WO2006104127A1

WO2006104127A1 - 露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法

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Publication number: WO2006104127A1
Application number: PCT/JP2006/306232
Authority: WO
Inventors: Shuji Kawamura
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2005-03-29
Filing date: 2006-03-28
Publication date: 2006-10-05
Also published as: TWI408506B; TW201341977A; TWI629569B; CN100514193C; KR20070115862A; KR101494115B1; JP4985396B2; JPWO2006104127A1; KR101318096B1; TW200636399A; CN101052923A; TWI510869B; US9280069B2; KR20130079633A; US20080030702A1; EP1865381A1; EP1865381A4; MX2007003252A; TW201614389A

Abstract

　投影光学系（ＰＬ）を介してマスク（Ｍ）に形成されるパターンを感光性基板（Ｐ）上に露光する露光装置であって、マスク（Ｍ）を保持するマスクステージ（ＭＳＴ）及び投影光学系（ＰＬ）の少なくとも一方が搭載される上架台部（２６）と、上架台部（２６）を支持するとともに、所定の方向に長手方向を有する複数の下架台部（６ａ）とを備える。

Description

明細書

露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法技術分野

[0001] この発明は、液晶表示素子等のフラットパネル表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフイエ程で製造するための露光装置、該露光装置の製造方法及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関するものである。

背景技術

[0002] 現在、液晶表示素子デバイス等の製造にぉヽては、マスク上に形成された微細なパターンを感光性基板上に転写するフォトリソグラフィの手法が用いられて、る。このフォトリソグラフィの手法を用いた製造工程では、マスクが二次元移動するマスクステ一ジに載置されており、そのマスク上に形成されたパターンを、投影光学系を介して二次元移動する基板ステージに載置されている感光剤が塗布された感光性基板上に投影露光する投影露光装置が用いられている。なお、感光性基板は、例えばガラスプレートなどの表面に感光剤が塗布されたものである。従来の露光装置は、図 7に示すように、基板ステージ 100を搭載する架台部（定盤） 102に、マスクステージ 104 及び投影光学系（図示せず)を搭載する架台部 (コラム） 106を載せることにより組み立てられていた。

発明の開示

[0003] 近年、露光装置においては、フラットパネル表示素子用、例えば液晶ディスプレイ用の基板の大型化に伴、、マスク及び基板 (ひ、てはマスクステージ及び基板ステージ）の大型化、マスクステージ及び基板ステージのストロークの伸長化が進んでいるため、これらマスクステージ及び基板ステージを保持する架台部も大型化して、る。し力しながら、これら架台部を備える露光装置は運搬する際の道路幅等の事情によりその大きさが制限される。

[0004] この発明の課題は、露光本体部の少なくとも一部（例えば、マスクステージと投影光学系の少なくとも一方)及び基板ステージ等を搭載する複数の架台部を有する露光装置、該露光装置の製造方法及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供することである。

[0005] 本発明の第 1の態様に従えば、投影光学系を介してマスクに形成されるパターンを感光性基板上に露光する露光装置であって、前記マスクを保持するマスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方が搭載される上架台部と、前記上架台部から分離可能に設けられるとともに、所定の方向に長手方向を有し、前記上架台部を支持する複数の下架台部とを備える露光装置が提供される。

[0006] 本発明の第 1の態様によれば、上架台部力分離可能に設けられ、所定の方向に長手方向を有する複数の下架台部を備えているため、下架台部を車両 (さらには航空機）に積載し、運搬することができ、かつ大型基板を載置することができる大型の基板ステージを備えた露光装置を提供することができる。

[0007] 本発明の第 2の態様に従えば、投影光学系を介してパターンを感光性基板上に露光する露光装置であって、投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が設けられる第 1架台部 (上架台部)と、第 1架台部力分離可能に設けられ、それぞれ第 1方向を長手方向として延び、かつ投影光学系を挟んで第 1方向と交差する第 2方向に離れて配置される一対の支持部（中架台部)で第 1架台部を支持する第 2架台部とを備える露光装置が提供される。

[0008] 本発明の第 2の態様によれば、露光本体部の少なくとも一部が設けられる第 1架台部と、第 1架台部力分離可能に設けられ、それぞれ第 1方向を長手方向として延び、かつ投影光学系を挟んで第 1方向と交差する第 2方向に離れて配置される一対の支持部で第 1架台部を支持する第 2架台部を備えているため、それぞれを分離することにより車両 (さらには航空機）に積載し、運搬することができる。

