CN101052923A - 曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法 - Google Patents

Abstract

一种曝光装置，透过投影光学系统(PL)把掩模(M)上所形成的图案曝光至感光性基板(P)，具备：搭载着支撑掩模(M)的掩模载台(MST)及投影光学系统(PL)的至少的一方的上架台部(26)、以及支撑着上架台部(26)，并在所定方向上具有长方向的多个下架台部(6a)。

Description

曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法

技术领域

本发明是有关于一种用于以微影工序制造液晶显示元件等的平板显示元件等的微元件的曝光装置、该曝光装置的制造方法及采用该曝光装置的微元件的制造方法。

背景技术

现在，关于液晶显示元件等的制造，是采用微影的方法把掩模上所形成的微细图案转写到感光性基板。在采用此微影方法的制造工序中，当掩模被载置于二维移动的掩模载台上时，采用的是投影曝光装置，把此掩模上所形成的图案透过投影光学系统，投影曝光到载置于二维移动的基板载台的感光性基板上。且感光性基板，例如是在玻璃板等的表面涂有感光剂的东西。现有的曝光装置，如图7所示，是借由把搭载掩模载台104及投影光学系统(未图示)的架台部(支柱，column)106装载到搭载基板载台100的架台部(定盘)102上组装而成。

近年来，曝光装置，伴随着平板显示元件使用，例如液晶显示用的基板的大型化、掩模及基板(连带地掩模载台及基板载台)的大型化、掩模载台及基板载台的冲程的加长化的发展，支撑此些掩模载台及基板载台的架台部也要大型化。然而，因为搬运具备此些架台部的曝光装置时，受限于道路宽度等的情况，其大小也受到限制。

发明内容

在此，本发明的课题是，提供一种曝光装置、采用该曝光装置的制造方法及采用该曝光装置的微元件的制造方法，此曝光装置具有搭载着曝光本体部的至少一部份(例如，掩模载台和投影光学系统中至少一方)及基板载台等。

依照本发明的第1形态，提供一种曝光装置，透过投影光学系统把掩模上所形成的图案曝光至感光性基板，包括：上架台部，搭载着支撑掩模的掩模载台及投影光学系统的至少之一方；以及多个下架台部，设成可自上架台部分离，并在所定方向上具有长方向，且支撑着上架台部。

依照本发明的第1形态，因为具备了多个下架台部，其设成可从上架台部分离，且在所定方向上具有长方向，所以可提供的曝光装置为能够以车辆(甚至是飞机)来承载、搬运，且具备了能载置大型基板的大型基板载台。

依照本发明的第2形态，提供一种曝光装置，透过投影光学系统把图案曝光至感光性基板上，包括：第1架台部(上架台部)，设有包含着投影光学系统的曝光本体部的至少一部份；以及第2架台部，利用一对支撑部(中架台部)支撑第1架台部，此对支撑部是设成可自第1架台部分离，分别以第1方向为长方向而延长，且此对支撑部是夹投影光学系统并在与第1方向交叉的第2方向分离而配置。

依照本发明的第2形态，因为具备了设有曝光本体部的至少一部份第1架台部、以及利用一对支撑部支撑第1架台部的第2架台部，此对支撑部是设成可自第1架台部分离，分别以第1方向为长方向而延长，且夹投影光学系统并在与第1方向交叉的第2方向分离地配置，所以，借由彼此分离，可以车辆(甚至是飞机)承载、搬运。

依照本发明的第3形态，提供一种曝光装置的制造方法，透过投影光学系统，把图案曝光至感光性基板上，包括：下架台部设置工序，设置下架台部，此下架台部搭载着支撑感光性基板的基板载台；中架台部设置工序，把多个中架台部设置在下架台部设置工序所设置的下架台部上；以及上架台部设置工序，把上架台部设置在中架台部设置工序所设置的中架台部上，上架台部搭载着含有投影光学系统的曝光本体部的至少一部份。

依照本发明的第3形态，因为下架台部上设置了多个中架台部，在多个中架台部上设置搭载着含有投影光学系统的曝光本体部的至少一部份的上架台部，所以，可制造出的曝光装置为采用能够运搬的大小的多个架台部，且可对大型的感光性基板进行曝光。

依照本发明的第4形态，提供一种微元件的制造方法，包括：利用上述形态之曝光装置或由曝光装置的制造方法所制造出的曝光装置，把所定图案曝光至感光性基板上的曝光工序；以及对曝光工序所曝光过的感光性基板进行显影的显影工序。

