JP2000300684A - レーザ治療装置 - Google Patents
レーザ治療装置Info
- Publication number
- JP2000300684A JP2000300684A JP11112883A JP11288399A JP2000300684A JP 2000300684 A JP2000300684 A JP 2000300684A JP 11112883 A JP11112883 A JP 11112883A JP 11288399 A JP11288399 A JP 11288399A JP 2000300684 A JP2000300684 A JP 2000300684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- laser
- scanning
- spot
- order
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ光の連続照射による皮膚への熱ダメー
ジを軽減することができる装置を提供する。 【解決手段】 治療レーザ光源からのレーザ光をスポッ
ト状に形成して患部に導光照射するための導光光学系
と、導光光学系に配置され患部領域にスポット照射され
る前記レーザ光のスポット位置を走査するための走査手
段と、走査手段によるスポット位置の走査が連続して隣
り合わないように各スポット位置の照射順序を定める順
序決定手段と、順序決定手段により定められた各スポッ
ト位置の照射順序に従ってレーザ照射が行われるように
走査手段を制御する制御手段とを備える。
ジを軽減することができる装置を提供する。 【解決手段】 治療レーザ光源からのレーザ光をスポッ
ト状に形成して患部に導光照射するための導光光学系
と、導光光学系に配置され患部領域にスポット照射され
る前記レーザ光のスポット位置を走査するための走査手
段と、走査手段によるスポット位置の走査が連続して隣
り合わないように各スポット位置の照射順序を定める順
序決定手段と、順序決定手段により定められた各スポッ
ト位置の照射順序に従ってレーザ照射が行われるように
走査手段を制御する制御手段とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、治療部位に治療レ
ーザ光を照射して治療を行うレーザ治療装置に関する。
ーザ光を照射して治療を行うレーザ治療装置に関する。
【０００２】
【従来技術】従来より、皮膚にレーザ光を照射して、脱
毛、皺取り、痣取り等を行うレーザ治療装置が知られて
いる。例えば、レーザ脱毛治療は毛根周辺にレーザ光を
照射することにより、その熱エネルギが毛根部に放熱さ
れて毛根が焼灼されることにより脱毛が行われるもので
あるが、レーザ光の照射を１パルスずつ行なうような脱
毛の治療方法は時間が掛かってしまい効率が悪い。その
ため、一度に照射する領域を予め設定しておき、２枚の
駆動ミラー等を使用することによってその照射領域にレ
ーザ光のビームスポット（スポット位置）を並べるよう
に走査（スキャニング）していき、設定した照射範囲全
体をもれなく照射して効率よく脱毛が行われるようにし
ている。
毛、皺取り、痣取り等を行うレーザ治療装置が知られて
いる。例えば、レーザ脱毛治療は毛根周辺にレーザ光を
照射することにより、その熱エネルギが毛根部に放熱さ
れて毛根が焼灼されることにより脱毛が行われるもので
あるが、レーザ光の照射を１パルスずつ行なうような脱
毛の治療方法は時間が掛かってしまい効率が悪い。その
ため、一度に照射する領域を予め設定しておき、２枚の
駆動ミラー等を使用することによってその照射領域にレ
ーザ光のビームスポット（スポット位置）を並べるよう
に走査（スキャニング）していき、設定した照射範囲全
体をもれなく照射して効率よく脱毛が行われるようにし
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ビームスポットの走査は、図５に示すように、照射領域
の１ライン目の端から順番に隣へ走査し、これを順次２
ライン目、３ライン目と繰り返していくように定められ
ていた。このようなビームスポットの走査の順番である
と、最初に照射された時のビームスポットにおける熱緩
和時間（レーザ光をターゲットに照射した時、ターゲッ
ト周囲の温度分布はその直径で決まる幅を持つガウシア
ン分布となるが、その分布の中心温度が５０％に下がる
までの時間）の影響が考慮されずに隣りのスポット位置
に次のビームが照射されてしまうため、皮膚への熱ダメ
ージ（サーマルダメージ）が起こり易いという問題があ
った。
ビームスポットの走査は、図５に示すように、照射領域
の１ライン目の端から順番に隣へ走査し、これを順次２
ライン目、３ライン目と繰り返していくように定められ
ていた。このようなビームスポットの走査の順番である
と、最初に照射された時のビームスポットにおける熱緩
和時間（レーザ光をターゲットに照射した時、ターゲッ
ト周囲の温度分布はその直径で決まる幅を持つガウシア
ン分布となるが、その分布の中心温度が５０％に下がる
までの時間）の影響が考慮されずに隣りのスポット位置
に次のビームが照射されてしまうため、皮膚への熱ダメ
ージ（サーマルダメージ）が起こり易いという問題があ
った。
【０００４】本発明は、上記従来装置の欠点に鑑み、レ
ーザ光の連続照射による皮膚への熱ダメージを軽減する
ことができる装置を提供することを技術課題とする。
ーザ光の連続照射による皮膚への熱ダメージを軽減する
ことができる装置を提供することを技術課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
【０００６】（１） 治療レーザ光源からのレーザ光を
スポット状に形成して患部に導光照射するための導光光
学系と、該導光光学系に配置され患部領域にスポット照
射される前記レーザ光のスポット位置を走査するための
走査手段と、前記走査手段によるスポット位置の走査が
連続して隣り合わないように各スポット位置の照射順序
を定める順序決定手段と、該順序決定手段により定めら
れた各スポット位置の照射順序に従ってレーザ照射が行
われるように前記走査手段を制御する制御手段と、を備
えることを特徴とする。
スポット状に形成して患部に導光照射するための導光光
学系と、該導光光学系に配置され患部領域にスポット照
射される前記レーザ光のスポット位置を走査するための
走査手段と、前記走査手段によるスポット位置の走査が
連続して隣り合わないように各スポット位置の照射順序
を定める順序決定手段と、該順序決定手段により定めら
れた各スポット位置の照射順序に従ってレーザ照射が行
われるように前記走査手段を制御する制御手段と、を備
えることを特徴とする。
【０００７】（２） （１）のスポット位置とは、前記
走査手段によるレーザ光の照射位置の走査を停止させる
ことによりレーザ光がスポット照射される位置であるこ
とを特徴とする。
走査手段によるレーザ光の照射位置の走査を停止させる
ことによりレーザ光がスポット照射される位置であるこ
とを特徴とする。
【０００８】（３） （１）のレーザ治療装置におい
て、レーザ光の照射領域を可変設定する領域設定手段を
備え、前記順序決定手段は設定された照射領域に応じて
定められるレーザ光のスポット位置の分布に基づいて各
スポット位置の走査が連続して隣り合わないような規則
的な照射順序を定めることを特徴とする。
て、レーザ光の照射領域を可変設定する領域設定手段を
備え、前記順序決定手段は設定された照射領域に応じて
定められるレーザ光のスポット位置の分布に基づいて各
スポット位置の走査が連続して隣り合わないような規則
的な照射順序を定めることを特徴とする。
【０００９】（４） （３）のレーザ治療装置におい
て、前記領域設定手段により１つのライン上でスポット
位置を走査させるように設定された場合には、前記順序
決定手段は１ライン上でのスポット位置を少なくとも１
つ飛びに順次走査させるよう照射順序を定めることを特
徴とする。