[0009] 本発明の第 3の態様に従えば、投影光学系を介してパターンを感光性基板上に露光する露光装置の製造方法であって、感光性基板を保持する基板ステージが搭載される下架台部を設置する下架台部設置工程と、下架台部設置工程により設置された下架台部上に複数の中架台部を設置する中架台部設置工程と、中架台部設置工程により設置された複数の中架台部上に、投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が搭載される上架台部を設置する上架台部設置工程とを含む露光装置の製造方法が提供される。 [0010] 本発明の第 3の態様によれば、基板ステージが搭載される下架台部上に複数の中架台部を設置し、複数の中架台部上に、投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が搭載される上架台部を設置するため、運搬可能な大きさの複数の架台部を用 V、て、大型の感光性基板上への露光が可能な露光装置を製造することができる。

[0011] 本発明の第 4の態様に従えば、上記態様の露光装置、または露光装置の製造方法により製造された露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むマイクロデバイスの製造方法が提供される。

[0012] 本発明の第 4の態様によれば、上記態様の露光装置、または露光装置の製造方向により製造された露光装置を用いてマイクロデバイスを製造しているため、大型の感光性基板上にマスクのパターンを高精度に露光することができ、良好なマイクロデバイスを得ることができる。

[0013] 本発明は、特に大型の感光性基板、一例としては外径が 500mmを超える大きさの感光性基板に対して露光を行う装置、方法に対して有効である。ここで、感光性基板の外径とは感光性基板の一辺もしくは感光性基板の対角線を示している。

[0014] この発明の露光装置によれば、複数の架台部を分離して車両に積載し、運搬することができる。これにより、大型基板を載置することができる大型の基板ステージを備えた露光装置を提供することができる。

[0015] また、この発明の露光装置に製造方法によれば、基板ステージが搭載される下架台部上に複数の中架台部を設置し、複数の中架台部上に、投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が搭載される上架台部を設置するため、運搬可能な大きさの複数の架台部を用いて、大型の感光性基板上への露光が可能な露光装置を製造することができる。

[0016] また、この発明のマイクロデバイスの製造方法によれば、この発明の露光装置またはこの発明の製造方法により製造された露光装置を用いてマイクロデバイスを製造しているため、大型の感光性基板上にマスクのパターンを高精度に露光することができ、良好なマイクロデバイスを得ることができる。

図面の簡単な説明 [0017] [図 1]この発明の実施の形態に力かる露光装置の概略構成を示す図である。

[図 2]この発明の実施の形態に力かるマスクステージ力もプレートステージまでの構成を示す斜視図である。

[図 3]押し当て基準面の構成を示す図である。

[図 4]この発明の実施の形態に力かる露光装置の製造方法について説明するためのフローチャートである。

[図 5]実施の形態にカゝかるマイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を示すフローチャートである。

[図 6]実施の形態にカゝかるマイクロデバイスとしての液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。

[図 7]従来の露光装置のマスクステージ力プレートステージまでの概略構成を示す斜視図である。

発明を実施するための最良の形態

[0018] 以下、図面を参照して、この発明の実施の形態に力かる露光装置について説明する。図 1は、この実施の形態に力かる露光装置の概略構成を示す図である。なお、以下の説明においては、図 1中に示す XYZ直交座標系を設定し、この XYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。 XYZ直交座標系は、 X軸及び Y軸がプレート Pに対して平行となるように設定され、 Z軸がプレート Pに対して直交する方向に設定されている。図中の XYZ座標系は、実際には XY平面が水平面に平行な面に設定され、 Z軸が鉛直上方向に設定される。また、この実施の形態においてはプレート P (プレートステージ PST)を移動させる方向（走査方向）が X軸方向に設定されている。

