KR101318096B1 - 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스제조 방법 - Google Patents

노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스제조 방법 Download PDF

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Abstract

투영 광학계 (PL) 를 통하여 마스크 (M) 에 형성되는 패턴을 감광성 기판 (P) 상에 노광하는 노광 장치로서, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (MST) 및 투영 광학계 (PL) 중 적어도 일방이 탑재되는 상측 가대부 (26) 와, 상측 가대부 (26) 를 지지함과 함께, 소정의 방향으로 길이 방향을 갖는 하측 가대부 (6a) 를 구비한다.
노광 장치, 투영 광학계, 방진 시스템, 리소그래피

Description

노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스 제조 방법{EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE}
기술분야
본 발명은, 액정 표시 소자 등의 플랫 패널 표시 소자 등의 마이크로 디바이스를 리소그래피 공정에 의해 제조하기 위한 노광 장치, 그 노광 장치의 제조 방법 및 그 노광 장치를 사용한 마이크로 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.
배경기술
현재, 액정 표시 소자 디바이스 등의 제조에 있어서는, 마스크 상에 형성된 미세한 패턴을 감광성 기판 상에 전사하는 포토리소그래피의 수법이 사용되고 있다. 이 포토리소그래피의 수법을 사용한 제조 공정에서는, 마스크가 2차원 이동하는 마스크 스테이지에 탑재되어 있고, 그 마스크 상에 형성된 패턴을, 투영 광학계를 통하여 2차원 이동하는 기판 스테이지에 탑재되어 있는 감광제가 도포된 감광성 기판 상에 투영 노광하는 투영 노광 장치가 사용되고 있다. 또한, 감광성 기판은, 예를 들어, 유리 플레이트 등의 표면에 감광제가 도포된 것이다. 종래의 노광 장치는, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 기판 스테이지 (100) 를 탑재하는 가대부 (架臺部, 정반 (102)) 에, 마스크 스테이지 (104) 및 투영 광학계 (도시 생략) 를 탑재하는 가대부 (칼럼; 106) 를 탑재함으로써 조립되었다.
발명의 개시
최근, 노광 장치에 있어서는, 플랫 패널 표시 소자용, 예를 들어, 액정 디스플레이용 기판의 대형화에 수반하여, 마스크 및 기판 (나아가서는 마스크 스테이지 및 기판 스테이지) 의 대형화, 마스크 스테이지 및 기판 스테이지의 스트로크의 신장화 (伸長化) 가 진행되고 있기 때문에, 이들 마스크 스테이지 및 기판 스테이지를 유지하는 가대부도 대형화되고 있다. 그러나, 이들 가대부를 구비하는 노광 장치는 운반할 때의 도로폭 등의 사정에 의해 그 크기가 제한된다.
본 발명의 과제는, 노광 본체부 중 적어도 일부 (예를 들어, 마스크 스테이지와 투영 광학계 중 적어도 일방) 및 기판 스테이지 등을 탑재하는 복수의 가대부를 갖는 노광 장치, 그 노광 장치의 제조 방법 및 그 노광 장치를 사용한 마이크로 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제 1 양태에 따르면, 투영 광학계를 통하여 마스크에 형성되는 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 장치로서, 상기 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 및 상기 투영 광학계 중 적어도 일방이 탑재되는 상측 가대부와, 상기 상측 가대부로부터 분리 가능하게 설치됨과 함께, 소정의 방향으로 길이 방향을 갖고, 상기 상측 가대부를 지지하는 복수의 하측 가대부를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
본 발명의 제 1 양태에 의하면, 상측 가대부로부터 분리 가능하게 설치되고, 소정의 방향으로 길이 방향을 갖는 복수의 하측 가대부를 구비하고 있기 때문에, 하측 가대부를 차량 (나아가서는 항공기) 에 적재하고, 운반할 수 있으며, 또한 대 형 기판을 탑재할 수 있는 대형 기판 스테이지를 구비한 노광 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 제 2 양태에 따르면, 투영 광학계를 통하여 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 장치로서, 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 설치되는 제 1 가대부 (상측 가대부) 와, 제 1 가대부로부터 분리 가능하게 설치되고, 각각 제 1 방향을 길이 방향으로 하여 연장되며, 또한 투영 광학계를 사이에 두고 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 떨어져서 배치되는 한 쌍의 지지부 (중측 가대부) 에 의해 제 1 가대부를 지지하는 제 2 가대부를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
본 발명의 제 2 양태에 의하면, 노광 본체부 중 적어도 일부가 설치되는 제 1 가대부와, 제 1 가대부로부터 분리 가능하게 설치되고, 각각 제 1 방향을 길이 방향으로 하여 연장되며, 또한 투영 광학계를 사이에 두고 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 떨어져서 배치되는 한 쌍의 지지부에 의해 제 1 가대부를 지지하는 제 2 가대부를 구비하고 있기 때문에, 각각을 분리함으로써 차량 (나아가서는 항공기) 에 적재하여, 운반할 수 있다.
본 발명의 제 3 양태에 따르면, 투영 광학계를 통하여 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 장치의 제조 방법으로서, 감광성 기판을 유지하는 기판 스테이지가 탑재되는 하측 가대부를 설치하는 하측 가대부 설치 공정과, 하측 가대부 설치 공정에 의해 설치된 하측 가대부 상에 복수의 중측 가대부를 설치하는 중측 가대부 설치 공정과, 중측 가대부 설치 공정에 의해 설치된 복수의 중측 가대부 상 에, 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 탑재되는 상측 가대부를 설치하는 상측 가대부 설치 공정을 포함하는 노광 장치의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 3 양태에 의하면, 기판 스테이지가 탑재되는 하측 가대부 상에 복수의 중측 가대부를 설치하고, 복수의 중측 가대부 상에, 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 탑재되는 상측 가대부를 설치하기 때문에, 운반 가능한 크기의 복수의 가대부를 사용하여, 대형 감광성 기판 상에 대한 노광이 가능한 노광 장치를 제조할 수 있다.
