TWI510869B - 曝光裝置、曝光裝置的製造方法以及元件的製造方法 - Google Patents

Description

曝光裝置、曝光裝置的製造方法以及元件的製造方法

本發明是有關於一種用於以微影工程製造液晶顯示元件等的平板顯示元件等的微元件的曝光裝置、該曝光裝置的製造方法及採用該曝光裝置的微元件的製造方法。

現在，關於液晶顯示元件等的製造，是採用微影的手法把光罩上所形成的微細圖案轉寫到感光性基板。在採用此微影手法的製造工程中，當光罩被載置於二維移動的光罩載台上時，採用的是投影曝光裝置，把此光罩上所形成的圖案透過投影光學系統，投影曝光到載置於二維移動的基板載台的感光性基板上。且感光性基板，例如是在玻璃板等的表面塗有感光劑的東西。習知的曝光裝置，如圖7所示，是藉由把搭載光罩載台104及投影光學系統(未圖示)的架台部(支柱，column)106裝載到搭載基板載台100的架台部(定盤)102上組裝而成。

近年來，曝光裝置，伴隨著平板顯示元件用，例如液晶顯示用的基板的大型化、光罩及基板(連帶地光罩載台及基板載台)的大型化、光罩載台及基板載台的衝程的加長化的發展，支撐此些光罩載台及基板載台的架台部也要大型化。然而，因為搬運具備此些架台部的曝光裝置時，受限於道路寬度等的情況，其大小也受到限制。

在此，本發明的課題是，提供一種曝光裝置、採用該曝光裝置的製造方法及採用該曝光裝置的微元件的製造方法，此曝光裝置具有，搭載著曝光本體部的至少一部份(例如，光罩載台和投影光學系統中至少一方)及基板載台等。

依照本發明的第1樣態，提供一種曝光裝置，透過投影光學系統把光罩上所形成的圖案曝光至感光性基板，包括：上架台部，搭載著支撐光罩的光罩載台及投影光學系統的至少之一方；以及多個下架台部，設成可自上架台部分離，並在所定方向上具有長方向，且支撐著上架台部。

依照本發明的第1樣態，因為具備了多個下架台部，其設成可從上架台部分離，且在所定方向上具有長方向，所以可提供的曝光裝置為能夠以車輛(甚至是飛機)來承載、搬運，且具備了能載置大型基板的大型基板載台。

依照本發明的第2樣態，提供一種曝光裝置，透過投影 光學系統把圖案曝光至感光性基板上，包括：第1架台部(上架台部)，設有包含著投影光學系統的曝光本體部的至少一部份；以及第2架台部，利用一對支撐部(中架台部)支撐第1架台部，此對支撐部是設成可自第1架台部分離，分別以第1方向為長方向而延長，且此對支撐部是夾投影光學系統並在與第1方向交叉的第2方向分離而配置。

依照本發明的第2樣態，因為具備了設有曝光本體部的至少一部份第1架台部、以及利用一對支撐部支撐第1架台部的第2架台部，此對支撐部是設成可自第1架台部分離，分別以第1方向為長方向而延長，且夾投影光學系統並在與第1方向交叉的第2方向分離地配置，所以，藉由彼此分離，可以車輛(甚至是飛機)承載、搬運。

依照本發明的第3樣態，提供一種曝光裝置的製造方法，透過投影光學系統，把圖案曝光至感光性基板上，包括：下架台部設置工程，設置下架台部，此下架台部搭載著支撐感光性基板的基板載台；中架台部設置工程，把多個中架台部設置在下架台部設置工程所設置的下架台部上；以及上架台部設置工程，把上架台部設置在中架台部設置工程所設置的中架台部上，上架台部搭載著含有投影光學系統的曝光本體部的至少一部份。

依照本發明的第3樣態，因為下架台部上設置了多個中架台部，在多個中架台部上設置搭載著含有投影光學系統的曝光本體部的至少一部份的上架台部，所以，可製造出的曝光裝置為 採用能夠運搬的大小的多個架台部，且可對大型的感光性基板進行曝光。

依照本發明的第4樣態，提供一種微元件的製造方法，包括：利用上述樣態之曝光裝置或由曝光裝置的製造方法所製造出的曝光裝置，把所定圖案曝光至感光性基板上的曝光工程；以及對曝光工程所曝光過的感光性基板進行顯影的顯影工程。

