JP2002075692A - プラズマ反応器 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 向上したＲＦプラズマ反応器のプラズマ放電
空間へのシャワーヘッドガス注入技術を提供する。 【解決手段】 ＲＦプラズマ反応器（３０）は、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は、間隔をあけて向き合
って配置されてその間にプラズマ放電空間（３６）が規
定される金属表面からなり、金属表面のうち少なくとも
１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表
面のプレート（４０）であり、該開口部は、放電空間に
面するプレートに沿って延在する分散室から、金属表面
を通って、放電空間に向かい、それにより分散室は、プ
レートに向き合って離れた後壁を有し、かつ多数のガス
注入開口部を備えたガス注入構成を含み、これは後壁に
沿って分散され、かつ反応器への少なくとも１つのガス
給送線に接続される。
空間へのシャワーヘッドガス注入技術を提供する。 【解決手段】 ＲＦプラズマ反応器（３０）は、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は、間隔をあけて向き合
って配置されてその間にプラズマ放電空間（３６）が規
定される金属表面からなり、金属表面のうち少なくとも
１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表
面のプレート（４０）であり、該開口部は、放電空間に
面するプレートに沿って延在する分散室から、金属表面
を通って、放電空間に向かい、それにより分散室は、プ
レートに向き合って離れた後壁を有し、かつ多数のガス
注入開口部を備えたガス注入構成を含み、これは後壁に
沿って分散され、かつ反応器への少なくとも１つのガス
給送線に接続される。
Description
【０００１】この発明は一般的には、ＲＦ、ＲＦおよび
ＤＣ、またはパルス化されたＲＦによって電気が供給さ
れたプラズマで動作されるプラズマ反応器のプラズマ放
電空間への、いわゆるシャワーヘッドガス注入技術に関
する改良に向けられる。したがってこれは、放電エネル
ギがマイクロ波結合または誘導電界を介して導入される
他の反応器とは対照的である、ＲＦエネルギが容量性平
板状構成の１対の電極を介して放電空間に結合される平
行平板型反応器に向けられる。
ＤＣ、またはパルス化されたＲＦによって電気が供給さ
れたプラズマで動作されるプラズマ反応器のプラズマ放
電空間への、いわゆるシャワーヘッドガス注入技術に関
する改良に向けられる。したがってこれは、放電エネル
ギがマイクロ波結合または誘導電界を介して導入される
他の反応器とは対照的である、ＲＦエネルギが容量性平
板状構成の１対の電極を介して放電空間に結合される平
行平板型反応器に向けられる。
【０００２】そのような容量結合プラズマ反応器を一般
に用いて、少なくとも一度に１つの基板をプラズマグロ
ー放電の処理作用に晒す。多様なそのようなプロセスが
知られており、用いられて基板表面の性質を変更する。
プロセスと、特に反応器のグロー放電空間内に注入され
るガスの性質とに応じて、半導体の表面の特性を変更
し、そこに薄膜を与えるかまたはそこから材料を除去す
ることが、特に選択的に除去することが、可能である。
に用いて、少なくとも一度に１つの基板をプラズマグロ
ー放電の処理作用に晒す。多様なそのようなプロセスが
知られており、用いられて基板表面の性質を変更する。
プロセスと、特に反応器のグロー放電空間内に注入され
るガスの性質とに応じて、半導体の表面の特性を変更
し、そこに薄膜を与えるかまたはそこから材料を除去す
ることが、特に選択的に除去することが、可能である。
【０００３】基板は平面であっても、またはたとえば車
の風防ガラスのように湾曲していてもよい。そのような
場合には、その間にプラズマ放電空間が規定される電極
は、同一面ではなく対応して平行に湾曲して配置される
ために、基板の湾曲した表面と電極との距離は基板の表
面範囲にわたって実質的に一定であり得る。
の風防ガラスのように湾曲していてもよい。そのような
場合には、その間にプラズマ放電空間が規定される電極
は、同一面ではなく対応して平行に湾曲して配置される
ために、基板の湾曲した表面と電極との距離は基板の表
面範囲にわたって実質的に一定であり得る。
【０００４】本出願はプラズマ反応器について記載する
が、これはクレームに記載するプラズマ反応器によって
行なわれるプロセスステップによって基板を製造するた
めの、異なった発明の方法を十分に説明する。そのよう
な製造プロセスは、特に半導体ウェハと、メモリ装置の
ためのディスクと、フラットディスプレイパネルと、窓
ガラスと、網または箔とに向けられる。
が、これはクレームに記載するプラズマ反応器によって
行なわれるプロセスステップによって基板を製造するた
めの、異なった発明の方法を十分に説明する。そのよう
な製造プロセスは、特に半導体ウェハと、メモリ装置の
ためのディスクと、フラットディスプレイパネルと、窓
ガラスと、網または箔とに向けられる。
【０００５】電界のＲＦ成分によってプラズマ放電が生
成される、真空槽内で行なわれる基板の表面処理のため
のプロセスとして、ＰＶＤ、ＰＥＣＶＤ、反応性イオン
エッチング、イオンプレーティングなどのプロセスが、
周知である。
成される、真空槽内で行なわれる基板の表面処理のため
のプロセスとして、ＰＶＤ、ＰＥＣＶＤ、反応性イオン
エッチング、イオンプレーティングなどのプロセスが、
周知である。
【０００６】図１に、「シャワーヘッド」ガス注入口を
備えたＲＦプラズマ反応器に対して一般に用いられる設
計を概略的に示す。従来のＲＦプラズマ反応器は、ポン
ピングポート３を備えた反応器槽１を含む。反対側に配
置され、間隔をあけた金属表面４および６はプラズマ放
電電極であって、同時にプラズマ放電空間８を規定す
る。２つの電極表面４と６との間には、少なくともＲＦ
成分によってプラズマ放電供給電界Ｅが与えられる。
備えたＲＦプラズマ反応器に対して一般に用いられる設
計を概略的に示す。従来のＲＦプラズマ反応器は、ポン
ピングポート３を備えた反応器槽１を含む。反対側に配
置され、間隔をあけた金属表面４および６はプラズマ放
電電極であって、同時にプラズマ放電空間８を規定す
る。２つの電極表面４と６との間には、少なくともＲＦ
成分によってプラズマ放電供給電界Ｅが与えられる。
【０００７】プラズマ放電電極表面４、６のうち少なく
とも１つには、多数のガス給送開口部１０が設けられて
おり、それぞれの電極はプレート１１の表面である。そ
のプレート１１の背面のプラズマ放電空間８に関して
は、後壁１４と側縁壁１６とを備えた貯蔵室１２が設け
られる。貯蔵室１２の範囲に対して中央には、ガス注入
開口部と給送線１８とが設けられる。ガス給送開口部１
０と開口部１８以外では、貯蔵室１２は密封される。
とも１つには、多数のガス給送開口部１０が設けられて
おり、それぞれの電極はプレート１１の表面である。そ
のプレート１１の背面のプラズマ放電空間８に関して
は、後壁１４と側縁壁１６とを備えた貯蔵室１２が設け
られる。貯蔵室１２の範囲に対して中央には、ガス注入
開口部と給送線１８とが設けられる。ガス給送開口部１
０と開口部１８以外では、貯蔵室１２は密封される。
【０００８】貯蔵室１２を包含する境界の金属壁とプレ
ートとは、中央の電気給送線２０によってプラズマ放電
供給電気エネルギを付与される。反応器槽１は通例電極
表面４と同じ電位では動作されず、特にフルのＲＦ電力
では動作されないが、通例接地電位での基準電位で動作
され、貯蔵室１２の全体は、概略的に示されるように電
気的に絶縁された支持部と貫通部２２とによって電気的
に絶縁された態様で反応器槽１内に搭載される。中央に
配置されるガス給送線１８は、同様に通常は電気的に絶
縁するコネクタ２６を介して、通常は接地される反応器
槽１へのガス供給線２４に接続される。
ートとは、中央の電気給送線２０によってプラズマ放電
供給電気エネルギを付与される。反応器槽１は通例電極
表面４と同じ電位では動作されず、特にフルのＲＦ電力
では動作されないが、通例接地電位での基準電位で動作
され、貯蔵室１２の全体は、概略的に示されるように電
気的に絶縁された支持部と貫通部２２とによって電気的
に絶縁された態様で反応器槽１内に搭載される。中央に
配置されるガス給送線１８は、同様に通常は電気的に絶
縁するコネクタ２６を介して、通常は接地される反応器
槽１へのガス供給線２４に接続される。
【０００９】貯蔵室１２の電極表面４とプレート１１と
の中のガス給送開口部１０は、小さなガスのコンダクタ
ンスを、したがって高いガス流抵抗因子を有するため
に、中央から注入ガスを与えられる、分散および均圧室
として作用する貯蔵室１２の内容量は、ガス給送開口部
１０を通して、多くは電極表面４に沿いプラズマ放電空
間８内へ可能な限り均一に分散する、良好に制御された
所望の態様で、ガスを給送する。図１に示すように反応
器の全体に与えられるガスは、（管２４から給送線１８
において）大きな電位の変化を受ける。それにより、こ
の高い電位差が起こる領域、すなわちコネクタ２６にお
ける条件は、その中での所望でないプラズマ放電の発生
を回避することが非常に重要である。
の中のガス給送開口部１０は、小さなガスのコンダクタ
ンスを、したがって高いガス流抵抗因子を有するため
に、中央から注入ガスを与えられる、分散および均圧室
として作用する貯蔵室１２の内容量は、ガス給送開口部
１０を通して、多くは電極表面４に沿いプラズマ放電空
間８内へ可能な限り均一に分散する、良好に制御された
所望の態様で、ガスを給送する。図１に示すように反応
器の全体に与えられるガスは、（管２４から給送線１８
において）大きな電位の変化を受ける。それにより、こ
の高い電位差が起こる領域、すなわちコネクタ２６にお
ける条件は、その中での所望でないプラズマ放電の発生
を回避することが非常に重要である。
【００１０】この既知の構成のさらなる欠点は、第１に
その遅い反応時間である。貯蔵室１２の内容量をより大
きくして、プレート１１に沿って均一なガス分散と一定
の圧力とを供給しなければならない場合、比較的高い圧
力でより大量のガスがこの貯蔵室１２内に蓄積される。
こうして、もし処理中にガスの組成や出流量を変更した
ければ、プラズマ放電空間において考慮すると、そのよ
うな変化は、所望の安定した新しく確立されたガス組成
および／または出流量に達するまでに、大きな時間定数
を伴うより制御されない遷移相の間に起こるであろう。
その遅い反応時間である。貯蔵室１２の内容量をより大
きくして、プレート１１に沿って均一なガス分散と一定
の圧力とを供給しなければならない場合、比較的高い圧
力でより大量のガスがこの貯蔵室１２内に蓄積される。
こうして、もし処理中にガスの組成や出流量を変更した
ければ、プラズマ放電空間において考慮すると、そのよ
うな変化は、所望の安定した新しく確立されたガス組成
および／または出流量に達するまでに、大きな時間定数
を伴うより制御されない遷移相の間に起こるであろう。
【００１１】さらに、反応器で処理プロセスを始める前
に、貯蔵室１２の容量は真空ポンピングによって空にさ
れなければならないが、これはそれぞれの体積が大きけ
れば大きいほど、より時間がかかる。これは特に、容量
１２が小さな低コンダクタンスの開口部１０のみを介し
て槽のポンピングポートに接続されているということを
考慮すると、脱気壁を含めた反応器全体の前処理調整の
時間が長くかかる。それでも、低コンダクタンスのガス
給送開口部１０および貯蔵室１２の大きな容量によっ
て、この技術はたとえば均一な分散のような、電極表面
４に沿ったガス出流量分散の十分な制御をもたらす。プ
ラズマ放電空間に接する電極表面４に沿ったガス給送開
口部１０の密度を変化させることにより、特定の必要性
に応じて、ガス分散を容易に調整することができる。
に、貯蔵室１２の容量は真空ポンピングによって空にさ