본 발명의 제 4 양태에 따르면, 상기 양태의 노광 장치, 또는 노광 장치의 제조 방법에 의해 제조된 노광 장치를 사용하여 소정의 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 공정과, 상기 노광 공정에 의해 노광된 상기 감광성 기판을 현상하는 현상 공정을 포함하는 마이크로 디바이스의 제조 방법이 제공된다.
본 발명의 제 4 양태에 의하면, 상기 양태의 노광 장치, 또는 노광 장치의 제조 방법에 의해 제조된 노광 장치를 사용하여 마이크로 디바이스를 제조하고 있기 때문에, 대형 감광성 기판 상에 마스크의 패턴을 고정밀도로 노광할 수 있어, 양호한 마이크로 디바이스를 얻을 수 있다.
본 발명은, 특히 대형 감광성 기판, 일례로서는 외경 (外徑) 이 500㎜ 를 초과하는 크기의 감광성 기판에 대하여 노광하는 장치, 방법에 대하여 유효하다. 여기서, 감광성 기판의 외경과는 감광성 기판의 한 변 또는 감광성 기판의 대각선을 나타내고 있다.
본 발명의 노광 장치에 의하면, 복수의 가대부를 분리하여 차량에 적재하여, 운반할 수 있다. 이로써, 대형 기판을 탑재할 수 있는 대형의 기판 스테이지를 구비한 노광 장치를 제공할 수 있다.
또, 본 발명의 노광 장치의 제조 방법에 의하면, 기판 스테이지가 탑재되는 하측 가대부 상에 복수의 중측 가대부를 설치하고, 복수의 중측 가대부 상에, 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 탑재되는 상측 가대부를 설치하기 때문에, 운반 가능한 크기의 복수의 가대부를 사용하여, 대형의 감광성 기판 상에 대한 노광이 가능한 노광 장치를 제조할 수 있다.
또, 본 발명의 마이크로 디바이스의 제조 방법에 의하면, 본 발명의 노광 장치 또는 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 노광 장치를 사용하여 마이크로 디바이스를 제조하고 있기 때문에, 대형 감광성 기판 상에 마스크의 패턴을 고정밀도로 노광할 수 있어, 양호한 마이크로 디바이스를 얻을 수 있다.
도면의 간단한 설명
도 1 은 본 발명의 실시 형태에 관련된 노광 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2 는 본 발명의 실시 형태에 관련된 마스크 스테이지에서 플레이트 스테이지까지의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3 은 밀어 맞춤 기준면의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4 는 본 발명의 실시 형태에 관련된 노광 장치의 제조 방법에 대하여 설명하기 위한 플로우 차트이다.
도 5 는 실시 형태에 관련된 마이크로 디바이스로서의 반도체 디바이스의 제조 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 6 은 실시 형태에 관련된 마이크로 디바이스로서의 액정 표시 소자의 제조 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 7 은 종래의 노광 장치의 마스크 스테이지에서 플레이트 스테이지까지의 개략 구성을 나타내는 사시도이다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태에 관련된 노광 장치에 대하여 설명한다. 도 1 은, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 도 1 중에 나타내는 XYZ 직교 좌표계를 설정하고, 이 XYZ 직교 좌표계를 참조하면서 각 부재의 위치 관계에 관하여 설명한다. XYZ 직교 좌표계는, X 축 및 Y 축이 플레이트 (P) 에 대하여 평행이 되도록 설정되고, Z 축이 플레이트 (P) 에 대하여 직교하는 방향으로 설정되어 있다. 도면 중의 XYZ 좌표계는, 실제로는 XY 평면이 수평면에 평행한 면으로 설정되고, Z 축이 연직 상방향으로 설정된다. 또, 이 실시 형태에 있어서는 플레이트 (P; 플레이트 스테이지 (PST)) 를 이동시키는 방향 (주사 방향) 이 X 축 방향으로 설정되어 있다.
이 노광 장치는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 광원 및 조명 광학계를 포함하는 조명 광학 장치 (IL) 를 구비하고 있다. 조명 광학 장치 (IL) 로부터 사출되는 광속은, 소정의 패턴이 형성된 마스크 (M) 를 중첩적으로 조명한다. 마 스크 (M) 의 패턴을 통과한 광속은, 투영 광학계 (PL) 를 통하여, 외경이 500㎜ 를 초과하는 크기의 감광성 기판인 플레이트 (P) 상에 마스크 (M) 의 패턴 이미지를 형성한다. 여기서, 외경이 500㎜ 를 초과하는 크기란, 한 변 또는 대각선이 500㎜ 보다 큰 것을 말한다. 이렇게 하여, 이 노광 장치는, XY 평면 내에 있어서 마스크 (M) 를 탑재하는 마스크 스테이지 (MST) 와, 플레이트 (P) 를 탑재하는 플레이트 스테이지 (기판 스테이지; PST) 를 주사 방향 (X 축 방향) 으로 투영 광학계 (PL) 에 대하여 상대적으로 동기 이동시키고, 또한 플레이트 스테이지 (PST) 를 2차원적으로 구동 제어하면서 스캔 노광을 행함으로써, 플레이트 (P) 의 복수의 노광 영역 각각에 마스크 (M) 의 패턴을 노광한다. 그리고, 플레이트 (P) 상에 복수의 플랫 패널 디스플레이 디바이스가 형성된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 조명 광학 장치 (IL), 마스크 스테이지 (MST) 및 투영 광학계 (PL) 에 의해 노광 본체부가 구성되지만, 예를 들어, 마스크 (M) 대신에 전자 마스크 (가변 성형 마스크로도 불리며, 예를 들어, 비발광형 화상 표시 소자 (공간 광변조기) 의 일종인 DMD (Digital Micro-mirror Device) 등을 포함한다) 를 사용하는 경우에는 마스크 스테이지 (MST) 가 불필요해진다. 또, 투영 광학계 (PL) 는 적어도 Y 축 방향의 상이한 위치에 각각 패턴 이미지의 투영 영역이 설정되는 복수의 투영 광학 모듈을 갖는 것으로 해도 된다.
