後平版印刷版を作製した。これを枚葉オフ
セット印刷機に取付は印刷を行なったところ、約50万
枚まで良好な印刷物が得られた。
得たブライマー層形成用組成物(B)を#7のバーコー
ターにて塗布し、140°Cの熱風炉中で10分間加熱
して硬化させ、プライマー層を形成した。硬化後の皮膜
厚は108mであった。以下、実施例Iと同様に親水性
層を形成した後平版印刷版を作製した。これを枚葉オフ
セット印刷機に取付は印刷を行なったところ、約50万
枚まで良好な印刷物が得られた。
(実施例3)
版基材として厚さ0.2mmの二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムヲ用い、ブライマー層形成用組成
物として分子量40000のポリエチレンイミンの5%
エタノ〜ル溶液を#16のバーコーターにて塗布し、1
30°Cの熱風炉中で1部分間加熱して硬化させプライ
マー層を形成した。硬化後の皮膜厚は7μmであった。
レフタレートフィルムヲ用い、ブライマー層形成用組成
物として分子量40000のポリエチレンイミンの5%
エタノ〜ル溶液を#16のバーコーターにて塗布し、1
30°Cの熱風炉中で1部分間加熱して硬化させプライ
マー層を形成した。硬化後の皮膜厚は7μmであった。
以下、実施例1と同様に親水性層を形成した後平版印刷
版を作製した。これを枚葉オフセット印刷機に取付は印
刷を行なったところ、約30万枚まで良好な印刷物が得
られた。
版を作製した。これを枚葉オフセット印刷機に取付は印
刷を行なったところ、約30万枚まで良好な印刷物が得
られた。
(比較例1)
版基材として厚さ0.2mm0)鋼板を用い、プライマ
ー層を設けずに、製造例3で得た親水性層形成用塗料組
成物を#16のバーコーターで塗布し、150°Cの熱
風炉中で30分間加熱して硬化させ、親水性層を形成し
た。その後ワイプオンポジを用いて実施例1と同様に平
版印刷版を作製した。これを枚葉オフセット印刷機に取
付け、印刷を行なった。約10万枚を超えると非画線部
にもインキが付くようになり、良好な印刷物が得られな
くなった。印刷機を止めて観察すると、所々で親水性層
の剥離が生していた。
ー層を設けずに、製造例3で得た親水性層形成用塗料組
成物を#16のバーコーターで塗布し、150°Cの熱
風炉中で30分間加熱して硬化させ、親水性層を形成し
た。その後ワイプオンポジを用いて実施例1と同様に平
版印刷版を作製した。これを枚葉オフセット印刷機に取
付け、印刷を行なった。約10万枚を超えると非画線部
にもインキが付くようになり、良好な印刷物が得られな
くなった。印刷機を止めて観察すると、所々で親水性層
の剥離が生していた。
(比較例2)
版基材として厚さ0.2mmの二輪延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを用い、プライマー層を設けずに
、製造例3で得た親水性層形成用塗料組成物を#16の
バーコーターで塗布し、150℃の熱風炉中で30分間
加熱して硬化させ、親水性層を形成した。その後ワイプ
オンポジを用いて実施例1と同様に平版印刷版を作製し
た。これを枚葉オフセント印刷機に取付け、印刷を行な
った。約10万枚を超えると非画線部にもインキが付く
ようになり、良好な印刷物が得られなくなった。印刷機
を止めて観察すると、所々で親水性層の剥離が生してい
た。
レフタレートフィルムを用い、プライマー層を設けずに
、製造例3で得た親水性層形成用塗料組成物を#16の
バーコーターで塗布し、150℃の熱風炉中で30分間
加熱して硬化させ、親水性層を形成した。その後ワイプ
オンポジを用いて実施例1と同様に平版印刷版を作製し
た。これを枚葉オフセント印刷機に取付け、印刷を行な
った。約10万枚を超えると非画線部にもインキが付く
ようになり、良好な印刷物が得られなくなった。印刷機
を止めて観察すると、所々で親水性層の剥離が生してい
た。
〔発明の効果]
本発明によりコロイダルシリカを含む親水性層を用いた
平版印刷版の耐剛性が著しく向上した。
平版印刷版の耐剛性が著しく向上した。
また、従来用いられていたアルミニウム板を砂目量であ
るいは陽極酸化する方法よりも簡単に、短時間で、大き
なエネルギーを使わずに平版印刷原版の非画線部を形成
することができた。
るいは陽極酸化する方法よりも簡単に、短時間で、大き
なエネルギーを使わずに平版印刷原版の非画線部を形成
することができた。
さらに、本発明によって得られる親水性層は−旦保水す
ると水分の放出が緩慢なため湿し水の供給がごく少量で
よくなった。このことにより印刷用紙への水分転嫁がほ
とんどなくなり、吸湿による紙の伸びのトラブルが解消
され、印刷精度の狂いがなくなり、また給水量の微妙な
調節が不要になった。さらに、非画線部が水にぬれると
透明になったので湿し水を与えたときに水がのっている
かどうかが一目瞭然であり、給水量の微妙な調節が不要
になったことと合わせ、平版印刷操作の簡易化をもたら
した。
ると水分の放出が緩慢なため湿し水の供給がごく少量で
よくなった。このことにより印刷用紙への水分転嫁がほ
とんどなくなり、吸湿による紙の伸びのトラブルが解消
され、印刷精度の狂いがなくなり、また給水量の微妙な
調節が不要になった。さらに、非画線部が水にぬれると
透明になったので湿し水を与えたときに水がのっている
かどうかが一目瞭然であり、給水量の微妙な調節が不要
になったことと合わせ、平版印刷操作の簡易化をもたら
した。
加えて、版基材として従来−船釣に用いられていたアル
ミニウム板にかえてもっと安価な材料をもちいてもよい
ため、平版印刷原版の低価格化に寄与する。
ミニウム板にかえてもっと安価な材料をもちいてもよい
ため、平版印刷原版の低価格化に寄与する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、版基材上に一層以上のプライマー層を設け、該プラ
イマー層の上に親水性層を設けてなることを特徴とする
平版印刷用版材料。 2、親水性層が (A)三次元架橋しうる水系樹脂組成物 (B)コロイダルシリカ を含み、全固形分重量に対する(B)の固形分重量比が
15〜85%である組成物を塗布し硬化せしめてなる親
水性層である請求項1記載の平版印刷用版材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8532690A JPH03281390A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 平版印刷用版材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8532690A JPH03281390A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 平版印刷用版材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03281390A true JPH03281390A (ja) | 1991-12-12 |
Family