依照本发明的第4形态，因为利用上述形态之曝光装置或由曝光装置的制造方法所制造出的曝光装置来制造微元件，所以，可把掩模的图案高精度地曝光至大型感光基板上，且可获得良好的微元件。

本发明对大型的感光性基板，例如是外径超过500mm的感光性基板进行曝光的装置、方法特别地有效。在此，感光性基板的外径是指感光性基板的一边或是感光性基板的对角线。

依照本发明的曝光装置，可把多个架台部分离再以车辆承载、搬运。以此方式，可提供的曝光装置为具备能够载置大型基板的基板载台。

并且，依照本发明之曝光装置的制造方法，因为在搭载着基板载台的下架台部上设置了多个中架台部，在多个中架台部上设置搭载着含有投影光学系统的曝光本体部的至少一部份的上架台部，所以，利用能够搬运的大小的多个架台部，可制造出能够对大型感光基板进行曝光的曝光装置。

又，依照本发明的微元件的制造方法，因为利用本发明之曝光装置或由本发明之制造方法所制造出的曝光装置来制造微元件，所以，可把掩模的图案高精度地曝光至大型感光基板上，且可获得良好的微元件。

为让本发明之上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。

附图说明

图1是示出本发明实施例的曝光装置的概略构成图。

图2是示出本发明实施例的从掩模载台到平板载台为止的构成的斜视图。

图3是示出推押基准面的构成图。

图4是用以说明本发明实施例的曝光装置的制造方法的流程图。

图5是示出实施例中作为微元件的半导体元件的制造方法的流程图。

图6是示出实施例中作为微元件的液晶显示元件的制造方法的流程图。

图7是示出现有的曝光装置的从掩模载台到平板载台为止的概略构成的斜视图。

具体实施方式

以下，参照附图，说明本发明实施例的曝光装置。图1是示出本实施例的曝光装置的概略构成图。在以下的说明中，在图1中设定XYZ直交座标，一边参照XYZ直交座标系一边说明各构件的位置关系。XYZ直交座标系，X轴及Y轴是设定成相对于平板P呈平行，Z轴是设定成相对于平板P呈直交的方向。图中的XYZ座标系，实际上XY平面是设定成水平面上平行的面，Z轴是设定成铅直上方向。且，在此实施例中，平板P(平板载台PST)移动的方向(扫瞄方向)是设定成X轴方向。

此曝光装置，如图1所示，具备含光源及照明光学系统的照明光学装置IL。从照明光学装置IL射出的光束，重叠照射至形成有所定图案的掩模M。通过掩模图案的光束，透过投影光学系统PL，在外径超过500mm大小的感光性基板的平板P上形成掩模M的图案的像。在此，外径超过500mm是指一边或对角线比500mm还要大。这样的话，此曝光装置，在XY平面内，使载置掩模M的掩模载台MST，和载置平板P的平板载台(基板载台)PST，在扫瞄方向(X轴方向)相对于投影光学系统呈相对的同步移动，且在二维驱动控制平板载台PST的同时一边进行扫瞄曝光，借此，把掩模M的图案分别曝光至平板P的多个曝光区域。且，在本实施例中，虽是利用照明光学装置IL、掩模载台MST、及投影光学系统PL来构成曝光本体部，举例而言，若取代掉掩模M而改以采用电子掩模(也称之为可变成形掩模，variable forming mask，例如是包含非发光型影像显示元件(空间光变调器)之一种的DMD(数字微晶镜片，DigitalMicro-mirror Device))的场合，便不需要掩模载台MST。且投影光学系统PL也可以是至少在与Y轴方向不同的位置处，分别具有设定了图案像的投影区域的多个投影光学模组。

又，此曝光装置，如图1所示，在曝光装置本体所设置的基座上具备4个防振系统(支撑构件)4a、4b、4c(参照图2)及未图示的防振系统(以下，称之为防振系统4d。)。图2是示出本实施例的曝光装置的从掩模载台MST到平板载台PST为止的概略构成的斜视图。在图2中，省略了投影光学系统PL的图示。