또, 이 노광 장치는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 노광 장치 본체가 설치되어 있는 베이스 상에 4 개의 방진 시스템 (지지 부재; 4a, 4b, 4c) (도 2 참조) 및 도시를 생략한 방진 시스템 (이하, 방진 시스템 (4d) 이라 한다.) 을 구비하고 있 다. 도 2 는, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치의 마스크 스테이지 (MST) 에서 플레이트 스테이지 (PST) 까지의 개략 구성을 나타내는 사시도이다. 또한, 도 2 에서는, 투영 광학계 (PL) 의 도시를 생략하고 있다.
도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 방진 시스템 (4a, 4b) 은, 방진 시스템 (4a, 4b) 상에 탑재되어 있는 하측 가대부 (6a) 의 길이 방향의 양단에 배치되어 있다. 또, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 방진 시스템 (4c, 4d) 은, 방진 시스템 (4c, 4d) 상에 탑재되어 있는 하측 가대부 (6b) 의 길이 방향의 양단에 배치되어 있다. 방진 시스템 (4a ∼ 4d) 은, 노광 장치를 조립한 후에, 후술하는 에어 가이드 (12a, 12b) 의 비틀림을 조정할 수 있다. 방진 시스템 (4a, 4b) 에 의해 지지되어 있는 하측 가대부 (6a) 는, -X 방향측으로서, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (소정의 방향, 본 실시 형태에서는 Y 축 방향) 으로 하측 가대부 (6a) 의 길이 방향을 갖도록 배치되어 있다. 또, 방진 시스템 (4c, 4d) 에 의해 지지되어 있는 하측 가대부 (6b) 는, +X 방향측으로서, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (소정의 방향) 으로 하측 가대부 (6b) 의 길이 방향을 갖도록 배치되어 있다. 하측 가대부 (6a, 6b) 는, 길이 방향과 교차하는 방향으로 분리되어 배치되고, 이 실시 형태에서는 2 개의 구조재로 이루어진다. 하측 가대부 (6a, 6b) 는, 후술하는 중측 가대부 (22a, 22b) 를 통하여, 상측 가대부 (26) 를 지지하고 있다.
또, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 하측 가대부 (6a, 6b) 에는, 정반 (8; 나아가서는, 플레이트 스테이지 (PST)) 이 탑재되어 있다. 또, 하측 가대부 (6a, 6b) 상에는, -Y 방향측으로서, X 방향으로 길이 방향을 갖는 리니어 모터 고정자 (10a) 가 설치되어 있고, +Y 방향측으로서, X 방향으로 길이 방향을 갖는 리니어 모터 고정자 (10b) 가 설치되어 있다.
또, 하측 가대부 (6a, 6b) 상에 탑재되어 있는 정반 (8) 상에는, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향의 가이드인 에어 가이드 (12a, 12b) 를 통하여, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (비주사 방향) 의 가이드인 에어 가이드 (14) 가 리니어 모터 고정자 (10a 와 10b) 사이에 배치되어 있다. 에어 가이드 (14) 에는, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향의 액츄에이터인 리니어 모터 (16a) 가 리니어 모터 고정자 (10a) 측에 접속되어 있고, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향의 액츄에이터인 리니어 모터 (16b) 가 리니어 모터 고정자 (10b) 측에 접속되어 있다. 따라서, 리니어 모터 (16a, 16b) 를 구동함으로써 에어 가이드 (14; 나아가서는 플레이트 스테이지 (PST)) 가 주사 방향을 따라 이동한다.
에어 가이드 (14) 상에는, 플레이트 스테이지 (PST) 가 탑재되어 있고, 플레이트 스테이지 (PST) 상의 플레이트 홀더 (도시 생략) 를 통하여 플레이트 (P; 도 2 에 있어서는, 도시 생략) 가 흡착 유지되어 있다. 또, 플레이트 스테이지 (PST) 상에는 -X 방향측에 이동경 (18a), 리니어 모터 고정자 (10b) 측에 이동경 (18b) 이 설치되어 있고, 정반 (8) 상에는 -X 방향측에 플레이트 스테이지 간섭계 (20a), 후술하는 중측 가대부 (22b) 의 -Y 방향측에 측면에는 플레이트 스테이지 간섭계 (20b) 가 설치되어 있다. 플레이트 스테이지 레이저 간섭계 (20a, 20b) 로부터 사출되는 레이저광은, 이동경 (18a, 18b) 각각에 입사되고, 이동경 (18a, 18b) 에 의해 반사된다.
플레이트 스테이지 레이저 간섭계 (20a) 는, 이동경 (18a) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭에 기초하여, 플레이트 스테이지 (PST) 의 X 축 방향에 있어서의 위치를 계측 및 제어한다. 또, 플레이트 스테이지 레이저 간섭계 (20b) 는, 이동경 (18b) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭에 기초하여 플레이트 스테이지 (PST) 의 Y 축 방향에 있어서의 위치를 계측 및 제어한다.
