JP2000068189A

JP2000068189A - 基板保持装置および露光装置

Info

Publication number: JP2000068189A
Application number: JP10239264A
Authority: JP
Inventors: Hideji Kawamura; 秀司川村
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-08-25
Filing date: 1998-08-25
Publication date: 2000-03-03

Abstract

(57)【要約】【課題】基板を三ヶ所で吸着保持した際にも、走査方
向に発生するたわみを抑えて基板の自重たわみの影響を
補正する。【解決手段】基板Ｍをほぼ水平面に沿って保持する保
持部４，５，６と、前記水平面よりも低い位置に設けら
れ、基板Ｍの自重による変形を補正する補正部１９，１
９とを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を吸着保持す
る基板保持装置およびこの基板保持装置に保持された基
板を用いて露光処理を行う露光装置に関し、例えば、マ
スクや感光基板に対して用いて好適な基板保持装置およ
び露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、マスクやレチクル（以下、マスク
と総称する）のパターンをウエハやガラスプレート等の
感光部材に露光する露光装置としては、マスクとウエハ
（またはガラスプレート）とを静止した状態でマスクの
パターンを露光し、ウエハ（またはガラスプレート）を
順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方
式やマスクとウエハ（またはガラスプレート）とを同期
移動して、投影光学系に対して走査することによって、
マスクの描画パターンの全面がウエハ（またはガラスプ
レート）上の露光領域に順次転写される走査型のものが
多く用いられている。

【０００３】この種の露光装置においては、マスクは、
装置本体の振動等でずれないように吸着された状態で基
板テーブル上に保持されている。その際、平面は三点で
定義されることから、マスクも三ヶ所で吸着された状態
で基板保持装置上に保持される。

【０００４】図５に従来の基板保持装置の一例を示す。
基板保持装置である平面視矩形のマスクテーブル１に
は、吸引管２，２を介して真空装置３に接続された三ヶ
所の吸着保持部（保持部）４，５，６が設けられてい
る。これら吸着保持部４，５，６は、パターンが形成さ
れたマスク（基板）Ｍをほぼ水平面に沿って保持するも
のである。吸着保持部４，５は、マスクＭの一辺を二ヶ
所で吸着保持するものであって、マスクテーブル１の端
縁近傍に走査方向であるＸ方向に沿って列設されてい
る。また、吸着保持部６は、マスクＭの一辺を一ヶ所で
吸着保持するものであって、吸着保持部４，５が設けら
れた辺と対向する端縁に、吸着保持部４，５間に位置す
るように設けられている。

【０００５】このマスクテーブル１では、吸着保持部
４，５，６上にマスクＭを載置するとともに、真空装置
で負圧吸引することにより、マスクＭをマスクテーブル
１に保持していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の基板保持装置および露光装置には、以下
のような問題が存在する。マスク自体は小さいものなの
で、三ヶ所で吸着保持されてもマスクの自重たわみは露
光精度に影響する程ではない。また、マスクは、吸着さ
れることにより吸着面に倣うため、自重たわみも補正さ
れ問題とはなっていなかった。

【０００７】ところが、近年、走査型露光装置で製造さ
れる液晶表示パネル等は、ますます大型化してきてお
り、それに応じてマスクも大型化してきている。例え
ば、マスクは、約５００ｍｍ×６００ｍｍ程度の長方形
形状を有し、厚さが８ｍｍ程度で重量が５〜１０Ｋｇ程
度である。このように、近年用いられるマスクは大き
く、かつ重くなってきている。

【０００８】そのため、マスクの自重たわみが、精度上
無視できなくなる程度に大きくなってしまう。特に、上
記のように平面視矩形のマスクが三ヶ所で吸着保持され
ている場合、マスクの自重たわみは少なからず非対称と
なり、図６に示すように、一ヶ所で保持している吸着保
持部６の両側のたわみが大きくなる。このとき、吸着保
持部６の吸着面積を大きくして、マスクのたわみ具合を
吸着保持部４，５側と同程度にしようとしても、吸着保
持部６の加工面積が大きくなるとその面粗度を向上させ
ることが困難になることと、マスク自体の面積も大きく
なりその面粗度を高度に加工することが困難であること
からマスクを確実に吸着することが難しい。

