CN102320741B - 强化玻璃基板及其制造方法 - Google Patents

强化玻璃基板及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102320741B
CN102320741B CN201110282771.0A CN201110282771A CN102320741B CN 102320741 B CN102320741 B CN 102320741B CN 201110282771 A CN201110282771 A CN 201110282771A CN 102320741 B CN102320741 B CN 102320741B
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
glass substrate
hardened
less
mass ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201110282771.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102320741A (zh
Inventor
村田隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Publication of CN102320741A publication Critical patent/CN102320741A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102320741B publication Critical patent/CN102320741B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0416—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y10T428/315—Surface modified glass [e.g., tempered, strengthened, etc.]

Abstract

本发明提供一种强化玻璃基板，其在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃。

Description

强化玻璃基板及其制造方法
本申请是200880101805.8(国际申请号：PCT/JP2008/062941)的分案申请，原申请的申请日为2008年7月17日，发明名称为“强化玻璃基板及其制造方法”。
技术领域
本发明涉及一种强化玻璃基板，特别涉及适于携带电话、数码相机、PDA(携带终端)、太阳能电池的外罩玻璃、或者触摸面板显示器基板的强化玻璃基板。
背景技术
携带电话、数码相机、PDA、太阳能电池、或者触摸面板显示器之类的设备得到广泛的使用，有逐渐普及的趋势。
以往，在这些用途中作为用于保护显示器的保护构件使用丙烯酸等树脂基板。但是，丙烯酸树脂基板由于杨氏模量低，因此在用笔或人的手指等按压显示器的显示面时容易挠曲，从而会有树脂基板与内部的显示器接触而产生显示故障的情况。另外，丙烯酸树脂基板容易在表面形成伤痕，因而还有辨识性容易恶化的问题。解决这些问题的一个方法是作为保护构件使用玻璃基板。在作为保护构件使用的玻璃基板(外罩玻璃)中，要求(1)具有高的机械强度、(2)低密度且质轻、(3)可以廉价而大量地供给、(4)泡沫品质优异、(5)在可见区域中具有高透光率、(6)具有高的杨氏模量，使得在用笔或手指等按压表面时难以产生挠曲。特别是在不满足(1)的要件的情况下，由于不足以用作保护构件，因此一直以来使用利用离子交换等强化了的玻璃基板(所谓的强化玻璃基板)(参照专利文献1、非专利文献1)。
专利文献1：日本特开2006-83045号公报
非专利文献1：泉谷彻朗等、“新型的玻璃及其物性”、首版、株式会社经营System研究所、1984年8月20日、p.451-498
在非专利文献1中记载，如果增加玻璃组成中的Al2O3含量，则玻璃的离子交换性能提高，可以提高玻璃基板的机械强度。
