CN108139685B - 曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶曝光装置，液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部，该第2驱动部，在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时，使读头载台往X轴或Y轴方向移动。

Description

曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光 方法
技术领域
本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法及曝光方法，进一步详言之，是关于以照明光使物体曝光的曝光装置及曝光方法、以及使用前述曝光装置的平面显示器或组件的制造方法。
背景技术
一直以来，在用以制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微组件)的微影制程中，是使用一边使光罩(光罩)或标线片(以下，统称为“光罩”)、与玻璃板或晶圆(以下，统称为“基板”)沿既定扫描方向(scan方向)同步移动、一边将形成在光罩的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(step&scan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机)等。
作为此种曝光装置，有一种具备使用基板载台装置所具有的棒状镜(长条镜)以求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统者广为人知(例如，参照专利文献1)。
此处，使用光干涉仪系统求出基板的位置信息时，无法忽视空气波动的影响。另外，上述空气波动的影响，虽可藉由编码器系统的使用来降低，但因近年来的基板的大型化，欲准备一能涵盖基板的全移动范围的标尺是非常困难的。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书
发明内容
本发明第1方案提供一种曝光装置，是透过投影光学系统以照明光使物体曝光，其具备：配置在该投影光学系统的下方，用以保持该物体的第1移动体；在与该投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向上使该第1移动体移动的第1驱动部；测量该第1移动体的位置信息的测量部；用以支承该测量部并能在该既定平面内移动的第2移动体；以及是于该第1、第2方向上使该第2移动体移动的第2驱动部；该第2驱动部，在以该第1驱动部使该第1移动体往该第1方向或该第2方向移动时，使该第2移动体往该第1方向或该第2方向。
本发明第2方案提供一种平面显示器的制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使该物体曝光的动作，以及使曝光后的该物体显影的动作。
本发明第3方案提供一种组件制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使该物体曝光的动作，以及使曝光后的该物体显影的动作。
本发明第4方案提供一种曝光方法，是透过投影光学系统以照明光使物体曝光，其包含：将配置在该投影光学系统的下方、用以保持该物体的第1移动体，以第1驱动部使其在与该投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向上移动的动作；以测量部测量该第1移动体的位置信息的动作；使支承该测量部、能在该既定平面内移动的第2移动体，以第2驱动部使其在该第1、第2方向上移动的动作；以及在以该第1驱动部使该第1移动体往该第1方向或该第2方向移动时，以该第2驱动部使该第2移动体往该第1方向或该第2方向移动的动作。
附图说明
图1是概略显示第1实施方式的液晶曝光装置的构成的图。
图2是图1的液晶曝光装置所具备的光罩编码器系统及基板编码器系统的概念图。
图3(A)是显示光罩编码器系统的构成的俯视图、图3(B)是显示基板编码器系统的构成的俯视图。
图4(A)是图3(A)的A部放大图、图4(B)是图3(B)的B部放大图、图4(C)是图3(B)的C部放大图。
图5(A)～图5(E)是用以说明在光罩编码器系统及基板编码器系统的读头输出的接续处理的图(其1～其5)。
图6是显示以液晶曝光装置的控制系统为中心构成的主控制装置的输出入关系的方块图。
图7(A)及图7(B)是用以说明在曝光动作时的基板编码器系统的动作的图(其1及其2)。
图8是显示第2实施方式的基板编码器系统的构成的图。
图9是用以说明用以求出一对读头间的距离的测量系统的构成的图。
图10是用以说明用以求出读头载台的倾斜量的测量系统的构成的图。
图11是图1的液晶曝光装置所具备的光罩编码器系统及基板编码器系统的概念图。
具体实施方式
《第1实施方式》
以下，针对第1实施方式，使用图1～图7加以说明。
图1中概略的显示了第1实施方式的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10，例如是以用于液晶显示设备(平面显示器)等的矩形(方型)玻璃基板P(以下，简称为基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置，所谓的扫描机。
液晶曝光装置10，具有照明系12、保持形成有电路图案等的光罩M的光罩载台装置14、投影光学系统16、装置本体18、保持表面(图1中朝向+Z侧的面)涂布有光阻剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及此等的控制系统等。以下，将曝光时光罩M与基板P相对投影光学系统16分别被扫描的方向设为X轴方向、水平面内与X轴正交的方向为Y轴方向、与X轴及Y轴正交的方向为Z轴方向，并将绕X轴、Y轴及Z轴旋转的方向分别设为θx、θy及θz方向来进行说明。此外，将于X轴、Y轴及Z轴方向的位置分别设为X位置、Y位置及Z位置来进行说明。
照明系12，具有与例如美国专利第5,729,331号说明书等所揭露的照明系相同的构成。照明系12，将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光，分别透过未图示的反射镜、分色镜、遮帘、滤波器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。照明光IL，是使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。