[0019] この露光装置は、図 1に示すように、光源及び照明光学系を含む照明光学装置 IL を備えている。照明光学装置 ILから射出される光束は、所定のパターンが形成されたマスク Mを重畳的に照明する。マスク Mのパターンを通過した光束は、投影光学系 PLを介して、外径が 500mmを超える大きさの感光性基板であるプレート P上にマスク Mのパターン像を形成する。ここで、外径が 500mmを超える大きさとは、一辺若しくは対角線が 500mmよりも大きいことをいう。こうして、この露光装置は、 XY平面内にお、てマスク Mを載置するマスクステージ MSTと、プレート Pを載置するプレートステージ (基板ステージ) PSTとを走査方向（X軸方向）に投影光学系 PLに対して相対的に同期移動させ、かつプレートステージ PSTを二次元的に駆動制御しながらスキヤン露光を行うことにより、プレート Pの複数の露光領域にそれぞれマスク Mのパターンを露光する。そして、プレート P上に複数のフラットパネルディスプレイデバイスが形成される。なお、本実施の形態では、照明光学装置 IL、マスクステージ MST、及び投影光学系 PLによって露光本体部が構成されるが、例えばマスク Mの代わりに電子マスク (可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子 (空間光変調器）の一種である DMD (Digital Micro-mirror Device)などを含む）を用いる場合はマスクステージ MSTが不要となる。また、投影光学系 PLは少なくとも Y軸方向の異なる位置にそれぞれパターン像の投影領域が設定される複数の投影光学モジュールを有するちのとしてちよい。

[0020] また、この露光装置は、図 1に示すように、露光装置本体が設置されて、るベース上に 4つの防振システム (支持部材) 4a, 4b, 4c (図 2参照)及び図示しない防振システム（以下、防振システム 4dという。）を備えている。図 2は、この実施の形態にかかる露光装置のマスクステージ MSTからプレートステージ PSTまでの概略構成を示す斜視図である。なお、図 2においては、投影光学系 PLの図示を省略している。

[0021] 図 1及び図 2に示すように、防振システム 4a, 4bは、防振システム 4a, 4b上に載置されている下架台部 6aの長手方向の両端に配置されている。また、図 2に示すように、防振システム 4c, 4dは、防振システム 4c, 4d上に載置されている下架台部 6bの長手方向の両端に配置されている。防振システム 4a〜4dは、露光装置を組み立てた後に、後述するエアーガイド 12a, 12bのねじれを調整することができる。防振システム 4a, 4bにより支持されている下架台部 6aは、—X方向側であって、プレートステージ PSTの走査方向と交差する方向（所定の方向、本実施形態では Y軸方向）に下架台部 6aの長手方向を有するように配置されている。また、防振システム 4c, 4dにより支持されている下架台部 6bは、 +X方向側であって、プレートステージ PSTの走査方向と交差する方向（所定の方向）に下架台部 6bの長手方向を有するように配置されている。下架台部 6a, 6bは、長手方向と交差する方向に分離されて配置され、この実施の形態では 2つの構造材からなる。下架台部 6a, 6bは、後述する中架台部 2 2a, 22bを介して、上架台部 26を支持している。

[0022] また、図 2に示すように、下架台部 6a, 6bには、定盤 8 (ひいては、プレートステージ PST)が搭載されている。また、下架台部 6a, 6b上には、—Y方向側であって X方向に長手方向を有するリニアモータ固定子 10aが設置されており、 +Y方向側であって X方向に長手方向を有するリニアモータ固定子 10bが設置されて、る。

[0023] また、下架台部 6a, 6b上に搭載されている定盤 8上には、プレートステージ PSTの走査方向のガイドであるエアーガイド 12a, 12bを介して、プレートステージ PSTの走查方向と交差する方向（非走査方向）のガイドであるエアーガイド 14がリニアモータ固定子 10aと 10bの間に配置されている。エアーガイド 14には、プレートステージ PS Tの走査方向のァクチユエータであるリニアモータ 16aがリニアモータ固定子 10a側に接続されており、プレートステージ PSTの走査方向のァクチユエータであるリニアモータ 16bがリニアモータ固定子 10b側に接続されている。従って、リニアモータ 16a, 16bを駆動することによりエアーガイド 14 (ひいてはプレートステージ PST)が走査方向に沿って移動する。

[0024] エアーガイド 14上には、プレートステージ PSTが載置されており、プレートステージ PST上のプレートホルダ（図示せず）を介してプレート P (図 2においては、図示せず）が吸着保持されている。また、プレートステージ PST上には— X方向側に移動鏡 18a 、リニアモータ固定子 10b側に移動鏡 18bが設けられており、定盤 8上には— X方向側にプレートステージ干渉計 20a、後述する中架台部 22bの— Y方向側に側面にはプレートステージ干渉計 20bが設けられて!/、る。プレートステージレーザ干渉計 20a, 20bから射出されるレーザ光は、移動鏡 18a, 18bのそれぞれに入射し、移動鏡 18a , 18bにより反射される。

