JP2003178961A - 露光装置および露光方法 - Google Patents

露光装置および露光方法

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JP2003178961A JP2002235568A JP2002235568A JP2003178961A JP 2003178961 A JP2003178961 A JP 2003178961A JP 2002235568 A JP2002235568 A JP 2002235568A JP 2002235568 A JP2002235568 A JP 2002235568A JP 2003178961 A JP2003178961 A JP 2003178961A
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    • Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element

Abstract

(57)【要約】 【課題】 対象物の運動により生ずる反力及び振動が、
マスクのパターンを対象物に露光するための投影光学装
置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、
位置決め、及び、制御する露光装置及び露光方法を提供
する。 【解決手段】 本装置は、外部振動、並びに、対象物ス
テージ３０からの反力によって生ずる振動の両方を絶縁
する反作用フレーム６１を備える。対象物ステージは、
移動可能に支持されている。協働する直動型の力アクチ
ュエータが、対象物ステージ及び反作用フレームに設け
られ、対象物ステージを駆動し位置決めする。反作用フ
レームは、対象物ステージのベース２８とは独立して、
ベース構造に取り付けられ、これにより、対象物ステー
ジは、反作用フレームと独立して空間に支持される。こ
れにより、対象物ステージのベースを支持する部材に支
持された投影光学装置がアクチュエータからの反力から
絶縁され、これにより投影光学装置への振動の伝達が最
小化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に、電気機械的な
照準整合すなわちアラインメント及び振動絶縁に関し、
特に、マイクロリソグラフ装置においてウエーハを支持
及びアライメントし、その装置を、それ自身の反力及び
外部振動から絶縁するための方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】マイクロリソグラフ機器に使用される種
々の支持機構、及び、位置決め機構が知られている。従
来技術においては一般に、別個のＸガイドアセンブリ、
及び、Ｙガイドアセンブリを備えるＸＹガイドが用いら
れており、一方のガイドアセンブリが、他方のガイドア
センブリの上に運動可能に取り付けられている。上記ガ
イドアセンブリの頂部には、別個のウエーハステージが
設けられることが多い。そのような構造は、高い精度及
び多くの部品を必要とする。一般に、位置決めアセンブ
リの部品に加わる外力、及び、上記位置決めアセンブリ
のその他の部品の運動に起因する反力は、像形成光学系
及びレティクル（焦点板）を処理する機器に直接伝達さ
れ、その結果望ましくない振動を生ずる。
【０００３】米国特許第５，１２０，０３号（Ｖａｎ
Ｅｎｇｅｌｅｎ ｅｔ ａｌ．）は、光学式リソグラフ
装置用の二段階式の位置決め装置を開示しており、この
位置決め装置は、ローレンツ力及び静圧ガス軸受を用い
ている。
【０００４】米国特許第４，９５２，８５８号は、電磁
アライメント装置を用いたマイクロリトグラフ装置に関
するものであり、上記電磁アライメント装置は、モノリ
シックステージと、サブステージと、振動絶縁された基
準構造とを備えており、上記モノリシックステージとサ
ブステージとの間に設けられる力アクチュエータを用い
て、上記モノリシックステージを空間上に支持し位置決
めしている。この装置においては、Ｙフレームすなわち
Ｙステージが、Ｘフレームに取り付けられ、また、上記
モノリシックステージが、上記Ｙフレームから空間を置
いて支持されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の全体的な目的
は、対象物が運動する際に生ずる外力並びに反力の両方
を、ウエーハの対象表面上のホトレジストに露光される
像を生成するレンズ系の如き他の要素から絶縁する反作
用フレームを備えると共に、上記対象物を支持するため
のガイドレスステージを利用する方法及び装置を提供す
ることである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、一実施例を表す図面に対応付けて説明すると、ベー
ス構造（２１）上でマスク（R）のパタ−ンを投影光学
装置（１６）により対象物（ｗ）に露光する露光装置に
おいて、(a) ベース構造（２１）に取り付けられた反作
用フレーム（６１）を含む反作用フレームアセンブリ
（６１、６２）と、(b) 対象物ステージベース（２８）
に対して相対的に運動する対象物ステージ（３０）と、
(c) 反作用フレーム（６１）とは独立して対象物ステー
ジ（３０）を対象物ステージベース（２８）から間隔を
おいて支持するための手段（３６）と、(d) 投影光学装
置（１６）を支持する部分（１８、２０）と、対象物ス
テージベース（２８）を支持する部分（２２、２６、２
７、２８）とを有し、反作用フレーム（６１）とは独立
した支持手段（１８、２０、２２、２６、２７、２８）
と、(e) 対象物ステージ（３０）及び反作用フレーム
（６１）に取り付けられ、対象物ステージ（３０）を位
置決めするために一対になって協働し、力を発生する直
動型のアクチュエータ手段（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８
８）とを備え、投影光学装置（１６）が、アクチュエー
タ手段（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）からの反力から
絶縁され、これにより、投影光学装置（１６）への振動
の伝達が最小となっている。
【０００７】請求項２記載の露光装置は、マスク（R）
のパタ−ンを投影光学装置（１６）により対象物ステー
ジ（３０）に保持された対象物（ｗ）に露光する露光装
置であって、投影光学装置（１６）を支持するととも
に、対象物ステージ（３０）を移動可能に支持する水平
面を有する支持手段（１８、２０、２２、２６、２７、
２８）と、この支持手段（１８、２０、２２、２６、２
７、２８）とは独立して設けられた反作用フレーム部
（６１、６２）と、対象物ステージ（３０）に結合した
第１駆動要素（４２Ｘ，４４Ｙ）と、反作用フレーム部
（６１、６２）に結合した第２駆動要素（７８，８８）
とを有し、対象物ステージ（３０）を駆動する駆動手段
（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）と、を備えている。
【０００８】請求項３記載の露光装置は、支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）がマスク（Ｒ）を