れなければならないが、これはそれぞれの体積が大きけ
れば大きいほど、より時間がかかる。これは特に、容量
１２が小さな低コンダクタンスの開口部１０のみを介し
て槽のポンピングポートに接続されているということを
考慮すると、脱気壁を含めた反応器全体の前処理調整の
時間が長くかかる。それでも、低コンダクタンスのガス
給送開口部１０および貯蔵室１２の大きな容量によっ
て、この技術はたとえば均一な分散のような、電極表面
４に沿ったガス出流量分散の十分な制御をもたらす。プ
ラズマ放電空間に接する電極表面４に沿ったガス給送開
口部１０の密度を変化させることにより、特定の必要性
に応じて、ガス分散を容易に調整することができる。
【００１２】この発明の一般的な目的は、図１に主に示
すＲＦ反応器のシャワーヘッドを改良することであり、
それによりこの利点を維持する。ＲＦ反応器という用語
は、プラズマ放電が電気エネルギの少なくともＲＦ成分
によって電気的に与えられる反応器を意味すると理解す
る。
すＲＦ反応器のシャワーヘッドを改良することであり、
それによりこの利点を維持する。ＲＦ反応器という用語
は、プラズマ放電が電気エネルギの少なくともＲＦ成分
によって電気的に与えられる反応器を意味すると理解す
る。
【００１３】この発明の第１の局面においては、この目
的はＲＦプラズマ反応器によって解決されるが、該反応
器は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、間隔を
あけて向き合って配置されてその間にプラズマ放電空間
が規定される金属表面からなり、金属表面のうち少なく
とも１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有する金
属表面のプレートであり、該多数のガス給送開口部は、
放電空間に面するプレートに沿って延在する分散室か
ら、金属表面を通って、放電空間に向かい、それにより
分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有し、か
つ多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
これは後壁に沿って分散され、かつ反応器への少なくと
も１つのガス給送線に接続される。
的はＲＦプラズマ反応器によって解決されるが、該反応
器は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、間隔を
あけて向き合って配置されてその間にプラズマ放電空間
が規定される金属表面からなり、金属表面のうち少なく
とも１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有する金
属表面のプレートであり、該多数のガス給送開口部は、
放電空間に面するプレートに沿って延在する分散室か
ら、金属表面を通って、放電空間に向かい、それにより
分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有し、か
つ多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
これは後壁に沿って分散され、かつ反応器への少なくと
も１つのガス給送線に接続される。
【００１４】こうして、および図１に従った周知の技術
とは対照的に、この発明で提供される分散室へのガス注
入は局所ではなく、多数のガス注入開口部を介して行な
われる。大きな容量の圧力均等化に関する分散室自体へ
の要件が、図１に従った教示に比較して顕著に減じられ
るという利点をもたらす。すなわち分散室の容量を顕著
に減じることができ、これはプラズマ放電空間へのガス
流および／またはガス組成を変化させるときの反応時間
を顕著に向上させる。
とは対照的に、この発明で提供される分散室へのガス注
入は局所ではなく、多数のガス注入開口部を介して行な
われる。大きな容量の圧力均等化に関する分散室自体へ
の要件が、図１に従った教示に比較して顕著に減じられ
るという利点をもたらす。すなわち分散室の容量を顕著
に減じることができ、これはプラズマ放電空間へのガス
流および／またはガス組成を変化させるときの反応時間
を顕著に向上させる。
【００１５】上述の目的は、ＲＦプラズマ反応器によっ
てこの発明の第２の局面の下に解決されるが、該反応器
は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、間隔をあ
けて向き合って配置されてその間にプラズマ放電空間が
規定される金属表面からなり、金属表面のうち少なくと
も１つは、これを通って放電空間に面するプレートに沿
って延在する分散室から放電空間に向かう多数のガス給
送開口部を有する金属表面のプレートであり、分散室
は、プレートに向き合いかつ離れたガス注入構成を備え
て、さらにプラズマ放電電極である２つの金属表面への
電気エネルギ給送構成を備えた、後壁を有し、実質的に
放電空間に接する後壁とプレートとはさらに互いから電
気的に絶縁される。それにより、いずれの電位差も、特
に大きなプラズマ供給電位差の場合、プレートと分散室
の後壁との間に与えられることができ、それにより後壁
は直接的に槽壁の一部となり、それぞれの電極表面に与
えられる電位から独立して、たとえば一般には接地電位
である基準電位で、望みの電位に駆動することができ
る。
てこの発明の第２の局面の下に解決されるが、該反応器
は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、間隔をあ
けて向き合って配置されてその間にプラズマ放電空間が
規定される金属表面からなり、金属表面のうち少なくと
も１つは、これを通って放電空間に面するプレートに沿
って延在する分散室から放電空間に向かう多数のガス給
送開口部を有する金属表面のプレートであり、分散室
は、プレートに向き合いかつ離れたガス注入構成を備え
て、さらにプラズマ放電電極である２つの金属表面への
電気エネルギ給送構成を備えた、後壁を有し、実質的に
放電空間に接する後壁とプレートとはさらに互いから電
気的に絶縁される。それにより、いずれの電位差も、特
に大きなプラズマ供給電位差の場合、プレートと分散室
の後壁との間に与えられることができ、それにより後壁
は直接的に槽壁の一部となり、それぞれの電極表面に与
えられる電位から独立して、たとえば一般には接地電位
である基準電位で、望みの電位に駆動することができ
る。
【００１６】これにより、一方ではガス給送線に沿った
危険な高電位差は、回避されかつ分散室にわたって扱い
がより容易になる。さらに、図１に従った既知の技術の
２２に設けられる、反応器内の貯蔵室全体の、電気的に
絶縁されたサスペンションをなくすことにより、反応器
全体の構成は顕著に簡略化される。
危険な高電位差は、回避されかつ分散室にわたって扱い
がより容易になる。さらに、図１に従った既知の技術の
２２に設けられる、反応器内の貯蔵室全体の、電気的に
絶縁されたサスペンションをなくすことにより、反応器
全体の構成は顕著に簡略化される。
【００１７】上述の目的は、この発明の第３の局面にお
いてＲＦプラズマ反応器によってさらに解決されるが、
該反応器は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、
間隔をあけて向き合って配置されてその間にプラズマ放
電空間が規定される金属表面からなり、金属表面のうち
少なくとも１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有
する金属表面のプレートであり、該多数のガス給送開口
部は、放電空間に面するプレートに沿って延在する分散
室から、金属表面を通って、放電空間に向かい、それに
より分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有
し、かつガス注入構成を含み、さらに、少なくとも１つ
の格子部材がプレートに沿って離れて分散室内に配置さ
れ、少なくとも１つの格子部材は、後壁とプレートとか
ら電気的に絶縁される。
いてＲＦプラズマ反応器によってさらに解決されるが、
該反応器は、反応器槽を含み、その中の１対の電極は、
間隔をあけて向き合って配置されてその間にプラズマ放
電空間が規定される金属表面からなり、金属表面のうち
少なくとも１つは、貫通する多数のガス給送開口部を有
する金属表面のプレートであり、該多数のガス給送開口
部は、放電空間に面するプレートに沿って延在する分散
室から、金属表面を通って、放電空間に向かい、それに
より分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有
し、かつガス注入構成を含み、さらに、少なくとも１つ
の格子部材がプレートに沿って離れて分散室内に配置さ
れ、少なくとも１つの格子部材は、後壁とプレートとか
ら電気的に絶縁される。
【００１８】一般的に格子という用語は、穿孔が貫通す
るプレート状の材料構成であると理解する。よって、格
子はより網状の構造から、少ない穿孔を備えた剛性のあ
るプレートまでにわたって、実現化されてもよい。
るプレート状の材料構成であると理解する。よって、格
子はより網状の構造から、少ない穿孔を備えた剛性のあ
るプレートまでにわたって、実現化されてもよい。
【００１９】たとえば電気伝導性材料である、そのよう
な格子部材によって分散空間を２つ以上の副空間にさら
に分割することにより、プレートと後壁との間のいずれ
の電位差も副空間の各々をわたって小部分にさらに分割
される。これにより、分散室内のスプリアスプラズマ放
電生成について注意しながら、スプリアスプラズマ発火
の危険を冒すことなく、副空間の高さを、すなわち分散
室の高さを増すことが可能になる。これは、実際に完全
なプラズマ放電電位差が分散室にわたって与えられたと
きに、特に真である。実際に、プレートと分散室に接す
る後壁との間のスプリアスなキャパシタンスが減じられ
る。さらに、上述のように格子部材を備えると、分散室
に沿ったガス圧力分散と均一性とを、格子部材が電気伝
導性材料であるか誘電性材料であるかにかかわらず、向
上させる。
な格子部材によって分散空間を２つ以上の副空間にさら
に分割することにより、プレートと後壁との間のいずれ
の電位差も副空間の各々をわたって小部分にさらに分割
される。これにより、分散室内のスプリアスプラズマ放
電生成について注意しながら、スプリアスプラズマ発火
の危険を冒すことなく、副空間の高さを、すなわち分散
室の高さを増すことが可能になる。これは、実際に完全
なプラズマ放電電位差が分散室にわたって与えられたと
きに、特に真である。実際に、プレートと分散室に接す
る後壁との間のスプリアスなキャパシタンスが減じられ
る。さらに、上述のように格子部材を備えると、分散室
に沿ったガス圧力分散と均一性とを、格子部材が電気伝
導性材料であるか誘電性材料であるかにかかわらず、向
上させる。
【００２０】上述の一般的な目的は、ＲＦプラズマ反応
器によってこの発明の第４の局面においてさらに解決さ
れるが、該反応器は、反応器槽を含み、その中の１対の
電極は、間隔をあけて向き合って配置されてその間にプ
ラズマ放電空間が規定される金属表面からなり、金属表
面のうち少なくとも１つは、貫通する多数のガス給送開
口部を有する金属表面のプレートであり、該多数のガス
給送開口部は、放電空間に面するプレートに沿って延在
する分散室から、金属表面を通って、放電空間に向か
い、分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有
し、さらに壁は、プレートの外縁部に向かって、かつこ
れを超えてこれから離れて延在する側縁部分を含み、分
散室は、開口部構成によって側縁部分とプレートの外縁
部との間の空間に通じており、該開口部構成は、プレー
トに実質的に平行であって、かつ壁の側縁部分に鉛直に
延在する。
器によってこの発明の第４の局面においてさらに解決さ
れるが、該反応器は、反応器槽を含み、その中の１対の
電極は、間隔をあけて向き合って配置されてその間にプ
ラズマ放電空間が規定される金属表面からなり、金属表