[0025] プレートステージレーザ干渉計 20aは、移動鏡 18aにより反射されたレーザ光の干渉に基づ、て、プレートステージ PSTの X軸方向における位置を計測及び制御する。また、プレートステージレーザ干渉計 20bは、移動鏡 18bにより反射されたレーザ光の干渉に基づ、てプレートステージ PSTの Y軸方向における位置を計測及び制御する。 [0026] また、—Y方向側の下架台部 6a, 6b上には、中架台部 22aが載置されており、 +Y 方向側の下架台部 6a, 6b上には、中架台部 22bが載置されている。中架台部 22a, 22bは、下架台部 6a, 6bと連結され、かつ下架台部 6a, 6bと後述する上架台部 26 を連結している。また、中架台部 22a, 22bは、下架台部 6a, 6bの長手方向と交差する方向（X軸方向、所定の方向と交差する方向）に中架台部 22a, 22bの長手方向を有するように配置されている。即ち、中架台部 22aは、—Y方向側であって、中架台部 22aの長手方向がプレートステージ PSTの走査方向と平行となるように配置されている。また、中架台部 22bは、 +Y方向側であって、中架台部 22bの長手方向がプレートステージ PSTの走査方向と平行となるように配置されている。このように、下架台部 6a, 6bに対して中架台部 22a, 22bが井形構造で連結され、下架台部 6a, 6bの上方に中架台部 22a, 22bで挟まれた空間が形成される。

[0027] 下架台部 6aと中架台部 22aとの連結部には、補正用スぺーサ (位置調整用の補正部材） 24aが設けられており、補正用スぺーサ 24aは下架台部 6aと中架台部 22aの加工精度を緩和する機能を有する。補正用スぺーサ 24aの寸法は、下架台部 6a及び中架台部 22aの加工時の寸法データに基づいて決定される。同様に、下架台部 6 aと中架台部 22bとの連結部には補正用スぺーサ (位置調整用の補正部材） 24bが設けられ、下架台部 6bと中架台部 22aとの連結部には補正用スぺーサ (位置調整用の補正部材） 24cが設けられ、下架台部 6bと中架台部 22bとの連結部には図示しない補正用スぺーサ (位置調整用の補正部材、以下では補正用スぺーサ 24dという。 ) が設けられており、補正用スぺーサ 24b〜24dは、下架台部 6a, 6bと中架台部 22a , 22bの加工精度を緩和する機能を有する。補正用スぺーサ 24b〜24dの寸法は、下架台部 6a, 6b及び中架台部 22a, 22bの加工時の寸法データに基づいて決定される。

[0028] また、下架台部 6aと中架台部 22aとの連結部には、図 3の斜線部で示す押し当て基準面 25が設けられており、エアキャスタ等を用いて下架台部 6aの押し当て基準面 25に中架台部 22aの対応する面が押し当てられている。下架台部 6aと中架台部 22 bとの連結部、及び下架台部 6bと中架台部 22a, 22bとの連結部にも、押し当て基準面 25と同様の押し当て基準面が設けられており、エアキャスタ等を用いて下架台部 6 a, 6bの押し当て基準面に中架台部 22a, 22bの対応する面が押し当てられている。

[0029] また、中架台部 22a, 22b上には、上架台部 26が載置されており、上架台部 26は、プレートステージ PSTの走査方向と交差する方向（所定の方向）に長手方向を有し、中架台部 22a, 22bの長手方向と交差して連結されている。上架台部 26には、マスクステージ MST及び投影光学系 PLが搭載されており、上架台部 26と下架台部 6a, 6 bとで囲まれた空間の幅力 500mmを超える大きさとなるように構成されている。

[0030] また、中架台部 22a, 22bの間隔は、 500mmを超える幅を有している。このように構成することにより、上架台部 26と下架台部 6a, 6bと中架台部 22a, 22bとで囲まれた空間の幅が、 500mmを超える大きさとなり、 500mmを超える大きさの基板を載置可能なプレートステージ PSTを組み込むことができる。また、中架台部 22a, 22bの間隔は、プレート Pの大きさに対応した空間、またはプレートステージ PSTの移動量に対応するような空間が形成されるように設定される。