支持している。
【０００９】請求項４記載の露光装置は、支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）がマスク（Ｒ）の
上方に設けられた集光レンズ（ＣＬ）を支持している。
【００１０】請求項５記載の露光装置は、第１駆動要素
（４２Ｘ，４４Ｙ）がコイルと磁石とのいずれか一方で
あり、第２駆動要素（７８，８８）がコイルと磁石との
いずれか他方である。
【００１１】請求項６記載の露光装置は、駆動手段（４
２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）がリニアモータである。
【００１２】請求項７記載の露光装置は、支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）が、支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）が設置される基礎
からの振動を絶縁する振動吸収アセンブリ（２０）を備
えている。
【００１３】請求項８記載の露光装置は、振動吸収アセ
ンブリ（２０）の支持面が対象物（ｗ）を保持する保持
面よりも高く、マスク（R）を保持する保持面よりも低
い。
【００１４】請求項９記載の露光装置は、対象物ステー
ジ（３０）が真空予圧型の空気軸受（３６）により水平
面上方を移動可能に支持されている。
【００１５】請求項１０記載の露光装置は、第２駆動要
素（７８，８８）は複数あり、複数の第２駆動要素（７
８，８８）はすべて反作用フレーム部（６１、６２）に
結合している。
【００１６】請求項１１記載の露光装置は、駆動手段
（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）が対象物ステージ（３
０）を投影光学装置（１６）の光軸方向と直交する第１
方向に駆動する第１駆動手段（４２Ｘ，７８）と、対象
物ステージ（３０）を光軸方向と第１方向とに直交する
第２方向に駆動する第２駆動手段（４４Ｙ，８８）とを
備えている。
【００１７】請求項１２記載の露光装置は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）の光軸方向の結合位置と第２駆動手
段（４４Ｙ，８８）の光軸方向の結合位置とは、異なる
位置である。
【００１８】請求項１３記載の露光装置は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）と第２駆動手段（４４Ｙ，８８）と
を制御して、対象物ステージ（３０）の回転方向の位置
を制御する位置制御装置（９４）を備えている。
【００１９】請求項１４記載の露光装置は、対象物ステ
ージ（３０）の自重が支持手段（１８、２０、２２、２
６、２７、２８）により支持されている。
【００２０】請求項１５記載の露光装置は、第１駆動要
素（４２X、４４Y）と第２駆動要素（７８、８８）とが
非接触である。
【００２１】請求項１６記載の露光方法は、マスク
（R）のパタ−ンを投影光学装置（１６）により対象物
ステージ（３０）に保持された対象物（ｗ）に露光する
露光方法であって、水平面を有する支持手段（１８、２
０、２２、２６、２７、２８）により対象物ステージ
（３０）を移動可能に支持するとともに、投影光学装置
（１６）を支持するステップと、支持手段（１８、２
０、２２、２６、２７、２８）とは独立して反作用フレ
ーム部（６１、６２）を設けるステップと、対象物ステ
ージ（３０）に結合した第１駆動要素（４２Ｘ，４４
Ｙ）と、反作用フレーム部（６１、６２）に結合した第
２駆動要素（７８，８８）とを有する駆動手段（４２
Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）により対象物ステージ（３
０）を駆動するステップと、を含んでいる。
【００２２】請求項１７記載の露光方法は、マスク
（Ｒ）を支持手段（１８、２０、２２、２６、２７、２
８）により支持するステップを含んでいる。
【００２３】請求項１８記載の露光方法は、マスク
（Ｒ）の上方に設けられた集光レンズ（CL）を支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）により支持す
るステップを含んでいる。
【００２４】請求項１９記載の露光方法は、第１駆動要
素（４２Ｘ，４４Ｙ）がコイルと磁石とのいずれか一方
であり、第２駆動要素（７８，８８）がコイルと磁石と
のいずれか他方である。
【００２５】請求項２０記載の露光方法は、駆動手段
（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）がリニアモータであ
る。
【００２６】請求項２１記載の露光方法は、支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）が設置される
基礎からの振動を絶縁する振動吸収アセンブリ（２０）
を支持手段（１８、２０、２２、２６、２７、２８）に
設けるステップを含んでいる。
【００２７】請求項２２記載の露光方法は、振動吸収ア
センブリ（２０）の支持面が対象物（ｗ）を保持する保
持面よりも高く、マスク（R）を保持する保持面よりも
低い。
【００２８】請求項２３記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）が真空予圧型の空気軸受（３６）により水
平面上方を移動可能に支持されている。
【００２９】請求項２４記載の露光方法は、第２駆動要
素（７８，８８）は複数あり、複数の第２駆動要素（７
８，８８）はすべて反作用フレーム部（６１、６２）に
結合している。
【００３０】請求項２５記載の露光方法は、駆動手段
（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）が対象物ステージ（３
０）を投影光学装置（１６）の光軸方向と直交する第１
方向に駆動する第１駆動手段（４２Ｘ，７８）と、対象
物ステージ（３０）を光軸方向と第１方向とに直交する
第２方向に駆動する第２駆動手段（４４Ｙ，８８）とを
備えている。
【００３１】請求項２６記載の露光方法は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）の光軸方向の結合位置と第２駆動手
段（４４Ｙ，８８）の光軸方向の結合位置とを異ならせ
るステップを含んでいる。
【００３２】請求項２７記載の露光方法は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）と第２駆動手段（４４Ｙ，８８）と
を制御して、対象物ステージ（３０）の回転方向の位置
を制御するステップを含んでいる。
【００３３】請求項２８記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）の自重が支持手段（１８、２０、２２、２
６、２７、２８）により支持されている。
【００３４】請求項２９記載の露光方法は、第１駆動要
素（４２X、４4Y）と第２駆動要素（７８、８８）とが
非接触である。
【００３５】
【発明の実施の形態】請求項１記載の露光装置は、対象