【０００９】一方、走査型露光装置において結像系がい
わゆるマルチレンズ式の場合、すなわち、結像系である
投影光学系がクロススキャン方向であるＹ方向に沿って
隣り合う領域どうしがＸ方向に所定量変位するように、
且つ隣り合う領域の端部どうしがＹ方向に重複するよう
に、Ｙ方向に複数並列配置された場合は、各投影光学系
を調節することによりマスクのクロススキャン方向の自
重たわみの影響を補正することができる。しかし、上述
した吸着保持部６の両側のたわみは走査方向に発生する
ものであり、投影光学系を用いても補正することができ
ない。

【００１０】そこで、マスクに対する吸着保持を三ヶ所
ではなく、走査方向に沿って列設された二ヶ所の吸着保
持部を二組設け、合計四ヶ所にすることが考えられる。
この場合、その自由度が小さくなる。すなわち、マスク
が小さい場合、マスク自体の平面度や吸着保持部の吸着
面の平面度も加工上精度の管理が容易であり、四ヶ所で
吸着しても問題にはならなかったが、マスクが大きく、
且つ四ヶ所の吸着保持部がそれぞれ吸着面を有すると、
四ヶ所全てを理想平面上、あるいはそれに極めて近く加
工することは非常に困難である。

【００１１】また、吸着面の高さ寸法や面粗度等の加工
精度によっては、マスクを保持した際に吸着エラーを引
き起こすことも起こりうる。さらに、マスクが大きくな
ると、上述のようにマスク自体の面粗度を向上させるこ
とも難しいため、吸着エラーを起こす確率も一層高くな
ってしまう。

【００１２】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、面積の大きいマスク等の基板を保持した際
にも、基板の自重による変形を補正できる基板保持装置
および走査方向に発生する基板の自重たわみの影響を補
正することができる露光装置を提供することを目的とす
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図４に対応
付けした以下の構成を採用している。本発明の基板保持
装置は、基板（Ｍ）をほぼ水平面に沿って保持する保持
部（４，５，６）と、水平面よりも低い位置に設けら
れ、基板（Ｍ）の自重による変形を補正する補正部（１
９，２６）とを設けたことを特徴とするものである。

【００１４】従って、本発明の基板保持装置では、保持
部（４，５，６）が基板（Ｍ）をほぼ水平面に沿って保
持したときに、補正部（１９，２６）が基板（Ｍ）を下
方から支持することにより、基板（Ｍ）の自重による変
形を補正することができる。ここで、補正部（１９，２
６）は、上記水平面よりも低い位置に設けられるので、
保持部（４，５，６）が基板（Ｍ）を吸着する際にも、
その吸着を阻害することを防止できる。

【００１５】また、本発明の露光装置は、マスク（Ｍ）
のパターンを感光部材（Ｐ）に露光する露光装置（７）
において、マスク（Ｍ）をほぼ水平面に沿って保持する
第１基板保持装置（９）と、感光部材（Ｐ）を水平面に
沿って保持する第２基板保持装置（１１）との少なくと
も一方に、請求項１または請求項２記載の基板保持装置
（９）を用いたことを特徴とするものである。