光罩载台装置14，包含将光罩M以例如真空吸附方式加以保持的光罩保持具40、用以将光罩保持具40以既定长行程驱动于扫描方向(X轴方向)并适当微幅驱动于Y轴方向及θz方向的光罩驱动系统48(图1中未图示。参照图6)、以及用以求出光罩保持具40于XY平面内的位置信息(亦包含θz方向的旋转量信息。以下同)的光罩位置测量系统50。光罩保持具40，是由例如美国专利申请公开第2008/0030702号说明书所揭示的形成有俯视矩形开口部的框状构件构成。光罩保持具40是透过例如空气轴承(未图示)载置在固定于作为装置本体18的一部分的上架台部18a的一对光罩引导件42上。光罩驱动系统48，包含例如线性马达(未图标)。关于光罩编码器系统50的构成，将于后详细说明。
投影光学系统16配置在光罩载台装置14的下方。投影光学系统16，是与例如美国专利第6,552,775号说明书等所揭示的投影光学系统具有相同构成的、所谓的多透镜(multi-lens)投影光学系统，具备以例如两侧远心的等倍系形成正立正像的复数支(本实施方式中，是例如11支。参照图3(A))光学系统。
于液晶曝光装置10，当以来自照明系12的照明光IL照明光罩M上的照明区域时，藉由通过光罩M的照明光，透过投影光学系统16将其照明区域内的光罩M的电路图案的投影像(部分正立像)，形成在基板P上与照明区域共轭的照明光的照射区域(曝光区域)。并相对照明区域(照明光IL)使光罩M于扫描方向移动且相对曝光区域(照明光IL)使基板P于扫描方向移动，据以进行基板P上的一个照射(shot)区域的扫描曝光，于照射区域转印形成在光罩M的图案。
装置本体18，支承上述光罩载台装置14及投影光学系统16，透过多个防振装置19设置在无尘室的地面11上。装置本体18，具有与例如美国专利申请公开第2008/0030702号说明书所揭示的装置本体相同的构成，具有上架台部18a、下架台部18b及一对中架台部18c。由于上述投影光学系统16是被支承于上架台部18a，因此，以下，将上架台部18a适当的称为“光学平台18a”。
基板载台装置20是用以将基板P相对投影光学系统16(照明光IL)高精度加以定位的物，将基板P沿水平面(X轴方向及Y轴方向)以既定的长行程加以驱动、并将该基板P微幅驱动于6自由度方向。基板载台装置20的构成虽无特别限定，但以使用例如美国专利申请公开第2008/129762号说明书、或美国专利申请公开第2012/0057140号说明书等所揭示的包含高架式(gantry type)的2维粗动载台、与相对该2维粗动载台被微幅驱动的微动载台的所谓的粗微动构成的载台装置较佳。
基板载台装置20具备基板保持具24。基板保持具24由俯视矩形的板状构件构成，于其上面上载置基板P。基板保持具24是被构成基板驱动系统28(图1中未图示。参照图6)的一部分的多个线性马达(例如音圈马达)，相对于投影光学系统16于X轴及/或Y轴方向以既定长行程驱动、亦被微幅驱动于6自由度方向。
另外，液晶曝光装置10具有用以求出基板保持具24(亦即基板P)的6自由度方向的位置信息的基板位置测量系统。基板位置测量系统，如图6所示，包含用以求出基板P的Z轴、θx、θy方向(以下，称Z倾斜(tilt)方向)的位置信息的Z倾斜位置测量系统88、及用以求出基板P于XY平面内的位置信息的基板编码器系统60。Z倾斜位置测量系统88的构成虽无特别限定，但可使用例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的使用安装在包含基板保持具24的系统的多个传感器，以装置本体18(例如下架台部18b)为基准求出基板P的Z倾斜方向的位置信息的测量系统。基板编码器系统60的构成，留待后叙
其次，使用图2说明本实施方式的光罩编码器系统50、及基板编码器系统60的概念。如图2所示，光罩编码器系统50，是以光学平台18a(投影透镜)为基准求出光罩保持具40的位置信息。另外，基板编码器系统60，亦是以光学平台18a(投影透镜)为基准求出基板P的位置信息。
光罩编码器系统50，具有安装了多个编码器读头(以下，仅称“读头”)58L、58S的读头载台54。读头载台54，能与保持有光罩M的光罩载台14的移动同步，相对于光学平台18a于X轴方向以长行程移动。读头载台54的位置信息，是以包含上述读头58L及固定在光学平台18a的编码器标尺56L(以下，称长标尺56L(绕射光栅板))的长编码器系统加以求出。另外，读头载台54与光罩保持具40的相对位置信息，以包含上述读头58S及固定在光罩保持具40的编码器标尺56S(以下，称短标尺56S(绕射光栅板))的短编码器系统加以求出。光罩编码器系统50根据上述长编码器系统的输出与短编码器系统的输出，求出以光学平台18a为基准的光罩保持具40的位置信息。另外，长标尺56L的X轴方向长度较短标尺56S的X轴方向长度短。换言之，将长标尺56L的长边方向长度与短标尺标尺56S的长边方向长度加以比较时，以长边方向长度长的标尺为长标尺56L、短的标尺为短标尺56S。另外，后述基板编码器系统亦同样的，长标尺66X、66Y的长边方向长度较短标尺66S的长边方向长度长。
另外，基板编码器系统60亦同样的，具有安装了多个读头68S、68X的读头载台64。读头载台54，能与使载置有基板P的基板保持具24移动的基板载台装置20的移动同步，相对于光学平台18a于X轴方向及Y轴方向以长行程移动。读头载台64的位置信息，是以包含上述读头68X及固定于光学平台18a的长标尺66Y(绕射光栅板)等的长编码器系统加以求出。此外，读头载台64与基板保持具24的相对位置信息，以包含上述读头68S及固定于基板保持具24的短标尺66S(绕射光栅板)的短编码器系统加以求出。基板编码器系统60，根据上述长编码器系统的输出与短编码器系统的输出，求出以光学平台18a为基准的基板保持具24的位置信息。
其次，说明光罩编码器系统50的一具体例。如图1所示，于光学平台18a的上面固定有一对编码器底座52。编码器底座52由延伸于X轴方向的构件构成。于一对编码器底座52各个的上面，固定有多个(图1中于纸面深度方向重迭。参照图3(A))长标尺56L。另外，于光罩保持具40的下面，对应上述一对编码器底座52固定有一对短标尺56S。进一步的，对应上述一对编码器底座52，在编码器底座52与光罩保持具40之间配置有一对读头载台54。
如图3(A)所示，于编码器底座52的上面固定有多个长标尺56L。如图4(A)所示，多个长标尺56L于X轴方向以既定间隔配置。各长标尺56L，是由例如以石英玻璃形成的延伸于X轴方向的俯视矩形板状(带状)构件构成。编码器底座52是由热膨胀率较长标尺56L低(或同等)的材料形成，以避免例如因温度变化等导致格子间距变化。