但是，如果增加玻璃组成中的Al2O3含量，则玻璃的耐失透性就会恶化，在成形中玻璃容易失透，玻璃基板的制造效率、品质等恶化。另外，如果玻璃的耐失透性(防止透明消失)差，则只能利用滚压成形等方法来成形，无法获得表面精度高的玻璃板。由此，在玻璃板的成形后，必须另外地附加研磨工序。但是，如果研磨玻璃基板，则容易在玻璃基板的表面产生微小的缺陷，难以维持玻璃基板的机械强度。
基于此种情况，很难兼顾玻璃的离子交换性能和耐失透性，难以使玻璃基板的机械强度明显地提高。另外，为了实现设备的轻质化，触摸面板显示器等设备中所用的玻璃基板被逐年地薄壁化。由于薄型的玻璃基板容易破损，因此提高玻璃基板的机械强度的技术变得日益重要起来。
发明内容
所以，本发明的技术性课题在于，通过兼顾玻璃的离子交换性能和耐失透性，来获得机械强度高的玻璃基板。
本发明人进行了各种研究，结果发现，通过将玻璃中的Al2O3含量或Na2O含量设定为恰当的范围，就可以确保高的离子交换性能和熔融性。另外发现，通过含有SnO2，在使玻璃的泡沫品质提高的同时，还可以获得提高离子交换性能的效果，进而，通过含有ZrO2，就可以不伴随着失透性的恶化地获得更高的离子交换性能，从而提出了本发明。
即，本发明的强化玻璃基板是在表面具有压缩应力层的强化玻璃基板，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃。而且，只要没有特别指出，在以下的说明中“％”就是指质量％。
另外，本发明的强化玻璃基板是在表面具有压缩应力层的强化玻璃基板，作为玻璃组成，优选以质量％计含有40～70％的SiO2、12～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃。
另外，本发明的强化玻璃基板，优选含有0.01～3％的SnO2。
另外，本发明的强化玻璃基板，优选是经化学强化而成的。
另外，本发明的强化玻璃基板，优选表面的压缩应力为300MPa以上，并且压缩应力层的厚度为10μm以上，玻璃基板内部的拉伸应力为200MPa以下。这里，“表面的压缩应力”及“压缩应力层的厚度”是在使用表面应力计(株式会社东芝制FSM-6000)观察试样时，根据所观察到的干涉条纹的条数及其间隔算出的。另外，玻璃基板内部的拉伸应力是利用下式计算的。
玻璃基板内部的拉伸应力＝(压缩应力值×应力深度)/(板厚-应力深度×2)
需要说明的是，本发明的强化玻璃基板优选具有未研磨的表面。这里所说的“未研磨的表面”是指玻璃基板的两面(所谓的表面和背面)未被研磨。换言之，是指两面为热锻面，这样就可以减小平均表面粗糙度(Ra)。平均表面粗糙度(Ra)是利用依照SEMI D7-97“FPD玻璃基板的表面粗糙度的测定方法”的方法测定的，应当设为以下，优选为以下，更优选为以下。而且，也可以对于玻璃基板的端面部进行倒角等研磨处理或蚀刻处理。
另外，本发明的强化玻璃基板优选液相温度为1200℃以下。这里所说的“液相温度”是指，将玻璃粉碎，将穿过标准筛30目(筛子网眼500μm)而在50目(筛子网眼300μm)中残留的玻璃粉末加入铂舟皿中，在温度梯度炉中保持24小时后，晶体析出的温度。
另外，本发明的强化玻璃基板优选液相粘度为104.0dPa·s以上。这里所说的“液相粘度”是指液相温度下的玻璃的粘度。而且，液相粘度越高、液相温度越低，则玻璃的耐失透性就越是提高，玻璃基板越容易成形。
另外，本发明的强化玻璃基板被作为显示器的外罩玻璃使用。
另外，本发明的强化用玻璃，其特征在于，以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃。
另外，本发明的强化玻璃基板制造方法，其特征在于，按照形成以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2的玻璃组成的方式调合玻璃原料，将其熔融、以板状成形后，进行离子交换处理，在玻璃表面形成压缩应力层，用于显示器的外罩玻璃。
本发明的强化玻璃基板由离子交换性能高的玻璃制作。另外，由于由耐失透性优异的玻璃制作，因此通过采用溢流下拉法等，就可以得到表面粗糙度小的玻璃基板。由此，就不需要成形后的研磨，没有因研磨而产生的微小缺陷。这样，由于机械强度高，而且没有由研磨造成的制造成本的增加，因此可以廉价地生产。