【００１６】従って、本発明の露光装置では、マスク
（Ｍ）が第１基板保持装置（９）によってほぼ水平面に
沿って保持され、感光部材（Ｐ）が第２基板保持装置
（１１）によってほぼ水平面に沿ってそれぞれ保持され
た際に、補正部（１９，２６）がマスク（Ｍ）と感光部
材（Ｐ）との少なくとも一方（Ｍ）を下方から支持す
る。そのため、本発明の露光装置では、この少なくとも
一方（Ｍ）の自重による変形を補正することができる。
ここで、補正部（１９，２６）は、上記水平面よりも低
い位置に設けられるので、保持部（４，５，６）が上記
少なくとも一方（Ｍ）を吸着する際にも、その吸着を阻
害することを防止できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の基板保持装置およ
び露光装置の第１の実施の形態を、図１ないし図３を参
照して説明する。ここでは、例えば、基板保持装置とし
てマスクを吸着保持するマスクテーブルを用い、露光装
置として、マスクとガラスプレートとを一体的に同期移
動させる走査型露光装置を用いる場合の例を用いて説明
する。また、これらマスクおよびガラスプレートはＸＹ
平面に沿って配置され、ＸＹ平面のうち走査方向をＸ方
向、Ｘ方向と直交するクロススキャン方向をＹ方向と
し、ＸＹ平面に直交する方向をＺ方向として説明する。
なお、これらの図において、従来例として示した図５お
よび図６と同一の構成要素には同一符号を付し、その説
明を簡略化する。

【００１８】図２は、投影光学系を複数用いた、いわゆ
るマルチレンズ式の走査型露光装置（露光装置）７の概
略構成図である。走査型露光装置７は、マスクＭとガラ
スプレート（感光部材）Ｐとを走査方向（所定方向）に
同期移動してマスクＭのパターンをガラスプレートＰに
露光するものであって、複数の照明光学系８ａ〜８ｅ
と、マスクＭを吸着保持するマスクテーブル（第１基板
保持装置）９と、複数の投影光学系１０ａ〜１０ｅと、
ガラスプレートＰが載置されるプレートテーブル（第２
基板保持装置）１１とを主体として構成されている。

【００１９】照明光学系８ａ〜８ｅは、超高圧水銀ラン
プ等の光源（不図示）から射出された光束を所定の形状
に整形して、マスクＭ上に視野絞りの像を形成するもの
であって、不図示の波長選択フィルター、フライアイレ
ンズ、照明視野絞り等から構成されている。

【００２０】照明視野絞りは、台形の開口部を有し、光
源から射出された光束を光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に沿って並
列する複数の光路に設定するものである。そして、照明
光学系８ａ〜８ｅから射出された光束は、露光光として
マスクＭ上の異なる照明領域Ｍ１〜Ｍ５をそれぞれ照明
する構成になっている。

【００２１】各投影光学系１０ａ〜１０ｅは、上記各光
路に対応する位置に配置されている。また、投影光学系
１０ａ〜１０ｅは、いずれも正立等倍系とされ、マスク
Ｍを通過した複数の光束をそれぞれガラスプレートＰ上
の異なる転写領域Ｐ１〜Ｐ５に、マスクＭの照明領域Ｍ
１〜Ｍ５のパターン１３の像を結像するようになってい
る。また、各投影光学系１０ａ〜１０ｅには、転写領域
Ｐ１〜Ｐ５をＸ方向およびＹ方向に移動させたり、光軸
に対して回転方向に移動させる機構と、転写領域Ｐ１〜
Ｐ５の倍率を調整する機構とでなる調整機構１２ａ〜１
２ｅがそれぞれ付設されている。

【００２２】転写領域Ｐ１〜Ｐ５は平面視台形状であ
り、Ｙ方向に沿って、隣り合う領域どうし（例えばＰ１
とＰ２、Ｐ２とＰ３）が図のＸ方向に所定量変位するよ
うに、且つ隣り合う領域の端部どうしがＹ方向に重複す
るように、Ｙ方向に並列配置されている。なお、上記各
投影光学系１０ａ〜１０ｅも各転写領域Ｐ１〜Ｐ５の配
置に対応してＸ方向に所定量変位するとともに、Ｙ方向
に重複して配置されている。

【００２３】マスクテーブル９は、マスクＭをほぼ水平
面に沿って保持するものであって、平面視矩形状を有
し、一次元の走査露光を行うべく走査方向に長いストロ
ークを有する駆動装置１４を備えている。また、マスク
テーブル９は、該マスクテーブル９をＹ方向に微小量移
動するための短いストロークを有する駆動装置１５も備
えている。さらに、マスクテーブル９は、走査方向につ
いては、高分解能および高精度の位置測定装置（例え
ば、レーザ干渉計）１６を備えている。