如图1及图2所示，防振系统4a、4b是配置在被载置于防振系统4a、4b上的下架台部6a的长方向的两端。且，如图2所示，防振系统4c、4d是配置在被载置于防振系统4c、4d上的下架台部6b的长方向的两端。防振系统4a～4d在曝光装置组装后，可调整后述空气导部12a、12b的扭转度(twist)。由防振系统4a、4b支撑的下架台部6a，位在-X方向侧，是配置成下架台部6a的长方向位于与平板载台PST的扫瞄方向交叉的方向(所定的方向，在本实施例为Y轴方向)。且，由防振系统4c、4d支撑的下架台部6b，位在+X方向侧，是配置成下架台部6b的长方向位于与平板载台PST的扫瞄方向交叉的方向(所定的方向)。下架台部6a、6b是配置成在与长方向交叉的方向相分离，在此实施例中是由两个构件所构成。下架台部6a、6b是透过后述的中架台部22a、22b，支撑着上架台部26。

如图2所示，在下架台部6a、6b上搭载着定盘8(连带地与平板载台PST)。且在下架台部6a、6b上，在-Y方向侧，设置具有长方向沿着X方向的线性马达定子10a，在+Y方向侧，设置具有长方向沿着X方向的线性马达定子10b。

在搭载于下架台部6a、6b上的定盘8上，透过作为平板载台PST的扫瞄方向的导引的空气导部12a、12b，作为与平板载台PST的扫瞄方向交叉的方向(非扫瞄方向)的导引的空气导部14，是配置在线性马达定子10a、10b之间。对空气导部14而言，作为平板载台PST的扫瞄方向的致动器的线性马达16a，是连接到线性马达定子10a侧，作为平板载台PST的扫瞄方向的致动器的线性马达16b，是连接到线性马达定子10b侧。因此，借由驱动线性马达16a、16b，空气导部14(连带地与平板载台PST)会沿着扫瞄方向移动。

空气导部14上，载置着平板载台PST，透过平板载台PST上的平板支架(未图示)，吸着支撑着平板P(在图2中未图示出)。在平板载台PST上，在-X方向侧设有移动镜18a，在线性马达定子10b侧设有移动镜18b，在定盘8上，在-X方向侧设有平板载台激光干涉计20a，在后述的中架台22b的-Y方向侧的侧面设有平板载台激光干涉计20b。从平板载台激光干涉计20a、20b射出的激光，分别入射至移动镜18a、18b，再由移动镜18a、18b反射。

平板载台激光干涉计20a，根据从移动镜18a反射的激光的干涉，来计测及控制平板载台PST的X轴方向的位置。且平板载台激光干涉计20b，根据从移动镜18b反射的激光的干涉，来计测及控制平板载台PST的Y轴方向的位置。

且，在-Y方向侧的下架台部6a、6b上，载置着中架台部22a，在+Y方向侧的下架台部6a、6b上，载置着中架台部22b。中架台部22a、22b，与下架台部6a、6b连结，且下架台6a、6b与后述的上架台部26连结。中架台部22a、22b是配置成，中架台部22a、22b的长方向位在与下架台部6a、6b的长方向交叉的方向(X轴方向、与所定的方向交叉的方向)。亦即，中架台部22a，位在-Y方向侧，且中架台部22a的长方向是配置成与平板载台PST的扫瞄方向相平行。中架台部22b，位在+Y方向侧，且中架台部22b的长方向是配置成与平板载台PST的扫瞄方向相平行。像这样，中架台部22a、22b相对于下架台部6a、6b呈井字构造地连结，且在下架台部6a、6b的上方形成由中架台部22a、22b夹出的空间。

在下架台部6a与中架台部22a的连结部，设有修正用隔片(spacer)(位置调整用的修正构件)24a，修正用隔片24a具有缓和下架台部6a与中架台部22a的加工精度的功能。修正用隔片24a的尺寸是根据下架台部6a及中架台部22a的加工时的尺寸资料而决定。同样地，在下架台部6a与中架台部22b的连结部，设有修正用隔片(位置调整用的修正构件)24b，在下架台部6b与中架台部22a的连结部，设有修正用隔片(位置调整用的修正构件)24c，在下架台部6b与中架台部22b的连结部设有未图示的修正用隔片(位置调整用的修正构件，以下称之为修正用隔片24d)，修正用隔片24b～24d具有缓和下架台部6a、6b与中架台部22a、22b的加工精度的功能。修正用隔片24b～24d的尺寸是根据下架台部6a、6b及中架台部22a、22b的加工时的尺寸资料而决定。