本发明的强化玻璃基板适于用作携带电话、数码相机、PDA的外罩玻璃、触摸面板显示器基板。而且，触摸面板显示器被搭载于携带电话、数码相机、PDA等中，在移动用途的触摸面板显示器中，对轻质化、薄型化、高强度化的要求很高，要求有薄型而机械强度高的玻璃基板。在这一点上，本发明的强化玻璃基板即使减小板厚，也在实用上具有足够的机械强度，因此适用于移动用途中。
另外，本发明的强化用玻璃由于耐失透性优异，因此可以利用溢流下拉法等成形。由此，如果使用本发明的玻璃，则可以廉价地生产表面粗糙度小、机械强度高的玻璃基板。
另外，本发明的强化玻璃的制造方法由于使用离子交换性能高并且耐失透性优异的玻璃，因此可以廉价地制作机械强度高的强化玻璃基板。
具体实施方式
本发明的强化玻璃基板在其表面具有压缩应力层。对于在玻璃基板的表面形成压缩应力层的方法，有物理强化法和化学强化法。本发明的强化玻璃基板优选利用化学强化法来形成压缩应力层。化学强化法是在玻璃的应变点以下的温度利用离子交换在玻璃基板的表面导入离子半径大的碱离子的方法。如果利用化学强化法来形成压缩应力层，则即使玻璃基板的板厚小，也可以良好地实施强化处理，可以获得所需的机械强度。此外，即使在玻璃基板上形成压缩应力层后将玻璃基板切断，也不会有像利用风冷强化法等物理强化法强化的玻璃基板那样很容易损坏的情况。
离子交换的条件没有特别限定，只要考虑玻璃的粘度特性等决定即可。特别是，如果将KNO3熔融盐中的K离子与玻璃基板中的Na成分进行离子交换，则由于可以在玻璃基板的表面有效地形成压缩应力层，因此优选。
本发明的强化玻璃基板中，对将玻璃组成限定为上述范围的理由说明如下。
SiO2是形成玻璃的网络的成分，其含量为40～71％，优选为40～70％、40～63％、45～63％、50～59％，特别优选为55～58.5％。如果SiO2的含量过多，则玻璃的熔融、成形就会变得困难，或者热膨胀系数变得过小，从而使热膨胀系数难以与周边材料匹配。另一方面，如果SiO2的含量过少，则难以玻璃化。另外，玻璃的热膨胀系数变大，玻璃的耐热冲击性容易降低。
Al2O3是提高离子交换性能的成分。另外，还有提高玻璃的应变点及杨氏模量的效果，其含量为3～21％。如果Al2O3的含量过多，则容易在玻璃中析出失透晶体而使利用溢流下拉法等的成形变得困难。另外，玻璃的热膨胀系数变得过小而使热膨胀系数难以与周边材料匹配，或玻璃的高温粘性变高而难以熔融。如果Al2O3的含量过少，则有可能无法发挥出足够的离子交换性能。从上述观点出发，Al2O3的合适的范围是，上限更优选为20％以下、19％以下、18％以下、17％以下、16.5％以下。另外，下限更优选为7.5％以上、8.5％以上、9％以上、10％以上、12％以上、13％以上、14％以上。
Li2O不仅是离子交换成分，并且还是使玻璃的高温粘度降低而使熔融性或成形性提高的成分。此外，Li2O还是使玻璃的杨氏模量提高的成分。另外，Li2O在碱金属氧化物中提高压缩应力值的效果高。但是，如果Li2O的含量过多，则液相粘度降低，玻璃容易失透。另外，玻璃的热膨胀系数变得过大，使得玻璃的耐热冲击性降低、或热膨胀系数难以与周边材料匹配。此外，如果低温粘性过度降低而容易引起应力衰减，则反而会有压缩应力值变低的情况。所以，Li2O的含量优选为0～1％，更优选为0～0.5％、0～0.1％，最优选实质上不含有，也就是抑制为小于0.01％。
Na2O不仅是离子交换成分，并且还是使玻璃的高温粘度降低而使熔融性或成形性提高的成分。另外，Na2O还是改善玻璃的耐失透性的成分。Na2O的含量为7～20％，然而更合适的含量为10～20％、10～19％、12～19％、12～17％、13～17％，特别优选为14～17％。如果Na2O的含量过多，则玻璃的热膨胀系数变得过大，导致玻璃的耐热冲击性降低、或热膨胀系数难以与周边材料匹配。另外，应变点过度降低、或丧失玻璃组成的平衡，反而有玻璃的耐失透性恶化的趋势。另一方面，如果Na2O的含量少，则熔融性恶化、或热膨胀系数变得过小、离子交换性能恶化。
K2O具有促进离子交换的效果，在碱金属氧化物当中加深压缩应力层的深度的效果高。另外还是具有使玻璃的高温粘度降低而提高熔融性或成形性的效果的成分。另外，K2O还是改善耐失透性的成分。K2O的含量为0～15％。如果K2O的含量过多，则玻璃的热膨胀系数变大，导致玻璃的耐热冲击性降低、或热膨胀系数难以与周边材料匹配。此外，应变点过度降低、或丧失玻璃组成的平衡，反而有玻璃的耐失透性恶化的趋势，因此，优选将上限设为12％以下、10％以下、8％以下、6％以下、5％以下、4％以下、3％以下、2％以下。