于长标尺56L的宽度方向一侧(图4(A)中为－Y侧)的区域形成有X标尺56Lx，于宽度方向另一侧(图4(A)中为+Y侧)的区域则形成有Y标尺56Ly。X标尺56Lx是由于X轴方向以既定间距形成(以X轴方向为周期方向)具有延伸于Y轴方向的多个格子线的反射型绕射光栅(X光栅(grating))构成。同样的，Y标尺56Ly是由于Y轴方向以既定间距形成(以Y轴方向为周期方向)具有延伸于X轴方向的多个格子线的反射型绕射光栅(Y光栅)构成。本实施方式的X标尺56Lx、及Y标尺56Ly中，多个格子线是以例如10nm以下的间隔形成。另外，图4(A)中，为方便起见，格子间的间隔(间距)是显示的远较实际大。其他图亦同。
回到图3(A)，一对短标尺56S的各个是固定在光罩保持具40的下面。短标尺56S，除X轴方向的长度较长标尺56L短外，与长标尺56L是同样构成。亦即，于短标尺56S亦于宽度方向的一侧及另一侧的区域分别形成有X标尺56Sx及Y标尺56Sy。另外，图4(A)中，虽然格子线是以实线图示、短标尺56S好像朝向上方，但多个短标尺56S，实际上，是如图1所示，格子面朝向下方。本实施方式中，短标尺56S虽是相对长标尺56L于Y轴方向错开若干配置，但可以是相同Y位置。光罩保持具40亦是与上述编码器底座52同样的，以热膨胀率较短标尺56S低(或同等)的材料形成。
读头载台54，如图4(A)所示，由俯视矩形的板状构件构成，被例如包含线性马达等致动器的读头载台驱动系统82(参照图6)，与光罩保持具40同步，于X轴方向以长行程驱动。另外，光罩载台装置14(参照图1)具有用以将读头载台54直进引导于X轴方向的例如机械性的线性引导件装置。
于读头载台54固定有一对X长读头58Lx及一对Y长读头58Ly(适当的统称为长读头58L)。长读头58L，是例如美国专利申请公开第2008/0094592号说明书所揭露的、所谓的绕射干涉方式的编码器读头，藉由对长标尺56L照射测量光束、并接收来自该标尺的光束，据以将读头载台54的位置信息(或位移量信息)供应至主控制装置90(参照图6)。
亦即，于光罩编码器系统50，是藉由例如4个X长读头(58Lx×2、58Lx×2)与和此对向的X长标尺56Lx(视读头载台54的X位置而不同)，构成用以求出读头载台54的X轴方向的位置信息的例如4个X长线性编码器92Lx(参照图6)，藉由例如4个Y长读头(58Ly×2、58Ly×2)与和此等对向的Y长标尺56Ly(因读头载台54的X位置而不同)构成用以求出读头载台54的Y轴方向的位置信息的例如4个Y长线性编码器92Ly(参照图6)。
主控制装置90，如图6所示，根据例如4个X长线性编码器92Lx、及例如4个Y长线性编码器92Ly的输出，将读头载台54(参照图4(A))的X轴方向及Y轴方向的位置信息，以例如10nm以下的解析能力加以求出。另外，主控制装置90，根据例如4个X长线性编码器92Lx(或例如4个Y长线性编码器92Ly)中的至少2个的输出求出读头载台54的θz位置信息(旋转量信息)。
另外，于读头载台54固定有1个X短读头58Sx、及1个Y短读头58Sy(适当的统称为短读头58S)。短读头58S亦是与上述长读头58L为相同的绕射干涉方式的编码器读头，藉由对短标尺56S照射测量光束并接收来自该标尺的光束，据以将光罩保持具40与读头载台54的相对位置信息供应至主控制装置90(参照图6)。
亦即，于光罩编码器系统50，藉由例如2个X短读头(58Sx)与和此等对向的X短标尺56Sx，构成用以求出光罩保持具40与读头载台54于X轴方向的相对位置信息的例如2个X短线性编码器92Sx(参照图6)，藉由例如2个Y短读头(58SLy)与和此等对向的Y短标尺56Sy，构成用以求出读头载台54的Y轴方向的位置信息的例如2个Y短线性编码器92Sy(参照图6)。
因此，上述读头载台驱动系统82(参照图6)，为避免来自短读头58S的测量光束从短标尺56S脱离，与光罩保持具40同步(以短读头58S追随短标尺56S的方式)，相对驱动于光罩保持具40与读头载台54。换言之，只要来自短读头58S的测量光束不会从短标尺56S脱离的话，光罩保持具40与读头载台54在移动时的位置可以不是完全一致。亦即，于光罩编码器系统50，是藉由X短线性编码器92Sx及Y短线性编码器92Sy(参照图6)，而容许光罩保持具40与读头载台54的相对的位置偏移(补偿位置偏移)。
此处，如上所述，多个长标尺56L是在编码器底座52上，于X轴方向相隔既定间隔配置(参照图4(A))。且读头载台54所具有的一对X长读头58Lx及一对Y长读头58Ly各个的间隔，被设定的较相邻长标尺56L间的间隔大。另外，一对X长读头58Lx及一对Y长读头58Ly各个的间隔，被设定为与相邻的长标尺56L的长度不相等。如此，于光罩编码器系统50，一对X长读头58Lx中始终至少会有一方与X长标尺56Lx对向、且一对Y长读头58Ly中始终至少会有一方与Y长标尺56Ly对向。因此，光罩编码器系统50能在不中断的情形下将读头载台54的位置信息供应至主控制装置90(参照图6)。
具体而言，例如读头载台54往+X侧移动的情形时，光罩编码器系统50会以下述顺序移行，亦即，一对X长读头58Lx的双方对向于相邻一对长标尺56L中的+X侧的长标尺56L的第1状态(图4(A)所示的状态)、－X侧的X长读头58Lx对向于上述相邻一对X长标尺56Lx之间的区域(与任一X长标尺56Lx皆不对向)且+X侧的X长读头58Lx对向于上述+X侧的X长标尺56Lx的第2状态、－X侧的X长读头58Lx对向于－X侧的X长标尺56Lx且+X侧的X长读头58Lx对向于+X侧的X长标尺56Lx的第3状态、－X侧的X长读头58Lx对向于－X侧的X长标尺56Lx且+X侧的X长读头58Lx对向于一对X长标尺56Lx之间的区域(与任一X长标尺56Lx皆不对向)的第4状态、以及一对X长读头58Lx的双方对向于－X侧的X长标尺56Lx的第5状态。因此，始终至少一方的X长读头58Lx是对向于X长标尺56Lx。
主控制装置90(参照图6)在上述第1、第3及第5状态下，根据一对X长读头58Lx的输出的例如平均值，求出读头载台54的X位置信息。另外，主控制装置90在上述第2状态下，仅根据+X侧的X长读头58Lx的输出求出读头载台54的X位置信息，在上述第4状态下则仅根据－X侧的X长读头58Lx的输出求出读头载台54的X位置信息。因此，光罩编码器系统50的测量值不会中断。