て、前記領域設定手段により１つのライン上でスポット
位置を走査させるように設定された場合には、前記順序
決定手段は１ライン上でのスポット位置を少なくとも１
つ飛びに順次走査させるよう照射順序を定めることを特
徴とする。
【００１０】（５） （４）のレーザ治療装置におい
て、前記順序決定手段は１ライン上のスポット位置の数
に応じて初期照射のスポット位置を定めることを特徴と
する。
て、前記順序決定手段は１ライン上のスポット位置の数
に応じて初期照射のスポット位置を定めることを特徴と
する。
【００１１】（６） （３）のレーザ治療装置におい
て、前記領域設定手段により複数のライン上でスポット
位置を走査させるように設定された場合には、前記順序
決定手段は１つのライン上でのスポット位置を所定数の
間隔おきに順次走査させた後に次のライン上へスポット
位置を移すように照射順序を定めることを特徴とする。
て、前記領域設定手段により複数のライン上でスポット
位置を走査させるように設定された場合には、前記順序
決定手段は１つのライン上でのスポット位置を所定数の
間隔おきに順次走査させた後に次のライン上へスポット
位置を移すように照射順序を定めることを特徴とする。
【００１２】（７） （１）のレーザ治療装置におい
て、レーザ光の照射領域の形状パターンとそのサイズを
設定する領域設定手段と、レーザ照射の形状パターンと
そのサイズに応じて各スポット位置の走査が連続して隣
り合わないような規則的な照射順序が定められた照射順
序パターンを複数個記憶する記憶手段と、を備え、前記
順序決定手段は前記領域設定手段による形状パターンと
そのサイズの設定に基づいて前記記憶手段の中から照射
順序パターンを決定することを特徴とする。
て、レーザ光の照射領域の形状パターンとそのサイズを
設定する領域設定手段と、レーザ照射の形状パターンと
そのサイズに応じて各スポット位置の走査が連続して隣
り合わないような規則的な照射順序が定められた照射順
序パターンを複数個記憶する記憶手段と、を備え、前記
順序決定手段は前記領域設定手段による形状パターンと
そのサイズの設定に基づいて前記記憶手段の中から照射
順序パターンを決定することを特徴とする。
【００１３】（８） （１）の走査手段は、レーザ光を
反射する２枚のミラーと、各ミラーを揺動させるための
揺動手段とを備え、該揺動手段による２枚のミラーを個
別に揺動することにより患部領域上でレーザ光のスポッ
ト位置を２次元的に走査するレーザ走査手段であること
を特徴とする。
反射する２枚のミラーと、各ミラーを揺動させるための
揺動手段とを備え、該揺動手段による２枚のミラーを個
別に揺動することにより患部領域上でレーザ光のスポッ
ト位置を２次元的に走査するレーザ走査手段であること
を特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の形態を図面に基づいて説
明する。図１は実施の形態である脱毛用のレーザ治療装
置の外観略図を示す。
明する。図１は実施の形態である脱毛用のレーザ治療装
置の外観略図を示す。
【００１５】１００はレーザ装置本体であり、装置本体
１００内部には後述する制御部５０、脱毛用レーザ光源
１０４、エイミング光源１０５等が収納されている（図
４参照）。レーザ光源１０４は本形態ではは連続波（Ｃ
Ｗ）を出射する半導体レーザ（波長８３５ｎｍ）を使用
している。また、エイミング光源１０５は半導体レーザ
（波長６００ｎｍ）を使用している。
１００内部には後述する制御部５０、脱毛用レーザ光源
１０４、エイミング光源１０５等が収納されている（図
４参照）。レーザ光源１０４は本形態ではは連続波（Ｃ
Ｗ）を出射する半導体レーザ（波長８３５ｎｍ）を使用
している。また、エイミング光源１０５は半導体レーザ
（波長６００ｎｍ）を使用している。
【００１６】４０は照射サイズ、照射密度等のレーザ照
射条件等の各種設定条件を入力するためのコントロール
パネルである（詳しくは後述する）。１０１は装置本体
１から出射されるレーザ光を導光するための光ファイバ
ー、３０はレーザ照射口を持つハンドピースユニットで
ある。１０２はハンドピースユニット１０３内部に設置
してあるレーザ走査用のミラー３２ａ、３２ｂ（図２参
照）を駆動させるための電気信号を送るケーブル、１０
３はレーザ光を照射するためのトリガ信号を発信するた
めのフットスイッチである。
射条件等の各種設定条件を入力するためのコントロール
パネルである（詳しくは後述する）。１０１は装置本体
１から出射されるレーザ光を導光するための光ファイバ
ー、３０はレーザ照射口を持つハンドピースユニットで
ある。１０２はハンドピースユニット１０３内部に設置
してあるレーザ走査用のミラー３２ａ、３２ｂ（図２参
照）を駆動させるための電気信号を送るケーブル、１０
３はレーザ光を照射するためのトリガ信号を発信するた
めのフットスイッチである。
【００１７】図２はハンドピースユニット３０の概略構
成を示す図である。ハンドピースユニット３０内には、
光ファイバ１０１内を通過してきたレーザ光を集光する
レンズ３１ａ，レンズ３１ｂと、レーザ光を治療部位で
ＸＹ方向にスキャンさせるための駆動ミラー３２ａ，３
２ｂと、各ミラー３２ａ，３２ｂを揺動する駆動モータ
３３ａ、３３ｂを備える。レーザ装置本体１００からの
レーザ光は光ファイバ１０１を介してハンドピースユニ
ット３０に導かれ、光ファイバ１０１を出射したレーザ
光はレンズ３１ａ，レンズ３１により照射部位上で直径
４ｍｍ程度のスポット状に形成されて患部に導光され
る。
成を示す図である。ハンドピースユニット３０内には、
光ファイバ１０１内を通過してきたレーザ光を集光する
レンズ３１ａ，レンズ３１ｂと、レーザ光を治療部位で
ＸＹ方向にスキャンさせるための駆動ミラー３２ａ，３
２ｂと、各ミラー３２ａ，３２ｂを揺動する駆動モータ
３３ａ、３３ｂを備える。レーザ装置本体１００からの
レーザ光は光ファイバ１０１を介してハンドピースユニ
ット３０に導かれ、光ファイバ１０１を出射したレーザ
光はレンズ３１ａ，レンズ３１により照射部位上で直径
４ｍｍ程度のスポット状に形成されて患部に導光され
る。
【００１８】駆動モータ３３ａ、３３ｂは装置本体１０
０内に設けられたスキャナーコントローラ５１により制
御される（図４参照）。スキャナコントローラ５１は制
御信号をケーブル１０２を介してハンドピースユニット
３０に送信し、駆動モータ３３ａ及び駆動モータ３３ｂ
の回転をそれぞれ駆動制御することにより、駆動ミラー
３２ａ及び駆動ミラー３２ｂを揺動し、レーザビームの
照射のスポット位置を走査させる（走査させる）。な
お、３４は皮膚に当接させハンドピースユニット３０を
安定させるとともにレーザ光の集光距離を一定にさせる
ための位置決めガイドである。
０内に設けられたスキャナーコントローラ５１により制
御される（図４参照）。スキャナコントローラ５１は制
御信号をケーブル１０２を介してハンドピースユニット
３０に送信し、駆動モータ３３ａ及び駆動モータ３３ｂ
の回転をそれぞれ駆動制御することにより、駆動ミラー
３２ａ及び駆動ミラー３２ｂを揺動し、レーザビームの
照射のスポット位置を走査させる（走査させる）。な
お、３４は皮膚に当接させハンドピースユニット３０を
安定させるとともにレーザ光の集光距離を一定にさせる
ための位置決めガイドである。
【００１９】図３はコントロールパネル４０の構成を示
した図である。４１はモード選択スイッチであり、スキ
ャニングによるレーザ照射（SCAN）、またはスキャニン
グさせずに１点照射（BEAM）のモードを選択することが
できる。４２はレーザ照射のスキャニング形状を選択す
るための照射形状スイッチであり、スイッチの切替によ
り正方形、長方形、直線、六角形の４種類から選ぶこと
ができる。４３は照射形状スイッチ４２で選択した照射
形状の大きさを変更するための照射サイズスイッチであ
る。照射形状のサイズはそれぞれの照射形状に対して数
種類のサイズパターンが予め記憶されている。
した図である。４１はモード選択スイッチであり、スキ