面のうち少なくとも１つは、貫通する多数のガス給送開
口部を有する金属表面のプレートであり、該多数のガス
給送開口部は、放電空間に面するプレートに沿って延在
する分散室から、金属表面を通って、放電空間に向か
い、分散室は、プレートに向き合って離れた後壁を有
し、さらに壁は、プレートの外縁部に向かって、かつこ
れを超えてこれから離れて延在する側縁部分を含み、分
散室は、開口部構成によって側縁部分とプレートの外縁
部との間の空間に通じており、該開口部構成は、プレー
トに実質的に平行であって、かつ壁の側縁部分に鉛直に
延在する。
【００２１】一方では、付加的な量のガスがプラズマ放
電空間にその外縁部境界領域で給送される。反応プロセ
スにおいては、通例より多くのガスを、プラズマ放電の
外縁部においてより多くの反応性ガスを消費するため
に、このより多くのガスが補償される。よってプレート
内の、および金属電極表面を通る、表面領域ごとのガス
注入開口部の密度は、技術的な努力と製造費との要件か
ら無制限には増加できないために、上述の外縁部ガス給
送が、プラズマ放電空間への外縁部ガス流を増加させる
ための最も簡単な技術である。
電空間にその外縁部境界領域で給送される。反応プロセ
スにおいては、通例より多くのガスを、プラズマ放電の
外縁部においてより多くの反応性ガスを消費するため
に、このより多くのガスが補償される。よってプレート
内の、および金属電極表面を通る、表面領域ごとのガス
注入開口部の密度は、技術的な努力と製造費との要件か
ら無制限には増加できないために、上述の外縁部ガス給
送が、プラズマ放電空間への外縁部ガス流を増加させる
ための最も簡単な技術である。
【００２２】さらに考慮されなければならないのは、こ
の発明によって提供されるプレートの外縁部から離れて
設けられる壁の縁部分によって、プラズマ放電空間への
注入チャネルが形成されることである。もし電位差がプ
レートと壁との間に与えられると、この電位差はプレー
トの外縁部から壁の縁までの該空間をわたっても存在す
るであろう。驚くべきことに、縁とプレートの外縁部と
の間のスプリアスなプラズマ放電の発火は、たとえばプ
レートのガス給送開口部におけるものよりも、または一
般的に言って、「単一電位」電極環境におけるものより
も、はるかに危険が少ない。
の発明によって提供されるプレートの外縁部から離れて
設けられる壁の縁部分によって、プラズマ放電空間への
注入チャネルが形成されることである。もし電位差がプ
レートと壁との間に与えられると、この電位差はプレー
トの外縁部から壁の縁までの該空間をわたっても存在す
るであろう。驚くべきことに、縁とプレートの外縁部と
の間のスプリアスなプラズマ放電の発火は、たとえばプ
レートのガス給送開口部におけるものよりも、または一
般的に言って、「単一電位」電極環境におけるものより
も、はるかに危険が少ない。
【００２３】好ましい実施例においては、４つのプラズ
マ反応器の特徴は、この発明とそれらの４つの局面とに
従い、該反応器のそれぞれ２つの該反応器の特徴であっ
ても、３つの該反応器の特徴であっても、すべての４つ
の該反応器の特徴であっても、創意工夫をもって組合さ
れて、さらにこの創意工夫のある反応器を提供する。
マ反応器の特徴は、この発明とそれらの４つの局面とに
従い、該反応器のそれぞれ２つの該反応器の特徴であっ
ても、３つの該反応器の特徴であっても、すべての４つ
の該反応器の特徴であっても、創意工夫をもって組合さ
れて、さらにこの創意工夫のある反応器を提供する。
【００２４】この発明を、その局面のすべてにおいて図
によって、および当業者が上述の説明を検討してこの発
明をさらに良好に理解するために必要なだけ、例示す
る。
によって、および当業者が上述の説明を検討してこの発
明をさらに良好に理解するために必要なだけ、例示す
る。
【００２５】図２において、好ましい態様のＲＦプラズ
マ反応器を概略的に示す。それ自体がこの発明に設定さ
れた目的を解決する４組の特徴のすべてが組合され、そ
れにより、上述のようにこれらの特徴の組の各々がそれ
自体本発明において意味があると考えられる。
マ反応器を概略的に示す。それ自体がこの発明に設定さ
れた目的を解決する４組の特徴のすべてが組合され、そ
れにより、上述のようにこれらの特徴の組の各々がそれ
自体本発明において意味があると考えられる。
【００２６】ＲＦ反応器３０は、上壁３１と、底壁３２
と、側壁３４とを含む。第１の電極表面３１は、金属プ
レート４０の表面によって形成され、プラズマ放電空間
３６に向けられる。この実施例においては、第２のプラ
ズマ放電電極は特に、底壁３２の金属上面４２によって
形成される。
と、側壁３４とを含む。第１の電極表面３１は、金属プ
レート４０の表面によって形成され、プラズマ放電空間
３６に向けられる。この実施例においては、第２のプラ
ズマ放電電極は特に、底壁３２の金属上面４２によって
形成される。
【００２７】プレート４０においては、分散室４６から
プラズマ放電空間３６に向けられる多数の開口部４４が
設けられる。ガス注入構成４８は、ガスを分散室４６に
給送し、ここからこれは開口部４４を通ってプラズマ放
電空間３６に放出される。
プラズマ放電空間３６に向けられる多数の開口部４４が
設けられる。ガス注入構成４８は、ガスを分散室４６に
給送し、ここからこれは開口部４４を通ってプラズマ放
電空間３６に放出される。
【００２８】１ 反応器外部から分散室４６へのガス注
入構成４８の好ましいレイアウト ガス注入構成４８は、予め定められた所望のパターンに
分散される多数の注入開口部５０を含み、好ましくはこ
れらの多くは、分散室４６に対しては後壁として規定さ
れる上壁３１の表面に沿って均一に分散する。ツリー状
構造において、開口部５０は中央ガス注入線５２と連通
し、それにより、配管ツリーの５４、５６、５８の「ブ
ランチ」の各々においては、開口部５０の各々とガス注
入管５２との間の流れ抵抗が予め定められた値を有し、
かつ好ましい態様であって少なくとも開口部５０の大部
分においては、等しい値を有するように、流れ抵抗は選
択される。単一のガス注入口から多数ガス排出口への、
そのようなツリー状の分散線のシステムの構築自体につ
いては、たとえば本願と同出願人の米国特許第５，６２
２，６０６号を参照する。
入構成４８の好ましいレイアウト ガス注入構成４８は、予め定められた所望のパターンに
分散される多数の注入開口部５０を含み、好ましくはこ
れらの多くは、分散室４６に対しては後壁として規定さ
れる上壁３１の表面に沿って均一に分散する。ツリー状
構造において、開口部５０は中央ガス注入線５２と連通
し、それにより、配管ツリーの５４、５６、５８の「ブ
ランチ」の各々においては、開口部５０の各々とガス注
入管５２との間の流れ抵抗が予め定められた値を有し、
かつ好ましい態様であって少なくとも開口部５０の大部
分においては、等しい値を有するように、流れ抵抗は選
択される。単一のガス注入口から多数ガス排出口への、
そのようなツリー状の分散線のシステムの構築自体につ
いては、たとえば本願と同出願人の米国特許第５，６２
２，６０６号を参照する。
【００２９】多数のガス注入開口部へのそのような縦続
またはツリー型給送により、これを通って給送される処
理ガスの組成の変更を瞬時に実現することができる。多
数の開口部５０への給送を縦続する原理は、ガスを所与
の数の予め定められた、好ましくは等しい、副流に分割
することに基づく。分割するプロセスは、図２のブラン
チレベル５４から５８によって何度か繰返され、初期の
流れを多数の副流に分割する。ツリー構造は開口部５０
の所望のパターンに従って構築されるが、後者はプラズ
マ放電に晒される製品の形に応じて、それが方形であっ
ても、円形であっても、適合されることが好ましい。図
３においては、たとえば注入線５２と開口部５０との間
の接続線のそのようなツリー構造の例を斜視図で示す。
またはツリー型給送により、これを通って給送される処
理ガスの組成の変更を瞬時に実現することができる。多
数の開口部５０への給送を縦続する原理は、ガスを所与
の数の予め定められた、好ましくは等しい、副流に分割
することに基づく。分割するプロセスは、図２のブラン
チレベル５４から５８によって何度か繰返され、初期の
流れを多数の副流に分割する。ツリー構造は開口部５０
の所望のパターンに従って構築されるが、後者はプラズ
マ放電に晒される製品の形に応じて、それが方形であっ
ても、円形であっても、適合されることが好ましい。図
３においては、たとえば注入線５２と開口部５０との間
の接続線のそのようなツリー構造の例を斜視図で示す。
【００３０】分散室４６へのガス注入は、室４６に接す
る壁または後壁３１の表面に沿って分散される多数のガ
ス注入開口部５０を通して実現されることから、プレー
ト４０を通るプラズマ放電空間３６へのガス流制御の顕
著な向上が達成される。これは、容量と特に分散室４６
の高さＸの選択における顕著に向上した自由度を可能に
する。図２に示すように、および好ましい態様において
は、給送線の縦続は、この実施例においては室４６の後
壁としての役割を果たす、この発明の反応器の上壁３１
に一体化される。
る壁または後壁３１の表面に沿って分散される多数のガ
ス注入開口部５０を通して実現されることから、プレー
ト４０を通るプラズマ放電空間３６へのガス流制御の顕
著な向上が達成される。これは、容量と特に分散室４６
の高さＸの選択における顕著に向上した自由度を可能に
する。図２に示すように、および好ましい態様において
は、給送線の縦続は、この実施例においては室４６の後
壁としての役割を果たす、この発明の反応器の上壁３１
に一体化される。
【００３１】２ 電気給送 図２に示すように、プレート４０は、分散室４６の後壁
３１から電気的に絶縁されて搭載されるが、この後壁は
好ましくは反応器槽３０の直接的な上壁である。これ
は、たとえば絶縁スペーサまたは絶縁スペーサリング６
０によって実現化される。こうして、および６２におい
て概略的に示すように、電気エネルギは別個の電力給送
を介して金属プレート４０と一方の電極表面３８とに給
送され、これはスペーサ６０を通すか、または示すよう
に、反応器槽３０の側壁３４などを通して実現化されて
もよく、プラズマ放電にどのように電気エネルギを給送
するかにおいて、大きな自由度を残す。
３１から電気的に絶縁されて搭載されるが、この後壁は
好ましくは反応器槽３０の直接的な上壁である。これ
は、たとえば絶縁スペーサまたは絶縁スペーサリング６
０によって実現化される。こうして、および６２におい
て概略的に示すように、電気エネルギは別個の電力給送
を介して金属プレート４０と一方の電極表面３８とに給
送され、これはスペーサ６０を通すか、または示すよう
に、反応器槽３０の側壁３４などを通して実現化されて
もよく、プラズマ放電にどのように電気エネルギを給送
するかにおいて、大きな自由度を残す。
【００３２】図２において、横向きに配置されたＲＦ給
送を示す。特により大きな設備に対しては、中央給送が
好ましい。これにより、１つ以上の給送線の中央ＲＦ給
送が、上壁３１、分散室４６を通って金属プレート４０
に給送される。
送を示す。特により大きな設備に対しては、中央給送が
好ましい。これにより、１つ以上の給送線の中央ＲＦ給
送が、上壁３１、分散室４６を通って金属プレート４０
に給送される。
【００３３】分散室４６の後壁３１は、これにより、電
極表面３８に与えられる電位から電気的に独立して、い
ずれの所望の電位においても動作することができる。こ
うして、分散室４６の後壁３１を、好ましい実施例にお
いては基準電位で、特に接地電位で動作することが可能
になり、これにより該後壁３１がプラズマ反応器槽の直
接的な壁であることが実現化される。これは、この壁と
縦続接続された注入開口部５０へのガス給送構造とを一
体化させることを考慮した場合に最も有利であるが、こ
こで全体の流れ分割システムは接地電位であって、よっ
てガスを外部から反応器槽３０に給送する給送管５２と
等しい電位である。分散室４６を区切る壁は、独自の電
位にはなく、フルのプラズマ放電が電位を供給する場合