【００２４】また、図１に示すように、マスクテーブル
９には、吸着機構１７および変形補正機構１８が付設さ
れている。吸着機構１７は、マスクＭをマスクテーブル
９に保持させるものであって、真空装置３と、この真空
装置３に吸引管２，２を介して接続された三ヶ所の吸着
保持部４，５，６とから構成されている。吸着保持部
４，５は、マスクＭの一辺を二ヶ所で吸着保持するもの
であって、マスクテーブル９の端縁近傍にＸ方向に沿っ
て間隔をあけて列設されている。また、吸着保持部６
は、マスクＭの一辺を一ヶ所で吸着保持するものであっ
て、吸着保持部４，５が設けられた辺と対向する端縁
に、吸着保持部４，５間に位置するように設けられてい
る。

【００２５】変形補正機構１８は、マスクテーブル９に
保持されたマスクＭの自重による変形を補正するもので
あって、補正部１９，１９と、昇降部２０，２０とから
構成されている。補正部１９，１９は、吸着保持部６の
両側にＸ方向に沿って、且つ吸着保持部４，５とほぼ対
向する位置に配置され下方からマスクＭを支持するもの
であって、金属やセラミックス等の硬質材により直方体
状にそれぞれ形成されている。また、補正部１９，１９
は、吸着保持部４，５，６の上面（吸着面）よりも低い
位置に設けられている。

【００２６】昇降部２０，２０は、マスクテーブル９に
配置され、積層型ピエゾアクチュエータ等により補正部
１９，１９を、その上面が吸着保持部６の吸着面より僅
かに低くなる位置と、図３に示すように、その上面が吸
着保持部６の吸着面よりも距離αだけ離間した位置との
間で鉛直方向に昇降させて、この間の任意の位置に移動
させるものである。

【００２７】プレートテーブル１１は、マスクテーブル
９と同様に、図２に示すように、一次元の走査露光を行
うべく走査方向に長いストロークを有する駆動装置２１
を備えている。また、プレートテーブル１１は、該プレ
ートテーブル１１をＹ方向に微小量移動するための短い
ストロークを有する駆動装置２２も備えている。さら
に、プレートテーブル１１は、走査方向については、高
分解能および高精度の位置測定装置２３を備えている。
そして、マスクテーブル９またはプレートテーブル１１
の少なくとも一方には、マスクＭやガラスプレートＰの
ローテーションを補正するための回転機構（不図示）が
備えてある。

【００２８】上記の構成のマスクテーブルおよび走査型
露光装置のうち、まずマスクテーブルの作用について以
下に説明する。ここで、投影光学系１０ａ〜１０ｅおよ
び調整機構１２ａ〜１２ｅの仕様に基づき、変形補正機
構１８の補正部１９の上面が吸着保持部６の吸着面より
も距離αだけ低い位置にあってもマスクＭのたわみの影
響を補正できる場合あるいは影響を受けない場合は、昇
降部２０，２０を駆動しない。

【００２９】そして、マスクローダ系（不図示）により
マスクＭを、マスクテーブル９上へ搬送する。ここで、
マスクＭは、吸着保持部４，５，６によってマスクテー
ブル９に吸着保持されるとともに、図３に示すように、
補正部１９，１９によって吸着保持部６の両側を支持さ
れて自重による変形を補正される。そのため、マスクＭ
は、走査方向において発生する自重による変形が抑制さ
れる。

【００３０】また、補正部１９，１９が吸着保持部４，
５とほぼ対向するように配置されており、マスクＭに対
してクロススキャン方向両端縁における支持態様が対称
になるので、マスクＭはクロススキャン方向の自重によ
る変形が露光精度に影響を与えない程度に、走査方向に
亙ってほぼ同じになるように補正される。