ャニングによるレーザ照射（SCAN）、またはスキャニン
グさせずに１点照射（BEAM）のモードを選択することが
できる。４２はレーザ照射のスキャニング形状を選択す
るための照射形状スイッチであり、スイッチの切替によ
り正方形、長方形、直線、六角形の４種類から選ぶこと
ができる。４３は照射形状スイッチ４２で選択した照射
形状の大きさを変更するための照射サイズスイッチであ
る。照射形状のサイズはそれぞれの照射形状に対して数
種類のサイズパターンが予め記憶されている。
【００２０】４４は照射するビームスポット同士の重な
り具合（以下、照射密度と記す）を設定するための照射
密度スイッチである。照射密度スイッチ４４により照射
密度を、隣どうしのビームスポットが全く重ならずに隣
接させる照射密度となる０％をはじめ、５、１０、１
５、２０、２５，３０％の７種類から選択できる。４５
は１照射時間を１０〜１００msecの間にて５msecステッ
プで変更設定するための照射時間設定スイッチである。
４６は１回のスキャニングにてレーザ光をＯＦＦするか
否かの設定を行なうシングル設定スイッチである。４７
は設定されたレーザ照射条件を表示するモニタである。
り具合（以下、照射密度と記す）を設定するための照射
密度スイッチである。照射密度スイッチ４４により照射
密度を、隣どうしのビームスポットが全く重ならずに隣
接させる照射密度となる０％をはじめ、５、１０、１
５、２０、２５，３０％の７種類から選択できる。４５
は１照射時間を１０〜１００msecの間にて５msecステッ
プで変更設定するための照射時間設定スイッチである。
４６は１回のスキャニングにてレーザ光をＯＦＦするか
否かの設定を行なうシングル設定スイッチである。４７
は設定されたレーザ照射条件を表示するモニタである。
【００２１】次に、以上のような構成を備えるレーザ治
療装置において、その動作について図４の制御系及び光
学系（レーザ装置本体１００側のみ示している）の要部
図に基づき説明する。
療装置において、その動作について図４の制御系及び光
学系（レーザ装置本体１００側のみ示している）の要部
図に基づき説明する。
【００２２】電源を投入するとレーザ治療装置はセルフ
チェックを開始する。スキャニングによるレーザ照射を
行う場合は、セルフチェックの完了後に術者はモード選
択スイッチ４１を使用してスキャニングのモードにす
る。次に、ハンドピースユニット３０からの治療用レー
ザ光が患者の治療部位（脱毛部位）に当たるように位置
決めガイド３４を治療部付近に当接させる。
チェックを開始する。スキャニングによるレーザ照射を
行う場合は、セルフチェックの完了後に術者はモード選
択スイッチ４１を使用してスキャニングのモードにす
る。次に、ハンドピースユニット３０からの治療用レー
ザ光が患者の治療部位（脱毛部位）に当たるように位置
決めガイド３４を治療部付近に当接させる。
【００２３】ハンドピースユニット３０からはエイミン
グ光源１０５によるエイミング光が照射されるので、術
者はエイミング光の照射位置を確認しながら照射形状ス
イッチ４２、照射サイズスイッチ４３、照射密度スイッ
チ４４等を使用し、レーザ光照射条件を設定する。
グ光源１０５によるエイミング光が照射されるので、術
者はエイミング光の照射位置を確認しながら照射形状ス
イッチ４２、照射サイズスイッチ４３、照射密度スイッ
チ４４等を使用し、レーザ光照射条件を設定する。
【００２４】設定されたレーザ光照射条件の信号は制御
部５０を介してスキャナーコントローラ５１に送られ
る。スキャナーコントローラ５１は設定されたレーザ光
照射条件にしたがって制御信号を送信し、駆動モータ３
３ａ、３３ｂを駆動させ、駆動ミラー３２ａ、３２ｂを
揺動させる。このときエイミング光は前述した駆動ミラ
ー３２ａ、３２ｂの揺動により、設定された照射形状及
び照射サイズに基づいて、その輪郭形状を走査するよう
に照射される。
部５０を介してスキャナーコントローラ５１に送られ
る。スキャナーコントローラ５１は設定されたレーザ光
照射条件にしたがって制御信号を送信し、駆動モータ３
３ａ、３３ｂを駆動させ、駆動ミラー３２ａ、３２ｂを
揺動させる。このときエイミング光は前述した駆動ミラ
ー３２ａ、３２ｂの揺動により、設定された照射形状及
び照射サイズに基づいて、その輪郭形状を走査するよう
に照射される。
【００２５】術者はレーザ光照射条件の設定とエイミン
グ光の観察による照射部位の特定ができたらフットスイ
ッチ１０３を踏み込むことによりトリガ信号を発信させ
る。制御部５０は、レーザ光源１０４から治療用レーザ
光を出射させる。レーザ光源１０４を出射した治療用レ
ーザ光は、ミラー１０６、ダイクロイックミラー１０７
によって反射された後、エイミング光と同軸にされる。
エイミング光と同軸にされた後、集光レンズ１０８によ
って光ファイバー１０１に集光、入射される。光ファイ
バ１０１に入射された治療用レーザ光（及びエイミング
光）はハンドピースユニット３０に導光される。
グ光の観察による照射部位の特定ができたらフットスイ
ッチ１０３を踏み込むことによりトリガ信号を発信させ
る。制御部５０は、レーザ光源１０４から治療用レーザ
光を出射させる。レーザ光源１０４を出射した治療用レ
ーザ光は、ミラー１０６、ダイクロイックミラー１０７
によって反射された後、エイミング光と同軸にされる。
エイミング光と同軸にされた後、集光レンズ１０８によ
って光ファイバー１０１に集光、入射される。光ファイ
バ１０１に入射された治療用レーザ光（及びエイミング
光）はハンドピースユニット３０に導光される。
【００２６】また、フットスイッチ１０３からのトリガ
信号は制御部４０を介してスキャナーコントローラ５１
に入力されており、スキャナーコントローラ５１は設定
されたレーザ光照射条件にしたがって制御信号を送信
し、駆動モータ３３ａ、３３ｂを駆動させ、駆動ミラー
３２ａ、３２ｂを揺動させる。この駆動ミラー３２ａ、
３２ｂの揺動により、ハンドピースユニット３０に導光
された治療レーザ用レーザ光は設定した照射形状及び照
射サイズに基づいてスキャニングされ、患部に照射され
る。
信号は制御部４０を介してスキャナーコントローラ５１
に入力されており、スキャナーコントローラ５１は設定
されたレーザ光照射条件にしたがって制御信号を送信
し、駆動モータ３３ａ、３３ｂを駆動させ、駆動ミラー
３２ａ、３２ｂを揺動させる。この駆動ミラー３２ａ、
３２ｂの揺動により、ハンドピースユニット３０に導光
された治療レーザ用レーザ光は設定した照射形状及び照
射サイズに基づいてスキャニングされ、患部に照射され
る。
【００２７】次に、本形態のスキャニング制御によるレ
ーザ照射のスポット位置の順序について、図６〜図９を
用いて各スキャニング形状毎（照射領域の形状毎）にそ
れぞれ説明する。
ーザ照射のスポット位置の順序について、図６〜図９を
用いて各スキャニング形状毎（照射領域の形状毎）にそ
れぞれ説明する。
【００２８】まず、本形態によるスキャニング制御の説
明に先立ち、従来のレーザ治療装置における治療用（脱
毛用）レーザ光のスキャニング方法を図５により説明す
る。図５はスキャニング形状が正方形で４（ビームスポ
ット）×４（ライン）の場合のスキャニング方法を示し
た図である。図において、丸印はレーザ光が照射される
ビームスポット位置を、丸印内の数字はスキャニングの
順番を表している。また、照射密度は隣どうしのビーム
スポットが重ならない０％としている。なお、本実施の
形態のレーザ光源は連続波（CW）を出射する半導体レー
ザであるため、パルス発振のレーザと違って駆動ミラー
３２ａ、３２ｂが駆動している間もレーザ照射がされて
いるが、移動に要している時間は非常に微少であるた
め、ここでは駆動ミラー３２ａ、３２ｂが止まった時に
照射されるビームスポット位置のみ表示している。
明に先立ち、従来のレーザ治療装置における治療用（脱
毛用）レーザ光のスキャニング方法を図５により説明す
る。図５はスキャニング形状が正方形で４（ビームスポ
ット）×４（ライン）の場合のスキャニング方法を示し
た図である。図において、丸印はレーザ光が照射される