并且，下架台部6a与中架台部22a的连结部，设有如图3的斜线部所示的推押基准面25，利用气轮(air caster)等，把中架台22a的对应面推押至下架台部6a的推押基准面25。在下架台部6a与中架台部22b的连结部、及下架台部6b与中架台部22a、22b的连结部，也设有与推押基准面25同样的推押基准面，利用气轮等把中架台部22a、22b的对应面推押到下架台部6a、6b的推押基准面。

并且，在中架台部22a、22b上载置着上架台部26，上架台部26，在与平板载台PST的扫瞄方向(X轴方向)交叉的方向(所定的方向)具有长方向，与中架台部22a、22b的长方向交叉连结。在上架台部26，搭载着掩模载台MST及投影光学系统PL，其构成方式为由上架台部26与下架台部6a、6b所围成的空间宽度超过500mm的大小。

又，中架台部22a、22b的间隔具有超过500mm的宽度。借由像这样的构成，上架台部26与下架台部6a、6b、与中架台部22a、22b所围成的空间的宽度超过500mm的大小，可组入能够搭载超过500mm大小基板的平载载台PST。且，中架台部22a、22b的间隔是设定成对应于平板P大小的空间，或者是对应于平板载台的移动量的空间。

在上架台部26和中架台部22a的连结部，设有修正用填隙片(shim)(位置调整用修正构件)28a、28c，修正用填隙片28a、28c调整在曝光装置组装后产生的空气导部32a、32b的扭转度。亦即，因为上架台部26与中架台部22a之间能够插入起重机(jack)，上架台部26与中架台部22a的组装误差的空气导部32a、32b的扭转度，可以利用修正用填隙片28a、28c容易地进行微调整。同样地，上架台部26及中架台部22b的连结部，设有修正用填隙片(位置调整用修正构件)28b及未图示的修正用填隙片(位置调整用修正构件，以下称之为修正用填隙片28d)，修正用填隙片28b、28d调整在曝光装置组装后产生的空气导部32a、32b的扭转度。亦即，因为在上架台部26与中架台部22b之间能够插入起重机，上架台部26与中架台部22b的组装误差的空气导部32a、32b的扭转度，可以利用修正用填隙片28b、28d容易地进行微调整。

又，在上架台部26和中架台部22a、22b的连结部，分别设有与图3的斜线部所示的推押基准面25同样的推押基准面，利用气轮把上架台部26和中架台部22a、22b推押至各自的推押基准面。

在上架台部26上，在-Y方向侧，设置着长方向沿着X方向的掩模用线性马达定子30a。并且，在上架台部26上，在+Y方向侧，设置着长方向沿着X方向的掩模用线性马达定子30b。在上架台部26上，透过掩模载台MST的扫瞄方向(X轴方向)的导引的空气导部32a、32b，未图示的掩模副载台可载置在线性马达定子30a与30b之间。掩模副载台，连接着与掩模载台MST的扫瞄方向交叉的方向(Y轴方向)的致动器的非扫瞄方向线性马达34。又，在非扫瞄方向线性马达34中，掩模载台MST的扫瞄方向的致动器的掩模副载台用线性马达36，连接于掩模用线性马达定子30a侧。因此，借由驱动掩模副载台用线性马达36(及后述掩模用线性马达38a、38b)，掩模副载台及非扫瞄方向线性马达34，和掩模载台MST一同地沿着掩模载台MST的扫瞄方向(X轴方向)移动。

又，在未图示的掩模副载台上，载置着掩模载台MST。在掩模载台MST上，掩模载台MST的扫瞄方向的致动器的掩模用线性马达38a、38b连接到掩模用线性马达定子30a侧，作为掩模载台MST的扫瞄方向的致动器的未图示的掩模用线性马达连接到掩模用线性马达定子30b侧。因此，掩模用线性马达30a、30b，借由驱动未图示的掩模用线性马达及掩模副载台用线性马达36，掩模副载台、非扫瞄方向线性马达34及掩模载台MST，沿着掩模载台MST的扫瞄方向(X轴方向)移动。

又，在掩模载台MST上，透过掩模支架(未图示)，吸着支撑着掩模M(在图2中未图示出)。掩模载台MST的-X方向侧的侧面，设有未图示的两个移动镜，从掩模载台激光干涉计40a、40b射出的激光，分射入射至两个移动镜，入射的激光再由两个移动镜反射出。掩模载台激光干涉计40a、40b，根据两个移动镜反射的激光的干涉，来计测及控制掩模载台MST的X轴方向。