【００３１】一方、投影光学系１０ａ〜１０ｅおよび調
整機構１２ａ〜１２ｅの仕様に基づき、変形補正機構１
８の補正部１９の上面が吸着保持部６の吸着面よりも距
離αだけ低い位置にあるために露光精度に影響を与える
場合は、昇降部２０，２０を駆動させる。すなわち、昇
降部２０，２０により補正部１９，１９を、その上面が
吸着保持部６の吸着面よりも僅かに低くなるように上昇
させる。これにより、マスクＭは、吸着保持部４，５，
６および補正部１９，１９に支持されて、吸着保持部６
が位置する端縁の自重による変形がほぼ解消される。し
たがって、クロススキャン方向の自重による変形が走査
方向に亙ってより均一になるように補正される。

【００３２】この後、複数の照明光学系８ａ〜８ｅのそ
れぞれから射出された光束が、マスクＭ上の異なる照明
領域Ｍ１〜Ｍ５を照明する。マスクＭを透過した複数の
光束は、それぞれ異なる投影光学系１０ａ〜１０ｅを介
してガラスプレートＰ上の異なる転写領域Ｐ１〜Ｐ５に
マスクＭの照明領域Ｍ１〜Ｍ５のパターン１３の像を正
立等倍で結像する。

【００３３】このとき、投影光学系１０ａ〜１０ｅおよ
び調整機構１２ａ〜１２ｅは、クロススキャン方向にお
けるマスクＭの自重による変形の影響を補正するように
調節されている。

【００３４】そして、駆動装置１４および２１を駆動す
ることにより、マスクテーブル９およびプレートテーブ
ル１１を介してマスクＭとガラスプレートＰとを同期し
て、投影光学系１０ａ〜１０ｅに対してＸ方向に走査す
る。これにより、マスクＭのパターン１３の全面がガラ
スプレートＰ上の露光領域２４に転写される。

【００３５】本実施の形態の基板保持装置および露光装
置では、マスクＭが吸着保持部４，５，６により三ヶ所
で吸着保持されていても、一ヶ所で吸着保持する吸着保
持部６の走査方向両側で補正部１９，１９により下方か
ら支持されているので、マスクＭに対するクロススキャ
ン方向両端縁の支持態様をほぼ対称とすることができ
る。したがって、本実施の形態の基板保持装置および露
光装置では、投影光学系１０ａ〜１０ｅおよび調整機構
１２ａ〜１２ｅがマスクＭの自重による変形を補正でき
るように、クロススキャン方向の上記自重による変形を
走査方向に亙って一様にすることができる。

【００３６】また、本実施の形態の基板保持装置および
露光装置では、昇降部２０，２０により補正部１９，１
９を昇降させることができるので、投影光学系１０ａ〜
１０ｅおよび調整機構１２ａ〜１２ｅの仕様に基づいて
マスクＭに対する支持態様を種々調節することができ
る。さらに、本実施の形態の基板保持装置および露光装
置では、補正部１９，１９の上面が吸着保持部４，５，
６の吸着面より僅かに低い位置またはこの位置よりもさ
らに低い位置でマスクＭを支持するようになっているの
で、マスクＭが吸着保持部６に吸着される際に吸着エラ
ーを起こしてしまうことを防止できる。

【００３７】図４は、本発明の基板保持装置および露光
装置の第２の実施の形態を示す図である。この図におい
て、図１ないし図３に示す第１の実施の形態の構成要素
と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省
略する。第２の実施の形態と上記の第１の実施の形態と
が異なる点は、マスクテーブル９に変形補正機構２５を
設けた点である。

【００３８】変形補正機構２５は、マスクテーブル９に
吸着保持されたマスクＭの自重による変形を補正するも
のであって、補正部２６と、昇降部２７とから構成され
ている。補正部２６は、吸着保持部４，５間に吸着保持
部６とほぼ対向する位置に配置され、下方からマスクＭ
を支持するものであって、金属やセラミックス等の硬質
材により直方体状にそれぞれ形成されている。また、補
正部２６は、吸着保持部４，５，６の上面よりも低い位
置に設けられている。