ビームスポット位置を、丸印内の数字はスキャニングの
順番を表している。また、照射密度は隣どうしのビーム
スポットが重ならない０％としている。なお、本実施の
形態のレーザ光源は連続波（CW）を出射する半導体レー
ザであるため、パルス発振のレーザと違って駆動ミラー
３２ａ、３２ｂが駆動している間もレーザ照射がされて
いるが、移動に要している時間は非常に微少であるた
め、ここでは駆動ミラー３２ａ、３２ｂが止まった時に
照射されるビームスポット位置のみ表示している。
【００２９】従来のレーザ治療装置は図５のように照射
する順番を横一列ずつ順番に走査していくため、熱によ
る皮膚へのダメージが大きくなる。具体的には、初めの
照射地点（数字の１番の位置）からすぐ隣の地点（数字
の２番の位置）に続けて照射すると、初めの照射地点に
与えられた熱の一部がその周囲に拡散している間に、す
ぐ隣の照射地点にレーザ光が照射されるため、初めの照
射地点から拡散してきた熱量に対して、さらに新たな熱
量が加わることとなる。その結果、その地点（ここでは
数字の２番の位置）に加わる熱量は、予め設定した熱量
よりも高い熱量を持つこととなるため、その地点におけ
る皮膚へのサーマルダメージが起こり易くなる。
する順番を横一列ずつ順番に走査していくため、熱によ
る皮膚へのダメージが大きくなる。具体的には、初めの
照射地点（数字の１番の位置）からすぐ隣の地点（数字
の２番の位置）に続けて照射すると、初めの照射地点に
与えられた熱の一部がその周囲に拡散している間に、す
ぐ隣の照射地点にレーザ光が照射されるため、初めの照
射地点から拡散してきた熱量に対して、さらに新たな熱
量が加わることとなる。その結果、その地点（ここでは
数字の２番の位置）に加わる熱量は、予め設定した熱量
よりも高い熱量を持つこととなるため、その地点におけ
る皮膚へのサーマルダメージが起こり易くなる。
【００３０】図６は本発明に基づいてスキャニングを行
なったときの図である。図６（ａ）はスキャニング形状
が正方形で４（ビームスポット）×４（ライン）の場
合、図６（ｂ）はスキャニング形状が正方形で５（ビー
ムスポット）×６（ライン）の場合を示している。
なったときの図である。図６（ａ）はスキャニング形状
が正方形で４（ビームスポット）×４（ライン）の場
合、図６（ｂ）はスキャニング形状が正方形で５（ビー
ムスポット）×６（ライン）の場合を示している。
【００３１】先ず、１ラインの左端のビームスポット位
置（スポット位置）から照射を開始する。次の位置は、
隣のビームスポット位置ではなく、図のように一つおき
に照射を行なう。一つのラインに対して一つおきに照射
ができなくなると、次に隣りのライン（２ライン）では
なく、一つ間をあけたライン（３ライン）から照射をす
るようにする。このときも１ラインと同じように左端か
ら照射を始め、同一ライン上で隣り合うビームスポット
位置に照射しないように照射していく。このように最初
に奇数ラインから照射を行ない、さらに同一ライン上で
は左端から一つおきに照射を初めていき、設定された照
射範囲内においてすべての奇数ラインが一つおきに照射
されると、今度は２ラインにもどり、同じように偶数ラ
インも左端から一つおきに照射を行う。
置（スポット位置）から照射を開始する。次の位置は、
隣のビームスポット位置ではなく、図のように一つおき
に照射を行なう。一つのラインに対して一つおきに照射
ができなくなると、次に隣りのライン（２ライン）では
なく、一つ間をあけたライン（３ライン）から照射をす
るようにする。このときも１ラインと同じように左端か
ら照射を始め、同一ライン上で隣り合うビームスポット
位置に照射しないように照射していく。このように最初
に奇数ラインから照射を行ない、さらに同一ライン上で
は左端から一つおきに照射を初めていき、設定された照
射範囲内においてすべての奇数ラインが一つおきに照射
されると、今度は２ラインにもどり、同じように偶数ラ
インも左端から一つおきに照射を行う。
【００３２】すべての偶数ラインが一つおきに照射され
ると、また最初に照射をした奇数ライン（１ライン）に
戻り、残っているビームスポット位置を同じように奇数
ラインから偶数ラインへと照射して、設定された照射領
域上のすべてのビームスポット位置への照射を完了させ
る。
ると、また最初に照射をした奇数ライン（１ライン）に
戻り、残っているビームスポット位置を同じように奇数
ラインから偶数ラインへと照射して、設定された照射領
域上のすべてのビームスポット位置への照射を完了させ
る。
【００３３】この他にも６×７、７×８、８×９のパタ
ーンが記憶されているが、数が増えているだけで、何れ
も同じ要領のスキャニング方法となっている。
ーンが記憶されているが、数が増えているだけで、何れ
も同じ要領のスキャニング方法となっている。
【００３４】図７は照射形状が直線のとき（４×１、５
×１、６×１のパターン）のスキャニング方法を示して
いる。照射領域形状が正方形のときと同じように、隣り
合うビームスポット位置を避けて１つおきに照射を行な
っていく。しかしながら、初めの照射地点は左端のビー
ムスポット位置ではなく、その隣のビームスポット位置
から始める。仮に左端のビームスポット位置から照射を
始めてしまった場合、例えば４×１のパターン（図７
（ａ））では２番目と３番目の照射地点が隣り合ってし
まうからである。また、この他にも６×１、７×１、８
×１のパターンがあるが、何れも同じようなスキャニン
グ方法となっている。
×１、６×１のパターン）のスキャニング方法を示して
いる。照射領域形状が正方形のときと同じように、隣り
合うビームスポット位置を避けて１つおきに照射を行な
っていく。しかしながら、初めの照射地点は左端のビー
ムスポット位置ではなく、その隣のビームスポット位置
から始める。仮に左端のビームスポット位置から照射を
始めてしまった場合、例えば４×１のパターン（図７
（ａ））では２番目と３番目の照射地点が隣り合ってし
まうからである。また、この他にも６×１、７×１、８
×１のパターンがあるが、何れも同じようなスキャニン
グ方法となっている。
【００３５】図８は照射形状が長方形（４×２、６×３
のパターン）のスキャニング方法を示している。これも
前述したように隣り合うビームスポット位置を避けて、
１つおきに照射を行なっていく。図８（ａ）のように４
×２ラインしかない場合、両ラインとも左端からスキャ
ニングを始めてしまうと、４番目と５番目の照射地点が
隣り合ってしまうため、図示のような順序にてスキャニ
ングを行なう。
のパターン）のスキャニング方法を示している。これも
前述したように隣り合うビームスポット位置を避けて、
１つおきに照射を行なっていく。図８（ａ）のように４
×２ラインしかない場合、両ラインとも左端からスキャ
ニングを始めてしまうと、４番目と５番目の照射地点が
隣り合ってしまうため、図示のような順序にてスキャニ
ングを行なう。
【００３６】図９は照射形状が六角形（４×３、６×５
のパターン）のスキャニング方法を示している。これも
前述したように１つおきに照射を行なっていく。図９
（ａ）の場合、３ラインとも左端から照射を開始してし
まうと、６番目と７番目の照射地点が隣り合ってしまう
ため、図示のような順序にてスキャニングを行なう。ま
た、この他にも７×７のパターンがあるが、同じスキャ
ニング方法となっている。
のパターン）のスキャニング方法を示している。これも
前述したように１つおきに照射を行なっていく。図９
（ａ）の場合、３ラインとも左端から照射を開始してし
まうと、６番目と７番目の照射地点が隣り合ってしまう
ため、図示のような順序にてスキャニングを行なう。ま
た、この他にも７×７のパターンがあるが、同じスキャ
ニング方法となっている。
【００３７】こうしたレーザ照射のスポットの順序は、
スキャニング形状とその大きさのパターンに応じて予め
メモリ５２に記憶されており、スキャンコントロール５
１は設定されたスキャニング形状から対応するパターン
を制御部５０を通じてメモリ５２から呼び出し、この情