또, -Y 방향측의 하측 가대부 (6a, 6b) 상에는, 중측 가대부 (22a) 가 탑재되어 있고, +Y 방향측의 하측 가대부 (6a, 6b) 상에는, 중측 가대부 (22b) 가 탑재되어 있다. 중측 가대부 (22a, 22b) 는, 하측 가대부 (6a, 6b) 와 연결되고, 또한 하측 가대부 (6a, 6b) 와 후술하는 상측 가대부 (26) 를 연결하고 있다. 또, 중측 가대부 (22a, 22b) 는, 하측 가대부 (6a, 6b) 의 길이 방향과 교차하는 방향 (X 축 방향, 소정의 방향과 교차하는 방향) 으로 중측 가대부 (22a, 22b) 의 길이 방향을 갖도록 배치되어 있다. 즉, 중측 가대부 (22a) 는, -Y 방향측으로서, 중측 가대부 (22a) 의 길이 방향이 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 평행이 되도록 배치되어 있다. 또, 중측 가대부 (22b) 는, +Y 방향측으로서, 중측 가대부 (22b) 의 길이 방향이 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 평행이 되도록 배치되어 있다. 이와 같이, 하측 가대부 (6a, 6b) 에 대하여 중측 가대부 (22a, 22b) 가 우물정자형 구조로 연결되고, 하측 가대부 (6a, 6b) 의 상방에 중측 가대부 (22a, 22b) 를 협지한 공간이 형성된다.
하측 가대부 (6a) 와 중측 가대부 (22a) 의 연결부에는, 보정용 스페이서 (위치 조정용의 보정 부재; 24a) 가 설치되어 있고, 보정용 스페이서 (24a) 는 하측 가대부 (6a) 와 중측 가대부 (22a) 의 가공 정밀도를 완화시키는 기능을 갖는다. 보정용 스페이서 (24a) 의 치수는, 하측 가대부 (6a) 및 중측 가대부 (22a) 의 가공시의 치수 데이터에 기초하여 결정된다. 마찬가지로, 하측 가대부 (6a) 와 중측 가대부 (22b) 의 연결부에는 보정용 스페이서 (위치 조정용의 보정 부재; 24b) 가 설치되고, 하측 가대부 (6b) 와 중측 가대부 (22a) 의 연결부에는 보정용 스페이서 (위치 조정용의 보정 부재; 24c) 가 설치되며, 하측 가대부 (6b) 와 중측 가대부 (22b) 의 연결부에는 도시를 생략한 보정용 스페이서 (위치 조정용의 보정 부재, 이하에서는 보정용 스페이서 (24d) 라고 한다.) 가 설치되어 있고, 보정용 스페이서 (24b ∼ 24d) 는, 하측 가대부 (6a, 6b) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 의 가공 정밀도를 완화시키는 기능을 갖는다. 보정용 스페이서 (24b ∼ 24d) 의 치수는, 하측 가대부 (6a, 6b) 및 중측 가대부 (22a, 22b) 의 가공시의 치수 데이터에 기초하여 결정된다.
또, 하측 가대부 (6a) 와 중측 가대부 (22a) 의 연결부에는, 도 3 의 사선부로 나타내는 밀어 맞춤 기준면 (25) 이 형성되어 있고, 에어 캐스터 등을 사용하여 하측 가대부 (6a) 의 밀어 맞춤 기준면 (25) 에 중측 가대부 (22a) 의 대응하는 면이 밀어 맞춰져 있다. 하측 가대부 (6a) 와 중측 가대부 (22b) 의 연결부, 및 하측 가대부 (6b) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 의 연결부에도, 밀어 맞춤 기준면 (25) 과 동일한 밀어 맞춤 기준면이 형성되어 있고, 에어 캐스터 등을 사용하여 하 측 가대부 (6a, 6b) 의 밀어 맞춤 기준면에 중측 가대부 (22a, 22b) 의 대응하는 면이 밀어 맞춰져 있다.
또, 중측 가대부 (22a, 22b) 상에는, 상측 가대부 (26) 가 탑재되어 있고, 상측 가대부 (26) 는, 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (소정의 방향) 으로 길이 방향을 갖고, 중측 가대부 (22a, 22b) 의 길이 방향과 교차하여 연결되어 있다. 상측 가대부 (26) 에는, 마스크 스테이지 (MST) 및 투영 광학계 (PL) 가 탑재되어 있고, 상측 가대부 (26) 와 하측 가대부 (6a, 6b) 로 둘러싸인 공간의 폭이, 500㎜ 를 초과하는 크기가 되도록 구성되어 있다.
또, 중측 가대부 (22a, 22b) 의 간격은, 500㎜ 를 초과하는 폭을 가지고 있다. 이와 같이 구성함으로써, 상측 가대부 (26) 와 하측 가대부 (6a, 6b) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 로 둘러싸인 공간의 폭이, 500㎜ 를 초과하는 크기가 되고, 500㎜ 를 초과하는 크기의 기판을 탑재 가능한 플레이트 스테이지 (PST) 를 장착할 수 있다. 또, 중측 가대부 (22a, 22b) 의 간격은, 플레이트 (P) 의 크기에 대응한 공간, 또는 플레이트 스테이지 (PST) 의 이동량에 대응하는 공간이 형성되도록 설정된다.
또, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a) 의 연결부에는 보정용 심 (위치 조정용의 보정 부재; (28a, 28b)) 이 설치되어 있고, 보정용 심 (28a, 28b) 은, 노광 장치를 조립한 후에 발생하는 후술하는 에어 가이드 (32a, 32b) 의 비틀림을 조정한다. 즉, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a) 사이에 잭을 삽입할 수 있도록 구성되어 있기 때문에, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a) 의 조립 오 차에 의한 에어 가이드 (32a, 32b) 의 비틀림을, 보정용 심 (28a, 28b) 에 의해 용이하게 미세조정할 수 있다. 마찬가지로, 상측 가대부 (26) 및 중측 가대부 (22b) 의 연결부에는 보정용 심 (위치 조정용의 보정 부재; 28c) 및 도시를 생략한 보정용 심 (위치 조정용의 보정 부재, 이하 보정용 심 (28d) 이라고 한다.) 이 설치되어 있고, 보정용 심 (28c, 28d) 은, 노광 장치를 조립한 후에 발생하는 후술하는 에어 가이드 (32a, 32b) 의 비틀림을 조정한다. 즉, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22b) 사이에 잭을 삽입할 수 있도록 구성되어 있기 때문에, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22b) 의 조립 오차에 의한 에어 가이드 (32a, 32b) 의 비틀림을, 보정용 심 (28c, 28d) 에 의해 용이하게 미세조정할 수 있다.
또, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 의 연결부에는 도 3 의 사선부로 나타내는 밀어 맞춤 기준면 (25) 과 동일한 밀어 맞춤 기준면이, 각각 형성되어 있고, 에어 캐스터 등을 사용하여 각각의 밀어 맞춤 기준면에, 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 가 밀어 맞춰져 있다.
상측 가대부 (26) 상에는, -Y 방향측에 X 방향으로 길이 방향을 갖는 마스크용 리니어 모터 고정자 (30a) 가 설치되어 있다. 또, 상측 가대부 (26) 상에는, +Y 방향측에 X 방향으로 길이 방향을 갖는 마스크용 리니어 모터 고정자 (30b) 가 설치되어 있다. 또, 상측 가대부 (26) 상에는, 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향 (X 축 방향) 의 가이드인 에어 가이드 (32a, 32b) 를 통하여 도시를 생략한 마스크 서브 스테이지가 리니어 모터 고정자 (30a 와 30b) 사이에 탑재되어 있다. 마스크 서브 스테이지에는, 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향과 교차 하는 방향 (Y 축 방향, 비주사 방향) 의 액츄에이터인 비주사 방향 리니어 모터 (34) 가 접속되어 있다. 또, 비주사 방향 리니어 모터 (34) 에는 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향의 액츄에이터인 마스크 서브 스테이지용 리니어 모터 (36) 가 마스크용 리니어 모터 고정자 (30a) 측에 접속되어 있다. 따라서, 마스크 서브 스테이지용 리니어 모터 (36; 및 후술하는 마스크용 리니어 모터 (38a, 38b)) 를 구동시킴으로써, 마스크 서브 스테이지 및 비주사 방향 리니어 모터 (34) 는, 마스크 스테이지 (MST) 와 함께 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향 (X 축 방향) 을 따라 이동한다.
또, 도시를 생략한 마스크 서브 스테이지 상에는, 마스크 스테이지 (MST) 가 탑재되어 있다. 마스크 스테이지 (MST) 에는, 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향의 액츄에이터인 마스크용 리니어 모터 (38a, 38b) 가 마스크용 리니어 모터 고정자 (30a) 측에 접속되어 있고, 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향의 액츄에이터인 도시를 생략한 마스크용 리니어 모터가 마스크용 리니어 모터 고정자 (30b) 측에 접속되어 있다. 따라서, 마스크용 리니어 모터 (30a, 30b), 도시를 생략한 마스크용 리니어 모터 및 마스크 서브 스테이지용 리니어 모터 (36) 를 구동시킴으로써 마스크 서브 스테이지, 비주사 방향 리니어 모터 (34) 및 마스크 스테이지 (MST) 가, 마스크 스테이지 (MST) 의 주사 방향 (X 축 방향) 을 따라 이동한다.
또, 마스크 스테이지 (MST) 상에는, 마스크 홀더 (도시 생략) 를 통하여 마스크 (M; 도 2 에 있어서는, 도시 생략) 가 흡착 유지되어 있다. 또, 마스크 스테이지 (MST) 의 -X 방향측의 측면에는, 도시를 생략한 2 개의 이동경이 설치되 어 있고, 2 개의 이동경에는, 마스크 스테이지 레이저 간섭계 (40a, 40b) 로부터 사출되는 레이저광이 각각 입사되고, 입사된 레이저광은 2 개의 이동경에 의해 반사된다. 마스크 스테이지 레이저 간섭계 (40a, 40b) 는, 2 개의 이동경에 의해 반사된 레이저광의 간섭에 기초하여 마스크 스테이지 (MST) 의 X 축 방향에 있어서의 위치를 계측 및 제어한다.
또, 마스크 스테이지 (MST) 상에는, 마스크 스테이지 레이저 간섭계 (40c) 가 리니어 모터 고정자 (30b) 측에 설치되어 있다. 또, 마스크 레이저 간섭계 (40c) 로부터 사출되는 레이저광은, 고정경 (42) 에 입사된다. 고정경 (42) 은, 마스크용 리니어 모터 고정자 (30b) 를 사이에 두고 마스크 스테이지 (MST) 에 대향하는 위치에 마스크용 리니어 모터 고정자 (30b) 의 길이 방향 (X 축 방향) 을 따라 설치되어 있다. 마스크 스테이지 레이저 간섭계 (40c) 는, 고정경 (42) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭에 기초하여 마스크 스테이지 (MST) 의 Y 축 방향에 있어서의 위치를 계측 및 제어한다.
다음으로, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 4 는, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치의 제조 방법에 대하여 설명하기 위한 플로우 차트이다.
먼저, 플레이트 (P) 가 유지되어 있는 플레이트 스테이지 (PST) 가 탑재되는 하측 가대부 (6a, 6b) 를 설치한다 (단계 S10, 하측 가대부 설치 공정). 구체적으로는, 하측 가대부 (6a, 6b) 를 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (Y 축 방향) 으로 그 길이 방향을 갖도록 설치한다.
다음으로, 단계 S10 에 있어서 설치된 하측 가대부 (6a, 6b) 상에 중측 가대부 (22a, 22b) 를 설치한다 (단계 S11, 중측 가대부 설치 공정). 구체적으로는, 중측 가대부 (22a, 22b) 를 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향 (X 축 방향) 으로 그 길이 방향을 갖도록 설치하고, 중측 가대부 (22a, 22b) 의 길이 방향과 하측 가대부 (6a, 6b) 의 길이 방향을 교차시켜 중측 가대부 (22a, 22b) 와 하측 가대부 (6a, 6b) 를 연결한다. 연결시에는, 연결 부재로 체결한다. 연결 부재로서는, 볼트 등을 사용해도 되고, 접착, 용접 등을 하도록 해도 된다.