[0031] また、上架台部 26と中架台部 22aの連結部には補正用シム (位置調整用の補正部 W 28a, 28bが設けられており、補正用シム 28a, 28bは、露光装置を組み立てた後に発生する後述するエアーガイド 32a, 32bのねじれを調整する。即ち、上架台部 26 と中架台部 22aとの間にジャッキを挿入できるように構成されているため、上架台部 2 6と中架台部 22aとの組み立て誤差によるエアーガイド 32a, 32bのねじれを、補正用シム 28a, 28bにより容易に微調整することができる。同様に、上架台部 26及び中架台部 22bとの連結部には補正用シム (位置調整用の補正部材） 28c及び図示しない補正用シム (位置調整用の補正部材、以下補正用シム 28dという。）が設けられており、補正用シム 28c, 28dは、露光装置を組み立てた後に発生する後述するエアーガイド 32a, 32bのねじれを調整する。即ち、上架台部 26と中架台部 22bとの間にジャツキを挿入できるように構成されているため、上架台部 26と中架台部 22bとの組み立て誤差によるエアーガイド 32a, 32bのねじれを、補正用シム 28c, 28dにより容易に微調整することができる。

[0032] また、上架台部 26と中架台部 22a, 22bとの連結部には図 3の斜線部で示す押し当て基準面 25と同様の押し当て基準面力それぞれ設けられており、エアキャスタ等を用いてそれぞれの押し当て基準面に、上架台部 26と中架台部 22a, 22bとが押し当てられている。

[0033] 上架台部 26上には、 Y方向側に X方向に長手方向を有するマスク用リニアモータ固定子 30aが設置されている。また、上架台部 26上には、 +Y方向側に X方向に長手方向を有するマスク用リニアモータ固定子 30bが設置されている。また、上架台部 26上には、マスクステージ MSTの走査方向（X軸方向）のガイドであるエアーガイド 32a, 32bを介して図示しな!、マスクサブステージがリニアモータ固定子 30aと 30b との間に載置されている。マスクサブステージには、マスクステージ MSTの走査方向と交差する方向（Y軸方向、非走査方向）のァクチユエータである非走査方向リニアモータ 34が接続されている。また、非走査方向リニアモータ 34にはマスクステージ M STの走査方向のァクチユエータであるマスクサブステージ用リニアモータ 36がマスク用リニアモータ固定子 30a側に接続されている。従って、マスクサブステージ用リニアモータ 36 (及び後述するマスク用リニアモータ 38a, 38b)を駆動することにより、マスクサブステージ及び非走査方向リニアモータ 34は、マスクステージ MSTと共にマスクステージ MSTの走査方向（X軸方向）に沿って移動する。

[0034] また、図示しな!、マスクサブステージ上には、マスクステージ MSTが載置されて!ヽる。マスクステージ MSTには、マスクステージ MSTの走査方向のァクチユエータであるマスク用リニアモータ 38a, 38bがマスク用リニアモータ固定子 30a側に接続されており、マスクステージ MSTの走査方向のァクチユエータである図示しな!、マスク用リユアモータがマスク用リニアモータ固定子 30b側に接続されている。従って、マスク用リニアモータ 30a, 30b、図示しないマスク用リニアモータ及びマスクサブステージ用リユアモータ 36を駆動することによりマスクサブステージ、非走査方向リニアモータ 34 及びマスクステージ MST力マスクステージ MSTの走査方向（X軸方向）に沿って移動する。

[0035] また、マスクステージ MST上には、マスクホルダ（図示せず）を介してマスク M (図 2 においては、図示せず）が吸着保持されている。また、マスクステージ MSTの—X方向側の側面には、図示しない 2つの移動鏡が設けられており、 2つの移動鏡には、マスクステージレーザ干渉計 40a, 40bから射出されるレーザ光がそれぞれ入射し、入射したレーザ光は 2つの移動鏡により反射される。マスクステージレーザ干渉計 40a, 40bは、 2つの移動鏡により反射されたレーザ光の干渉に基づ!/、てマスクステージ M STの X軸方向における位置を計測及び制御する。

[0036] また、マスクステージ MST上には、マスクステージレーザ干渉計 40cがリニアモータ固定子 30b側に設けられている。また、マスクレーザ干渉計 40cから射出されるレーザ光は、固定鏡 42に入射する。固定鏡 42は、マスク用リニアモータ固定子 30bを挟んでマスクステージ MSTに対向する位置にマスク用リニアモータ固定子 30bの長手方向（X軸方向）に沿って設置されている。マスクステージレーザ干渉計 40cは、固定鏡 42により反射されたレーザ光の干渉に基づいてマスクステージ MSTの Y軸方向における位置を計測及び制御する。