依照本發明的第4樣態，因為利用上述樣態之曝光裝置或由曝光裝置的製造方法所製造出的曝光裝置來製造微元件，所以，可把光罩的圖案高精度地曝光至大型感光基板上，且可獲得良好的微元件。

本發明對大型的感光性基板，例如是外徑超過500mm的感光性基板進行曝光的裝置、方法特別地有效。在此，感光性基板的外徑是指感光性基板的一邊或是感光性基板的對角線。

依照本發明的曝光裝置，可把多個架台部分離再以車輛承載、搬運。以此方式，可提供的曝光裝置為具備能夠載置大型基板的基板載台。

且，依照本發明之曝光裝置的製造方法，因為在搭載著基板載台的下架台部上設置了多個中架台部，在多個中架台部上設置搭載著含有投影光學系統的曝光本體部的至少一部份的上架台部，所以，利用能夠搬運的大小的多個架台部，可製造出能夠對大型感光基板進行曝光的曝光裝置。

又，依照本發明的微元件的製造方法，因為利用本發明 之曝光裝置或由本發明之製造方法所製造出的曝光裝置來製造微元件，所以，可把光罩的圖案高精度地曝光至大型感光基板上，且可獲得良好的微元件。

為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

6a、6b‧‧‧下架台部

4a~4d‧‧‧防振系統

8‧‧‧定盤

12a‧‧‧空氣導部

12b‧‧‧空氣導部

22a、22b‧‧‧中架台部

24a、24b‧‧‧修正用隔片

26‧‧‧上架台部

28a~28d‧‧‧修正用填隙片

32a‧‧‧空氣導部

32b‧‧‧空氣導部

IL‧‧‧照明光學裝置

M‧‧‧光罩

MST‧‧‧光罩載台

PL‧‧‧投影光學系統

P‧‧‧平板

PST‧‧‧平板載台

圖1是示出本發明實施例的曝光裝置的概略構成圖。

圖2是示出本發明實施例的從光罩載台到平板載台為止的構成的斜視圖。

圖3是示出推押基準面的構成圖。

圖4是用以說明本發明實施例的曝光裝置的製造方法的流程圖。

圖5是示出實施例中作為微元件的半導體元件的製造方法的流程圖。

圖6是示出實施例中作為微元件的液晶顯示元件的製造方法的流程圖。

圖7是示出習知的曝光裝置的從光罩載台到平板載台為止的概略構成的斜視圖。

以下，參照圖面，說明本發明實施例的曝光裝置。圖1 是示出本實施例的曝光裝置的概略構成圖。在以下的說明中，在圖1中設定XYZ直交座標，一邊參照XYZ直交座標系一邊說明各構件的位置關係。XYZ直交座標系，X軸及Y軸是設定成相對於平板P呈平行，Z軸是設定成相對於平板P呈直交的方向。圖中的XYZ座標系，實際上XY平面是設定成水平面上平行的面，Z軸是設定成鉛直上方向。且，在此實施例中，平板P(平板載台PST)移動的方向(掃瞄方向)是設定成X軸方向。

此曝光裝置，如圖1所示，具備含光源及照明光學系統的照明光學裝置IL。從照明光學裝置IL射出的光束，重疊照射至形成有所定圖案的光罩M。通過光罩圖案的光束，透過投影光學系統PL，在外徑超過500mm大小的感光性基板的平板P上形成光罩M的圖案的像。在此，外徑超過500mm是指一邊或對角線比500mm還要大。這樣的話，此曝光裝置，在XY平面內，使載置光罩M的光罩載台MST，和載置平板P的平板載台(基板載台)PST，在掃瞄方向(X軸方向)相對於投影光學系統呈相對的同步移動，且在二維驅動控制平板載台PST的同時一邊進行掃瞄曝光，藉此，把光罩M的圖案分別曝光至平板P的多個曝光區域。且，在本實施例中，雖是利用照明光學裝置IL、光罩載台MST、及投影光學系統PL來構成曝光本體部，舉例而言，若取代掉光罩M而改以採用電子光罩(也稱之為可變成形光罩，variable forming mask，例如是包含非發光型影像顯示元件(空間光變調器)之一種的DMD(數位微晶鏡片，Digital Micro-mirror Device))的場合，便不 需要光罩載台MST。且投影光學系統PL也可以是至少在與Y軸方向不同的位置處，分別具有設定了圖案像的投影區域的多個投影光學模組。