다음으로, 단계 S11 에 있어서 설치된 중측 가대부 (22a, 22b) 상에, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (MST) 및 투영 광학계 (PL) 가 탑재되는 상측 가대부 (26) 를 설치한다 (단계 S12, 상측 가대부 설치 공정). 구체적으로는, 상측 가대부 (26) 를 플레이트 스테이지 (PST) 의 주사 방향과 교차하는 방향 (Y 축 방향) 으로 그 길이 방향을 갖도록 설치하고, 상측 가대부 (26) 의 길이 방향과 중측 가대부 (22a, 22b) 의 길이 방향을 교차시켜 상측 가대부 (26) 와 중측 가대부 (22a, 22b) 를 연결한다.
이 실시 형태에 관련된 노광 장치에 의하면, 플레이트 스테이지의 주사 방향과 교차하는 방향으로 길이 방향을 갖는 2 개의 하측 가대부를 구비하고, 하측 가대부의 길이 방향과 교차하는 방향으로 길이 방향을 갖는 2 개의 중측 가대부를 구비하고, 중측 가대부의 길이 방향과 교차하는 방향으로 길이 방향을 갖는 상측 가대부를 구비하고 있기 때문에, 가대부를 운반 가능한 크기로 할 수 있으며, 또한 500㎜ 를 초과하는 크기의 대형 감광성 기판을 탑재할 수 있는 대형 기판 스테이지 를 구비한 노광 장치를 제공할 수 있다.
또, 하측 가대부와 중측 가대부의 연결부에 위치 조정용의 보정 부재로서의 보정용 스페이서를 구비하고, 중측 가대부와 상측 가대부의 연결부에 위치 조정용의 보정 부재로서의 보정용 심을 구비하며, 각 가대부의 연결부에 밀어 맞춤 기준면을 구비하고 있기 때문에, 가대부를 분할함으로써 발생하는 조립 정밀도의 저하를 방지할 수 있어, 높은 노광 정밀도를 확보할 수 있다. 따라서, 높은 노광 정밀도를 갖는 노광 장치에 의해 양호하게 노광을 행할 수 있다.
또, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치의 제조 방법에 의하면, 플레이트 스테이지를 지지하는 하측 가대부를 설치할 수 있고, 하측 가대부 상에 중측 가대부를 설치할 수 있으며, 중측 가대부 상에 마스크 스테이지 및 투영 광학계를 지지하는 상측 가대부를 고정밀도로 설치할 수 있어, 운반 가능한 크기의 복수의 가대부를 구비하고, 또한 대형의 감광성 기판 상에 대한 노광이 가능한 노광 장치를 제조할 수 있다.
또한, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치에 있어서는, 2 개의 하측 가대부를 구비하고 있지만, 3 개 이상의 하측 가대부를 구비하도록 해도 된다. 이 경우에 있어서는, 3 개 이상의 하측 가대부 중 적어도 2 개와 중측 가대부가 연결되도록 한다. 또한, 하측 가대부는 복수라 아니라, 1 개만이어도 된다. 이 경우, 복수의 하측 가대부를 구비하는 노광 장치에 비하여 중량이 증대될 수 있기 때문에, 예를 들어, 벌집 구조를 채용하여 하측 가대부의 경량화를 도모하도록 해도 된다. 또, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치에 있어서는, 2 개의 중측 가대부 를 구비하고 있지만, 3 개 이상의 중측 가대부를 구비하도록 해도 된다. 이 경우에 있어서는, 3 개 이상의 중측 가대부 중 적어도 2 개와 상측 가대부가 연결되도록 한다. 또, 예를 들어, 벌집 구조를 채용하여 복수의 중측 가대부의 경량화를 도모하도록 해도 된다.
또, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치에 있어서는, 상측 가대부에 마스크 스테이지 및 투영 광학계의 양쪽 모두를 탑재하는 것으로 하였지만, 마스크 스테이지 및 투영 광학계의 일방만을 상측 가대부에 탑재하는 것으로 해도 되고, 또는 마스크 스테이지 및 투영 광학계와 상이한, 노광 본체부의 일부 (예를 들어, 조명 광학계 중 적어도 일부 등) 를 상측 가대부에 탑재하는 것으로 해도 된다. 또, 예를 들어 벌집 구조를 채용하여 상측 가대부의 경량화를 도모하도록 해도 된다. 또한, 상기 기술한 하측 가대부와 마찬가지로, 복수의 중측 가대부의 길이 방향과 교차하는 방향을 길이 방향으로 하는 복수 상측 가대부를 설치하는 것으로 해도 된다. 이 경우, 마스크 스테이지가 탑재되는 정반을 복수 상측 가대부에 설치해도 된다.
또, 이 실시 형태에 관련된 노광 장치에 있어서는, 4 개의 지지 부재로서의 방진 시스템을 구비하고 있지만, 3 개 또는 5 개 이상의 방진 시스템을 구비하도록 해도 된다.
상기 기술한 실시 형태에 관련된 노광 장치에서는, 조명 광학 장치에 의해 마스크 (레티클) 를 조명하고 (조명 공정), 투영 광학계를 사용하여 마스크에 형성된 전사용 패턴을 감광성 기판에 노광함 (노광 공정) 으로써, 마이크로 디바이스 (반도체 소자, 촬상 소자, 액정 표시 소자, 박막 자기 헤드 등) 를 제조할 수 있다. 이하, 상기 기술한 실시 형태의 노광 장치를 사용하여 감광성 기판으로서의 플레이트 등에 소정의 회로 패턴을 형성함으로써, 마이크로 디바이스로서의 반도체 디바이스를 얻을 때의 수법의 일례에 대하여 도 5 의 플로우 차트를 참조하여 설명한다.