の、異なった電位にある。特に分散されたガス注入開口
部５０によって、分散室内に広がるガス圧力を顕著に減
じることが可能になり、分散室内のスプリアスなプラズ
マ発火の発生が、その高さＸに到達した場合においても
回避される。
極表面３８に与えられる電位から電気的に独立して、い
ずれの所望の電位においても動作することができる。こ
うして、分散室４６の後壁３１を、好ましい実施例にお
いては基準電位で、特に接地電位で動作することが可能
になり、これにより該後壁３１がプラズマ反応器槽の直
接的な壁であることが実現化される。これは、この壁と
縦続接続された注入開口部５０へのガス給送構造とを一
体化させることを考慮した場合に最も有利であるが、こ
こで全体の流れ分割システムは接地電位であって、よっ
てガスを外部から反応器槽３０に給送する給送管５２と
等しい電位である。分散室４６を区切る壁は、独自の電
位にはなく、フルのプラズマ放電が電位を供給する場合
の、異なった電位にある。特に分散されたガス注入開口
部５０によって、分散室内に広がるガス圧力を顕著に減
じることが可能になり、分散室内のスプリアスなプラズ
マ発火の発生が、その高さＸに到達した場合においても
回避される。
【００３４】３ 格子 図２に示し、この発明の反応器槽の好ましい実施例によ
る、１つ、２つまたはそれ以上の格子部材６４が、分散
室４６に沿ってその中に、プレート４０に実質的に平行
に搭載される。これらの格子部材は、後壁３１とプレー
ト４０との両方から電気的に絶縁されて搭載される。こ
れらは電気伝導性材料であっても、誘電性材料であって
もよい。もし電気的に伝導的に構築されると、それらは
浮動電位で動作される。これは、電気伝導性格子部材６
４に対する適切な絶縁マウント（図示せず）によって実
現化される。
る、１つ、２つまたはそれ以上の格子部材６４が、分散
室４６に沿ってその中に、プレート４０に実質的に平行
に搭載される。これらの格子部材は、後壁３１とプレー
ト４０との両方から電気的に絶縁されて搭載される。こ
れらは電気伝導性材料であっても、誘電性材料であって
もよい。もし電気的に伝導的に構築されると、それらは
浮動電位で動作される。これは、電気伝導性格子部材６
４に対する適切な絶縁マウント（図示せず）によって実
現化される。
【００３５】これらの格子は２つの有利な効果を有す
る。一方では、それらの電気的浮動、または絶縁マウン
トおよびそれらの電気伝導性にかかわらず、それらはプ
レート４０の分散室側に沿ったガス圧力の均一性を、こ
うしてプラズマ放電空間３６へのガス給送分散の均一性
を、顕著におよび付加的に向上させる。
る。一方では、それらの電気的浮動、または絶縁マウン
トおよびそれらの電気伝導性にかかわらず、それらはプ
レート４０の分散室側に沿ったガス圧力の均一性を、こ
うしてプラズマ放電空間３６へのガス給送分散の均一性
を、顕著におよび付加的に向上させる。
【００３６】より正確には、電気的に浮動する格子の存
在は、室４６内の空間におけるプラズマの発火の危険を
冒すことなく、室４６の距離合計ｘを増すことが可能に
なる。それにより、横方向のガスコンダクタンスの全体
が増大し、よって横方向のガス拡散も増大する。
在は、室４６内の空間におけるプラズマの発火の危険を
冒すことなく、室４６の距離合計ｘを増すことが可能に
なる。それにより、横方向のガスコンダクタンスの全体
が増大し、よって横方向のガス拡散も増大する。
【００３７】さらに、電気的に浮動する格子を、これを
貫く限定された数の孔を備えたより電気的に浮動するプ
レートの形で実現化することは、図２に示すように、実
際にプレート３１内で大域的に縦続接続するマニホール
ドが室４６内で連続しかつ通過することにより、ガスの
組織的な、良好に制御された分布に貢献する。
貫く限定された数の孔を備えたより電気的に浮動するプ
レートの形で実現化することは、図２に示すように、実
際にプレート３１内で大域的に縦続接続するマニホール
ドが室４６内で連続しかつ通過することにより、ガスの
組織的な、良好に制御された分布に貢献する。
【００３８】他方では、伝導性材料によって起こる電気
的要件下で、これらはプレート４０の電位と後壁３１の
電位の間の電位を負う。こうして、特にプレート４０と
後壁３１とが相互に電気的に絶縁される実施例において
は、もし電位差を生成するプラズマが分散室４６にわた
って与えられると、結果として生じる副室４６ａ、４６
ｂおよび４６ｃの中にその分割された電位差が生じる。
的要件下で、これらはプレート４０の電位と後壁３１の
電位の間の電位を負う。こうして、特にプレート４０と
後壁３１とが相互に電気的に絶縁される実施例において
は、もし電位差を生成するプラズマが分散室４６にわた
って与えられると、結果として生じる副室４６ａ、４６
ｂおよび４６ｃの中にその分割された電位差が生じる。
【００３９】所与のガス圧力で、およびそのような空間
を区切る電気導電性壁の間の所与の電位差での場合、ス
プリアスなプラズマの発火の傾向は、スプリアスな電極
として作用する電気導電性壁の間の距離が広がるにつれ
て増大し、減じられた電位、すなわち全体の電位差の小
部分で動作される副室４６ａ、ｂ、ｃの各々は、高さを
増すことができ、こうして放電空間４６の全体が、スプ
リアスなプラズマ発火の危険を冒すことなく、高さＸを
増すことができる。
を区切る電気導電性壁の間の所与の電位差での場合、ス
プリアスなプラズマの発火の傾向は、スプリアスな電極
として作用する電気導電性壁の間の距離が広がるにつれ
て増大し、減じられた電位、すなわち全体の電位差の小
部分で動作される副室４６ａ、ｂ、ｃの各々は、高さを
増すことができ、こうして放電空間４６の全体が、スプ
リアスなプラズマ発火の危険を冒すことなく、高さＸを
増すことができる。
【００４０】要約すると、分散室での電気的導電部分の
間隔に関しては、格子部材および／またはプレートまた
は後壁であっても、２つの矛盾する要件が存在すること
を考慮しなければならない。スプリアスなプラズマ放電
生成を防ぐためには、間隔Ｘは、所与の圧力およびその
間に与えられる所与の電位差で、できるだけ狭くなけれ
ばならないのに対し、ガス給送開口部５０に沿った圧力
均一化の見地からは、そのような間隔Ｘはできるだけ広
くなるよう調整されなければならない。この発明は、以
下の特徴を提案する。
間隔に関しては、格子部材および／またはプレートまた
は後壁であっても、２つの矛盾する要件が存在すること
を考慮しなければならない。スプリアスなプラズマ放電
生成を防ぐためには、間隔Ｘは、所与の圧力およびその
間に与えられる所与の電位差で、できるだけ狭くなけれ
ばならないのに対し、ガス給送開口部５０に沿った圧力
均一化の見地からは、そのような間隔Ｘはできるだけ広
くなるよう調整されなければならない。この発明は、以
下の特徴を提案する。
【００４１】・開口部５０によって分散された、ガス注
入口。 ・格子、後壁およびプレートなどの、互いに直接面する
電気伝導性表面の電気的に絶縁されたマウント。
入口。 ・格子、後壁およびプレートなどの、互いに直接面する
電気伝導性表面の電気的に絶縁されたマウント。
【００４２】これらは、分散室の範囲を適合するため
の、高い構築上の柔軟性をもたらし、それにより、同時
にスプリアスなプラズマ生成の傾向を増大させることな
く、その室の均一化の効果を特に増大させることができ
る。
の、高い構築上の柔軟性をもたらし、それにより、同時
にスプリアスなプラズマ生成の傾向を増大させることな
く、その室の均一化の効果を特に増大させることができ
る。
【００４３】４ プラズマ放電空間への外縁部ガス注入 図２に示すように、およびこの局面において、この発明
の２つの尺度を提供する。プレート４０からプラズマ放
電空間３６へのガス給送開口部４４の分散に関しては、
表面領域ごとに与えられるそのような開口部４４の密度
は、プレート４０からその外縁部Ｐに向かって伝播する
場合には、増大させる。どのようにそのような開口部を
実現化し、どのように表面領域ごとのそれらの密度を均
等に変化させるかについての特に有利な技術を、図４か
ら図６を参照して以下に説明する。
の２つの尺度を提供する。プレート４０からプラズマ放
電空間３６へのガス給送開口部４４の分散に関しては、
表面領域ごとに与えられるそのような開口部４４の密度
は、プレート４０からその外縁部Ｐに向かって伝播する
場合には、増大させる。どのようにそのような開口部を
実現化し、どのように表面領域ごとのそれらの密度を均
等に変化させるかについての特に有利な技術を、図４か
ら図６を参照して以下に説明する。
【００４４】プレート４０の外縁部Ｐに向かって広がる
につれてガス給送開口部４４の表面領域ごとの密度を増
大させる代わりに、またはそれに加えて、以下のよう
に、放電空間４６からプラズマ放電空間３６への付加的
な開口部構成６６を設ける。
につれてガス給送開口部４４の表面領域ごとの密度を増
大させる代わりに、またはそれに加えて、以下のよう
に、放電空間４６からプラズマ放電空間３６への付加的
な開口部構成６６を設ける。
【００４５】その一面で放電空間４６に接する後壁３１
が縁部分６８に設けられるが、これは明確に別の部品で
あって、好ましい態様においては、反応器槽の側壁３４
によって実現化することができる。この縁部分は、プレ
ート４０の外縁部Ｐに向かって、かつこれを超えてそれ
らから離れて延在する。それにより、流れチャネル７０
がプレート４０全体を取囲んで形成される。
が縁部分６８に設けられるが、これは明確に別の部品で
あって、好ましい態様においては、反応器槽の側壁３４
によって実現化することができる。この縁部分は、プレ
ート４０の外縁部Ｐに向かって、かつこれを超えてそれ
らから離れて延在する。それにより、流れチャネル７０
がプレート４０全体を取囲んで形成される。
【００４６】開口部構成６６は、プレート４０に実質的
に平行に、かつ縁部分６８に実質的に鉛直に延在し、チ
ャネル７０を介して、分散室４６とプラズマ放電空間３
６との間に連通を確立する。これにより、およびチャネ
ル７０の狭い間隔によって、プレート４０と縁部分６８
との間に高い電位差が存在した場合にも、その中ではス
プリアスなプラズマ放電は発火しない。
に平行に、かつ縁部分６８に実質的に鉛直に延在し、チ
ャネル７０を介して、分散室４６とプラズマ放電空間３
６との間に連通を確立する。これにより、およびチャネ
ル７０の狭い間隔によって、プレート４０と縁部分６８
との間に高い電位差が存在した場合にも、その中ではス
プリアスなプラズマ放電は発火しない。
【００４７】これらの尺度（プレートの外縁部に向かっ
て開口部４４の密度を増大させることおよび／またはプ
レートの外縁部のまわりに横向きのガス注入を行なうこ
と）のうちの１つおよび／または他方によって、プラズ
マ放電空間３６内の、その外縁部においてはより大き
い、ガス消費分散が補償され、たとえば電極表面４２に
沿って、図２に従って配置された基板表面上への均一な
プラズマ放電効果をもたらす。それにより、プラズマ放
電空間３６のごく周辺部までをも用いて製品表面を均一
に処理し、事実上反応器の効率性を向上させるという、
利点が得られる。
て開口部４４の密度を増大させることおよび／またはプ
レートの外縁部のまわりに横向きのガス注入を行なうこ
と）のうちの１つおよび／または他方によって、プラズ
マ放電空間３６内の、その外縁部においてはより大き
い、ガス消費分散が補償され、たとえば電極表面４２に
沿って、図２に従って配置された基板表面上への均一な
プラズマ放電効果をもたらす。それにより、プラズマ放
電空間３６のごく周辺部までをも用いて製品表面を均一
に処理し、事実上反応器の効率性を向上させるという、
利点が得られる。
【００４８】５ プレート４０および貫通する開口部分
散の有利な実現化 図４に示すように、プレート４０を通るガス給送開口部
４４の最も有利な実現化は、プラズマ放電空間３６に面
して存在する、プレート４０のその面に平坦底部孔７２
を機械加工することにより行なわれる。そのような平坦
底部孔７２は、その上面図において、円形や方形などで
あってもよく、連続するかまたは限定されない溝型であ