報に基づいて各駆動モータ３３ａ、３３ｂを駆動制御す
る。なお、隣り合うところが無いように定められたスポ
ット位置の順番は、パターンに応じて予め定めたものを
メモリ５２に記憶しておく他、スキャニング形状とその
大きさ（さらに照射密度の設定情報）から求められるス
ポット位置の分布情報に基づき、こうした規則的な順番
の配置を制御部５０等が演算処理して定めるようにして
も良い。
スキャニング形状とその大きさのパターンに応じて予め
メモリ５２に記憶されており、スキャンコントロール５
１は設定されたスキャニング形状から対応するパターン
を制御部５０を通じてメモリ５２から呼び出し、この情
報に基づいて各駆動モータ３３ａ、３３ｂを駆動制御す
る。なお、隣り合うところが無いように定められたスポ
ット位置の順番は、パターンに応じて予め定めたものを
メモリ５２に記憶しておく他、スキャニング形状とその
大きさ（さらに照射密度の設定情報）から求められるス
ポット位置の分布情報に基づき、こうした規則的な順番
の配置を制御部５０等が演算処理して定めるようにして
も良い。
【００３８】このように、隣り合うビームスポット位
置、スキャニングラインを連続して照射をすることがな
いため、一つの照射地点（ビームスポット位置）に対し
て十分な冷却時間を与えることができる。その結果、脱
毛に必要な熱量は確保すると同時に余計な熱を加えるこ
とがないため、皮膚へのサーマルダメージが抑制でき
る。
置、スキャニングラインを連続して照射をすることがな
いため、一つの照射地点（ビームスポット位置）に対し
て十分な冷却時間を与えることができる。その結果、脱
毛に必要な熱量は確保すると同時に余計な熱を加えるこ
とがないため、皮膚へのサーマルダメージが抑制でき
る。
【００３９】以上、本実施の形態では半導体レーザを使
用しているが、これに限るものではなく、レーザの種
類、発振方法（連続波、パルス等）によらず使用するこ
とが可能である。
用しているが、これに限るものではなく、レーザの種
類、発振方法（連続波、パルス等）によらず使用するこ
とが可能である。
【００４０】また、スキャニング方法も全ての領域で隣
り合うビームスポット位置を連続して照射しないように
制御することができればこれに限るものではなく、例え
ば最初の照射地点を左端からではなく、右端からとした
り、奇数ラインからではなく偶数ラインから照射を行う
ことも可能である。
り合うビームスポット位置を連続して照射しないように
制御することができればこれに限るものではなく、例え
ば最初の照射地点を左端からではなく、右端からとした
り、奇数ラインからではなく偶数ラインから照射を行う
ことも可能である。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
隣り合うスポット位置に連続してレーザ光を照射するこ
とがないため、十分な熱緩和時間を維持し、皮膚への過
剰な熱供給を抑えてサーマルダメージを抑制することが
できる。
隣り合うスポット位置に連続してレーザ光を照射するこ
とがないため、十分な熱緩和時間を維持し、皮膚への過
剰な熱供給を抑えてサーマルダメージを抑制することが
できる。
【図１】装置の外観図である。
【図２】ハンドピースユニットの詳細を示す図である。
【図３】コントロールパネルの詳細を示す図である。
【図４】制御系及び光学系を示す要部図である。
【図５】従来のスキャニング方法を示す図である。
【図６】本発明における照射形状が正方形の場合のスキ
ャニング方法を示す図である。
ャニング方法を示す図である。
【図７】本発明における照射形状が直線の場合のスキャ
ニング方法を示す図である。
ニング方法を示す図である。
【図８】本発明における照射形状が長方形の場合のスキ
ャニング方法を示す図である。
ャニング方法を示す図である。
【図９】本発明における照射形状が六角形の場合のスキ
ャニング方法を示す図である。
ャニング方法を示す図である。
３０ ハンドピースユニット ４０ コントロールパネル ５０ 制御部 ５１ スキャナーコントローラ ５２ メモリ １００ レーザ装置本体 １０１ 光ファイバ １０２ ケーブル １０３ フットスイッチ １０４ レーザ光源 １０５ エイミング光源
Claims (8)
- 【請求項１】 治療レーザ光源からのレーザ光をスポッ
ト状に形成して患部に導光照射するための導光光学系
と、該導光光学系に配置され患部領域にスポット照射さ
れる前記レーザ光のスポット位置を走査するための走査
手段と、前記走査手段によるスポット位置の走査が連続
して隣り合わないように各スポット位置の照射順序を定
める順序決定手段と、該順序決定手段により定められた
各スポット位置の照射順序に従ってレーザ照射が行われ
るように前記走査手段を制御する制御手段と、を備える
ことを特徴とするレーザ治療装置。 - 【請求項２】 請求項１のスポット位置とは、前記走査
手段によるレーザ光の照射位置の走査を停止させること
によりレーザ光がスポット照射される位置であることを
特徴とするレーザ治療装置。 - 【請求項３】 請求項１のレーザ治療装置において、レ
ーザ光の照射領域を可変設定する領域設定手段を備え、
前記順序決定手段は設定された照射領域に応じて定めら
れるレーザ光のスポット位置の分布に基づいて各スポッ
ト位置の走査が連続して隣り合わないような規則的な照
射順序を定めることを特徴とするレーザ治療装置。 - 【請求項４】 請求項３のレーザ治療装置において、前
記領域設定手段により１つのライン上でスポット位置を
走査させるように設定された場合には、前記順序決定手
段は１ライン上でのスポット位置を少なくとも１つ飛び
に順次走査させるよう照射順序を定めることを特徴とす
るレーザ治療装置。 - 【請求項５】 請求項４のレーザ治療装置において、前
記順序決定手段は１ライン上のスポット位置の数に応じ
て初期照射のスポット位置を定めることを特徴とするレ
ーザ治療装置。 - 【請求項６】 請求項３のレーザ治療装置において、前
記領域設定手段により複数のライン上でスポット位置を
走査させるように設定された場合には、前記順序決定手
段は１つのライン上でのスポット位置を所定数の間隔お
きに順次走査させた後に次のライン上へスポット位置を
移すように照射順序を定めることを特徴とするレーザ治
療装置。 - 【請求項７】 請求項１のレーザ治療装置において、レ
ーザ光の照射領域の形状パターンとそのサイズを設定す
る領域設定手段と、レーザ照射の形状パターンとそのサ
イズに応じて各スポット位置の走査が連続して隣り合わ
ないような規則的な照射順序が定められた照射順序パタ
ーンを複数個記憶する記憶手段と、を備え、前記順序決
定手段は前記領域設定手段による形状パターンとそのサ
イズの設定に基づいて前記記憶手段の中から照射順序パ
ターンを決定することを特徴とするレーザ治療装置。 - 【請求項８】 請求項１の走査手段は、レーザ光を反射
する２枚のミラーと、各ミラーを揺動させるための揺動
手段とを備え、該揺動手段による２枚のミラーを個別に
揺動することにより患部領域上でレーザ光のスポット位
置を２次元的に走査するレーザ走査手段であることを特
徴とするレーザ治療装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11112883A JP2000300684A (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | レーザ治療装置 |
| US09/692,319 US6585725B1 (en) | 1999-04-20 | 2000-10-20 | Laser irradiation method for laser treatment and laser treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11112883A JP2000300684A (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | レーザ治療装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000300684A true JP2000300684A (ja) | 2000-10-31 |