又，此曝光裝置，如圖1所示，在曝光裝置本體所設置的基座上具備4個防振系統(支撐構件)4a、4b、4c(參照圖2)及未圖示的防振系統(以下，稱之為防振系統4d。)。圖2是示出本實施例的曝光裝置的從光罩載台MST到平板載台PST為止的概略構成的斜視圖。在圖2中，省略了投影光學系統PL的圖示。

如圖1及圖2所示，防振系統4a、4b是配置在被載置於防振系統4a、4b上的下架台部6a的長方向的兩端。且，如圖2所示，防振系統4c、4d是配置在被載置於防振系統4c、4d上的下架台部6b的長方向的兩端。防振系統4a~4d在曝光裝置組裝後，可調整後述空氣導部12a、12b的扭轉度(twist)。由防振系統4a、4b支撐的下架台部6a，位在-X方向側，是配置成下架台部6a的長方向位於與平板載台PST的掃瞄方向交叉的方向(所定的方向，在本實施例為Y軸方向)。且，由防振系統4c、4d支撐的下架台部6b，位在+X方向側，是配置成下架台部6b的長方向位於與平板載台PST的掃瞄方向交叉的方向(所定的方向)。下架台部6a、6b是配置成在與長方向交叉的方向相分離，在此實施例中是由兩個構件所構成。下架台部6a、6b是透過後述的中架台部22a、22b，支撐著上架台部26。

如圖2所示，在下架台部6a、6b上搭載著定盤8(連帶地 與平板載台PST)。且在下架台部6a、6b上，在-Y方向側，設置具有長方向沿著X方向的線性馬達定子10a，在+Y方向側，設置具有長方向沿著X方向的線性馬達定子10b。

在搭載於下架台部6a、6b上的定盤8上，透過作為平板載台PST的掃瞄方向的導引的空氣導部12a、12b，作為與平板載台PST的掃瞄方向交叉的方向(非掃瞄方向)的導引的空氣導部14，是配置在線性馬達定子10a、10b之間。對空氣導部14而言，作為平板載台PST的掃瞄方向的致動器的線性馬達16a，是連接到線性馬達定子10a側，作為平板載台PST的掃瞄方向的致動器的線性馬達16b，是連接到線性馬達定子10b側。因此，藉由驅動線性馬達16a、16b，空氣導部14(連帶地與平板載台PST)會沿著掃瞄方向移動。

空氣導部14上，載置著平板載台PST，透過平板載台PST上的平板支架(未圖示)，吸著支撐著平板P(在圖2中未圖示出)。在平板載台PST上，在-X方向側設有移動鏡18a，在線性馬達定子10b側設有移動鏡18b，在定盤8上，在-X方向側設有平板載台雷射干涉計20a，在後述的中架台22b的-Y方向側的側面設有平板載台雷射干涉計20b。從平板載台雷射干涉計20a、20b射出的雷射光，分別入射至移動鏡18a、18b，再由移動鏡18a、18b反射。

平板載台雷射干涉計20a，根據從移動鏡18a反射的雷射光的干涉，來計測及控制平板載台PST的X軸方向的位置。且平 板載台雷射干涉計20b，根據從移動鏡18b反射的雷射光的干涉，來計測及控制平板載台PST的Y軸方向的位置。

且，在-Y方向側的下架台部6a、6b上，載置著中架台部22a，在+Y方向側的下架台部6a、6b上，載置著中架台部22b。中架台部22a、22b，與下架台部6a、6b連結，且下架台6a、6b與後述的上架台部26連結。中架台部22a、22b是配置成，中架台部22a、22b的長方向位在與下架台部6a、6b的長方向交叉的方向(X軸方向、與所定的方向交叉的方向)。亦即，中架台部22a，位在-Y方向側，且中架台部22a的長方向是配置成與平板載台PST的掃瞄方向相平行。中架台部22b，位在+Y方向側，且中架台部22b的長方向是配置成與平板載台PST的掃瞄方向相平行。像這樣，中架台部22a、22b相對於下架台部6a、6b呈井字構造地連結，且在下架台部6a、6b的上方形成由中架台部22a、22b夾出的空間。