ってもよい。そのような孔７２の底部７４においては、
プラズマ放電空間３６への小さな直径の開口部４４が機
械加工される。それにより、小さな直径の開口部４４を
加工するためには、プレート４０の全体の厚みのごく一
部だけが加工される。
散の有利な実現化 図４に示すように、プレート４０を通るガス給送開口部
４４の最も有利な実現化は、プラズマ放電空間３６に面
して存在する、プレート４０のその面に平坦底部孔７２
を機械加工することにより行なわれる。そのような平坦
底部孔７２は、その上面図において、円形や方形などで
あってもよく、連続するかまたは限定されない溝型であ
ってもよい。そのような孔７２の底部７４においては、
プラズマ放電空間３６への小さな直径の開口部４４が機
械加工される。それにより、小さな直径の開口部４４を
加工するためには、プレート４０の全体の厚みのごく一
部だけが加工される。
【００４９】それにより、プレート４０が通常ごく厚く
なくてはならないことを考慮しなければならない。これ
は、これがごく限られた装着点のみで吊るされ、かつ頻
繁に変化する熱サイクルに晒されることにもかかわら
ず、そのようなプレートが確実に平坦に保たれなければ
ならないという点での、機械的な安定性に応じるもので
ある。さらに、そのようなプレートに沿った熱伝導性
は、変化させる温度にまで急速に、均一な温度分散を到
達させなければならない。
なくてはならないことを考慮しなければならない。これ
は、これがごく限られた装着点のみで吊るされ、かつ頻
繁に変化する熱サイクルに晒されることにもかかわら
ず、そのようなプレートが確実に平坦に保たれなければ
ならないという点での、機械的な安定性に応じるもので
ある。さらに、そのようなプレートに沿った熱伝導性
は、変化させる温度にまで急速に、均一な温度分散を到
達させなければならない。
【００５０】それにより、およびそのような窪み、すな
わち溝または大きな直径の孔７２のコンセプトに従っ
て、分散室４６からプラズマ放電室４６への流れ抵抗
を、図５に示すように、そのような窪みに加えられるイ
ンサート７８によって開口部４４で変化させ、かつ正確
に調整することが可能である。図４の７２などの窪みの
コンセプトに従って、および図６に示すように、プレー
ト４０に沿って開口部の密度を、非常に高密度のおそら
くはより直径を減じた開口部４４ａにまで、特にプレー
ト４０の外縁部Ｐへ向かって増大させることは、製造上
問題にはならない。
わち溝または大きな直径の孔７２のコンセプトに従っ
て、分散室４６からプラズマ放電室４６への流れ抵抗
を、図５に示すように、そのような窪みに加えられるイ
ンサート７８によって開口部４４で変化させ、かつ正確
に調整することが可能である。図４の７２などの窪みの
コンセプトに従って、および図６に示すように、プレー
ト４０に沿って開口部の密度を、非常に高密度のおそら
くはより直径を減じた開口部４４ａにまで、特にプレー
ト４０の外縁部Ｐへ向かって増大させることは、製造上
問題にはならない。
【００５１】さらにインサート７８によって、その一面
が処理プラズマ放電に晒される開口部４４の背面におけ
るプラズマ発火の危険は減じられる。
が処理プラズマ放電に晒される開口部４４の背面におけ
るプラズマ発火の危険は減じられる。
【００５２】図５に示すインサートと、おそらくは非対
称形状であるそれぞれの形状とによって、窪み７２に設
けられる選択された開口部４４の流れ抵抗を正確に調整
し、たとえばプラズマ処理におけるいずれの非均一的な
影響を補償することさえも可能であることは自明であ
る。
称形状であるそれぞれの形状とによって、窪み７２に設
けられる選択された開口部４４の流れ抵抗を正確に調整
し、たとえばプラズマ処理におけるいずれの非均一的な
影響を補償することさえも可能であることは自明であ
る。
【００５３】最後に、この発明に従った反応器の説明に
おいて、第１の目的がプラズマ放電空間の全体に沿った
ガス分散の均一化を達成することであったとしても、必
ずしも均一化を達成するのではなく、より一般的に、良
好に制御され、予め定められたガス分散が達成されるこ
とが理解されるべきであることを、明記する。
おいて、第１の目的がプラズマ放電空間の全体に沿った
ガス分散の均一化を達成することであったとしても、必
ずしも均一化を達成するのではなく、より一般的に、良
好に制御され、予め定められたガス分散が達成されるこ
とが理解されるべきであることを、明記する。
【００５４】さらに、この説明は当業者に対してそれぞ
れの製品を製作するための方法を明確に開示するが、そ
れにより反応器のハードウェアの技術とともに説明した
ように、プラズマ放電に対するガス流および／または電
気的条件は、創意工夫をもって設定され、選択される。
れの製品を製作するための方法を明確に開示するが、そ
れにより反応器のハードウェアの技術とともに説明した
ように、プラズマ放電に対するガス流および／または電
気的条件は、創意工夫をもって設定され、選択される。
【００５５】添付の特許請求の範囲に規定される発明以
外にも、以下の教示それ自体がそれぞれ本発明において
意味があると考慮される。
外にも、以下の教示それ自体がそれぞれ本発明において
意味があると考慮される。
【００５６】Ｉ．プラズマ反応器であって、反応器槽を
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されてその間にプラズマ放電空間が規定される金属表
面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、貫通して該放電空間に面す
る該プレートに沿って延在する分散室から該放電空間に
向かい、該分散室は、該プレートに向き合いかつ離れ
た、ガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プラズマ
反応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給送構成
を含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に絶縁さ
れる、プラズマ反応器。
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されてその間にプラズマ放電空間が規定される金属表
面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、貫通して該放電空間に面す
る該プレートに沿って延在する分散室から該放電空間に
向かい、該分散室は、該プレートに向き合いかつ離れ
た、ガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プラズマ
反応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給送構成
を含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に絶縁さ
れる、プラズマ反応器。
【００５７】ＩＩ．プラズマ反応器であって、反応器槽
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成を含
み、さらに該プラズマ反応器は、該分散室内に、該プレ
ートから離れ、かつこれに沿って配置される少なくとも
１つの格子部材を含み、該少なくとも１つの格子部材
は、該壁と該プレートとから電気的に絶縁される、プラ
ズマ反応器。
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成を含
み、さらに該プラズマ反応器は、該分散室内に、該プレ
ートから離れ、かつこれに沿って配置される少なくとも
１つの格子部材を含み、該少なくとも１つの格子部材
は、該壁と該プレートとから電気的に絶縁される、プラ
ズマ反応器。
【００５８】ＩＩＩ．プラズマ反応器であって、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレ
ートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に
面する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属
表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレ
ートに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成を
含み、該壁は、該プレートに向かって、かつこれを超え
て延在する側縁部分を、該プレートの外縁部に沿って、
かつこれから離れて含み、該室は、開口部構成によって
該側縁部分と該プレートの外縁部との間の空間に通じて
おり、該開口部構成は、該プレートに実質的に平行であ
って、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラ
ズマ反応器。
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレ
ートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に
面する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属
表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレ
ートに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成を
含み、該壁は、該プレートに向かって、かつこれを超え
て延在する側縁部分を、該プレートの外縁部に沿って、
かつこれから離れて含み、該室は、開口部構成によって
該側縁部分と該プレートの外縁部との間の空間に通じて
おり、該開口部構成は、該プレートに実質的に平行であ
って、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラ
ズマ反応器。
【００５９】ＩＶ．プラズマ反応器であって、反応器槽
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分
散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接
続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を
含み、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に
対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレートと
は互いから電気的に絶縁される、プラズマ反応器。
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分
散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接
続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を
含み、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に
対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレートと
は互いから電気的に絶縁される、プラズマ反応器。
【００６０】Ｖ．プラズマ反応器であって、反応器槽を
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面からな
り、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該プレ
ートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通って
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向き合