物ステージ（３０）と反作用フレーム（６１）とに取り
付けられたアクチュエータ手段（４２X、４4Y、７８、
８８）により対象物ステージ（３０）を駆動しているの
で、対象物ステージ（３０）を駆動させた際に発生する
反力は反作用フレームアセンブリ（６１、６２）に伝わ
る。このため、対象物ステージ（３０）を駆動した際に
発生する反力は支持手段（１８、２０、２２、２６、２
７、２８）に支持された投影光学装置（１６）には実質
的に伝わらない。
【００３６】請求項２記載の露光装置は、対象物ステー
ジ（３０）に結合した第１駆動要素（４２Ｘ，４４Ｙ）
と、反作用フレーム部（６１、６２）と結合した第２駆
動要素（７８，８８）とを協働させて対象物ステージ
（３０）を駆動しているので、対象物ステージ（３０）
を駆動させた際に発生する反力は反作用フレーム部（６
１、６２）に伝わる。このため、対象物ステージ（３
０）を駆動した際に発生する反力は支持手段（１８、２
０、２２、２６、２７、２８）に支持された投影光学装
置（１６）には実質的に伝わらない。
【００３７】請求項３記載の露光装置は、対象物ステー
ジ（３０）を駆動した際に発生する反力は支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）に支持されたマス
ク（Ｒ）には実質的に伝わらない。
【００３８】請求項４記載の露光装置は、対象物ステー
ジ（３０）を駆動した際に発生する反力は支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）に支持された集光
レンズ（ＣＬ）には実質的に伝わらない。
【００３９】請求項５記載の露光装置は、第１駆動要素
（４２Ｘ，４４Ｙ）がコイルの場合には、第２駆動要素
（７８，８８）が磁石となる。
【００４０】請求項６記載の露光装置は、駆動手段（４
２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）をリニアモータで構成する
ことができる。
【００４１】請求項７記載の露光装置は、振動吸収アセ
ンブリ（２０）が基礎からの振動を絶縁するので、基礎
からの振動が支持手段（１８、２０、２２、２６、２
７、２８）に支持された投影光学装置（１６）には実質
的に伝わらない。
【００４２】請求項８記載の露光装置は、振動吸収アセ
ンブリ（２０）の支持面を対象物（ｗ）を保持する保持
面よりも高くするとともに、マスク（R）を保持する保
持面よりも低くしている。
【００４３】請求項９記載の露光装置は、対象物ステー
ジ（３０）が真空予圧型の空気軸受（３６）により水平
面上方を移動可能に支持されている。
【００４４】請求項１０記載の露光装置は、複数の第２
駆動要素（７８，８８）がすべて反作用フレーム部（６
１、６２）に結合しており、支持手段（１８、２０、２
２、２６、２７、２８）には複数の第２駆動要素（７
８，８８）が設けられていない。
【００４５】請求項１１記載の露光装置は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）と第２駆動手段（４４Ｙ，８８）と
により、対象物ステージ（３０）を水平面内で駆動する
ことができる。
【００４６】請求項１２記載の露光装置は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）の光軸方向の結合位置と第２駆動手
段（４４Ｙ，８８）の光軸方向の結合位置とが異なって
いる。
【００４７】請求項１３記載の露光装置は、位置制御装
置（９４）が第１駆動手段（４２Ｘ，７８）と第２駆動
手段（４４Ｙ，８８）とを制御して、対象物ステージ
（３０）の回転方向の位置を制御している。
【００４８】請求項１４記載の露光装置は、支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）が対象物ステ
ージ（３０）の自重を支持している。
【００４９】請求項１５記載の露光装置は、第１駆動要
素（４２X、４４Y）と第２駆動要素（７８、８８）とが
接触することなく対象物ステージ（３０）駆動してい
る。
【００５０】請求項１６記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）に結合した第１駆動要素（４２Ｘ，４４
Ｙ）と、反作用フレーム部（６１、６２）と結合した第
２駆動要素（７８，８８）とを協働させて対象物ステー
ジ（３０）を駆動しているので、対象物ステージ（３
０）を駆動させた際に発生する反力は反作用フレーム部
（６１、６２）に伝わる。このため、対象物ステージ
（３０）を駆動した際に発生する反力は支持手段（１
８、２０、２２、２６、２７、２８）に支持された投影
光学装置（１６）には実質的に伝わらない。
【００５１】請求項１７記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）を駆動した際に発生する反力は支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）に支持された
マスク（Ｒ）には実質的に伝わらない。
【００５２】請求項１８記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）を駆動した際に発生する反力は支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）に支持された
集光レンズ（ＣＬ）には実質的に伝わらない。
【００５３】請求項１９記載の露光方法は、第１駆動要
素（４２Ｘ，４４Ｙ）がコイルの場合には、第２駆動要
素（７８，８８）が磁石となる。請求項２０記載の露光
方法は、駆動手段（４２Ｘ，４４Ｙ，７８，８８）をリ
ニアモータで構成することができる。
【００５４】請求項２１記載の露光方法は、振動吸収ア
センブリ（２０）が基礎からの振動を絶縁するので、基
礎からの振動が支持手段（１８、２０、２２、２６、２
７、２８）に支持された投影光学装置（１６）には実質
的に伝わらない。
【００５５】請求項２２記載の露光方法は、振動吸収ア
センブリ（２０）の支持面を対象物（ｗ）を保持する保
持面よりも高くするとともに、マスク（R）を保持する
保持面よりも低くしている。
【００５６】請求項２３記載の露光方法は、対象物ステ
ージ（３０）が真空予圧型の空気軸受（３６）により水
平面上方を移動可能に支持されている。
【００５７】請求項２４記載の露光方法は、複数の第２
駆動要素（７８，８８）がすべて反作用フレーム部（６
１、６２）に結合しており、支持手段（１８、２０、２
２、２６、２７、２８）には複数の第２駆動要素（７
８，８８）が設けられていない。
【００５８】請求項２５記載の露光方法は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）と第２駆動手段（４４Ｙ，８８）と
により、対象物ステージ（３０）を水平面内で駆動する
ことができる。
【００５９】請求項２６記載の露光方法は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）の光軸方向の結合位置と第２駆動手
段（４４Ｙ，８８）の光軸方向の結合位置とが異なって
いる。