[0037] 次に、この実施の形態にかかる露光装置の製造方法について説明する。図 4は、この実施の形態に力かる露光装置の製造方法について説明するためのフローチャートである。

[0038] まず、プレート Pが保持されているプレートステージ PSTが搭載される下架台部 6a, 6bを設置する (ステップ S 10、下架台部設置工程)。具体的には、下架台部 6a, 6bをプレートステージ PSTの走査方向と交差する方向（Y軸方向）にその長手方向を有するように設置する。

[0039] 次に、ステップ S10において設置された下架台部 6a, 6b上に中架台部 22a, 22b を設置する (ステップ SI 1、中架台部設置工程)。具体的には、中架台部 22a, 22b をプレートステージ PSTの走査方向（X軸方向）にその長手方向を有するように設置し、中架台部 22a, 22bの長手方向と下架台部 6a, 6bの長手方向とを交差させて中架台部 22a, 22bと下架台部 6a, 6bとを連結する。連結の際には、連結部材で締結する。連結部材としては、ボルト等を用いてもよぐ接着、熔接などをするようにしてもよい。

[0040] 次に、ステップ S 11において設置された中架台部 22a, 22b上に、マスク Mを保持するマスクステージ MST及び投影光学系 PLが搭載される上架台部 26を設置する（ステップ S12、上架台部設置工程)。具体的には、上架台部 26をプレートステージ P STの走査方向と交差する方向（Y軸方向）にその長手方向を有するように設置し、上架台部 26の長手方向と中架台部 22a, 22bの長手方向とを交差させて上架台部 26 と中架台部 22a, 22bとを連結する。

[0041] この実施の形態に力かる露光装置によれば、プレートステージの走査方向と交差する方向に長手方向を有する 2つの下架台部を備え、下架台部の長手方向と交差する方向に長手方向を有する 2つの中架台部を備え、中架台部の長手方向と交差する方向に長手方向を有する上架台部を備えているため、架台部を運搬可能な大きさにすることができ、かつ 500mmを超える大きさの大型の感光性基板を載置することができる大型の基板ステージを備えた露光装置を提供することができる。

[0042] また、下架台部と中架台部との連結部に位置調整用の補正部材としての補正用スぺーサを備え、中架台部と上架台部との連結部に位置調整用の補正部材としての補正用シムを備え、各架台部の連結部に押し当て基準面を備えているため、架台部を分割することにより生じる組立て精度の低下を防止することができ、高い露光精度を確保することができる。従って、高い露光精度を有する露光装置により良好に露光を行うことができる。

[0043] また、この実施の形態に力かる露光装置に製造方法によれば、プレートステージを支持する下架台部を設置でき、下架台部上に中架台部を設置でき、中架台部上にマスクステージ及び投影光学系を支持する上架台部を高精度に設置することができ

、運搬可能な大きさの複数の架台部を備え、かつ大型の感光性基板上への露光が可能な露光装置を製造することができる。

[0044] なお、この実施の形態に力かる露光装置においては、 2つの下架台部を備えている力 3つ以上の下架台部を備えるようにしてもよい。この場合においては、 3つ以上の下架台部のうち少なくとも 2つと中架台部とが連結されるようにする。さらに、下架台部は複数ではなく 1つのみでもよい。この場合、複数の下架台部を備える露光装置に比ベて重量が増大し得るので、例えばノヽ-カム構造を採用して下架台部の軽量ィ匕を図るようにしてもよい。また、この実施の形態に力かる露光装置においては、 2つの中架台部を備えている力 3つ以上の中架台部を備えるようにしてもよい。この場合においては、 3つ以上の中架台部のうち少なくとも 2つと上架台部とが連結されるようにする。また、例えばノ、二カム構造を採用して複数の中架台部の軽量ィ匕を図るようにしてもよい。 [0045] また、この実施の形態に力かる露光装置においては、上架台部にマスクステージ及び投影光学系の両方を搭載するものとしたが、マスクステージ及び投影光学系の一方のみを上架台部に搭載するものとしてもよいし、あるいはマスクステージ及び投影光学系と異なる、露光本体部の一部（例えば、照明光学系の少なくとも一部など）を上架台部に搭載するものとしてもよい。また、例えばノヽ-カム構造を採用して上架台部の軽量ィ匕を図るようにしてもよい。さらに、前述の下架台部と同様に、複数の中架台部の長手方向と交差する方向を長手方向とする複数の上架台部を設けることとしてもよい。この場合、マスクステージが載置される定盤を複数の上架台部に設けてもよい。