进一步详言之，本实施方式的光罩编码器系统50，为避免光罩编码器系统50的测量值中断，在上述第1、第3、第5状态，亦即标尺对向于一对读头的双方而从该一对读头分别供应输出的状态，与上述第2、第4状态，亦即标尺仅对向于一对读头中的一方而仅从该一方的读头供应输出的状态间移行时，进行读头输出的接续处理。以下，使用图5(A)～图5(E)说明读头的接续处理。另外，为简化说明，图5(A)～图5(E)中，是于长标尺56L形成有2维格子(光栅)。且设各长读头58X、58Y的输出为理想值。此外，以下说明中，虽是针对相邻的一对X长读头58Lx(以下，称X读头58Lx1、58Lx2)的接续处理进行说明，但相邻的一对Y长读头58Ly(以下，称Y读头58Ly1、58Ly2)亦是进行相同的接续处理。
如图5(A)所示，一对X读头58X1、58X2的各个，使用相邻的一对长标尺56L(以下，称标尺56L1、56L2)中、+X侧的标尺56L2来求出读头载台54(参照图4(A))的X位置信息时，一对X读头58X1、58X2，其双方皆输出X坐标信息。此处，一对X读头58X1、58X2的输出为相同的值。接着，如图5(B)所示，当读头载台54往+X方向移动时，X读头58X1会到达标尺56L2的测量范围外，因此在到达该测量范围外的前，将X读头58X1的输出视为无效。因此，读头载台54的X位置信息，仅根据X读头58X2的输出加以求出。
另外，如图5(C)所示，当读头载台54(参照图4(A))进一步往+X方向移动时，X读头58X1即对向于－X侧的标尺56L1。X读头58X1是在使用标尺56L1成为可进行测量动作的状态后，立即开始输出读头载台54的X位置信息，但因X读头58X1的输出是从不定值(或零)再开始计数，因此无法用于读头载台54的X位置信息的算出。因此，在此状态下，必须进行一对X读头58X1、58X2各个的输出的接续处理。作为接续处理，具体而言，是进行将作为不定值(或零)的X读头58X1的输出，使用X读头58X2的输出加以修正(例如成为同值)的处理。该接续处理，是在读头载台54进一步往+X方向移动，如图5(D)所示，X读头58X2到达标尺56L2的测量范围外的前结束。
同样的，如图5(D)所示，在X读头58X2到达标尺56L2的测量范围外的情形时，在成为该测量范围外的前，将X读头58X2的输出视为无效。因此，读头载台54(参照图4(A))的X位置信息，仅根据X读头58X1的输出加以求出。接着，如图5(E)所示，在光罩保持具40进一步往+X方向移动，一对X读头58X1、58X2的各个在成为可使用标尺56L1进行测量动作后，立即对X读头58X2进行使用X读头58X1的输出的接续处理。之后，根据一对X读头58X1、58X2各个的输出，求出读头载台54的X位置信息。
其次，说明基板编码器系统60的构成。如图1所示，于光学平台18a的下面固定有例如4个Y编码器底座62Y。另外，图1中，例如4个Y编码器底座62Y中的2个，是隐藏在另外2个的纸面内侧(参照图3(B))。另外，例如于4个Y编码器底座62Y的下方，配置有一对X编码器底座62X。进一步的，于一对X编码器底座62X各个的下方，配置有读头载台64。此外，于基板保持具24的上面，对应一对读头载台64固定有短标尺66S。
如图3(B)所示，Y编码器底座62Y由延伸于Y轴方向的构件构成。例如4个Y编码器底座62Y中，2个是在投影光学系统16的+Y侧于X轴方向分离配置，另外2个则在投影光学系统16的－Y侧于X轴方向分离配置。于Y编码器底座62Y的下面固定有多个Y长编码器标尺66Y(以下，称Y长标尺66Y)。
Y长标尺66Y，例如是由以石英玻璃形成的延伸于Y轴方向的俯视矩形板状(带状)构件构成。如图4(B)所示，Y长标尺66Y，是由在Y轴方向以既定间距形成(以Y轴方向为周期方向)的具有延伸于X轴方向的多个格子线的反射型绕射光栅(Y光栅)构成。另外，图3(B)、图4(B)中，格子线虽是以实线图示，Y长标尺66Y好像朝向上方，多个Y长标尺66Y，实际上，是如图1所示配置成格子面朝向下方配置。
Y长标尺66Y的格子间距等，可与上述Y标尺56Ly(参照图4(A))相同、亦可不同。上述Y编码器底座62Y是以热膨胀率较Y长标尺66Y低(或同等)的材料形成，以避免例如温度变化等导致格子间距变化。
回到图3(B)，X编码器底座62X由延伸于X轴方向的构件构成，跨架在于X轴方向分离的一对Y编码器底座62Y间。一对X编码器底座62X，是藉由X底座驱动系统84(参照图6)，与基板保持具24同步的于Y轴方向以既定长行程驱动。在Y编码器底座62Y与X编码器底座62X之间，设有用以将X编码器底座62X直进引导于Y轴方向的、例如机械性的线性引导装置。
在X编码器底座62X的两端部近旁，分别固定有一对Y长读头68Y。Y长读头68Y是与上述长读头58L(参照图4(A))相同的绕射干涉方式的编码器读头，藉由对Y标尺66Y照射测量光束、并接收来自该标尺的光束，将X编码器底座62X的Y轴方向的位置信息供应至主控制装置90(参照图6)。
亦即，于基板编码器系统60，是由例如4个(2×2)Y长读头68Y及与此等对应的Y长标尺66Y(视X编码器底座62X的Y位置而有不同)，构成用以求出X编码器底座62X的Y轴方向的位置信息的例如4个Y长线性编码器96Ly(参照图6)。
此处，如图4(B)所示，多个Y长标尺66Y亦与上述长标尺56L(参照图4(A))同样的，是于Y轴方向以既定间隔配置。另外，一对Y长读头68Y间的间隔，是设定为较相邻的Y长标尺66Y间的间隔大。如此，于基板编码器系统60，一对Y长读头68Y中始终至少会有一方对向于Y长标尺66Y。因此，基板编码器系统60，能在不中断测量值的情形下，求出X编码器底座62X(参照图3(A))的位置信息。因此，此处，亦是进行与在上述光罩编码器系统50的读头输出的接续处理相同的读头输出的接续处理(参照图3(A)～图3(B))。
在X编码器底座62X的下面固定有多个X长编码器标尺66X(以下，称X长标尺66X)。X长标尺66X，例如是由以石英玻璃形成的延伸于X轴方向的俯视矩形板状(带状)构件构成。如图4(C)所示，X长标尺66X，是由在X轴方向以既定间距形成(以X轴方向为周期方向)的具有延伸于Y轴方向的多个格子线的反射型绕射光栅(Y光栅)构成。另外，图3(B)、图4(B)、图4(C)中，格子线虽以实线图示，Y长标尺66Y好像朝向上方，但多个X长标尺66X，实际上，是如图1所示配置成格子面朝向下方。另外，X长标尺66X，虽是具有于X轴方向以既定间距形成的格子线，但不限于此，亦可做成具有于X轴方向及Y轴方向皆以既定间距形成的格子线。Y长标尺66Y，虽是同样的具有于Y轴方向以既定间距形成的格子线，但不限于此，亦可做成具有于X轴方向及Y轴方向皆以既定间距形成的格子线。
读头载台64，如图4(C)所示，由俯视矩形的板状构件构成，藉由例如包含线性马达等致动器的读头载台驱动系统86(参照图6)，与基板保持具24同步，于X轴方向被以长行程驱动。在读头载台64与X编码器底座62X之间，设有用以将读头载台64直进引导于X轴方向的例如机械性的线性引导装置。另外，读头载台64，相对于X编码器底座62X往Y轴方向的移动受到限制，当X编码器底座62X被驱动于Y轴方向时，即与此一体的往Y轴方向移动。