在掩模载台MST上，掩模载台激光干涉计40c设在线性马达定子30b侧。且，从掩模载台激光干涉计40c射出的激光会入射至固定镜42。固定镜42，在夹掩模用线性马达定子30b而对向于掩模载台MST位置处，沿着掩模用线性马达定子30b的长方向(X轴方向)而设置。掩模载台激光干涉计40c，根据从固定镜42反射的激光的干涉，来计测及控制掩模载台MST的Y轴方向的位置。

其次，说明本实施例的曝光装置的制造方法。图4是用以说明本实施例的曝光装置的制造方法的流程图。

首先，设置下架台部6a，6b(步骤S10，下架台部设置工序)，其搭载着用于支撑平板P的平板载台PST。具体而言，下架台部6a、6b是设置成其长方向位在与平板载台PST的扫瞄方向交叉的方向(Y轴方向)。

其次，在步骤S10设置的下架台部6a、6b上设置中架台部22a、22b(步骤S11，中架台部设置工序)。具体而言，中架台部22a、22b是设置成其长方向位于平板载台PST的扫瞄方向(X轴方向)，使中架台部22a、22b的长方向与下架台部6a、6b的长方向交叉，让中架台部22a、22b、与下架台部6a、6b相连结。当连结时，是利用连结构件来接合。连结构件可使用螺栓等，也可使用接着、焊接等。

其次，在步骤S11设置的中架台部22a、22b上，设置搭载着掩模载台MST及投影光学系统PL的上架台部26(步骤S12，上架台部设置工序)，掩模载台MST支撑着掩模M。具体而言，上架台部26设置成其长方向位于与平板载台PST的扫瞄方向交叉的方向(Y轴方向)，而使上架台部26的长方向与中架台部22a、22b的长方向交叉，并使上架台部26与中架台部22a、22b连结。

依照本实施例的曝光装置，可提供的曝光装置为：具备两个下架台部，其长方向位于与平板载台的扫瞄方向交叉的方向，具备两个中架台部，其长方向位于与下架台部的长方向交叉的方向，具备上架台部，其长方向位于与中架台部的长方向交叉的方向，所以，其架台部可做成能够搬运的大小，且可载置大小超过500mm的大型感光性基板载台。

并且，在下架台部和中架台部的连结部，具有作为位置调整用的修正构件的修正用隔片，在中架台部和上架台部的连结部，具有作为位置调整用的修正构件的修正用填隙片，因为在各架台部的连结部上具有推押基准面，可防止分割架台部产生的组装精度之降低，可确保高曝光精度。因此，利用具有高曝光精度的曝光装置，可进行良好的曝光。

并且，依照本实施例的曝光装置的制造方法，可设置支撑平板载台的下架台部，可在下架台部上设置中架台部，可在中架台部上高精度地设置支撑着掩模载台及投影光学系统的上架台部，具备可搬运的大小的多个架台部，且可制造出能够在对大型的感光基板进行曝光的曝光装置。

又，在本实施例的曝光装置中，虽然具备了两个下架台部，但具备3个以上的下架台部也可。在此场合，要把3个以上的下架台部中至少两个与中架台部连结。再者，下架台部不是多个而只有一个的话也可。在此场合，比起具有多个下架台部的曝光装置，因为增大了重量，也可采用例如蜂窝(honeycomb)结构来使得下架台部的轻量化。又，在本实施例的曝光装置中，虽然具备了两个中架台部，但具备3个以上的中架台部也可。在此场合，要把3个以上的中架台部中至少两个与上架台部连结。又，例如采用蜂窝结构来使得多个中架台部的轻量化亦可。

并且，本实施例的曝光装置，虽然是在上架台部搭载了掩模载台及投影光学系统两者，但只搭载掩模载台及投影光学系统的一方至上架台部也可，或者是，掩模载台及投影光学系统不同，把曝光本体的一部份(例如，照明光学系统的至少一部份等)搭载到上架台部也可。又，例如采用蜂窝结构而使得上架台部的轻量化也可。再者，与前述的下架台部同样地，把多个上架台部设为与多个中架台部的长方向交叉的方向也可。在此场合，也可把载置掩模载台的定盘设在多个上架台部。