在下架台部6a與中架台部22a的連結部，設有修正用隔片(spacer)(位置調整用的修正構件)24a，修正用隔片24a具有緩和下架台部6a與中架台部22a的加工精度的功能。修正用隔片24a的尺寸是根據下架台部6a及中架台部22a的加工時的尺寸資料而決定。同樣地，在下架台部6a與中架台部22b的連結部，設有修正用隔片(位置調整用的修正構件)24b，在下架台部6b與中架台部22a的連結部，設有修正用隔片(位置調整用的修正構件)24c，在下架台部6b與中架台部22b的連結部設有未圖示的修正用隔片 (位置調整用的修正構件，以下稱之為修正用隔片24d)，修正用隔片24b~24d具有緩和下架台部6a、6b與中架台部22a、22b的加工精度的功能。修正用隔片24b~24d的尺寸是根據下架台部6a、6b及中架台部22a、22b的加工時的尺寸資料而決定。

且，下架台部6a與中架台部22a的連結部，設有如圖3的斜線部所示的推押基準面25，利用氣輪(air caster)等，把中架台22a的對應面推押至下架台部6a的推押基準面25。在下架台部6a與中架台部22b的連結部、及下架台部6b與中架台部22a、22b的連結部，也設有與推押基準面25同樣的推押基準面，利用氣輪等把中架台部22a、22b的對應面推押到下架台部6a、6b的推押基準面。

且，在中架台部22a、22b上載置著上架台部26，上架台部26，在與平板載台PST的掃瞄方向(X軸方向)交叉的方向(所定的方向)具有長方向，與中架台部22a、22b的長方向交叉連結。在上架台部26，搭載著光罩載台MST及投影光學系統PL，其構成方式為由上架台部26與下架台部6a、6b所圍成的空間寬度超過500mm的大小。

又，中架台部22a、22b的間隔具有超過500mm的寬度。藉由像這樣的構成，上架台部26與下架台部6a、6b、與中架台部22a、22b所圍成的空間的寬度超過500mm的大小，可組入能夠搭載超過500mm大小基板的平載載台PST。且，中架台部22a、22b的間隔是設定成對應於平板P大小的空間，或者是對應於平板載 台的移動量的空間。

在上架台部26和中架台部22a的連結部，設有修正用填隙片(shim)(位置調整用修正構件)28a、28c，修正用填隙片28a、28c調整在曝光裝置組裝後產生的空氣導部32a、32b的扭轉度。亦即，因為上架台部26與中架台部22a之間能夠插入起重機(jack)，上架台部26與中架台部22a的組裝誤差的空氣導部32a、32b的扭轉度，可以利用修正用填隙片28a、28c容易地進行微調整。同樣地，上架台部26及中架台部22b的連結部，設有修正用填隙片(位置調整用修正構件)28b及未圖示的修正用填隙片(位置調整用修正構件，以下稱之為修正用填隙片28d)，修正用填隙片28b、28d調整在曝光裝置組裝後產生的空氣導部32a、32b的扭轉度。亦即，因為在上架台部26與中架台部22b之間能夠插入起重機，上架台部26與中架台部22b的組裝誤差的空氣導部32a、32b的扭轉度，可以利用修正用填隙片28b、28d容易地進行微調整。

又，在上架台部26和中架台部22a、22b的連結部，分別設有與圖3的斜線部所示的推押基準面25同樣的推押基準面，利用氣輪把上架台部26和中架台部22a、22b推押至各自的推押基準面。