于读头载台64固定有一对X长读头68X。X长读头68X，是与上述长读头58L(参照图4(A))相同的绕射干涉方式的编码器读头，藉由对X长标尺66X照射测量光束、并接收来自该标尺的光束，将读头载台64的X轴方向的位置信息供应至主控制装置90(参照图6)。
亦即，于基板编码器系统60，是藉由例如4个(2×2)X长读头68X、及与此等对应的X长标尺66X(视读头载台64的X位置而有不同)，构成用以求出读头载台64的X轴方向的位置信息的例如4个X长线性编码器96Lx(参照图6)。
另外，于读头载台64固定有1个X短读头68Sx及1个Y短读头68Sy(适当的统称为短读头68S)。短读头68S亦是与上述X长读头68X为相同的绕射干涉方式的编码器读头，藉由对短标尺56S照射测量光束、并接收来自该标尺的光束，将基板保持具24与读头载台64的相对位置信息供应至主控制装置90(参照图6)。
短标尺66S，与上述被固定于光罩保持具40的短标尺56S(参照图3(A))为实质相同的物。亦即，短标尺66S具有X标尺66Sx及Y标尺66Sy。另外，短标尺66S虽是相对X长标尺66X于Y轴方向错开若干配置，但可以是相同Y位置。基板保持具24亦是与上述X编码器底座62X同样的，以热膨胀率较短标尺66S低(或同等)的材料形成。
亦即，于基板编码器系统60，是藉由例如2个X短读头68Sx及与此等对向的X短标尺66Sx，构成用以求出读头载台64与基板保持具24的X轴方向的相对位置信息的例如2个X短线性编码器98Sx(参照图6)，藉由例如2个Y短读头68Sy及与此等对向的Y短标尺66Sy，构成用以求出读头载台64与基板保持具24的Y轴方向的相对位置信息的例如2个Y短线性编码器98Sy(参照图6)。
因此，上述X底座驱动系统84及读头载台驱动系统86(分别参照图6)，为避免来自短读头68S的测量光束脱离短标尺66S(以短读头68S追随短标尺66S的方式)，与基板保持具24同步，将X编码器底座62X及读头载台54分别相对基板保持具24加以相对驱动。换言之，只要来自短读头68S的测量光束不会从短标尺66S脱离的话，则基板保持具24与读头载台64在移动时的位置无需完全一致。亦即，于基板编码器系统60，是藉由X短线性编码器98Sx及Y短线性编码器98Sy(参照图6)，容许基板保持具24与读头载台64的相对的位置偏移(补偿位置偏移)。
图6中，显示了以液晶曝光装置10(参照图1)的控制系统为中心构成，统筹控制构成各部的主控制装置90的输出入关系的方块图。主控制装置90，包含工作站(或微电脑)等，统筹控制液晶曝光装置10的构成各部。
以上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)，是在主控制装置90(参照图6)的管理下，藉由未图示的光罩装载器进行光罩M往光罩载台装置14上的装载，并藉由未图示的基板装载器进行基板P往基板载台装置20(基板保持具24)上的装载。之后，由主控制装置90，使用未图标的对准检测系实施对准测量，该对准测量结束后，对设定在基板P上的多个照射区域逐次进行步进扫描(step&scan)方式的曝光动作。
关于光罩载台装置14及基板载台装置20在上述步进扫描方式的曝光动作时的动作，因与习知曝光装置中的动作相同，因此省略说明。
另外，于上述步进扫描方式的曝光动作时，于光罩编码器系统50，是与光罩M往扫描方向的移动(加速、等速移动、减速)同步，一对读头载台54被驱动于扫描方向。
另外，于上述步进扫描方式的曝光动作时，于基板编码器系统60，如图7(A)所示，当基板P(基板保持具24)为进行扫描曝光动作而被驱动于X轴方向时，一对读头载台64即与基板P同步被驱动于X轴方向。此时，一对X编码器底座62X为静止状态。相对于此，如图7(B)所示，当基板P(基板保持具24)为进行照射区域间移动而被驱动于Y轴方向时，一对读头载台64即与一对X编码器底座62X一体的往Y轴方向移动。因此，来自短读头68S的测量光束不会从短标尺66S脱离。
如以上的说明，根据本实施方式的液晶曝光装置10，用以求出光罩M于XY平面内的位置信息的光罩编码器系统50、及用以求出基板P于XY平面内的位置信息的基板编码器系统60(分别参照图1)的各个，由于对对应的标尺照射的测量光束的光路长度为短，因此例如相较于习知的干涉仪系统能降低空气波动的影响。因此，光罩M及基板P的定位精度获得提升。另外，由于空气波动的影响小，因此能省略在使用习知的干涉仪系统时所必须的部分空调设备，较低成本。
再者，于使用干涉仪系统的情形时，虽然需要在光罩载台装置14及基板载台装置20具备大且重的棒状反射镜，但本实施方式的光罩编码器系统50及基板编码器系统60，因无需上述棒状反射镜，因此包含光罩保持具40的系统、及包含基板保持具24的系统，可分别小型、轻量化，且重量平衡变佳，据此能提升光罩M、基板P的位置控制性。另外，相较于使用干涉仪系统的情形，由于调整处较少，因此光罩载台装置14及基板载台装置20的成本降低，进而维修保养性亦提升。此外，组装时的调整亦容易(或不要)。
另外，于本实施方式的基板编码器系统60，例如是藉由将一对读头载台64与基板P同步驱动于Y轴方向(使之追随)，用以构成求出基板P的Y位置信息的构成，因此无需在基板载台装置20侧配置延伸于Y轴方向的标尺(或无需在装置本体18侧于Y轴方向排列多个读头)。因此，能简化基板位置测量系统的构成，进而降低成本。
另外，于本实施方式的光罩编码器系统50，由于是将相邻的一对编码器读头(X读头58Lx、Y读头58Ly)的输出一边根据光罩保持具40的X位置适当的切换、一边求出该光罩保持具40于XY平面内的位置信息的构成，因此，即使是将多个标尺56L于X轴方向以既定间隔(彼此分离)配置，亦能不中断的求出光罩保持具40的位置信息。因此，无需准备与光罩保持具40的移动行程同等长度的标尺，可降低成本，尤其是如本实施方式的使用大型光罩M的液晶曝光装置10是非常适合的。本实施方式的基板编码器系统60亦同样的是将多个标尺66X于X轴方向、多个标尺66Y于Y轴方向分别以既定间隔配置，因此无需准备与基板P的移动行程同等长度的标尺，非常适合使用大型基板P的液晶曝光装置10。