って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散されて該
反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続される多
数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、該プ
ラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プレートと壁と
に沿って離れて配置される少なくとも１つの格子部材を
含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電気適任絶
縁される、プラズマ反応器。
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面からな
り、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該プレ
ートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通って
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向き合
って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散されて該
反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続される多
数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、該プ
ラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プレートと壁と
に沿って離れて配置される少なくとも１つの格子部材を
含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電気適任絶
縁される、プラズマ反応器。
【００６１】ＶＩ．プラズマ反応器であって、反応器槽
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分
散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接
続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を
含み、該壁はさらに、該プレートの外縁部に向かって、
かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、これから離
れて、該室は、開口部構成によって該側縁と該プレート
の外縁部との間の空間に通じており、該開口部構成は、
該プレートに実質的に平行であって、かつ該側縁部分に
鉛直に延在する、プラズマ反応器。
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金属
表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫
通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレー
トであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面
する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属表
面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレー
トに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分
散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接
続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を
含み、該壁はさらに、該プレートの外縁部に向かって、
かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、これから離
れて、該室は、開口部構成によって該側縁と該プレート
の外縁部との間の空間に通じており、該開口部構成は、
該プレートに実質的に平行であって、かつ該側縁部分に
鉛直に延在する、プラズマ反応器。
【００６２】ＶＩＩ．プラズマ反応器であって、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、これを通って該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から該放
電空間に向かい、該分散室は、該プレートに対面し、か
つ離れた、ガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プ
ラズマ反応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給
送構成を含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に
絶縁され、該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該
プレートと該壁とに沿って離れた少なくとも１つの格子
部材構成を含み、該格子部材は該壁と該プレートとから
電気的に絶縁される、プラズマ反応器。
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、これを通って該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から該放
電空間に向かい、該分散室は、該プレートに対面し、か
つ離れた、ガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プ
ラズマ反応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給
送構成を含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に
絶縁され、該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該
プレートと該壁とに沿って離れた少なくとも１つの格子
部材構成を含み、該格子部材は該壁と該プレートとから
電気的に絶縁される、プラズマ反応器。
【００６３】ＶＩＩＩ．プラズマ反応器であって、反応
器槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合
って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される
金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレート
であり、該多数のガス給送開口部は、これを通って該放
電空間に面する該プレートに沿って延在する分散室から
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに対面し
てガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プラズマ反
応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給送構成を
含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に絶縁さ
れ、該壁は、該プレートに向かって、かつこれを超えて
延在する側縁部分を含み、かつこれから離れて、該室
は、開口部構成によって該側縁部分と該プレートの外縁
部との間の空間に通じており、該開口部構成は、該プレ
ートに実質的に平行であって、かつ該側縁部分に実質的
に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
器槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合
って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される
金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレート
であり、該多数のガス給送開口部は、これを通って該放
電空間に面する該プレートに沿って延在する分散室から
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに対面し
てガス注入構成を備えた壁を有し、さらに該プラズマ反
応器は、該２つの金属表面への電気エネルギ給送構成を
含み、該壁と該プレートとは互いから電気的に絶縁さ
れ、該壁は、該プレートに向かって、かつこれを超えて
延在する側縁部分を含み、かつこれから離れて、該室
は、開口部構成によって該側縁部分と該プレートの外縁
部との間の空間に通じており、該開口部構成は、該プレ
ートに実質的に平行であって、かつ該側縁部分に実質的
に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
【００６４】ＩＸ．プラズマ反応器であって、反応器槽
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて互いに向き
合って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定され
る金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面の
プレートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から該金
属表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プ
レートに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成
を含み、該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プ
レートと壁とに沿って離れて配置される少なくとも１つ
の格子部材を含み、該格子部材は該壁と該プレートとか
ら電気的に絶縁され、該壁は、該プレートの外縁部に向
かって、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、こ
れから離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分
と該プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開
口部構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ
該側縁部分に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて互いに向き
合って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定され
る金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面の
プレートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から該金
属表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プ
レートに向き合って離れた壁を有し、かつガス注入構成
を含み、該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プ
レートと壁とに沿って離れて配置される少なくとも１つ