| JP2000300684A5 JP2000300684A5 (ja) | 2004-10-28 |
Family
ID=14597920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11112883A Pending JP2000300684A (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | レーザ治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000300684A (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100649889B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2006-11-28 | 주식회사 루트로닉 | 미세 부분 박피를 위한 마이크로 레이저 빔의 조사 장치 및 조사 방법 |
| CN100391559C (zh) * | 2002-11-13 | 2008-06-04 | 吉林大学 | 光热复合前列腺治疗仪 |
| JP2008284382A (ja) * | 2000-12-28 | 2008-11-27 | Palomar Medical Technologies Inc | 患者の皮膚を治療する装置 |
| US7758621B2 (en) | 1997-05-15 | 2010-07-20 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Method and apparatus for therapeutic EMR treatment on the skin |
| US7763016B2 (en) | 1997-05-15 | 2010-07-27 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Light energy delivery head |
| US7942916B2 (en) | 2002-05-23 | 2011-05-17 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Phototreatment device for use with coolants and topical substances |
| JP2011224345A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Nidek Co Ltd | 眼科用レーザ治療装置 |
| US8182473B2 (en) | 1999-01-08 | 2012-05-22 | Palomar Medical Technologies | Cooling system for a photocosmetic device |
| JP2012196542A (ja) * | 2006-01-30 | 2012-10-18 | Photothera Inc | 脳に光線療法を施すための着装可能なデバイス |
| US8328794B2 (en) | 1996-12-02 | 2012-12-11 | Palomar Medical Technologies, Inc. | System for electromagnetic radiation dermatology and head for use therewith |
| US8346347B2 (en) | 2005-09-15 | 2013-01-01 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Skin optical characterization device |
| US8915948B2 (en) | 2002-06-19 | 2014-12-23 | Palomar Medical Technologies, Llc | Method and apparatus for photothermal treatment of tissue at depth |
| US9028536B2 (en) | 2006-08-02 | 2015-05-12 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US9780518B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-10-03 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US9919168B2 (en) | 2009-07-23 | 2018-03-20 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Method for improvement of cellulite appearance |
| US10188872B2 (en) | 2006-01-30 | 2019-01-29 | Pthera LLC | Light-emitting device and method for providing phototherapy to the brain |
| US10245107B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-04-02 | Cynosure, Inc. | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| JP2019527609A (ja) * | 2016-08-10 | 2019-10-03 | オーストラリアン インスティテュート オブ ロボティック オーソピーディクス プロプライエタリー リミテッド | ロボット支援レーザ手術システム |
| US10434324B2 (en) | 2005-04-22 | 2019-10-08 | Cynosure, Llc | Methods and systems for laser treatment using non-uniform output beam |
| US11418000B2 (en) | 2018-02-26 | 2022-08-16 | Cynosure, Llc | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
| KR20220118057A (ko) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | 김유인 | Er-glass Diode laser의 조사 알고리즘에 의한 스킨 타이트닝의 즉석 효과 유도 방법 |
| WO2022211438A1 (ko) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | 주식회사 루트로닉 | 피부 치료장치 및 이의 제어방법 |
-
1999
- 1999-04-20 JP JP11112883A patent/JP2000300684A/ja active Pending
Cited By (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8328794B2 (en) | 1996-12-02 | 2012-12-11 | Palomar Medical Technologies, Inc. | System for electromagnetic radiation dermatology and head for use therewith |