【００６０】請求項２７記載の露光装置は、第１駆動手
段（４２Ｘ，７８）と第２駆動手段（４４Ｙ，８８）と
を制御して、対象物ステージ（３０）の回転方向の位置
を制御している。
【００６１】請求項２８記載の露光方法は、支持手段
（１８、２０、２２、２６、２７、２８）が対象物ステ
ージ（３０）の自重を支持している。
【００６２】請求項２９記載の露光方法は、第１駆動要
素（４２X、４４Y）と第２駆動要素（７８、８８）とが
接触することなく対象物ステージ（３０）駆動してい
る。
【００６３】
【実施例】本発明の装置は、対象物ステージと、ベース
に取り付けられると共に、それ自身と対象物ステージと
の間に振動が実質的に伝達されない反作用フレームと、
上記対象物を、上記反作用フレームとは独立して空間に
支持するための手段と、対象物ステージ及び反作用フレ
ームに設けられ、対象物ステージを位置決めするための
一対になって協働し、力を発生する直動型アクチュエー
タ手段とを備える。対象物ステージは、Ｚ方向において
は空間に支持された状態で、所定の方向に運動するよう
に設けることができ、あるいはＸ方向及びＹ方向に運動
するＸＹステージを構成することができる。
【００６４】本発明の効果的な特徴は、支持、位置決め
及び振動絶縁するアセンブリを提供することであり、こ
のアセンブリは、対象物又はウエーハのステージの実行
すべき位置決め機能を可能とし、その際に、反作用を受
けたステージから上記ステージ及びレンズ系に伝達され
る振動を、少ない部品で迅速に、極めて少なくし、同時
に、上記ステージに伝達される振動を最小化すると共
に、上記ステージを望ましくない反力から絶縁する。
【００６５】本発明の別の特徴によれば、ＸＹステージ
用の位置決め方法及び位置決め装置が提供され、上記Ｘ
Ｙステージは、独立して運動可能なＸ従動子及び独立し
て運動可能なＹ従動子、並びに、上記ＸＹステージと各
従動子との間に設けられて協働する、直動型の力アクチ
ュエータを備えており、これにより、いずれの従動子の
運動も、他方の従動子の運動を干渉しないようになされ
ている。
【００６６】本発明の別の特徴によれば、少なくとも１
つの従動子に一対のアームが設けられ、各々のアーム
は、駆動部材を有しており、上記アームは、対象物ステ
ージの重心の上方及び下方に隔置された平面に位置し
て、該平面の中で運動可能である。
【００６７】本発明の別の特徴によれば、上記ガイドレ
スステージは、少なくとも３つの直動型の力アクチュエ
ータを備えており、これらアクチュエータの２つは、Ｘ
方向及びＹ方向の一方に駆動し、第３のアクチュエータ
は、Ｘ方向及びＹ方向の他方に駆動する。本発明の好ま
しい実施例によれば、ガイドレスステージは、ＸＹステ
ージと反作用フレームアセンブリとの間に、少なくとも
４つの直動型アクチュエータを備え、各々のアクチュエ
ータは、ＸＹステージに設けられる駆動部材を有してお
り、これにより、一対のＸ駆動部材が、ＸＹステージを
Ｘ方向に駆動し自動制御する役割を果たし、また、一対
のＹ駆動部材が、ＸＹステージをＹ方向に駆動し自動制
御する役割を果たす。直動型アクチュエータ、及び、こ
れらの駆動部材は、協働する駆動部材の位置め力に起因
する、ＸＹステージの重心における力のモーメントのベ
クトル和が、実質的にゼロに等しくなるように、構成さ
れ、位置決めされ、制御される。
【００６８】本発明の特徴及び効果は、全体を通じて同
様の参照符号が同様の部分を示している図面を参照し
て、以下の説明を読むことにより、より明らかとなろ
う。
【００６９】振動絶縁反作用フレームを有するあるいは
有しない、ガイドレスステージは、対象物を正確に位置
決めするための多くの異なるタイプの機器に対する多く
の用途を有していることは、当業者には理解されよう
が、本発明は、ウエーハ表面のホトレジストに露光され
る像をレンズが形成する装置において、ウエーハをアラ
イメントするためのマイクロリソグラフ装置の形態の好
ましい実施例に関して説明する。また、振動絶縁ステー
ジを有するあるいは有しないガイドレスステージは、例
えば、Ｘ方向又はＹ方向の一方向にだけ運動可能な、ガ
イドレス対象物ステージとして利用することができる
が、本発明の好ましい実施例は、以下に説明するガイド
レスのＸＹウエーハステージに関して説明される。
【００７０】図面、特に図１乃至図５を参照すると、上
方の光学装置１２と、下方のウエーハ支持位置決め装置
１３とを備えるホトリソグラフ装置１０が示されてい
る。光学装置１２は、水銀ランプの如きランプＬＭＰ
と、該ランプＬＭＰを包囲する楕円面鏡ＥＭとを備える
照明器１４を備えている。照明器１４は、ハエの目型の
レンズＦＥＬの如き、二次光源像を生成するための光学
積分器と、均一化された光束でレティクル（マスク）Ｒ
を照射するための集光レンズＣＬとを備えている。マス
クＲを保持するマスクホルダＲＳＴが、投影光学装置１
６の鏡筒ＰＬの上方に取り付けられている。鏡筒ＰＬ
は、絶縁パッドすなわちブロック装置２０の頂部に各々
取り付けられた複数の剛性の高いアーム１８上に支持さ
れている、柱アセンブリの一部に固定されている。
【００７１】慣性ブロックすなわち振動吸収ブロック２
２が、アーム１８に取り付くように装置に設けられてい
る。上記ブロック２２は、重量のある構造物を輸送する
のを避けるために空の状態で輸送した後、操作現場で砂
を充填することのできる、鋳造された箱の形態を取るこ
とができる。対象物ステージすなわちウエーハステージ
のベース２８が、垂下するブロック２２、垂下するバー
２６、及び、水平バー２７によって、アーム１８から支
持されている（図２参照）。
【００７２】図５乃至図７を参照すると、対象物ステー
ジすなわちウエーハステージのベース２８の上のウエー
ハ支持位置決め装置の平面図及び立面図がそれぞれ示さ
れており、上記ウエーハ支持位置決め装置は、対象物
（ウエーハ）ＸＹステージ３０と、反作用フレームアセ
ンブリ６０とを備えている。ＸＹステージ３０は、サポ
ートプレート３２を備えており、このサポートプレート
の上には、１２インチ（３０４．８ｍｍ）ウエーハの如
きウエーハ３４が支持されている。プレート３２は、Ｚ
を調節するように、すなわち、傾斜、横転及び焦点を調
節するように制御することのできる、真空予圧型の空気
軸受３６によって、対象物ステージのベース２８の上方
の空間に支持されている。あるいは、このサポートすな
わち支持を行うためには、磁石及びコイルの組み合わせ
を採用することもできる。
【００７３】ＸＹステージ３０はまた、直動型の駆動モ
ータの如き磁気的な結合手段から成る適宜な要素も備え
ており、この要素は、ウエーハを、光学装置１６のレン
ズにアライメントさせ、ウエーハの表面のホトレジスト
を露光するための像を正確に位置決めする。図示の実施
例においては、磁気的な結合手段は、ＸＹステージ３０
をＸ方向において位置決めするための、Ｘ駆動コイル４
２Ｘ、４２Ｘ’の如き一対のＸ駆動部材と、ＸＹステー
ジ３０をＹ方向において位置決めするための、駆動コイ
ル４４Ｙ、４４Ｙ’の如き一対のＹ駆動部材とから成る
形態を取る。反作用フレームアセンブリ６０の上の磁気
的な結合手段の関連する部分は、後に詳細に説明する。
【００７４】ＸＹステージ３０は、一対のレーザミラー