另外，本实施方式中的短标尺66S虽是固定在基板保持具24的上面，但不限定于此，亦可是固定在基板保持具24的下面。此场合，读头载台64，可以是以读头载台64a与读头载台65b的2个载台构成。读头载台64a是配置成与X编码器底座62对向，读头载台64b则是配置成与固定在基板保持具24下面的短标尺66S对向。换言之，读头载台64a是配置在光学平台18a与基板保持具24之间，读头载台64b是配置在基板保持具24的下方。此时，读头载台64a与读头载台64b是在包含X轴方向与Y轴方向的2维平面内同步移动。此外，可将读头载台64a与读头载台64b加以机械性的连结，亦可进行电性控制来同步驱动。另外，虽然说明读头载台64a与读头载台64b是同步移动，但此是代表在大致维持读头载台64a与读头载台64b的相对位置关系的状态移动，并不限定于读头载台64a、读头载台64b两者间的位置关系、移动方向及移动速度在严密一致的状态下移动的情形。
另外，本实施方式的基板编码器系统60，虽是将X编码器底座62X配置在Y编码器底座62Y的下方，但亦可将X编码器底座62配置在读头载台64。如图11所示，读头载台64可由读头载台64A与读头载台65B的2个载台构成。于读头载台64A的上面配置Y读头68Y，于下面配置X长标尺66X。于读头载台64B的上面配置X读头68X，于下面配置短读头68S。读头载台64B，当基板保持具24往X轴方向移动时，即与该移动同步往X轴方向移动。另外，读头载台64A既不往X轴方向亦不往Y轴方向移动。此外，读头载台64B，当基板保持具24被驱动于Y轴方向时，即以和该移动同步的方式，将Y读头载台64A与读头载台64B同步驱动于Y轴方向。
《第2实施方式》
其次，针对第2实施方式的液晶曝光装置，使用图8加以说明。第2实施方式的液晶曝光装置的构成，除基板编码器系统160的构成不同外，与上述第1实施方式相同，因此，以下仅针对相异点加以说明，对与上述第1实施方式具有相同构成及功能的要素，是赋予与上述第1实施方式相同符号并省略其说明。
本第2实施方式的基板编码器系统160，与上述第1实施方式相较，用以驱动短读头68S的驱动系统的构成相异。亦即，上述第1实施方式，如图3(B)所示，针对1个短读头68S，是使用一对Y编码器底座62Y(固定)、与架设在该一对Y编码器底座62Y间的1个X编码器底座62X(可动)，本第2实施方式，如图8所示，则是使用一对X编码器底座62X(固定)、与架设在该一对X编码器底座62X间的1个Y编码器底座62Y(可动)。本第2实施方式，亦能获得与上述第1实施方式相同的效果。
另外，上述第1及第2各实施方式的构成仅为一例，可适当的变更。例如，可于读头载台54、64安装影像传感器(摄影机)、或基准标记，使用该影像传感器进行投影透镜关系的校准(calibration)。此场合，无需使用光罩保持具40及基板保持具24即能进行上述校准，因此效率佳。
另外，上述实施方式的基板编码器系统60，是藉由包含安装在读头载台64的短读头68S、与固定在基板保持具24的短标尺66S的编码器系统，求出读头载台64与基板保持具24的相对位置信息，但不限于此，由于读头载台64与基板保持具24的相对移动量小，因此亦可例如在基板保持具24形成标记、并在读头载台64安装影像传感器，藉由该影像传感器观察标记，高速进行图像处理，据以求出读头载台64与基板保持具24的相对位置信息。
另外，上述各实施方式中的各标尺及与此对应的读头的配置可以相反例如，可在基板保持具24固定短读头68S、并在读头载台64固定短标尺66S。
另外，亦可如图9所示，以传感器166测量读头载台64所具有的一对X长读头68X彼此间的距离，使用该测量值修正基板编码器系统60的输出。传感器166的种类，无特别限定，可使用例如雷射干涉仪等。基板编码器系统60，如上所述，是进行一对编码器读头的输出的接续处理，于此接续处理中，一对编码器读头间的间隔以已知、且不变为前提条件。因此，作为安装各读头的读头载台64，是以例如热膨胀等影响较少的材料形成，但如本变形例般，藉由测量编码器读头间的间隔，即使读头载台64产生变形(一对编码器读头间的间隔变化)，亦能以高精度求出基板P的位置信息。同样的，亦可以是测量光罩编码器系统50的读头载台54所具有的一对X长读头58Lx间、固定在基板编码器系统60的X编码器底座62X的一对Y长读头68Y间的距离。此外，亦可以是测量读头单元60所具有的所有(本实施方式中，例如合计8个)读头(朝下的一对读头66x、66y、朝上的一对读头64x、64y)各个的相对位置关系，并进行测量值的修正。
另外，如上所述，亦可进行在适当时机(例如每次进行基板更换时)测量读头载台64所具有的一对X长读头68X彼此间的距离的校准动作。此外，亦可在进行上述读头间间隔的测定的校准点之外，另设置用以进行光罩编码器系统50、基板编码器系统60各个的输出的原点定位的校准点。用以进行该原点定位的定位标记，可配置在例如多个标尺56L、66Y、66X的延长线上(外侧)、或相邻一对标尺56L、66Y、66X间、或者是形成在标尺56L、66Y、66X内。
另外，亦可求出各读头载台54、64、X编码器底座62X相对水平面的倾斜(θx、θy方向的倾斜)量，根据该倾斜量(亦即，各读头58L、58S、68Y、68X、68S的光轴倾倒量)修正基板编码器系统60的输出。作为测量系统，如图10所示，可使用将多个Z传感器64z安装于对象物(图10中，X编码器底座62X可将读头载台64作为对象物)，以Y编码器底座62Y(或上架台部18a)为基准求出对象物的倾斜量的测量系统，或设置2轴雷射干涉仪264，以求出对象物(图10中，读头载台64可将X编码器底座62X作为对象物)的倾斜量(θx、θy方向的倾斜量)及旋转量(θz方向的旋转量)。此外，亦可个别测量各读头58L、58S、68Y、68X、68S的倾斜量。
另外，以上虽说明了于光罩编码器系统50，是将多个长标尺56L于X轴方向分离配置，于基板编码器系统60，是将多个Y长标尺66Y于Y轴方向、将多个X长标尺66X于X轴方向分别分离配置的情形，但标尺的数量不限于此，例如可对应于光罩M、基板P的大小、或移动行程适当的加以变更。此外，不一定必须将多个标尺分离配置，例如可使用较长的1个标尺。
另外，设置多个标尺的情形时，各标尺的长度可互异。例如，将延伸于X轴方向的标尺的长度设定为较照射区域的X轴方向长度长，即能避免扫描曝光动作时的接续处理。延伸于Y轴方向的标尺亦同。再者，为能因应照射区域数的变化(例如取4面的情形与取6面的情形)，可使配置在投影光学系统16一侧的标尺与配置在另一侧的标尺，长度互异。
另外，以上虽是针对在长标尺56L的表面独立形成X长标尺56Lx与Y长标尺56Ly的情形做了说明，但不限于此，例如可使用XY2维标尺。此场合，编码器读头亦可使用XY2维读头。短标尺与短读头亦同。虽是针对使用绕射干涉方式的编码器系统的情形做了说明，但不限于此，亦可使用所谓拾取(pick up)方式、磁力方式等的其他编码器，亦可使用例如美国专利第6,639,686号说明书等所揭示的所谓的扫描编码器等。