在上架台部26上，在-Y方向側，設置著長方向沿著X方向的光罩用線性馬達定子30a。且，在上架台部26上，在+Y方向側，設置著長方向沿著X方向的光罩用線性馬達定子30b。在上架台部26上，透過光罩載台MST的掃瞄方向(X軸方向)的導引 的空氣導部32a、32b，未圖示的光罩副載台可載置在線性馬達定子30a與30b之間。光罩副載台，連接著與光罩載台MST的掃瞄方向交叉的方向(Y軸方向)的致動器的非掃瞄方向線性馬達34。又，在非掃瞄方向線性馬達34中，光罩載台MST的掃瞄方向的致動器的光罩副載台用線性馬達36，連接於光罩用線性馬達定子30a側。因此，藉由驅動光罩副載台用線性馬達36(及後述光罩用線性馬達38a、38b)，光罩副載台及非掃瞄方向線性馬達34，和光罩載台MST一同地沿著光罩載台MST的掃瞄方向(X軸方向)移動。

又，在未圖示的光罩副載台上，載置著光罩載台MST。在光罩載台MST上，光罩載台MST的掃瞄方向的致動器的光罩用線性馬達38a、38b連接到光罩用線性馬達定子30a側，作為光罩載台MST的掃瞄方向的致動器的未圖示的光罩用線性馬達連接到光罩用線性馬達定子30b側。因此，光罩用線性馬達30a、30b，藉由驅動未圖示的光罩用線性馬達及光罩副載台用線性馬達36，光罩副載台、非掃瞄方向線性馬達34及光罩載台MST，沿著光罩載台MST的掃瞄方向(X軸方向)移動。

又，在光罩載台MST上，透過光罩支架(未圖示)，吸著支撐著光罩M(在圖2中未圖示出)。光罩載台MST的-X方向側的側面，設有未圖示的兩個移動鏡，從光罩載台雷射干涉計40a、40b射出的雷射光，分射入射至兩個移動鏡，入射的雷射光再由兩個移動鏡反射出。光罩載台雷射干涉計40a、40b，根據兩個移動鏡 反射的雷射光的干涉，來計測及控制光罩載台MST的X軸方向。

在光罩載台MST上，光罩載台雷射干涉計40c設在線性馬達定子30b側。且，從光罩載台雷射干涉計40c射出的雷射光會入射至固定鏡42。固定鏡42，在夾光罩用線性馬達定子30b而對向於光罩載台MST位置處，沿著光罩用線性馬達定子30b的長方向(X軸方向)而設置。光罩載台雷射干涉計40c，根據從固定鏡42反射的雷射光的干涉，來計測及控制光罩載台MST的Y軸方向的位置。

其次，說明本實施例的曝光裝置的製造方法。圖4是用以說明本實施例的曝光裝置的製造方法的流程圖。

首先，設置下架台部6a，6b(步驟S10，下架台部設置工程)，其搭載著用於支撐平板P的平板載台PST。具體而言，下架台部6a、6b是設置成其長方向位在與平板載台PST的掃瞄方向交叉的方向(Y軸方向)。

其次，在步驟S10設置的下架台部6a、6b上設置中架台部22a、22b(步驟S11，中架台部設置工程)。具體而言，中架台部22a、22b是設置成其長方向位於平板載台PST的掃瞄方向(X軸方向)，使中架台部22a、22b的長方向與下架台部6a、6b的長方向交叉，讓中架台部22a、22b、與下架台部6a、6b相連結。當連結時，是利用連結構件來接合。連結構件可使用螺栓等，亦可使用接著、焊接等。

其次，在步驟S11設置的中架台部22a、22b上，設置搭 載著光罩載台MST及投影光學系統PL的上架台部26(步驟S12，上架台部設置工程)，光罩載台MST支撐著光罩M。具體而言，上架台部26設置成其長方向位於與平板載台PST的掃瞄方向交叉的方向(Y軸方向)，而使上架台部26的長方向與中架台部22a、22b的長方向交叉，並使上架台部26與中架台部22a、22b連結。

依照本實施例的曝光裝置，可提供的曝光裝置為：具備兩個下架台部，其長方向位於與平板載台的掃瞄方向交叉的方向，具備兩個中架台部，其長方向位於與下架台部的長方向交叉的方向，具備上架台部，其長方向位於與中架台部的長方向交叉的方向，所以，其架台部可做成能夠搬運的大小，且可載置大小超過500mm的大型感光性基板載台。

且，在下架台部和中架台部的連結部，具有作為位置調整用的修正構件的修正用隔片，在中架台部和上架台部的連結部，具有作為位置調整用的修正構件的修正用填隙片，因為在各架台部的連結部上具有推押基準面，可防止分割架台部產生的組裝精度之降低，可確保高曝光精度。因此，利用具有高曝光精度的曝光裝置，可進行良好的曝光。