３８Ｘ、３８Ｙを備えており、上記レーザミラー３８Ｘ
は、レーザ光線干渉計装置９２の一対のレーザ光線４０
Ａ／４０Ａ’に対して動作し、また、上記レーザミラー
３８Ｙは、上記干渉計装置の一対のレーザ光線４０Ｂ／
４０Ｂ’に対して動作し、投影光学装置１６の鏡筒ＰＬ
の下方部にある固定ミラーＲＭＸに対して、上記ＸＹス
テージの正確なＸＹ位置を決定し且つ制御する。
【００７５】図８及び図９を参照すると、反作用フレー
ムアセンブリ６０は、複数のサポートポスト６２を有す
る反作用フレーム６１を備えており、上記サポートポス
トは、このサポートポストと対象物ステージとの間に振
動が実質的に伝達されないように、地面又は別個のベー
スに取り付けられている。
【００７６】反作用フレーム６１は、サポートポスト６
２の間でＸ方向に伸長する面プレート６４Ｘ、６４Ｘ’
と、サポートポストの間でＹ方向に伸長する面プレート
６６Ｙ、６６Ｙ’とを備えている。面プレート６４ー６
６の内側には、複数の反作用フレームのレール６７−６
９および６７’−６９’が設けられ、Ｘ従動子７２及び
Ｙ従動子８２を支持して案内している。面プレート６４
Ｘの内側には、上方の従動子ガイドレール６７、及び、
下方の従動子ガイドレール６８（図示せず）が設けられ
ており、反対側の面プレート６４Ｘ’の内側面には、上
方及び下方の従動子ガイドレール６７’、６８’が設け
られている。各々の面プレート６６Ｙ、６６Ｙ’の内側
面には、ガイドレール６７、６８の間で垂直方向に配置
された、単一のガイドレール６９、６９’がそれぞれ設
けられている。
【００７７】Ｘ従動子は、隔置された一対のアーム７
４、７４’を備えており、これらアームの一端部は、横
材７６に固定されている。駆動トラック７８、７８’
（図５参照）の如き駆動要素が、アーム７４、７４’に
それぞれ設けられ、ＸＹステージの駆動要素４２Ｘ、４
２Ｘ’と協働するようになされている。図示の実施例に
おいては、ＸＹステージの上の駆動要素４２Ｘ、４２
Ｘ’は、駆動コイルとして示されているので、Ｘ従動子
７２の上の駆動トラックは、磁石の形態を取っている。
又、結合要素を逆転させ、コイルをＸ従動子の上にもう
け、磁石をＸＹステージの上に設けることもできる。Ｘ
Ｙステージが、Ｘ及びＹ方向に駆動される際に、レーザ
干渉計装置９２は、ＸＹステージのその新しい位置を瞬
時に検出し、位置情報（Ｘ座標の値）を発生する。図１
０を参照して後に詳細に説明するように、ホストプロセ
ッサ（ＣＰＵ）９６に制御されるサーボ型の位置制御装
置９４が、干渉計装置９２からの位置情報に応じて、Ｘ
従動子７２及びＹ従動子８２の位置を制御し、駆動コイ
ル４２Ｘ、４２Ｘ’とトラック７４、７４’との間を機
械的結合することなく、ＸＹステージ３０に追従する。
【００７８】Ｘ従動子７２を反作用フレーム６１に運動
可能に取り付けるために、反作用フレーム６１の側にあ
るアーム７４、７４’の端部は、レール６９の上に乗っ
て案内され、アーム７４、７４’の反対側の端部は、面
プレート６６Ｙ’に隣接するレール６９’に乗ってい
る。Ｘ従動子７２を動かすために、駆動部材７７が、横
材７６の上に設けられ、反作用フレームガイド６９と協
働して、ＸＹステージのＸ方向に対して直交する方向
に、従動子７２を動かす。ＸＹステージ３０で正確な制
御及び駆動が行われるので、Ｘ従動子７２の位置決め制
御は、ＸＹステージ３０程には、正確である必要はな
く、又ＸＹステージ程には、厳密な公差及びエアギャッ
プを設ける必要はない。従って、駆動機構７７は、モー
タによって回転されるネジ軸、及び、Ｘ従動子７２に係
合されるナットの組み合わせ、あるいは、リニアモータ
を形成するコイルアセンブリ及び磁石アセンブリの組み
合わせとすることができ、上記各々の組み合わせは、ロ
ーラガイド機構と更に組み合わせることができる。
【００７９】Ｘ従動子７２と同様に、Ｙ従動子８２は、
その一端部が横材８６に固定された一対のアーム８４、
８４’を備えており、これらアームは、Ｙ駆動部材４４
Ｙ、４４Ｙ’と協働するトラック８８、８８’を有して
いる。Ｙ従動子８２のアーム８４、８４’は、別々のガ
イドレールの上で案内される。アーム８４の両端部は、
上方のレール６７、６７’の上に乗って案内され、ま
た、アーム８４’の両端部は、下方のレール６８、６
８’の上で案内される。駆動機構８７は、Ｙ従動子８２
の横材８６に設けられ、Ｙ従動子８２を、面プレート６
６Ｙと６６Ｙ’との間で、ガイド６７、６７’、及び、
６８、６８’に沿って、ＸＹステージのＹ方向に直交す
る方向に動かす。
【００８０】図９に最も良く示すように、Ｘ従動子７２
のアーム７４、７４’及び横材７６’は総て、Ｚ軸線と
直交する同一の平面において配置され、動く。ＸＹステ
ージ３０の重心は、上記平面の中にあるか、又は、該平
面に直ぐ隣接している。この構造においては、各々の駆
動コイル４２Ｘ、４２Ｘ’からの駆動力は、アーム７
４、７４’の長さにそれぞれ沿う方向に働く。しかしな
がら、Ｙ従動子８２のアーム８４、８４’は、Ｚ軸線に
沿って互いに隔置され、それぞれは、Ｘ従動子７２を含
む平面の上方及び下方にありかつ、この平面に平行な別
々の平行な平面の中にあってその平面の中で動く。好ま
しい実施例においては、横材８６は、アーム８４’を含
む下方の平面の中にあり、スペーサブロック８６’が、
アーム８４及び横材８６の重なり合う端部の間に位置
し、アーム８４、８４’をそれぞれの平行な平面に隔置
している。Ｘ従動子７２と同様に、各々の駆動コイル４
４Ｙ、４４Ｙ’からの駆動力は、アーム８４、８４’の
長さに沿う方向に働く。また、駆動コイル４４Ｙ（４４
Ｙ’）と駆動トラック８８（８８’）との間で、Ｘ方向
及びＺ方向に所定のギャップが維持され、ガイドレスの
概念を達成している。
【００８１】本発明のガイドレスステージ、及び、振動
絶縁型の反作用フレームが作動する際には、ＸＹステー
ジ３０が、干渉計装置９２によって検知された、投影レ
ンズに対する初期位置に位置決めされ、ＸＹステージ３
０は、駆動トラック７８、７８’、８８、８８’の構成
による駆動要素から駆動コイル４２Ｘ、４２Ｘ’、４４
Ｙ、４４Ｙ’が隔置された状態で空気軸受によって、対
象物ステージのベース２８から、Ｚ方向に支持される。
ＸＹステージ３０と反作用フレーム６１との間には、接
触は全くない。すなわち、反作用フレームの振動が伝わ
って、ＸＹステージの位置に影響を与える経路、あるい
は、その反対の経路は全く存在しない。信号をコイルに
送る伝達手段、並びに、レーザ干渉計の位置検知装置を
介する間接的な接触が存在するだけであり、上記位置検
知装置は、検知した位置情報をコントローラすなわち制
御装置へ送り、該制御装置は、ＸＹステージ３０の運動
を生じさせる駆動信号を開始する他のコマンドを受け取
る。
【００８２】干渉計装置９２からのＸＹステージの位置
が分かると、駆動信号が、位置制御装置９４から、適当
な駆動コイル４２Ｘ、４２Ｘ’、４４Ｙ、４４Ｙ’に送
られ、ＸＹステージを新しい所望の位置へ駆動する。Ｘ
Ｙステージの運動は、干渉計装置９２及び位置センサ９
８Ｘ、９８Ｙ（図１０参照）によって検知され、Ｘ従動
子７２及びＹ従動子８２は、それぞれ駆動部材７７、８
７によって駆動され、ＸＹステージに追従する。図１０
に示すように、位置センサ９８Ｘは、ＸＹステージ３０