另外，具有Y长标尺66Y的Y编码器底座62Y，是直接安装在光学平台18a下面的构成，但不限于此，亦可将既定的底座构件以分离的状态悬吊配置在光学平台18a的下面。
另外，基板载台装置20，只要至少能沿水平面以长行程驱动基板P即可，视情形亦可不进行6自由度方向的微幅定位。针对此种2维载台装置，亦非常适合适用上述各实施方式的基板编码器系统
另外，以上虽说明主控制装置90(参照图6)在一对X长读头58Lx的两方对向于长标尺的情形时，是根据长读头58Lx的输出的平均值求出读头载台54的X位置信息，但不限于此。亦可使一对X长读头58Lx具有主从关系，而仅根据一X长读头58Lx的值来求出读头载台54的X位置信息。
另外，在光学平台18a上，X轴方向的多个标尺透过既定间隔的间隙连接配置的标尺群(标尺列)，以多个列配置在彼此于Y轴方向分离的不同位置(例如相对投影光学系统16的一侧(+Y侧)的位置、与另一侧(－Y侧)的位置)的情形时，可配置成多个列间，上述既定间隔的间隙的位置在X轴方向不重复。以此方式配置多个标尺列的话，即不会有彼此对应标尺列配置的读头同时到达测量范围外(换言之，两读头同时对向于间隙)的情形。
另外，上述各实施方式中，虽有说明读头60或读头载台64是与基板保持具24同步移动的情形，但此是代表在大致维持读头60或读头载台64对基板保持具24的相对位置关系的状态移动，并不限定于读头60或读头载台64、基板保持具24两者间的位置关系、移动方向及移动速度在严密一致的状态下移动的情形。
另外，在光学平台18a上，X轴方向的多个标尺隔着既定间隔的间隙连接配置的标尺群(标尺列)，以多个列配置在彼此于Y轴方向分离的不同位置(例如相对投影光学系统16的一侧(+Y侧)的位置、与另一侧(－Y侧)的位置)的情形时，可将此多个标尺群(多个标尺列)构成为可根据在基板上的照射的配置(照射图、shot map)加以区分使用。例如，将多个标尺列整体的长度，做成在标尺列间互异的话，即能因应不同的照射图，亦能因应取4面的情形与取6面的情形等的基板上形成的照射区域的数量变化。此外，以此方式配置、并使各标尺列之的间隙的位置在X轴方向为互异的位置的话，因对应多个标尺列之的各个的读头不会有同时成为测量范围外的情形，因此能减少接续处理中被视为不定值的传感器的数量，以高精度进行接续处理。
另外，在光学平台18a上，X轴方向的多个标尺隔着既定间隔的间隙连接配置的标尺群(标尺列)中，可将1个标尺(X轴测量用的图案)于X轴方向的长度，做成可连续测定1照射区域的长度(在使基板保持具上的基板一边往X轴方向移动、一边进行扫描曝光时，组件图案被照射而在基板上形成的长度)量的长度。如此一来，在1照射区域的扫描曝光中，无需进行读头相对多个标尺的接续控制，因此能容易的进行扫描曝光中的基板P(基板保持具)的位置测量(位置控制)。
另外，光罩保持具40上的隔着既定间隔的间隙将多个标尺于X轴方向连接配置的标尺群(标尺列)中，于上述实施方式，虽是将各标尺的长度相同者连接配置，但亦可将长度互异的标尺连接配置。例如，在光罩保持具40上的标尺列中，可将在X轴方向配置在中央部的标尺的长度物理上做成比靠近两端部分别配置的标尺(标尺列中，配置在各端部的标尺)的X轴方向长度长。
另外，上述各实施方式中，一对X读头与一对Y读头是一个个成对于X轴方向排列配置(X读头与Y读头于X轴方向配置在相同位置)，但亦可将此等于X轴方向相对错开配置
另外，在某一读头54及与其对应的标尺列(隔着既定间隙将多个标尺于既定方向连接配置的标尺列)往X轴方向相对移动之际，在位于读头54内的一组读头同时对向于上述标尺间的间隙后，再同时对向于另一标尺的情形时，必须算出该接续的读头的测量初期值。此时，可使用与接续的读头不同的另一读头60内剩余的一组读头、与和前述不同的再另一个读头(于X轴方向分离、且配置在与脱离的读头间的距离较标尺长度短的位置者)的输出，来算出接续的读头的接续时的初期值。上述再另一读头，无论是X轴方向的位置测量用读头、或Y轴方向的位置测量用读头皆可。
另外，各实施方式的基板编码器系统60，为取得基板载台装置20移动至与基板装载器的基板更换位置期间的位置信息，可在基板载台装置20或其他载台装置设置基板更换用的标尺，使用朝下的读头(X读头68sx等)来取得基板载台装置20的位置信息。或者，亦可在基板载台装置20或其他载台装置设置基板更换用的读头，藉测量标尺或基板更换用的标尺来取得基板载台装置20的位置信息。
另外，各实施方式的光罩编码器系统50，为取得光罩载台装置14移动至与光罩装载器的光罩更换位置期间的位置信息，可在光罩载台装置14或其他载台装置设置光罩更换用的标尺，使用读头单元54来取得光罩载台装置14的位置信息。此外，亦可设置与编码器系统不同的位置测量系统(例如载台上的标记与观察此标记的观察系统)以进行载台的更换位置控制(管理)。
另外，照明光可以是ArF准分子雷射光(波长193nm)、KrF准分子雷射光(波长248nm)等的紫外光、或F2雷射光(波长157nm)等的真空紫外光。此外，作为照明光，亦可使用例如将从DFB半导体雷射或光纤雷射发出的红外线带，或可见光带的单一波长雷射光以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以增幅，使用非线性光学结晶加以波长转换为紫外光的谐波。再者，亦可使用固体雷射(波长：355nm、266nm)等。
另外，以上虽针对投影光学系统16为具备复数支光学系统的多透镜方式投影光学系统的情形做了说明，但投影光学系统的数量不限于此，只要是1只以上即可。此外，亦不限于多透镜方式的投影光学系统，亦可以是使用例如欧夫那(Ofner)型大型反射镜的投影光学系统等。再着，作为投影光学系统16可以是缩小系及放大系的任一种。
另外，曝光装置的用途不限于将液晶显示组件图案转印至方型玻璃板片的液晶用曝光装置，亦能广泛的适用于例如有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA芯片等的曝光装置。此外，不仅仅是半导体组件等的微组件，为制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的标线片或光罩，而将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等曝光装置的制造，亦能适用。
另外，作为曝光对象的物体不限于玻璃板，亦可以是例如晶圆、陶瓷基板、薄膜构件、或光罩母板(空白光罩)等其他物体。此外，曝光对象物为平板显示器用基板的情形时，该基板的厚度无特别限定，亦包含例如薄膜状(具可挠性的片状构件)。另外，本实施方式的曝光装置，在曝光对象物为一边长度、或对角长500mm以上的基板时尤其有效。