且，依照本實施例的曝光裝置的製造方法，可設置支撐平板載台的下架台部，可在下架台部上設置中架台部，可在中架台部上高精度地設置支撐著光罩載台及投影光學系統的上架台部，具備可搬運的大小的多個架台部，且可製造出能夠在對大型的感光基板進行曝光的曝光裝置。

又，在本實施例的曝光裝置中，雖然具備了兩個下架台部，但具備3個以上的下架台部亦可。在此場合，要把3個以上的下架台部中至少兩個與中架台部連結。再者，下架台部不是多個而只有一個的話亦可。在此場合，比起具有多個下架台部的曝光裝置，因為增大了重量，也可採用例如蜂窩(honeycomb)結構來謀得下架台部的輕量化。又，在本實施例的曝光裝置中，雖然具備了兩個中架台部，但具備3個以上的中架台部亦可。在此場合，要把3個以上的中架台部中至少兩個與上架台部連結。又，例如採用蜂窩結構來謀得多個中架台部的輕量化亦可。

且，本實施例的曝光裝置，雖然是在上架台部搭載了光罩載台及投影光學系統兩者，但只搭載光罩載台及投影光學系統的一方至上架台部亦可，或者是，光罩載台及投影光學系統不同，把曝光本體的一部份(例如，照明光學系統的至少一部份等)搭載到上架台部亦可。又，例如採用蜂窩結構而謀求上架台部的輕量化亦可。更，與前述的下架台部同樣地，把多個上架台部設為與多個中架台部的長方向交叉的方向亦可。在此場合，亦可把載置光罩載台的定盤設在多個上架台部。

又，在本實施例的曝光裝置中，雖具備了4個作為支撐構件的防振系統，但具備3個或5個以上的防振系統亦可。

在上述實施例的曝光裝置中，利用照明光學裝置來照明光罩(照明工程)，利用投影光學系統把光罩上所形成的轉寫用圖案曝光至感光性基板(曝光工程)，藉此，可製造微元件(半導體元件、 攝像元件，液晶顯示元件、薄膜磁頭等)。以下，利用上述實施例的曝光裝置，在作為感光性基板的平板等上形成所定的回路圖案，藉此，參照接下來的圖5的流程圖，說明獲得作為微元件的半導體元件時的手法之一例。

首先，在圖5的步驟S301中，在1批的平板上蒸鍍金屬膜。其次，在步驟S302中，把光阻塗佈到該1批的平板上。之後，在步驟S303中，採用上述實施例的曝光裝置，光罩上的圖案的像是透過其投影光學系統，被依次曝光轉寫到該1批的平板上的各短路區域。之後，在步驟S304的該1批平板上的光阻顯影之後，在步驟S305中，以該1批平板上的光阻圖案作為罩幕，進行蝕刻，藉此，把光罩上的圖案所對應的回路圖案形成到各平板上的各短路區域。之後，再形成上層的回路圖案，藉此，可製造出半導體等的元件。依照上述半導體元件製造方法，可把光罩的微細圖案高精度地曝光至基板上，可得良好的半導體元件。

又，在上述實施例的曝光裝置中，藉由把所定的圖案(回路圖案、電極圖案)形成在平板(玻璃基板)上，可得作為微元件的液晶顯示元件。以下，參照圖6的流程圖，說明此手法之一例。在圖6中，在圖案形成工程S401，採用上述實施例的曝光裝置，把光罩的圖案轉寫曝光至感光性基板(塗佈了光阻的玻璃基板等)，進行所謂的微影工程。利用此微影工程，把包含多個電極的所定圖案形成在感光性基板上。之後，曝光過的基板經過顯影工程、蝕刻工程、光阻剝離工程等的各工程，在基板上形成所定的 圖案，再移往接下來的彩色濾光片形成工程S402。

其次，在彩色濾光片形成工程S402，對應R(紅)、G(綠)、B(藍)的3個點的組依陣列狀的排成多列，或將R、G、B的3個條狀的濾鏡組沿多個水平掃瞄線方向排列，以形成彩色濾光片。然後，在彩色濾光片形成工程S402之後，進行胞(cell)組裝工程S403。在胞組裝工程中，用圖案形成工程S401所得的具有圖案的基板、及彩色濾光片形成工程S402所得的彩色濾光片等，組裝液晶面板(液晶胞)。