【００３９】昇降部２７は、マスクテーブル９に配置さ
れ、積層型ピエゾアクチュエータ等により補正部２６
を、その上面が吸着保持部４，５の吸着面より僅かに低
くなる位置と、この位置よりもさらに低い位置との間で
鉛直方向に昇降させて、この間の任意の位置に移動させ
るものである。他の構成は、上記第１の実施の形態と同
様である。

【００４０】本実施の形態の基板保持装置および露光装
置では、上記第１の実施の形態と同様の作用・効果が得
られることに加えて、吸着保持部４，５が配置されるマ
スクＭの端縁においても変形補正機構２５がマスクＭの
自重による変形を防止するので、マスクテーブル９にさ
らに大型のマスクが保持された際にも走査方向における
自重による変形を抑制して、投影光学系１０ａ〜１０ｅ
および調整機構１２ａ〜１２ｅがマスクの自重による変
形を補正できるように、クロススキャン方向の上記自重
による変形を走査方向に亙って一様にすることができ
る。

【００４１】なお、上記実施の形態において、変形補正
機構がマスクテーブルに設けられる構成としたが、これ
に限られることなく、プレートテーブルに設けられる構
成やマスクテーブル、プレートテーブル双方に設けられ
る構成であってもよい。また、基板としては、マスク、
ガラスプレートに限られず、半導体ウエハであってもよ
い。そして、マスクテーブルとプレートテーブルとが駆
動装置によってそれぞれ移動する構成としたが、キャリ
ッジ上にマスクテーブルとプレートテーブルとを設け、
キャリッジが移動することでマスクとガラスプレートと
が一体的に同期移動するような構成であってもよい。

【００４２】また、昇降部２０，２０を積層型ピエゾア
クチュエータ等で構成されるとしたが、エアシリンダ等
を用いるような構成でもよい。補正部１９，１９を直方
体形状としたが、マスクＭに対して膨出するような円弧
形状を有する形状としてもよい。

【００４３】なお、露光装置としては、マスクとガラス
プレートとを静止した状態でマスクのパターンを露光
し、ガラスプレートを順次ステップ移動させるステップ
・アンド・リピート型の露光装置、いわゆるステッパー
にも適用することができる。露光装置の種類としては、
液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば、半導
体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するため
の露光装置にも広く適用できる。

【００４４】また、照明光学系８ａ〜８ｅの光源として
は、水銀ランプから発生する輝線（ｇ線、ｉ線）、Ｋｒ
Ｆエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレー
ザ（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみなら
ず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができ
る。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱
電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タ
ンタル（Ｔａ）を用いることができる。

【００４５】投影光学系１０ａ〜１０ｅの倍率は、等倍
系のみならず縮小系および拡大系のいずれでもよい。ま
た、投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外
線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線
を透過する材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合
は反射屈折系または屈折系の光学系にし（レチクルも反
射型タイプのものを用いる。）、また電子線を用いる場
合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電
子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路
は、真空状態にすることはいうまでもない。

【００４６】また、投影光学系を用いることなく、マス
クとガラスプレートとを密接させてマスクのパターンを
露光するプロキシミティ露光装置にも適用することがで
きる。マスクテーブルやプレートテーブルにリニアモー
タを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型
およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気
浮上型のどちらを用いてもよい。また、テーブルは、ガ
イドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けな
いガイドレスタイプであってもよい。

【００４７】この場合、プレートテーブルの移動により
発生する反力は、フレーム部材を用いて機械的に床（大
地）に逃がしてもよい。また、マスクテーブルの移動に
より発生する反力は、フレーム部材を用いて機械的に床
（大地）に逃がしてもよい。

【００４８】なお、複数のレンズから構成される照明光
学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整を
するとともに、多数の機械部品からなるマスクテーブル
やプレートテーブルを露光装置本体に取り付けて配線や
配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）
をすることにより本実施の形態の露光装置を製造するこ
とができる。この露光装置の製造は、温度およびクリー
ン度が管理されたクリーンルームで行うことが望まし
い。