とＸ従動子７２との間のＹ方向の間隔の変動を検知し、
その間隔の値を表す電気信号を位置制御装置９４へ送
る。位置制御装置９４は、干渉計装置９２からのＸ位
置、並びに、位置センサ９８Ｘからの信号に基づき、駆
動部材７７に関する適正な駆動信号を発生する。
【００８３】また、位置センサ９８Ｙは、ＸＹステージ
３０とＹ従動子８２との間のＸ方向の間隔の変動を検知
し、その間隔の値を表す電気信号を発生し、駆動部材８
７が、干渉計装置９２からのＹ位置の情報、並びに、位
置センサ９８Ｙからの信号に基づき、駆動される。
【００８４】ヨー角度補正はヨー角度を維持あるいは補
正するために使用できる、モータ対によって行われる。
すなわち、上記モータ対は、ＸＹステージの回転方向の
位置を変更することができる。レーザ光線４０Ａ／４０
Ａ’及び４０Ｂ／４０Ｂ’の一方又は両方からのデータ
が、ヨー角度情報を得るために使用される。レーザ光線
４０Ａ、４０Ａ’あるいは４０Ｂ、４０Ｂ’を用いた測
定から得たデジタル位置データの電子的な減算を実行す
るか、あるいは、両者の差分を加えて２で割る。
【００８５】本発明は、ＸＹガイドを用いた場合より
も、より迅速にＸＹステージの位置決め機能を実行する
ことを可能とする。ＸＹステージが動く際に生ずる反力
は、像形成光学系及びレティクル処理機構機器から分離
される。
【００８６】本発明は、ガイドされるステージに比較し
て、正確なＸガイド又はＹガイドを全く必要とせず、精
密なガイドがないので、ウエーハのＸＹステージの精密
な組み立て及び調節の操作が減少する。ＸＹ軸線におけ
るリニアモータの力が、ウエーハのステージに直接作用
する、つまり上記リニアモータは、ガイド装置を介して
作用する必要がないので、サーボの制御帯域幅が増大す
る。
【００８７】ＸＹリニアモータからの力は総て、実質的
にＸＹステージの重心を通して伝達させることができ、
これにより、望ましくない力のモーメント（トルク）を
排除する。
【００８８】互いに完全に独立して備えられ且つ作動す
るＸ従動子７２及びＹ従動子８２を用いて、各々の従動
子７２、８２とＸＹステージ３０との間の磁気カップリ
ングとして商業的に入手可能な電磁リニアモータを使用
し、コイルと磁石駆動トラックとの間の間隙を約１ｍｍ
よりも小さくすると、従動子のいかなる振動も、ウエー
ハのＸＹステージ、あるいは、光学装置に伝達されな
い。また、一方の従動子のアームを他方の従動子のアー
ムの上方及び下方に隔置すると、ＸＹステージの重心に
おける力のモーメントのベクトル和は、協働する駆動部
材の位置決め力により、実質的にゼロに等しくなる。
【００８９】ＸＹステージと各従動子ステージとの間に
は、これらステージの間にＸ、Ｙ、又はθの自由度で振
動が伝わるのを許容する接続部が全く存在しないと考え
ることができるであろう。これにより、従動子ステージ
は、ウエーハのステージの性能に影響を与えることな
く、振動する基準フレームに取り付けることができる。
例えば、反作用フレームが、障害物と当たった場合に
は、ＸＹステージ及び投影光学装置は影響を受けないだ
ろう。
【００９０】重心が、いずれかの２つのＸ駆動コイルと
いずれかの２つのＹ駆動コイルとの間で等距離にない場
合には、大きさの異なる適宜な信号が、それぞれのコイ
ルに送られてより大きな力をステージのより重たい側に
与えられ、これにより、ＸＹステージを所望の位置へ駆
動することは、当業者には理解されよう。
【００９１】特定の用途に対しては、電磁力を運動可能
なＸＹステージに与えるための、アクチュエータすなわ
ち磁気結合アセンブリの駆動要素４２Ｘ／４２Ｘ’又は
４２Ｙ／４２Ｙ’を、Ｘ方向又はＹ方向におけるステー
ジの運動に関して、それぞれ静止した状態で一定位置に
保持することができる（図１０参照）。
【００９２】本実施例の最後の説明として、図４を再度
参照して、本発明の本質的構造を説明する。図４に示す
ように、ＸＹステージ３０は、空気排出ポート及び真空
予圧ポートを有する空気軸受３６によって、ステージベ
ース２８の平坦で円滑な表面（Ｘ−Ｙ平面に平行な）の
上に担持されており、何等摩擦を受けることなく、ステ
ージベース２８の上でＸ、Ｙ及びθ方向に運動すること
ができる。
【００９３】ステージベース２８は、振動絶縁ブロック
２０、アーム１８、ブロック２２、垂直なバー２６、及
び、水平なバー２７によって、基礎（あるいは、地面、
又は、ベース構造）の上に担持されている。各々の振動
絶縁ブロック２０は、基礎２１からの振動の伝達を防止
する振動吸収アセンブリを備えている。
【００９４】図４は、駆動コイル４２Ｘ、４２Ｘ’をＹ
方向に通る線に沿うＸＹステージ３０の断面図であるの
で、以下の説明は、Ｘ従動子７２に限定される。
【００９５】図４においては、駆動コイル４２Ｘは、従
動子のアーム７４に装着された駆動トラック（Ｘ方向に
細長い磁石の列）７８の磁場の中に設けられており、駆
動コイル４２Ｘ’は、従動子のアーム７４’に装着され
た駆動トラック７８’の磁場の中に設けられている。
【００９６】２つのアーム７４、７４’は、反作用フレ
ーム６１の内側に形成されたガイドレール６９、６９’
によって、一緒にＹ方向に動くように、堅固に組み立て
られている。また、ガイドレール６９、６９’は、２つ
のアーム７４、７４’のＸ及びＺ方向の運動を制限す
る。反作用フレーム６１は、４つのサポートポスト６２
によって、ステージベース２８とは独立して、基礎２１
の上で直接支持されている。
【００９７】従って、駆動コイル４２Ｘ（４２Ｘ’）及
び駆動トラック７８（７８’）は、Ｙ及びＺ方向におい
て所定のギャップ（数ミリメートル）を維持するよう
に、お互いに配列されている。
【００９８】従って、駆動コイル４２Ｘ、４２Ｘ’が駆
動されてＸＹステージ３０をＸ方向に動かすと、駆動ト
ラック７８、７８’に生じた反力は、基礎２１へ伝達さ
れ、ＸＹステージ３０には伝達されない。
【００９９】一方、ＸＹステージ３０がＹ方向に動く時
には、２つのアーム７４、７４’が、駆動部材７７によ
って、Ｙ方向へ動き、これにより、各々の駆動トラック
７８、７８’は、位置センサ９８Ｘの測定信号に基づ
き、それぞれのコイル４２Ｘ、４２Ｘ’に追従し、Ｙ方
向のギャップを維持する。
【０１００】本発明は、一対の駆動部材、すなわち、コ
イル４２Ｘ、４２Ｘ’、並びに、一対の駆動部材、すな
わち、コイル４４Ｙ、４４Ｙ’を備える好ましい実施例
を参照して説明したが、図１１及び図１２に示す如き、
丁度３つの駆動部材すなわちリニアモータを有する本発
明に従って振動絶縁反作用フレームと、ガイドレスステ
ージを構成することができる。図１１に示すように、一
対のＹ駆動コイル１４４Ｙ、１４４Ｙ’が、ステージ１
３０に設けられ、また、単一のＸ駆動コイルすなわちリ
ニアモータ１４２Ｘが、ＸＹステージの重心ＣＧ’に合
わせて設けられている。Ｙ駆動コイル１４４Ｙ、１４４
Ｙ’は、Ｙ従動子１８２のアーム１８４、１８４’に設
けられ、また、Ｘ駆動コイル１４４Ｘは、Ｘ従動子１７
２のアーム１７４”に設けられている。適宜な駆動信号
を駆動コイル１４２Ｘ、１４４Ｙ、１４４Ｙ’に与える
ことにより、ＸＹステージを所望のＸＹ位置へ動かすこ
とができる。
【０１０１】次に、図１３乃至図１６を参照すると、本