在胞組裝工程S403中，例如，把液晶注入到圖案形成工程S401所得的具所定圖案的基板與彩色濾光片形成工程S402所得的彩色濾光片之間，來製造液晶面板(液晶胞)。之後，在模組組裝工程S404中，安裝使組裝後的液晶面板(液晶胞)執行顯示動作的電氣回路、背光(back light)等的各零件，以完成液晶顯示元件。依照上述的液晶顯示元件的製造方法，可把光罩的微細圖案高精度地曝光在大型基板上，可得良好液晶顯示元件。且，在1片基板上，也可以形成同一尺寸或不同尺寸的多個液晶面板。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

4a‧‧‧防振系統

4b‧‧‧防振系統

6a‧‧‧下架台部

8‧‧‧定盤

12a‧‧‧空氣導部

12b‧‧‧空氣導部

22a‧‧‧中架台部

22b‧‧‧中架台部

24a‧‧‧修正用隔片

24b‧‧‧修正用隔片

26‧‧‧上架台部

28a‧‧‧修正用填隙片

28b‧‧‧修正用填隙片

32a‧‧‧空氣導部

32b‧‧‧空氣導部

IL‧‧‧照明光學裝置

M‧‧‧光罩

MST‧‧‧光罩載台

P‧‧‧平板

PL‧‧‧投影光學系統

PST‧‧‧平板載台

Claims (35)