【００４９】液晶表示素子は、液晶表示素子の機能・性
能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマ
スクを製作するステップ、ガラスプレートを製作するス
テップ、前述した実施の形態の露光装置によりマスクの
パターンをガラスプレートに露光するステップ、液晶表
示素子を組み立てるステップ、検査ステップ等を経て製
造される。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る基
板保持装置は、基板が保持される水平面よりも低い位置
に設けられた補正部が、基板の自重による変形を補正す
る構成となっている。これにより、この基板保持装置で
は、面積の大きい基板を保持した際にも基板の自重によ
る変形を補正して、この基板をほぼ水平面に沿って保持
できるという優れた効果が得られる。

【００５１】請求項２に係る基板保持装置は、昇降部が
補正部を昇降させる構成となっている。これにより、こ
の基板保持装置では、基板に応じて、該基板の自重によ
る変形に対する補正量を種々調節できるという優れた効
果が得られる。

【００５２】請求項３に係る露光装置は、マスクを保持
する第１基板保持装置と、感光部材を保持する第２基板
保持装置との少なくとも一方に、請求項１または請求項
２記載の基板保持装置を用いる構成となっている。これ
により、この露光装置では、面積の大きいマスクと感光
部材を吸着保持した際にも、吸着エラーを起こすことな
く、これらのうち少なくとも一方の自重による変形を補
正してほぼ水平面に沿って保持できるという優れた効果
を奏するものである。

【００５３】請求項４に係る露光装置は、マスクと感光
部材とが所定方向に同期移動する走査型の露光装置であ
る構成となっている。これにより、この露光装置では、
マスクと感光部材との少なくとも一方の自重による変形
を走査方向に亙って一様にすることができ、投影光学系
等を用いてこの変形の影響を排除することにより高精度
の走査露光を行えるという効果が得られる。

【００５４】請求項５に係る露光装置は、補正部が所定
の方向に沿ってマスクと感光部材との少なくとも一方の
自重による変形を補正する構成となっている。これによ
り、この露光装置では、マスクと感光部材との少なくと
も一方の自重による走査方向と直交する方向の変形を、
走査方向に亙って一様にすることができ、投影光学系等
を用いてこの変形の影響を排除することにより高精度の
走査露光を行えるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、マスクテーブルに変形補正機構が設けられた外観斜
視図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、マスクとガラスプレートとを同期走査して露光する
走査型露光装置の概略構成図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、マスクの両端が補正部に支持される断面図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、マスクテーブルに変形補正機構が設けられた外観斜
視図である。

【図５】従来技術のマスクテーブルの一例を示す外観
斜視図である。

【図６】従来技術のマスクテーブルに、マスクが吸着
保持される断面図である。

【符号の説明】

Ｍマスク（基板）Ｐガラスプレート（感光部材）４，５，６吸着保持部（保持部）７走査型露光装置（露光装置）９マスクテーブル（第１基板保持装置）１１プレートテーブル（第２基板保持装置）１９，２６補正部２０，２７昇降部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板をほぼ水平面に沿って保持する保持
部と、前記水平面よりも低い位置に設けられ、前記基板の自重
による変形を補正する補正部とを設けたことを特徴とす
る基板保持装置。
【請求項２】請求項１記載の基板保持装置において、前記補正部を昇降させる昇降部を設けたことを特徴とす
る基板保持装置。
【請求項３】マスクのパターンを感光部材に露光する
露光装置において、前記マスクをほぼ水平面に沿って保
持する第１基板保持装置と、前記感光部材を前記水平面
に沿って保持する第２基板保持装置との少なくとも一方
に、請求項１または請求項２記載の基板保持装置を用い
たことを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項３記載の露光装置において、該露光装置は、前記マスクと前記感光部材とを所定方向
に同期移動させる走査型の露光装置であることを特徴と
する露光装置。
【請求項５】請求項４記載の露光装置において、前記保持部は、前記所定の方向に沿って前記マスクと前
記感光部材との少なくとも一方を保持しており、前記補正部は、前記所定の方向に沿って前記マスクと前
記感光部材との少なくとも一方の自重による変形を補正
していることを特徴とする露光装置。