ID=13855509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8532690A Pending JPH03281390A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 平版印刷用版材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03281390A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1155820A2 (en) * | 2000-05-17 | 2001-11-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
US9780518B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-10-03 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US10245107B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-04-02 | Cynosure, Inc. | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
US10434324B2 (en) | 2005-04-22 | 2019-10-08 | Cynosure, Llc | Methods and systems for laser treatment using non-uniform output beam |
US10849687B2 (en) | 2006-08-02 | 2020-12-01 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
US11418000B2 (en) | 2018-02-26 | 2022-08-16 | Cynosure, Llc | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP8532690A patent/JPH03281390A/ja active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1155820A3 (en) * | 2000-05-17 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
US6972167B2 (en) | 2000-05-17 | 2005-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
EP1155820A2 (en) * | 2000-05-17 | 2001-11-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
US10434324B2 (en) | 2005-04-22 | 2019-10-08 | Cynosure, Llc | Methods and systems for laser treatment using non-uniform output beam |
US11712299B2 (en) | 2006-08-02 | 2023-08-01 | Cynosure, LLC. | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
US10966785B2 (en) | 2006-08-02 | 2021-04-06 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
US10849687B2 (en) | 2006-08-02 | 2020-12-01 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
US11095087B2 (en) | 2012-04-18 | 2021-08-17 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US10581217B2 (en) | 2012-04-18 | 2020-03-03 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US10305244B2 (en) | 2012-04-18 | 2019-05-28 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US11664637B2 (en) | 2012-04-18 | 2023-05-30 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US9780518B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-10-03 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US12068571B2 (en) | 2012-04-18 | 2024-08-20 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
US10765478B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-09-08 | Cynosurce, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
US10285757B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-05-14 | Cynosure, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
US10245107B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-04-02 | Cynosure, Inc. | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
US11446086B2 (en) | 2013-03-15 | 2022-09-20 | Cynosure, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
US11418000B2 (en) | 2018-02-26 | 2022-08-16 | Cynosure, Llc | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
US11791603B2 (en) | 2018-02-26 | 2023-10-17 | Cynosure, LLC. | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
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