発明の別の実施例が示されており、この実施例は、ＸＹ
駆動コイル２４２Ｘ、２４２Ｘ’、２４４Ｙ、２４４
Ｙ’とＸＹステージ３０’への取付部との間に、リンク
を備えている。これらの結合部は、駆動コイル２４４Ｙ
を結合部材３２０の一端部に結合する複式の板ばねアセ
ンブリ３００と、結合部材３２０の他端部をＸＹステー
ジ３０’に結合する複式の板ばねアセンブリ３２０とを
備えている。複式の板ばねアセンブリ３００は、コイル
２４４Ｙに固定されたフランジ３０２を有している。ク
ランプ部材３０４が、クランプボルトを介して、フラン
ジ３０２に取り付けられており、水平な可撓性のリンク
３０６の一方の縁部をその間に挟んでいる。可撓性のリ
ンク３０６の他端部は、２つの水平な部材３０８の間に
挟まれており、これら水平な部材は、順に垂直なフラン
ジ３１０と一体に固定され、この垂直なフランジには、
一対のフランジ部材３１２がボルト止めされており、該
一対のフランジ部材は、垂直な可撓性の部材３１４の一
方の縁部を挟んでいる。垂直な可撓性の部材３１４の他
方の縁部は、一対のフランジ部材３１６の間に挟まれて
おり、該一対のフランジ部材は、順に固定部材３２０の
一端部のフランジプレート３１８にボルト止めされてい
る。固定部材３２０の他端部では、プレート３４８が、
２つのフランジ部材３６に固定されており、これら２つ
のフランジ部材は、垂直な可撓性の部材３４４の一端部
を挟むように互いにボルト止めされている。垂直な部材
３４４の反対側の縁部は、フランジ部材３４２によって
挟まれており、これらフランジ部材は、順に水平な可撓
性の部材３３６の一方の縁部を挟む一対のクランププレ
ート３３８に固定されたプレート３４０に固定されてお
り、上記水平な可撓性の部材の反対側の縁部は、プレー
ト３３４の助けを受けて、ＸＹステージ３０’に挟み付
けられている。従って、各々の複式の板ばねアセンブリ
３００、３３０においては、水平な及び垂直な可撓性の
部材の両方を設けることにより、振動が減少される。こ
れら各々のアセンブリにおいては、垂直な可撓性の部材
が、Ｘ、Ｙ及びθの振動を減少させ、また、水平な可撓
性の部材が、Ｚ、傾斜及び横転方向の振動を減少させ
る。従って、Ｘ、Ｙ、θに関する、８つの垂直方向のた
わみジョイント、並びに、Ｚ、傾斜及び横転方向に関す
る、８つの水平方向のたわみジョイントが設けられる。
【０１０２】図１６に示すように、コイル２４４Ｙは、
コイルサポート２４５Ｙに取り付けられ、該コイルサポ
ートは、これに取り付けられた上方のサポートプレート
２４６を有しており、該上方のサポートプレートは、磁
気トラックアセンブリ２８８の頂部に乗っている。真空
予圧型の空気軸受２９０が、一方としてコイルサポート
２４５Ｙと上方のサポートプレート２４６と、また、他
方として磁気トラックアセンブリ２８８との間に設けら
れている。
【０１０３】図１３乃至図１６に示す実施例の作動例に
おいては、可撓性の部材３０６、３１４、３４４、３３
６は、幅が約３１．８ｍｍ（１ １／４インチ）、長さ
が約６．４ｍｍ（１／４インチ）及び厚みが０．３０５
ｍｍ（０．０１２インチ）のステンレス鋼であり、その
一次たわみ方向は、厚みの方向である。図示の実施例に
おいては、部材３０６、３１４は、それぞれの一次たわ
み方向を互いに直交差せた状態で、直列に配列されてお
り、部材３４４、３３６も同様に配列されている。
【０１０４】本発明を好ましい実施例に関して説明した
が、本発明は多くの異なる形態を取ることができ、本発
明の範囲は、請求の範囲によってのみ限定されるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を採用したマイクロリソグラフ装置の斜
視図である。
【図２】図１において線Ａ−Ａで示す構造の一部の斜視
図であって、図１に示す反作用ステージは省略してあ
る。
【図３】図１に示す構造を一部断面で示す立面図であ
る。
【図４】本発明の対象物位置決め装置を一部断面で示す
概略的な立面図である。
【図５】反作用ステージ上方にあるウエーハのＸＹステ
ージ位置の平面図である。
【図６】図５に示す構造の一部を線６−６に沿って矢印
の方向に示す側方立面図である。
【図７】図６において線Ｂ−Ｂで示す構造の一部の拡大
図である。
【図８】ＸＹステージの位置決めを行うためにＸＹステ
ージに固定された手段を取り除いてＸＹ従動子を示す、
反作用ステージの斜視図である。
【図９】図８に示すＸＹ従動子の拡大斜視図である。
【図１０】本発明の好ましい実施例の位置検出及び制御
装置の概略的なブロックダイアグラムである。
【図１１】本発明の別の実施例を示す、図５と同様な平
面図である。
【図１２】図１１の実施例を示す、図６と同様な側方立
面図である。
【図１３】本発明の更に別の実施例を示す、図５と同様
な平面図である。
【図１４】図１３の実施例を示す、図６と同様な側方立
面図である。
【図１５】図１３に示す構造の一部の拡大上面図であ
る。
【図１６】図１５の線１６−１６に沿って矢印の方向に
示す上記構造の端面図である。
【符号の説明】
１０ ホトリソグラフ装置 １２ 光学装置（光学系） ２８ 対象物ステージのベース ３０ ＸＹステージ ３４ 対象物（ウエーハ） ３６ 空気軸受 ４２Ｘ，４２Ｘ’ Ｘ駆動部材（Ｘ駆動コイル） ４４Ｙ，４４Ｙ’ Ｙ駆動部材（Ｙ駆動コイル） ６０ 反作用フレームアセンブリ ６１ 反作用フレーム ７２ Ｘ従動子 ７４、７４’ Ｘ従動子のアーム ８２ Ｙ従動子 ８４、８４’ Ｙ従動子のアーム

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ベース構造上でマスクのパタ−ンを投影
    光学装置により対象物に露光する露光装置において、
    (a) 前記ベース構造に取り付けられた反作用フレームを
    含む反作用フレームアセンブリと、(b) 対象物ステージ
    ベースに対して相対的に運動する対象物ステージと、
    (c) 前記反作用フレームとは独立して前記対象物ステー
    ジを前記対象物ステージベースから間隔をおいて支持す
    るための手段と、(d) 前記投影光学装置を支持する部分
    と、前記対象物ステージベースを支持する部分とを有
    し、前記反作用フレームとは独立した支持手段と、(e)
    前記対象物ステージ及び前記反作用フレームに取り付け
    られ、前記対象物ステージを位置決めするために一対に
    なって協働し、力を発生する直動型のアクチュエータ手
    段とを備え、前記投影光学装置が、前記アクチュエータ
    手段からの反力から絶縁され、これにより、前記投影光
    学装置への振動の伝達が最小となることを特徴とする露
    光装置。
  2. 【請求項２】 マスクのパタ−ンを投影光学装置により
    対象物ステージに保持された対象物に露光する露光装置
    において、 前記投影光学装置を支持するとともに、前記対象物ステ
    ージを移動可能に支持する水平面を有する支持手段と、 前記支持手段とは独立して設けられた反作用フレーム部
    と、 前記対象物ステージに結合した第１駆動要素と、前記反
    作用フレーム部に結合した第２駆動要素とを有し、前記