[0046] また、この実施の形態に力かる露光装置においては、 4つの支持部材としての防振システムを備えて、る力 3つまたは 5つ以上の防振システムを備えるようにしてもょヽ

[0047] 上述の実施の形態に力かる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル )を照明し (照明工程)、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する (露光工程)ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実施の形態の露光装置を用いて感光性基板としてのプレート等に所定の回路バターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図 5のフローチャートを参照して説明する。

[0048] 先ず、図 5のステップ S301において、 1ロットのプレート上に金属膜が蒸着される。

次のステップ S302において、その 1ロットのプレート上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ S303において、上述の実施の形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その 1ロットのプレート上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ S304において、その 1ロットのプレート上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ S305において、その 1口ットのプレート上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターン力各プレート上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、基板上にマスクの微細なパターンを高精度に露光することができ、良好な半導体デバイスを得ることができる。

[0049] また、上述の実施の形態の露光装置では、プレート (ガラス基板)上に所定のバターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図 6のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図 6において、パターン形成工程 S401では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板 (レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離ェ程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程 S402へ移行する。

[0050] 次に、カラーフィルター形成工程 S402では、 R(Red)、 G (Green)、 B (Blue)に対応した 3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、または R、 G、 Bの 3本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程 S402の後に、セル組み立て工程 S403が実行される。セル組み立て工程 S403では、パターン形成工程 S401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程 S402にて得られたカラーフィルタ一等を用いて液晶パネル (液晶セル)を組み立てる。

[0051] セル組み立て工程 S403では、例えば、パターン形成工程 S401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程 S402にて得られたカラーフィルタ一との間に液晶を注入して、液晶パネル (液晶セル)を製造する。その後、モジユール組み立て工程 S404にて、組み立てられた液晶パネル (液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、ノックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、大型基板上にマスクの微細なバターンを高精度に露光することができ、良好な液晶表示素子を得ることができる。

産業上の利用可能性以上のように、この発明の露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法は、液晶表示素子等のフラットパネル表示素子等の大型のマイクロデバイスをリソグラフイエ程で製造するのに適して！/、る。

Claims

請求の範囲

[1] 投影光学系を介してマスクに形成されるパターンを感光性基板上に露光する露光装置であって、

前記マスクを保持するマスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方が搭載される上架台部と、

前記上架台部から分離可能に設けられ、所定の方向に長手方向を有するとともに、前記上架台部を支持する複数の下架台部と、

を備えることを特徴とする露光装置。

[2] 前記上架台部と前記下架台部とを連結するとともに、前記所定の方向と交差する方向に長手方向を有する複数の中架台部を備えることを特徴とする請求項 1記載の露光装置。

[3] 前記上架台部は、前記所定の方向に長手方向を有し、前記複数の中架台部の長手方向と交差して連結されることを特徴とする請求項 2記載の露光装置。

[4] 前記上架台部は、前記複数の中架台部のうちの少なくとも 2つと連結されることを特徴とする請求項 2または請求項 3記載の露光装置。

[5] 前記複数の中架台部は、前記複数の下架台部のうち少なくとも 2つと連結されることを特徴とする請求項 2乃至請求項 4の何れか一項に記載の露光装置。

[6] 前記上架台部及び前記下架台部と前記中架台部とを連結する連結部に、位置調整用の補正部材を備えることを特徴とする請求項 2乃至請求項 5の何れか一項に記載の露光装置。

[7] 前記上架台部及び前記下架台部と前記中架台部とを連結する連結部は、それぞれ押し当て基準面を有することを特徴とする請求項 2乃至請求項 6の何れか一項に記載の露光装置。

[8] 前記下架台部には、前記感光性基板を保持する基板ステージが搭載されることを特徴とする請求項 1乃至請求項 7の何れか一項に記載の露光装置。

[9] 前記下架台部は、少なくとも 4つの支持部材で支持されることを特徴とする請求項 1 乃至請求項 8の何れか一項に記載の露光装置。

[10] 前記上架台部と前記複数の下架台部とで囲まれた空間の幅は、 500mmを超える大きさであることを特徴とする請求項 1乃至請求項 9の何れか一項に記載の露光装置。

[11] 投影光学系を介してパターンを感光性基板上に露光する露光装置であって、前記投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が設けられる第 1架台部と、前記第 1架台部から分離可能に設けられ、それぞれ第 1方向を長手方向として延び、かつ前記投影光学系を挟んで前記第 1方向と交差する第 2方向に離れて配置される一対の支持部で前記第 1架台部を支持する第 2架台部と、