먼저, 도 5 의 단계 S301 에 있어서, 1 로트의 플레이트 상에 금속막이 증착 된다. 다음의 단계 S302 에 있어서, 그 1 로트의 플레이트 상의 금속막 상에 포토레지스트가 도포된다. 그 후, 단계 S303 에 있어서, 상기 기술한 실시 형태의 노광 장치를 사용하여, 마스크 상의 패턴의 이미지가 그 투영 광학계를 통하여, 그 1 로트의 플레이트 상의 각 쇼트 영역에 순차 노광 전사된다. 그 후, 단계 S304 에 있어서, 그 1 로트의 플레이트 상의 포토레지스트 현상이 행해진 후, 단계 S305 에 있어서, 그 1 로트의 플레이트 상에서 레지스트 패턴을 마스크로서 에칭함으로써, 마스크 상의 패턴에 대응하는 회로 패턴이, 각 플레이트 상의 각 쇼트 영역에 형성된다. 그 후, 추가로 상기 레이어의 회로 패턴의 형성 등을 행함으로써, 반도체 소자 등의 디바이스가 제조된다. 상기 기술한 반도체 디바이스 제조 방법에 의하면, 기판 상에 마스크의 미세한 패턴을 고정밀도로 노광할 수 있어, 양호한 반도체 디바이스를 얻을 수 있다.
또, 상기 기술한 실시 형태의 노광 장치에서는, 플레이트 (유리 기판) 상에 소정의 패턴 (회로 패턴, 전극 패턴 등) 을 형성함으로써, 마이크로 디바이스로서의 액정 표시 소자를 얻을 수도 있다. 이하, 도 6 의 플로우 차트를 참조하여, 이 때의 수법의 일례에 대하여 설명한다. 도 6 에 있어서, 패턴 형성 공정 S401 에서는, 상기 기술한 실시 형태의 노광 장치를 사용하여 마스크의 패턴을 감광성 기판 (레지스트가 도포된 유리 기판 등) 에 전사 노광하는, 소위 광리소그래피 공정이 실행된다. 이 광리소그래피 공정에 의해, 감광성 기판 상에는 다수의 전극 등을 포함하는 소정 패턴이 형성된다. 그 후, 노광된 기판은, 현상 공정, 에칭 공정, 레지스트 박리 공정 등의 각 공정을 거침으로써, 기판 상에 소정의 패턴이 형성되고, 다음의 컬러 필터 형성 공정 S402 으로 이행된다.
다음으로, 컬러 필터 형성 공정 S402 에서는, R (Red), G (Green), B (Blue) 에 대응한 3 개의 도트 세트가 매트릭스 형상으로 다수 배열되거나, 또는 R, G, B 의 3 개의 스트라이프의 필터 세트를 복수의 수평 주사선 방향으로 배열한 컬러 필터를 형성한다. 그리고, 컬러 필터 형성 공정 S402 의 다음에, 셀 조립 공정 S403 이 실행된다. 셀 조립 공정 S403 에서는, 패턴 형성 공정 S401 에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판, 및 컬러 필터 형성 공정 S402 에서 얻어진 컬러 필터 등을 사용하여 액정 패널 (액정 셀) 을 조립한다.
셀 조립 공정 S403 에서는, 예를 들어, 패턴 형성 공정 S401 에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판과 컬러 필터 형성 공정 S402 에서 얻어진 컬러 필터 사이에 액정을 주입하여, 액정 패널 (액정 셀) 을 제조한다. 그 후, 모듈 조립 공정 S404 에서, 조립된 액정 패널 (액정 셀) 의 표시 동작을 행하게 하는 전기 회로, 백라이트 등의 각 부품을 장착하여 액정 표시 소자로서 완성시킨다. 상기 기술한 액정 표시 소자의 제조 방법에 의하면, 대형 기판 상에 마스크의 미세한 패턴을 고정밀도로 노광할 수 있어, 양호한 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.
산업상이용가능성
이상과 같이, 본 발명의 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스의 제조 방법은, 액정 표시 소자 등의 플랫 패널 표시 소자 등의 대형 마이크로 디바이스를 리소그래피 공정에 의해 제조하는 데에 적합하다.