の格子部材を含み、該格子部材は該壁と該プレートとか
ら電気的に絶縁され、該壁は、該プレートの外縁部に向
かって、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、こ
れから離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分
と該プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開
口部構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ
該側縁部分に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
【００６５】Ｘ．プラズマ反応器であって、反応器槽を
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面からな
り、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該プレ
ートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通って
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向き合
って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散されて該
反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続される多
数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、該プ
ラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に対して電気
エネルギ給送構成を含み、該壁と該プレートとは互いか
ら電気的に絶縁され、さらに、該分散室内に該プレート
と該壁とに沿って離れて配置される少なくとも１つの格
子部材を含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電
気的に絶縁される、プラズマ反応器。
含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って配
置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面からな
り、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多数
のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであり、
該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該プレ
ートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通って
該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向き合
って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散されて該
反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続される多
数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、該プ
ラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に対して電気
エネルギ給送構成を含み、該壁と該プレートとは互いか
ら電気的に絶縁され、さらに、該分散室内に該プレート
と該壁とに沿って離れて配置される少なくとも１つの格
子部材を含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電
気的に絶縁される、プラズマ反応器。
【００６６】ＸＩ．プラズマ反応器であって、反応器槽
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面から
なり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多
数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該
プレートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通
って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向
き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散され
て該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続され
る多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に対して
電気エネルギ給送構成を含み、該壁と該プレートとは互
いから電気的に絶縁され、該壁は、該プレートに向かっ
て、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、かつこ
れから離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分
と該プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開
口部構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ
該側縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラズマ反応
器。
を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合って
配置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面から
なり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する多
数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該
プレートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通
って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向
き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散され
て該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続され
る多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面に対して
電気エネルギ給送構成を含み、該壁と該プレートとは互
いから電気的に絶縁され、該壁は、該プレートに向かっ
て、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、かつこ
れから離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分
と該プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開
口部構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ
該側縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラズマ反応
器。
【００６７】ＸＩＩ．プラズマ反応器であって、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面か
らなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する
多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該
プレートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通
って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向
き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散され
て該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続され
る多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プレートと
該壁とに沿って離れた少なくとも１つの格子部材構成を
含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電気的に絶
縁され、該壁はさらに、該プレートの外縁部に向かっ
て、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、これか
ら離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分と該
プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開口部
構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ該側
縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置されて、プラズマ放電空間を規定する金属表面か
らなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、貫通する
多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレートであ
り、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に面する該
プレートに沿って延在する分散室から、該金属表面を通
って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレートに向
き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って分散され
て該反応器への少なくとも１つのガス給送線に接続され
る多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成を含み、
該プラズマ反応器はさらに、該分散室内に該プレートと
該壁とに沿って離れた少なくとも１つの格子部材構成を
含み、該格子部材は該壁と該プレートとから電気的に絶
縁され、該壁はさらに、該プレートの外縁部に向かっ
て、かつこれを超えて延在する側縁部分を含み、これか
ら離れて、該室は、開口部構成によって該側縁部分と該
プレートの外縁部との間の空間に通じており、該開口部
構成は、該プレートに実質的に平行であって、かつ該側
縁部分に実質的に鉛直に延在する、プラズマ反応器。
【００６８】ＸＩＩＩ．プラズマ反応器であって、反応
器槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合
って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される
金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面の
プレートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から、該