1. 一種曝光裝置，把光罩上所形成的圖案、透過投影光學系統而曝光至感光性基板，其特徵在於包括：基板載台，支撐所述感光性基板，且所述基板載台相對於所述投影光學系統能夠移動；導引部，導引所述基板載台的移動；第1及第2下架台部，在第1方向設置間隔而配置；第1及第2中架台部，在與所述第1方向交叉的第2方向設置間隔而配置，所述第1及第2中架台部是載置於所述第1及第2下架台部上；以及上架台部，載置於所述第1及第2中架台部上，所述第1及第2下架台部支撐了：所述導引部、與搭載於所述導引部上的所述基板載台，且所述第1及第2中架台部是：以所述第1及第2中架台部的長方向與所述第1及第2下架台部的長方向為相互交叉的方式，而載置於所述第1及第2下架台部上。
2. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述第1及第2中架台部是：在所述第1方向上的一方側的端部是載置於所述第1下架台部上，另一方側的端部是載置於所述第2下架台部上。
3. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中，所述第1 及第2中架台部是：以所述第1及第2中架台部的長方向與所述第1方向平行的方式而配置。
4. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述上架台部是：以所述上架台部的長方向與所述第1及第2中架台部的長方向為相互交叉的方式，而載置於所述第1及第2中架台部上。
5. 如申請專利範圍第4項所述的曝光裝置，其中，所述上架台部是：在所述第2方向上的一方側的端部是載置於所述第1中架台部上，另一方側的端部是載置於所述第2中架台部上。
6. 如申請專利範圍第5項所述的曝光裝置，其中，所述上架台部是：以所述上架台部的長方向與所述第2方向平行的方式而配置。
7. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述導引部是配置於：在所述第2方向上的、所述第1中架台部與所述第2中架台部之間。
8. 如申請專利範圍第7項所述的曝光裝置，其中，所述第1中架台部與所述第2中架台部的間隔是設定為：大於在所述第2方向上的所述基板載台的移動量。
9. 如申請專利範圍第7項所述的曝光裝置，其中，所述第1 中架台部與所述第2中架台部的間隔是設定為：超過500mm的大小。
10. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述投影光學系統是配置於所述第1中架台部與所述第2中架台部之間。
11. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述導引部是：對於朝向所述基板載台的所述第1方向的移動進行導引。
12. 如申請專利範圍第11項所述的曝光裝置，其中，所述導引部包括：第1導引部，對於朝向所述基板載台的所述第1方向的移動進行導引；以及第2導引部，配置於所述第1導引部上，且所述第2導引部對於朝向所述基板載台的所述第2方向的移動進行導引。
13. 如申請專利範圍第11項所述的曝光裝置，其中包括：定盤，載置於所述第1及第2下架台部上，所述導引部是配置於所述定盤上。
14. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中包括：光罩載台，支撐所述光罩，且所述光罩載台相對於所述投影光學系統能夠移動，所述上架台部搭載了：所述投影光學系統與所述光罩載台的至少一方。
15. 如申請專利範圍第14項所述的曝光裝置，其中，所述光 罩載台與所述基板載台是設置為：相對於所述投影光學系統，而在所述第1方向能夠同步移動。
16. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中，所述感光性基板是：一邊或對角線的長度是大於500mm。
17. 一種曝光裝置的製造方法，把光罩上所形成的圖案、透過投影光學系統而曝光至感光性基板，其特徵在於包括：使第1下架台部及第2下架台部在第1方向設置間隔而配置；使第1中架台部及第2中架台部在與所述第1方向交叉的第2方向設置間隔、且載置於所述第1及第2下架台部上；使上架台部載置於所述第1及第2中架台部上；使導引部設置於所述第1及第2下架台部上，所述導引部對於支撐所述感光性基板、且相對於所述投影光學系統能夠移動的基板載台進行導引；所述第1及第2中架台部是：以所述第1及第2中架台部的長方向與所述第1及第2下架台部的長方向為相互交叉的方式，而載置於所述第1及第2下架台部上。
18. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述第1及第2中架台部是：在所述第1方向上的一方側的端部是載置於所述第1下架台部上，另一方側的端部是載置於所述第2下架台部上。
19. 如申請專利範圍第18項所述的曝光裝置的製造方法，其 中，所述第1及第2中架台部是：以所述第1及第2中架台部的長方向與所述第1方向平行的方式而配置。
20. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述上架台部是：以所述上架台部的長方向與所述第1及第2中架台部的長方向為相互交叉的方式，而載置於所述第1及第2中架台部上。
21. 如申請專利範圍第20項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述上架台部是：在所述第2方向上的一方側的端部是載置於所述第1中架台部上，另一方側的端部是載置於所述第2中架台部上。
22. 如申請專利範圍第21項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述上架台部是：以所述上架台部的長方向與所述第2方向平行的方式而配置。
23. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述導引部是配置於：在所述第2方向上的、所述第1中架台部與所述第2中架台部之間。
24. 如申請專利範圍第23項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述第1中架台部與所述第2中架台部的間隔是設定為：大於在所述第2方向上的所述基板載台的移動量。
25. 如申請專利範圍第23項所述的曝光裝置的製造方法，其 中，所述第1中架台部與所述第2中架台部的間隔是設定為：超過500mm的大小。
26. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述投影光學系統是配置於所述第1中架台部與所述第2中架台部之間。
27. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述導引部是：對於朝向所述基板載台的所述第1方向的移動進行導引。
28. 如申請專利範圍第27項所述的曝光裝置的製造方法，其中包括：使定盤載置於所述第1及第2下架台部上，使所述導引部配置於所述定盤上。
29. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中包括：使支撐所述光罩且相對於所述投影光學系統能夠移動的光罩載台、與所述投影光學系統的至少一方，被搭載於所述上架台部。
30. 如申請專利範圍第29項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述光罩載台與所述基板載台是設置為：相對於所述投影光學系統，而在所述第1方向能夠同步移動。
31. 如申請專利範圍第17項所述的曝光裝置的製造方法，其中，所述感光性基板是： 一邊或對角線的長度是大於500mm。
32. 一種元件的製造方法，其特徵在於包括：利用申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的曝光裝置，把圖案曝光至感光性基板；以及對所曝光過的所述圖案在所述感光性基板進行顯影。
33. 如申請專利範圍第32項所述的元件的製造方法，其中，所述元件包括：平板顯示器。
34. 一種元件的製造方法，其特徵在於包括：利用申請專利範圍第17項至第31項中任一項所述的曝光裝置的製造方法而製造的曝光裝置，把圖案曝光至感光性基板；以及對所曝光過的所述圖案在所述感光性基板進行顯影。
35. 如申請專利範圍第34項所述的元件的製造方法，其中，所述元件包括：平板顯示器。