Claims (33)

  1. 패턴을 갖는 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와 감광성 기판을 유지하는 기판 스테이지를 투영 광학계에 대하여 소정의 주사 방향으로 이동시키고, 상기 투영 광학계를 통해 상기 감광성 기판에 상기 패턴을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 주사 방향으로 분리되어 배치되고, 상기 기판 스테이지가 탑재되는 복수의 하측 가대부와,
    상기 주사 방향과 교차하는 방향으로 분리되어 배치되고, 상기 복수의 하측 가대부와 교차하도록 상기 복수의 하측 가대부에 탑재되는 복수의 중측 가대부와,
    상기 복수의 중측 가대부와 교차하도록 상기 복수의 중측 가대부에 탑재되고, 상기 마스크 스테이지 및 상기 투영 광학계 중 적어도 하나가 탑재되는 상측 가대부와,
    상기 복수의 하측 가대부 상에 탑재되는 정반을 구비하고,
    상기 정반 상에 상기 기판 스테이지가 탑재되는, 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 상측 가대부는, 상기 주사 방향의 길이보다도 상기 주사 방향에 수직인 방향의 길이가 긴 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 중측 가대부 각각은, 상기 복수의 하측 가대부와 상기 상측 가대부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 상측 가대부는, 상기 복수의 중측 가대부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 중측 가대부 각각은, 상기 복수의 하측 가대부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 상측 가대부와 상기 복수의 중측 가대부 각각과의 연결부, 및 상기 복수의 중측 가대부 각각과 상기 복수의 하측 가대부와의 연결부에, 위치 조정용의 보정 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 상측 가대부와 상기 복수의 중측 가대부 각각과의 연결부, 및 상기 복수의 중측 가대부 각각과 상기 복수의 하측 가대부와의 연결부는, 각각 밀어 맞춤 기준면을 갖는 것을 특징으로 하는 기재의 노광 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 주사 방향은, 수평면에 평행하게 설정되고, 상기 복수의 중측 가대부는, 수평면과 평행한 방향으로 분리되어 배치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 하측 가대부 각각은, 복수의 지지 부재에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 하측 가대부 중 적어도 두 개의 하측 가대부 사이의 갭이, 500㎜ 를 초과하는 크기인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  11. 감광성 기판을 유지하는 기판 스테이지를 투영 광학계에 대하여 소정의 주사 방향으로 이동시키고, 상기 투영 광학계를 통해 패턴을 상기 감광성 기판에 노광하는 노광 장치로서,
    상기 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 설치되는 제 1 가대부와,
    상기 주사 방향과 교차하는 방향으로 떨어지게 배치되고, 또한 상기 투영 광학계를 사이에 두고 배치되는 한 쌍의 지지부와 상기 주사 방향으로 분리되어 배치되는 복수의 하측 가대부를 구비하는 제 2 가대부와,
    상기 복수의 하측 가대부 상에 탑재되는 정반을 구비하고,
    상기 한 쌍의 지지부는, 상기 복수의 하측 가대부와 교차하도록 상기 복수의 하측 가대부 상에 탑재되고,
    상기 제 1 가대부는, 상기 한 쌍의 지지부와 교차하도록 상기 한 쌍의 지지부에 탑재되고,
    상기 정반 상에 상기 기판 스테이지가 탑재되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가대부는, 상기 노광 본체부 중 적어도 상기 투영 광학계가 설치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 노광 본체부는, 상기 패턴이 형성된 마스크를 유지하는 마스크 스테이지를 포함하고, 상기 제 1 가대부는, 상기 마스크 스테이지 및 상기 투영 광학계 중 적어도 일방이 설치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가대부는, 상기 주사 방향의 길이보다도 상기 주사 방향에 수직인 방향의 길이가 긴 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 주사 방향은, 수평면에 평행으로 설정되고, 상기 한 쌍의 지지부는, 수평면과 평행한 방향으로 떨어지게 배치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  16. 삭제
  17. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가대부는, 상기 한 쌍의 지지부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  18. 제 11 항에 있어서,
    상기 복수의 하측 가대부 각각은, 상기 한 쌍의 지지부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  19. 삭제
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 가대부는, 상기 한 쌍의 지지부에 의해, 상기 투영 광학계가 배치되는 공간을 규정하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  21. 제 1 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 감광성 기판은, 외경이 500㎜ 를 초과하는 크기인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  22. 감광성 기판을 투영 광학계에 대하여 소정의 주사 방향으로 이동시키고, 상기 투영 광학계를 통해 상기 패턴을 상기 감광성 기판에 노광하는 노광 장치의 제조 방법으로서,
    복수의 하측 가대부를 상기 주사 방향으로 떨어지게 설치하는 공정과,
    복수의 중측 가대부와 상기 복수의 하측 가대부가 교차하도록, 상기 하측 가대부 상에 상기 복수의 중측 가대부를 상기 주사 방향과 교차하는 방향으로 떨어지게 설치하는 공정과,
    상기 복수의 중측 가대부와 교차하도록, 상기 복수의 중측 가대부 상에 상측 가대부를 설치하는 공정과,
    상기 복수의 하측 가대부 상에 정반을 설치하는 공정과,
    상기 감광성 기판을 유지하는 기판 스테이지를 상기 정반 상에 설치하는 공정을 포함하고,
    상기 상측 가대부는, 상기 투영 광학계를 포함하는 노광 본체부 중 적어도 일부가 탑재되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 복수의 중측 가대부 중 적어도 두 개의 중측 가대부는, 상기 투영 광학계를 사이에 두고 배치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  24. 제 22 항에 있어서,
    상기 상측 가대부는, 상기 주사 방향의 길이보다도 상기 주사 방향에 수직인 방향의 길이가 긴 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  25. 제 22 항에 있어서,
    상기 복수의 중측 가대부 각각은, 상기 복수의 하측 가대부와 상기 상측 가대부에 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  26. 삭제
  27. 제 22 항에 있어서,
    상기 노광 본체부 중 상기 패턴을 갖는 마스크를 유지하는 마스크 스테이지 및 상기 투영 광학계 중 적어도 일방이 상기 상측 가대부에 설치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  28. 제 22 항에 있어서,
    상기 감광성 기판은, 외경이 500㎜ 를 초과하는 크기인 것을 특징으로 하는 노광 장치의 제조 방법.
  29. 제 1 항 내지 제 15 항, 제 17 항 내지 제 18 항, 및 제 20 항 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치를 사용하여 소정의 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 공정과,
    상기 노광 공정에 의해 노광된 상기 감광성 기판을 현상하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 디바이스 제조 방법.
  30. 제 22 항 내지 제 25항 및 제 27 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치의 제조 방법에 의해 제조된 노광 장치를 사용하여 소정의 패턴을 감광성 기판 상에 노광하는 노광 공정과,
    상기 노광 공정에 의해 노광된 상기 감광성 기판을 현상하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 디바이스 제조 방법.
  31. 제 29 항에 있어서,
    상기 감광성 기판 상에 복수의 플랫 패널 디스플레이 디바이스가 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 디바이스 제조 방법.
  32. 제 30 항에 있어서,
    상기 감광성 기판 상에 복수의 플랫 패널 디스플레이 디바이스가 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 디바이스 제조 방법.
  33. 제 29 항에 있어서,
    상기 감광성 기판은, 외경이 500㎜ 를 초과하는 크기인 것을 특징으로 하는 마이크로 디바이스 제조 방법.
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