を備えることを特徴とする露光装置。

[12] 前記第 1架台部は、前記露光本体部のうち少なくとも前記投影光学系が設けられることを特徴とする請求項 11記載の露光装置。

[13] 前記露光本体部は、マスクを保持するマスクステージを含み、前記第 1架台部は、前記マスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方が設けられることを特徴とする請求項 11記載の露光装置。

[14] 前記投影光学系と前記感光性基板とを走査方向に相対移動して、前記パターンを前記感光性基板に露光し、前記第 1方向は、前記走査方向ほぼ平行であることを特徴とする請求項 11乃至請求項 13の何れか一項に記載の露光装置。

[15] 前記第 1架台部は、前記第 2方向を長手方向とすることを特徴とする請求項 11乃至請求項 14の何れか一項に記載の露光装置。

[16] 前記第 2架台部は、前記一対の支持部から分離可能に設けられ、前記第 2方向を長手方向として延び、かつ前記感光性基板を保持する基板ステージが載置される下架台部を含むことを特徴とする請求項 11乃至請求項 15の何れか一項に記載の露光装置。

[17] 前記第 2架台部は、前記第 1方向に離れて配置される一対の前記下架台部で前記一対の支持部を支持することを特徴とする請求項 16記載の露光装置。

[18] 前記第 2架台部は、前記一対の支持部から分離可能に設けられ、前記第 2方向を長手方向として延び、かつ前記第 1方向に離れて配置される複数の下架台部を含むことを特徴とする請求項 11乃至請求項 15の何れか一項に記載の露光装置。

[19] 前記第 2架台部は、前記下架台部上に長手方向が前記第 1方向と一致して配置される定盤を含み、前記感光性基板を保持する基板ステージが前記定盤上に載置されることを特徴とする請求項 17または請求項 18記載の露光装置。

[20] 前記第 2架台部は、前記一対の支持部によって前記投影光学系が配置される空間を規定することを特徴とする請求項 11乃至請求項 19の何れか一項に記載の露光装置。

[21] 前記感光性基板は、外径が 500mmを超える大きさであることを特徴とする請求項

1乃至請求項 20の何れか一項に記載の露光装置。

[22] 投影光学系を介してパターンを感光性基板上に露光する露光装置の製造方法であって、

前記感光性基板を保持する基板ステージが搭載される下架台部を設置する下架台部設置工程と、

前記下架台部設置工程により設置された前記下架台部上に複数の中架台部を設置する中架台部設置工程と、

前記中架台部設置工程により設置された前記複数の中架台部上に、前記投影光学系を含む露光本体部の少なくとも一部が搭載される上架台部を設置する上架台部設置工程と、

を含むことを特徴とする露光装置の製造方法。

[23] 前記複数の中架台部は、前記下架台部上でそれぞれ長手方向が第 1方向と一致し、かつ前記投影光学系を挟んで前記第 1方向と交差する第 2方向に離れて配置されることを特徴とする請求項 22記載の露光装置の製造方法。

[24] 前記上架台部は、前記複数の中架台部上でその長手方向が前記第 2方向と一致して配置されることを特徴とする請求項 22または請求項 23記載の露光装置の製造方法。

[25] 前記下架台部は、前記第 2方向と長手方向が一致し、かつ前記第 1方向に離れて複数配置されることを特徴とする請求項 22乃至請求項 24の何れか一項に記載の露光装置の製造方法。

[26] 前記基板ステージは、前記下架台部上に長手方向が前記第 1方向と一致して配置される定盤上に載置されることを特徴とする請求項 25記載の露光装置の製造方法。

[27] 前記露光本体部のうちマスクを保持するマスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方が前記上架台部に設けられることを特徴とする請求項 22乃至請求項 26 の何れか一項に記載の露光装置の製造方法。

[28] 前記感光性基板は、外径が 500mmを超える大きさであることを特徴とする請求項

22乃至請求項 27の何れか一項に記載の露光装置の製造方法。

[29] 請求項 1乃至請求項 21の何れか一項に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、

前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。

[30] 請求項 22乃至請求項 28の何れか一項に記載の露光装置の製造方法により製造された露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。

[31] 前記感光性基板上に複数のフラットパネルディスプレイデバイスが形成されることを特徴とする請求項 29または請求項 30記載のマイクロデバイスの製造方法。