液晶显示组件(或半导体组件)等的电子组件，是经由进行组件的功能性能设计的步骤、依据此设计步骤制作光罩(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶圆)的步骤、以上述各实施方式的曝光装置及其曝光方法将光罩(标线片)的图案转印至玻璃基板的微影步骤、对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤、将残存抗蚀剂部分以外的部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、将蚀刻后不要的抗蚀剂去除的抗蚀剂除去步骤、以及组件组装步骤、检查步骤等而制造出。此场合，于微影步骤使用上述实施方式的曝光装置实施前述曝光方法，于玻璃基板上形成组件图案，因此能以良好的生产性制造高积体度的组件。
另外，援用关于上述实施方式所引用的曝光装置等的所有美国专利申请公开说明书及美国专利说明书的揭示，作为本说明书记载的一部分。
产业上的可利用性
如以上的说明，本发明的曝光装置及曝光方法非常适合以照明光使物体曝光。另外，本发明的平面显示器的制造方法适于平面显示器的生产。此外，本发明的组件制造方法适于微组件的生产。
附图标记说明
10 液晶曝光装置
14 光罩载台装置
20 基板载台装置
24 基板保持具
40 光罩保持具
50 光罩编码器系统
54 读头载台
60 基板编码器系统
64 读头载台
90 主控制装置
M 光罩
P 基板。

Claims (13)

1.一种曝光装置，所述曝光装置经由投影光学系统利用照明光使物体曝光，其中，所述曝光装置具备：
第1移动体，所述第1移动体配置在所述投影光学系统的下方并保持所述物体；
第1驱动部，所述第1驱动部在与所述投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向上使所述第1移动体移动；
测量部，所述测量部测量所述第1移动体的位置信息；
第2移动体，所述第2移动体支承所述测量部并能够在所述既定平面内移动；以及
第2驱动部，所述第2驱动部在所述第1方向、第2方向上使所述第2移动体移动,
所述第2驱动部在利用所述第1驱动部使所述第1移动体向所述第1方向或所述第2方向移动时，使所述第2移动体向所述第1方向或所述第2方向移动。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述测量部具备：
第1格子构件，所述第1格子构件具有在所述第1方向彼此分离配置的多个格子区域；
多个第1读头，所述多个第1读头对所述第1格子构件分别照射测量光束，且能够在所述既定平面内移动；以及
测量装置，所述测量装置测量在所述第2方向的所述多个第1读头的位置信息，
所述多个第1读头设于所述第2移动体，且以所述第1格子构件与所述第2移动体相向的方式设置，根据所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少1个的所述多个第1读头的测量信息和所述测量装置的测量信息，测量所述移动体的位置信息。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，
所述测量装置具有检测设在所述第1移动体的被检测部的检测部，
所述第2驱动部根据被第2移动体支承的所述检测部对所述被检测部的检测结果，使所述第2移动体移动。
4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，
所述被检测部是具有格子区域的第2格子构件，
所述检测部是对所述第2格子构件照射测量光束的第2读头，将所述测量光束照射于所述第2格子构件的所述第2读头的测量信息作为所述检测结果。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，
所述第2格子构件在所述第1方向上的长度比所述第1格子构件短。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的曝光装置，其中，
所述测量装置测量在所述第2方向的所述多个读头的位置信息，
所述测量部具备：具有在所述第2方向彼此分离配置的多个格子区域的第3格子构件、以及对所述第3格子构件分别照射测量光束且能够在所述既定平面内移动的多个第3读头，根据所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少1个的所述多个第3读头的测量信息和所述测量装置的测量信息，测量所述移动体的位置信息。
7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，
所述曝光装置具备支承所述投影光学系统的框架构件，
所述第1格子构件及第3格子构件中的一方的格子构件设于所述框架构件。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，
所述曝光装置具备形成装置，所述形成装置具有保持既定图案的图案保持体和将所述图案保持体向所述第1方向驱动的第3驱动部，并使用能量束经由所述图案保持体在所述物体上形成所述图案。
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，
所述物体是用于平面显示器的基板。
10.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，
所述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。
11.一种平面显示器的制造方法，其中，所述平面显示器的制造方法包括如下动作：
使用权利要求9或10所述的曝光装置使所述物体曝光；以及
使曝光后的所述物体显影。
12.一种组件制造方法，其中，所述组件制造方法包括如下动作：
使用权利要求8所述的曝光装置使所述物体曝光；以及
使曝光后的所述物体显影。
13.一种曝光方法，所述曝光方法经由投影光学系统利用照明光使物体曝光，其中，所述曝光方法包括如下动作：
利用第1驱动部使配置在所述投影光学系统的下方并保持所述物体的第1移动体在与所述投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向上移动；
利用测量部测量所述第1移动体的位置信息；
利用第2驱动部使支承所述测量部并能够在所述既定平面内移动的第2移动体在所述第1方向、第2方向上移动；以及
在利用所述第1驱动部使所述第1移动体向所述第1方向或所述第2方向移动时，利用所述第2驱动部使所述第2移动体向所述第1方向或所述第2方向移动。
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