| US7758621B2 (en) | 1997-05-15 | 2010-07-20 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Method and apparatus for therapeutic EMR treatment on the skin |
| US8328796B2 (en) | 1997-05-15 | 2012-12-11 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Light energy delivery head |
| US8002768B1 (en) | 1997-05-15 | 2011-08-23 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Light energy delivery head |
| US7763016B2 (en) | 1997-05-15 | 2010-07-27 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Light energy delivery head |
| US7935107B2 (en) | 1997-05-15 | 2011-05-03 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Heads for dermatology treatment |
| US8109924B2 (en) | 1997-05-15 | 2012-02-07 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Heads for dermatology treatment |
| US8182473B2 (en) | 1999-01-08 | 2012-05-22 | Palomar Medical Technologies | Cooling system for a photocosmetic device |
| JP2009136691A (ja) * | 2000-12-28 | 2009-06-25 | Palomar Medical Technologies Inc | 皮膚の療法ｅｍｒ治療を行う装置 |
| JP2009106767A (ja) * | 2000-12-28 | 2009-05-21 | Palomar Medical Technologies Inc | 皮膚の療法ｅｍｒ治療を行う方法及び装置 |
| JP2008284382A (ja) * | 2000-12-28 | 2008-11-27 | Palomar Medical Technologies Inc | 患者の皮膚を治療する装置 |
| JP2013081794A (ja) * | 2000-12-28 | 2013-05-09 | Palomar Medical Technologies Inc | 皮膚の療法ｅｍｒ治療を行う方法及び装置 |
| US7942915B2 (en) | 2002-05-23 | 2011-05-17 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Phototreatment device for use with coolants |
| US7942916B2 (en) | 2002-05-23 | 2011-05-17 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Phototreatment device for use with coolants and topical substances |
| US8915948B2 (en) | 2002-06-19 | 2014-12-23 | Palomar Medical Technologies, Llc | Method and apparatus for photothermal treatment of tissue at depth |
| US10500413B2 (en) | 2002-06-19 | 2019-12-10 | Palomar Medical Technologies, Llc | Method and apparatus for treatment of cutaneous and subcutaneous conditions |
| US10556123B2 (en) | 2002-06-19 | 2020-02-11 | Palomar Medical Technologies, Llc | Method and apparatus for treatment of cutaneous and subcutaneous conditions |
| CN100391559C (zh) * | 2002-11-13 | 2008-06-04 | 吉林大学 | 光热复合前列腺治疗仪 |
| US10434324B2 (en) | 2005-04-22 | 2019-10-08 | Cynosure, Llc | Methods and systems for laser treatment using non-uniform output beam |
| US8346347B2 (en) | 2005-09-15 | 2013-01-01 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Skin optical characterization device |
| JP2012196542A (ja) * | 2006-01-30 | 2012-10-18 | Photothera Inc | 脳に光線療法を施すための着装可能なデバイス |
| US11179572B2 (en) | 2006-01-30 | 2021-11-23 | Pthera LLC | Light-emitting device and method for providing phototherapy to the brain |
| US10188872B2 (en) | 2006-01-30 | 2019-01-29 | Pthera LLC | Light-emitting device and method for providing phototherapy to the brain |
| KR100649889B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2006-11-28 | 주식회사 루트로닉 | 미세 부분 박피를 위한 마이크로 레이저 빔의 조사 장치 및 조사 방법 |
| US10966785B2 (en) | 2006-08-02 | 2021-04-06 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US10849687B2 (en) | 2006-08-02 | 2020-12-01 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US9028536B2 (en) | 2006-08-02 | 2015-05-12 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US11712299B2 (en) | 2006-08-02 | 2023-08-01 | Cynosure, LLC. | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US9919168B2 (en) | 2009-07-23 | 2018-03-20 | Palomar Medical Technologies, Inc. | Method for improvement of cellulite appearance |