    対象物ステージを駆動する駆動手段と、を備えたことを
    特徴とする露光装置。
  3. 【請求項３】 前記支持手段は、前記マスクを支持する
    ことを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
  4. 【請求項４】 前記支持手段は、前記マスクの上方に設
    けられた集光レンズを支持することを特徴とする請求項
    １から３のいずれか１項記載の露光装置。
  5. 【請求項５】 前記第１駆動要素はコイルと磁石とのい
    ずれか一方であり、前記第２駆動要素は前記コイルと前
    記磁石とのいずれか他方であることを特徴とする請求項
    ２記載の露光装置。
  6. 【請求項６】 前記駆動手段はリニアモータであること
    を特徴とする請求項２または５項記載の露光装置。
  7. 【請求項７】 前記支持手段は、該支持手段が設置され
    る基礎からの振動を絶縁する振動吸収アセンブリを備え
    ていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項
    記載の露光装置。
  8. 【請求項８】 前記振動吸収アセンブリの支持面は、前
    記対象物が保持される保持面よりも高く、前記マスクが
    保持される保持面よりの低いことを特徴とする請求項７
    記載の露光装置。
  9. 【請求項９】 前記対象物ステージは真空予圧型の空気
    軸受により前記水平面上方を移動可能に支持されている
    ことを特徴とする請求項２、５、６のいずれか１項記載
    の露光装置。
  10. 【請求項１０】 前記第２駆動要素は複数あり、前記複
    数の第２駆動要素はすべて前記反作用フレーム部に結合
    していることを特徴とする請求項２、５、６、９のいず
    れか１項記載の露光装置。
  11. 【請求項１１】 前記駆動手段は、前記対象物ステージ
    を前記投影光学装置の光軸方向と直交する第１方向に駆
    動する第１駆動手段と、前記対象物ステージを前記光軸
    方向と前記第１方向とに直交する第２方向に駆動する第
    ２駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項２、５、
    ６、９、１０のいずれか１項記載の露光装置。
  12. 【請求項１２】 前記第１駆動手段の前記光軸方向の結
    合位置と前記第２駆動手段の前記光軸方向の結合位置と
    は、異なる位置であることを特徴とする請求項１１記載
    の露光装置。
  13. 【請求項１３】 前記第１駆動手段と前記第２駆動手段
    とを制御して、前記対象物ステージの回転方向の位置を
    制御する位置制御装置を備えたことを特徴とする請求項
    ２、５、６、９、１０、１１、１２のいずれか一項記載
    の露光装置。
  14. 【請求項１４】 前記対象物ステージの自重は、前記支
    持手段により支持されていることを特徴とする請求項１
    から１３のいずれか１項記載の露光装置。
  15. 【請求項１５】 前記第１駆動要素と前記第２駆動要素
    とは非接触であることを特徴とする請求項２、５、６、
    ９、１０、１１、１２、１３のいずれか１項記載の露光
    装置。
  16. 【請求項１６】 マスクのパタ−ンを投影光学装置によ
    り対象物ステージに保持された対象物に露光する露光方
    法において、 水平面を有する支持手段により前記対象物ステージを移
    動可能に支持するとともに、投影光学装置を支持するス
    テップと、 前記支持手段とは独立して反作用フレーム部を設けるス
    テップと、 前記対象物ステージに結合した第１駆動要素と、前記反
    作用フレーム部に結合した第２駆動要素とを有する駆動
    手段により前記対象物ステージを駆動するステップと、
    を含んでいることを特徴とする露光方法。
  17. 【請求項１７】 前記マスクを前記支持手段により支持
    するステップを含むことを特徴とする請求項１６記載の
    露光方法。
  18. 【請求項１８】 前記マスクの上方に設けられた集光
    レンズを前記支持手段により支持するステップを含むこ
    とを特徴とする請求項１６または請求項１７記載の露光
    方法。
  19. 【請求項１９】 前記第１駆動要素はコイルと磁石との
    いずれか一方であり、前記第２駆動要素は前記コイルと
    前記磁石とのいずれか他方であることを特徴とする請求
    項１６から１８のいずれか１項記載の露光方法。
  20. 【請求項２０】 前記駆動手段はリニアモータであるこ
    とを特徴とする請求項１６から１９のいずれか１項記載
    の露光方法。
  21. 【請求項２１】 前記支持手段が設置される基礎からの
    振動を絶縁する振動吸収アセンブリを前記支持手段に設
    けるステップを含むことを特徴とする請求項１６から２
    ０のいずれか１項記載の露光方法。
  22. 【請求項２２】前記振動吸収アセンブリの支持面は、前
    記対象物が保持される保持面よりも高く、前記マスクが
    保持される保持面よりの低いことを特徴とする請求項２
    １記載の露光方法。
  23. 【請求項２３】 前記対象物ステージは真空予圧型の空
    気軸受により前記水平面上方を移動可能に支持されてい
    ることを特徴とする請求項１６から２２のいずれか１項
    記載の露光方法。
  24. 【請求項２４】 前記第２駆動要素は複数あり、前記複
    数の第２駆動要素はすべて前記反作用フレーム部に結合
    していることを特徴とする請求項１６から２３のいずれ
    か１項記載の露光方法。
  25. 【請求項２５】 前記駆動手段は、前記対象物ステージ
    を前記投影光学装置の光軸方向と直交する第１方向に駆
    動する第１駆動手段と、前記対象物ステージを前記光軸
    方向と前記第１方向とに直交する第２方向に駆動する第
    ２駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項１６から
    ２４のいずれか１項記載の露光方法。
  26. 【請求項２６】 前記第１駆動手段の前記光軸方向の結
    合位置と前記第２駆動手段の前記光軸方向の結合位置と
    を異ならせるステップを含むことを特徴とする請求項２
    ５記載の露光方法。
  27. 【請求項２７】 前記第１駆動手段と前記第２駆動手段
    とを制御して、前記対象物ステージの回転方向の位置を
    制御するステップを含むことを特徴とする請求項２５ま
    たは２６記載の露光方法。
  28. 【請求項２８】 前記対象物ステージの自重は、前記支
    持手段により支持されていることを特徴とする請求項１
    ６から２７のいずれか１項記載の露光方法。
  29. 【請求項２９】 前記第１駆動要素と前記第２駆動要素
    とは非接触であることを特徴とする請求項１６から２８
    のいずれか１項記載の露光方法。
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