又，在本实施例的曝光装置中，虽具备了4个作为支撑构件的防振系统，但具备3个或5个以上的防振系统也可。

在上述实施例的曝光装置中，利用照明光学装置来照明掩模(照明工序)，利用投影光学系统把掩模上所形成的转写用图案曝光至感光性基板(曝光工序)，借此，可制造微元件(半导体元件、摄像元件，液晶显示元件、薄膜磁头等)。以下，利用上述实施例的曝光装置，在作为感光性基板的平板等上形成所定的回路图案，借此，参照接下来的图5的流程图，说明获得作为微元件的半导体元件时的方法的一例。

首先，在图5的步骤S301中，在1批的平板上蒸镀金属膜。其次，在步骤S302中，把光刻胶涂布到该1批的平板上。之后，在步骤S303中，采用上述实施例的曝光装置，掩模上的图案的像是透过其投影光学系统，被依次曝光转写到该1批的平板上的各短路区域。之后，在步骤S304的该1批平板上的光刻胶显影之后，在步骤S305中，以该1批平板上的光刻胶图案作为罩幕，进行蚀刻，借此，把掩模上的图案所对应的回路图案形成到各平板上的各短路区域。之后，再形成上层的回路图案，借此，可制造出半导体等的元件。依照上述半导体元件制造方法，可把掩模的微细图案高精度地曝光至基板上，可得良好的半导体元件。

又，在上述实施例的曝光装置中，借由把所定的图案(回路图案、电极图案)形成在平板(玻璃基板)上，可得作为微元件的液晶显示元件。以下，参照图6的流程图，说明此方法的一例。在图6中，在图案形成工序S401，采用上述实施例的曝光装置，把掩模的图案转写曝光至感光性基板(涂布了光刻胶的玻璃基板等)，进行所谓的微影工序。利用此微影工序，把包含多个电极的所定图案形成在感光性基板上。之后，曝光过的基板经过显影工序、蚀刻工序、光刻胶剥离工序等的各工序，在基板上形成所定的图案，再移往接下来的彩色滤光片形成工序S402。

其次，在彩色滤光片形成工序S402，对应R(红)、G(绿)、B(蓝)的3个点的组依阵列状的排成多列，或将R、G、B的3个条状的滤镜组沿多个水平扫瞄线方向排列，以形成彩色滤光片。然后，在彩色滤光片形成工序S402之后，进行单元(cell)组装工序S403。在单元组装工序中，用图案形成工序S401所得的具有图案的基板、及彩色滤光片形成工序S402所得的彩色滤光片等，组装液晶面板(液晶单元)。

在单元组装工序S403中，例如，把液晶注入到图案形成工序S401所得的具所定图案的基板与彩色滤光片形成工序S402所得的彩色滤光片之间，来制造液晶面板(液晶单元)。之后，在模组组装工序S404中，安装使组装后的液晶面板(液晶单元)执行显示动作的电气回路、背光(back light)等的各零件，以完成液晶显示元件。依照上述的液晶显示元件的制造方法，可把掩模的微细图案高精度地曝光在大型基板上，可得良好液晶显示元件。且，在1片基板上，也可以形成同一尺寸或不同尺寸的多个液晶面板。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明之精神和范围内，当可作些许之更动与润饰，因此本发明之保护范围当视后附的权利要求书所界定的为准。

Claims (31)

1.一种曝光装置，应用于透过投影光学系统把掩模上所形成的图案曝光至感光性基板上，其特征在于，所述曝光装置包括：

上架台部，搭载着支撑所述掩模的掩模载台及所述投影光学系统的至少的一方；以及

多个下架台部，设成可自所述上架台部分离，并在所定方向上具有长方向，且支撑着所述上架台部。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，包括多个中架台部，与所述上架台部及所述下架台部连结，并在与所述所定方向交叉的方向上具有长方向。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述上架台部在所述所定方向具有长方向，并与所述中架台部的长方向交差而连结。

4.如权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，所述上架台部，与所述中架台部中的至少两个相连结。

5.如权利要求2至4中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述多个中架台部，与所述多个下架台部中的至少两个相连结。

6.如权利要求2至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，在所述上架台部及所述下架台部与所述中架台部连结的连结部，具有位置调整用的修正构件。

7.如权利要求2至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述上架台部及所述下架台部与所述中架台部连结的连结部，分别具有推押基准面。