| JP2011224345A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Nidek Co Ltd | 眼科用レーザ治療装置 |
| US11095087B2 (en) | 2012-04-18 | 2021-08-17 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US10305244B2 (en) | 2012-04-18 | 2019-05-28 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US10581217B2 (en) | 2012-04-18 | 2020-03-03 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US11664637B2 (en) | 2012-04-18 | 2023-05-30 | Cynosure, Llc | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US9780518B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-10-03 | Cynosure, Inc. | Picosecond laser apparatus and methods for treating target tissues with same |
| US10285757B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-05-14 | Cynosure, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| US10245107B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-04-02 | Cynosure, Inc. | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| US11446086B2 (en) | 2013-03-15 | 2022-09-20 | Cynosure, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| US10765478B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-09-08 | Cynosurce, Llc | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| JP2019527609A (ja) * | 2016-08-10 | 2019-10-03 | オーストラリアン インスティテュート オブ ロボティック オーソピーディクス プロプライエタリー リミテッド | ロボット支援レーザ手術システム |
| US11418000B2 (en) | 2018-02-26 | 2022-08-16 | Cynosure, Llc | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
| US11791603B2 (en) | 2018-02-26 | 2023-10-17 | Cynosure, LLC. | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
| KR20220118057A (ko) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | 김유인 | Er-glass Diode laser의 조사 알고리즘에 의한 스킨 타이트닝의 즉석 효과 유도 방법 |
| KR102557496B1 (ko) | 2021-02-18 | 2023-07-18 | 김유인 | Er-glass Diode laser의 조사 알고리즘에 의한 스킨 타이트닝 유도장치 |
| WO2022211438A1 (ko) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | 주식회사 루트로닉 | 피부 치료장치 및 이의 제어방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000300684A (ja) | レーザ治療装置 | |
| US6585725B1 (en) | Laser irradiation method for laser treatment and laser treatment apparatus | |
| US8366704B2 (en) | Optical devices and methods for selective and conventional photocoagulation of the retinal pigment epithelium | |
| US5582752A (en) | Method and apparatus for applying laser beams to a working surface, particularly for ablating tissue | |
| EP1031324B1 (en) | Laser depilation apparatus | |
| US6533776B2 (en) | Apparatus for tissue treatment | |
| JP6439271B2 (ja) | レーザ治療装置 | |
| US20210346716A1 (en) | Light treatment apparatus and method of controlling the same | |
| JP4349705B2 (ja) | 光凝固装置 | |
| JP2014068909A (ja) | 眼科用レーザ治療装置 | |
| US7214222B2 (en) | Laser depilating method and laser depilating apparatus | |
| KR20090031717A (ko) | 피부 처리용 기구 및 방법 | |
| JP7427891B2 (ja) | レーザ治療装置およびレーザ治療制御プログラム | |
| JP2001112773A (ja) | レーザ治療装置 | |
| JP4080174B2 (ja) | レーザ治療装置 | |
| WO1998025528A1 (en) | An apparatus for cosmetic tissue treatment | |
| JPH1133765A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP2019058577A (ja) | 眼科用レーザ治療装置 | |
| JPH03130703A (ja) | 光照射装置 | |
| JPH0341944A (ja) | レーザ装置 | |
| JP2004089397A (ja) | レーザ治療装置 | |
| JP4421288B2 (ja) | レーザ治療装置 | |
| JP2004121417A (ja) | レーザ治療装置 | |
| JP2003339757A (ja) | 角膜レーザ手術装置 | |
| JP2020048774A (ja) | 眼科用レーザ治療装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060123 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060201 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060403 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060606 |