金属表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該
プレートに向き合って離れた壁を有し、かつ、ガス注入
構成を有し、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属
表面に対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレ
ートとは互いから電気的に絶縁され、さらに、該分散室
内に該プレートと該壁とに沿って離れて配置される少な
くとも１つの格子部材を含み、該格子部材は該壁と該プ
レートとから電気的に絶縁され、該壁はさらに、該プレ
ートの外縁部に向かって、かつこれを超えて延在する側
縁部分を含み、これから離れて、該室は、開口部構成に
よって該側縁部分と該プレートの外縁部との間の空間に
通じており、該開口部構成は、該プレートに実質的に平
行であって、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延在す
る、プラズマ反応器。
器槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合
って配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される
金属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つ
は、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面の
プレートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空
間に面する該プレートに沿って延在する分散室から、該
金属表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該
プレートに向き合って離れた壁を有し、かつ、ガス注入
構成を有し、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属
表面に対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレ
ートとは互いから電気的に絶縁され、さらに、該分散室
内に該プレートと該壁とに沿って離れて配置される少な
くとも１つの格子部材を含み、該格子部材は該壁と該プ
レートとから電気的に絶縁され、該壁はさらに、該プレ
ートの外縁部に向かって、かつこれを超えて延在する側
縁部分を含み、これから離れて、該室は、開口部構成に
よって該側縁部分と該プレートの外縁部との間の空間に
通じており、該開口部構成は、該プレートに実質的に平
行であって、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延在す
る、プラズマ反応器。
【００６９】ＸＩＶ．プラズマ反応器であって、反応器
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレ
ートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に
面する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属
表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレ
ートに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って
分散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に
接続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成
を含み、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面
に対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレート
とは互いから電気的に絶縁され、該プラズマ反応器はさ
らに、該分散室内に該プレートと壁とに沿って離れて配
置される少なくとも１つの格子部材を含み、該格子部材
は該壁と該プレートとから電気的に絶縁され、該壁は、
該プレートの外縁部に向かって、かつこれを超えて延在
する側縁部分を含み、これから離れて、該室は、開口部
構成によって該側縁部分と該プレートの外縁部との間の
空間に通じており、該開口部構成は、該プレートに実質
的に平行であって、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延
在する、プラズマ反応器。
槽を含み、その中の１対の電極は間隔をあけて向き合っ
て配置され、その間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、該金属表面のうち少なくとも１つは、
貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面のプレ
ートであり、該多数のガス給送開口部は、該放電空間に
面する該プレートに沿って延在する分散室から、該金属
表面を通って該放電空間に向かい、該分散室は、該プレ
ートに向き合って離れた壁を有し、かつ、該壁に沿って
分散されて該反応器への少なくとも１つのガス給送線に
接続される多数のガス注入開口部を備えたガス注入構成
を含み、該プラズマ反応器はさらに、該２つの金属表面
に対して電気エネルギ給送構成を含み、該壁とプレート
とは互いから電気的に絶縁され、該プラズマ反応器はさ
らに、該分散室内に該プレートと壁とに沿って離れて配
置される少なくとも１つの格子部材を含み、該格子部材
は該壁と該プレートとから電気的に絶縁され、該壁は、
該プレートの外縁部に向かって、かつこれを超えて延在
する側縁部分を含み、これから離れて、該室は、開口部
構成によって該側縁部分と該プレートの外縁部との間の
空間に通じており、該開口部構成は、該プレートに実質
的に平行であって、かつ該側縁部分に実質的に鉛直に延
在する、プラズマ反応器。
【００７０】ＸＶ．該ガス注入構成は、該壁に沿って分
散され、該プレートに向けられる複数のガス注入開口部
を含み、該ガス注入開口部の少なくともいくつかは、共
通のガス給送線に接続され、該ガス給送線と、そこに接
続される該注入開口部の少なくとも大部分との間のガス
流抵抗係数は、少なくとも実質的に等しい、教示Ｉから
教示ＸＩＶのいずれかに記載のプラズマ反応器。
散され、該プレートに向けられる複数のガス注入開口部
を含み、該ガス注入開口部の少なくともいくつかは、共
通のガス給送線に接続され、該ガス給送線と、そこに接
続される該注入開口部の少なくとも大部分との間のガス
流抵抗係数は、少なくとも実質的に等しい、教示Ｉから
教示ＸＩＶのいずれかに記載のプラズマ反応器。
【００７１】ＸＶＩ．該プレート内の、および該プレー
トの外縁部の近傍に配置された、該ガス給送開口部の少
なくともいくつかは、該プレートに、該プレートの外縁
部からより離れて位置する該ガス給送開口部よりも大き
な直径を有する、教示ＩからＸＶのいずれかに記載のプ
ラズマ反応器。
トの外縁部の近傍に配置された、該ガス給送開口部の少
なくともいくつかは、該プレートに、該プレートの外縁
部からより離れて位置する該ガス給送開口部よりも大き
な直径を有する、教示ＩからＸＶのいずれかに記載のプ
ラズマ反応器。
【００７２】ＸＶＩＩ．該プレートを貫通する該ガス給
送線の少なくとも一部は、取り外し可能な流抵抗係数増
加インサートと協働する、教示ＩからＸＶＩのいずれか
に記載のプラズマ反応器。
送線の少なくとも一部は、取り外し可能な流抵抗係数増
加インサートと協働する、教示ＩからＸＶＩのいずれか
に記載のプラズマ反応器。
【図１】 「シャワーヘッド」ガス注入口を備えた、Ｒ
Ｆプラズマ反応器のための、広く用いられる設計を示す
概略図である。
Ｆプラズマ反応器のための、広く用いられる設計を示す
概略図である。
【図２】 好ましい態様で、この発明のすべての意義の
ある局面を組合せる、この発明の製造方法を行なうため
のこの発明のＲＦプラズマ反応器の概略図である。
ある局面を組合せる、この発明の製造方法を行なうため
のこの発明のＲＦプラズマ反応器の概略図である。
【図３】 この発明の反応器槽の分散室にガスを注入す
るための好ましいガス分散構成の概略図である。
るための好ましいガス分散構成の概略図である。
【図４】 この発明の反応器において、ガス給送開口部
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
【図５】 この発明の反応器において、ガス給送開口部
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
【図６】 この発明の反応器において、ガス給送開口部
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
を製造するため、およびそれらの流れ抵抗を制御するた
めの、好ましい３つの選択肢のうちの、１つを示す図で
ある。
３６ プラズマ放電空間、４０ 金属プレート、４６
分散室、４８ ガス注入構成、５２ 中央ガス注入線。
分散室、４８ ガス注入構成、５２ 中央ガス注入線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｃ (72)発明者 ジャーク・シュミート フランス、91620 ラ・ビル・ディ・ボア、 グランド・リュ、51 (72)発明者 ジャン・バーレイロウ フランス、91120、パレセオ、リュ・ド・ ウナ、25 Ｆターム(参考） 4G075 AA24 AA30 BA01 BB08 BC04 BC06 CA16 CA65 DA02 EA01 EB01 EB42 EC21 EC30 EE12 EE34 FA02 FA03 FB02 FC15 4K030 EA05 EA06 FA01 FA03 KA12 KA46 5F004 AA01 BA04 BB28 BC03 5F045 BB02 BB20 DP03 EF05
Claims (4)
- 【請求項１】 プラズマ反応器であって、反応器槽を含
み、その中の１対の電極は、間隔をあけて向き合って配
置され、かつその間にプラズマ放電空間が規定される金
属表面からなり、前記金属表面のうち少なくとも１つ
は、貫通する多数のガス給送開口部を有する金属表面の
プレートであり、前記多数のガス給送開口部は、前記放
電空間に面する前記プレートに沿って延在する分散室か
ら、前記金属表面を通って前記放電空間に向かい、前記
分散室は、前記プレートに向き合って離れた壁を有し、
かつ、前記壁に沿って分散されて前記反応器への少なく
とも１つのガス給送線に接続される多数のガス注入開口
部を備えたガス注入構成を含む、プラズマ反応器。 - 【請求項２】 前記ガス注入構成は、前記壁に沿って分
散され、かつ前記プレートに向けられる多数のガス注入
開口部を含み、前記ガス注入開口部の少なくともいくつ
かは、共通のガス給送線に接続され、前記ガス給送線と
前記ガス給送線に接続される前記注入開口部の少なくと
も大部分との間のガス流れ抵抗係数は、少なくとも実質
的に等しい、請求項１に記載のプラズマ反応器。 - 【請求項３】 前記プレート内に存在し、かつ前記プレ
ートの外縁部の近傍に配置される前記ガス給送開口部の
少なくともいくつかは、前記プレートにおいて前記プレ
ートの外縁部からより離れて位置決めされる前記ガス供
給開口部よりも小さな直径を有する、請求項１または請
求項２に記載の反応器。 - 【請求項４】 前記プレートを貫通する前記ガス給送開
口部の少なくとも一部は、取外し可能な流れ抵抗係数増
加インサートと協働する、請求項１から請求項３のいず
れかに記載の反応器。
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