8.如权利要求1至7中任一项所述的曝光装置，其特征在于，在所述下架台部上搭载着支撑所述感光性基板的基板载台。

9.如权利要求1至8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述下架台部至少由4个支撑构件所支撑。

10.如权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述上架台部与所述下架台部所围成的空间的宽度超过500mm。

11.一种曝光装置，应用于透过投影光学系统把图案曝光至感光性基板上，其特征在于，所述曝光装置包括：

第1架台部，设有包含着所述投影光学系统的曝光本体部的至少一部份；以及

第2架台部，利用一对支撑部支撑所述第1架台部，所述一对支撑部是设成可自所述第1架台部分离，分别以第1方向为长方向而延长，且所述一对支撑部是夹所述投影光学系统并在与所述第1方向交叉的第2方向分离而配置。

12.如权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，所述第1架台部设有所述曝光本体部的至少一部份的投影光学系统。

13.如权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光本体部包含支撑着掩模的掩模载台，且所述第1架台部设有所述掩模载台及所述投影光学系统的至少一方。

14.如权利要求11至13中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述投影光学系统与所述感光性基板在扫瞄方向上相对地移动，以将所述图案曝光至所述感光性基板上，且所述第1方向与所述扫瞄方向略呈平行。

15.如权利要求11至14中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第1架台部是以所述第2方向为长方向。

16.如权利要求11至15中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第2架台部包括下架台部，所述下架台部是设成可从所述一对支撑部分离，以所述第2方向为长方向而延伸，并载置着基板载台，所述基板载台支撑着所述感光性基板。

17.如权利要求16所述的曝光装置，其特征在于，所述第2架台部，利用在所述第1方向分离配置的一对所述下架台部，支撑所述一对支撑部。

18.如权利要求11至15中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第2架台部包含多个下架台部，设成可从所述一对支撑部分离，以所述第2方向为长方向而延伸，并在所述第1方向上分离地设置。

19.如权利要求17或18所述的曝光装置，其特征在于，所述第2架台部包含定盘，以其长方向与所述第1方向一致地配置在所述下架台部上，且支撑着所述感光性基板的基板载台载置于所述定盘上。

20.如权利要求11至19中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第2架台部利用所述一对支撑部，限制出所述投影光学系统被配置的空间。

21.如权利要求1至20中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述感光性基板具有超过500mm的外径。

22.一种曝光装置的制造方法，所述曝光装置是透过投影光学系统，把图案曝光至感光性基板上，其特征在于，所述制造方法包括：

下架台部设置工序，设置下架台部，所述下架台部搭载着支撑所述感光性基板的基板载台；

中架台部设置工序，把多个中架台部设置在所述下架台部设置工序所设置的所述下架台部上；以及

上架台部设置工序，把上架台部设置在所述中架台部设置工序所设置的所述中架台部上，所述上架台部搭载着含有所述投影光学系统的曝光本体部的至少一部份。

23.如权利要求22所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述多个中架台部，位在所述下架台部上，各中架台部的长方向与第1方向一致，并夹所述投影光学系统在与所述第1方向交叉的第2方向分离地配置。

24.如权利要求22或23所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述上架台部，位在所述中架台部上，且配置成所述上架台部的长方向与所述第2方向一致。

25.如权利要求22至24中任一项所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述下架台部的长方向与所述第2方向一致，且在第1方向分离地设置多个。

26.如权利要求25所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述基板载台，载置于定盘上，所述定盘以其长方向与所述第1方向一致地配置在所述下架台部上。

27.如权利要求22至26中任一项所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述曝光本体部中支撑掩模的掩模载台及所述投影光学系统中至少一方设于所述上架台部。

28.如权利要求22至27中任一项所述的曝光装置的制造方法，其特征在于，所述感光性基板具有超过500mm的外径。

29.一种微元件的制造方法，其特征在于，包括：

曝光工序，利用权利要求1至21中任一项所述的曝光装置，把所定图案曝光至感光性基板上；以及

显影工序，对所述曝光工序所曝光过的所述感光性基板进行显影。

30.一种微元件的制造方法，其特征在于，包括：

曝光工序，利用权利要求22至28中任一项所述的曝光装置，把所定图案曝光至感光性基板上；以及

显影工序，对所述曝光工序所曝光过的所述感光性基板进行显影。

31.如权利要求29或30所述的微元件的制造方法，其特征在于，在所述感光性基板上形成多个平板显示元件。

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