如果碱金属氧化物R2O(R是选自Li、Na、K中的一种以上)的总量变得过多，则不仅玻璃容易失透，而且玻璃的热膨胀系数会变得过大，导致玻璃的耐热冲击性降低、或热膨胀系数难以与周边材料匹配。另外，如果碱金属氧化物R2O的总量变得过多，玻璃的应变点就会过度降低，从而会有无法获得高压缩应力值的情况。此外，还有液相温度附近的粘性降低、很难确保高液相粘度的情况。由此，R2O的总量优选为22％以下、20％以下，特别优选为19％以下。另一方面，如果R2O的总量过少，则会有玻璃的离子交换性能或熔融性恶化的情况。由此，R2O的总量优选为8％以上、10％以上、13％以上，特别优选为15％以上。
另外，最好将(Na2O+K2O)/Al2O3的值设定为0.7～2、优选为0.8～1.6、更优选为0.9～1.6、进一步优选为1～1.6、最优选为1.2～1.6的范围。如果该值大于2，则低温粘性过度降低，导致离子交换性能降低、杨氏模量降低、或热膨胀系数变高而使耐热冲击性容易降低。另外，还会丧失组成的平衡，从而容易失透。另一方面，如果小于0.7，则熔融性或失透性容易恶化。
另外，K2O/Na2O的质量比的范围优选为0.25～2。通过改变K2O/Na2O的质量比，可以改变压缩应力值的大小和应力层的深度。在想要将压缩应力值设定得较高的情况下，优选将上述质量比调整为达到0.25～0.5、特别优选为0.25～0.3。另一方面，在想要使应力深度更深、或在短时间内形成深的应力的情况下，优选将上述质量比调整为达到0.3～2、特别优选为0.5～2、1～2、1.2～2、1.5～2。这里将上述质量比的上限设定为2是因为，如果大于2则会丧失玻璃的组成的平衡而容易失透。
本发明的强化玻璃基板中，作为玻璃组成，可以仅由上述的基本成分构成，然而也可以在不很大地损害玻璃的特性的范围中添加其他的成分。
例如，碱土金属氧化物R’O(R’是选自Mg、Ca、Sr、Ba中的一种以上)是可以出于各种目的添加的成分。但是，如果碱土金属氧化物R’O变多，则玻璃的密度或热膨胀系数变高、或耐失透性恶化，此外还会有离子交换性能恶化的趋势。所以，碱土金属氧化物R’O的总量应当优选设为0～9.9％、0～8％、0～6、0～5％。
MgO是使玻璃的高温粘度降低而提高熔融性或成形性、或提高应变点或杨氏模量的成分，在碱土金属氧化物当中，提高离子交换性能的效果高。MgO的含量优选为0～6％。但是，如果MgO的含量变多，则玻璃的密度、热膨胀系数变高、或玻璃容易失透。所以，其含量优选为4％以下、3％以下、2％以下、1.5％以下。
CaO是使玻璃的高温粘度降低而提高熔融性或成形性、或提高应变点或杨氏模量的成分，在碱土金属氧化物当中，提高离子交换性能的效果高。CaO的含量优选为0～6％。但是，如果CaO的含量变多，则玻璃的密度、热膨胀系数变高、或玻璃容易失透，进而会有离子交换性能恶化的情况。所以，其含量优选为4％以下、3％以下。
SrO是使玻璃的高温粘度降低而提高熔融性或成形性、或提高应变点或杨氏模量的成分，其含量为0～3％。BaO是使玻璃的高温粘度降低而提高熔融性或成形性、或提高应变点或杨氏模量的成分，其含量为0～3％。如果SrO或BaO的含量变多，则会有离子交换性能恶化的趋势。另外，玻璃的密度、热膨胀系数变高、或玻璃容易失透。SrO的含量优选为2％以下、1.5％以下、1％以下、0.5％以下、0.2％以下，特别优选为0.1％以下。另外，BaO的含量优选为2.5％以下、2％以下、1％以下、0.8％以下、0.5％以下、0.2％以下，特别优选为0.1％以下。
另外，ZnO是提高玻璃的离子交换性能的成分，特别是提高压缩应力值的效果大。另外，是具有不降低玻璃的低温粘性而降低高温粘性的效果的成分，可以将其含量设为0～8％。但是，如果ZnO的含量变多，则玻璃就会分相、失透性恶化、或密度变高，因此其含量优选为6％以下、4％以下，特别优选为3％以下。
本发明中，通过将SrO+BaO的总量限制为0～5％，就可以更有效地提高离子交换性能。也就是说，由于SrO和BaO如上所述，具有阻碍离子交换反应的作用，因此含有很多这些成分对于获得机械强度高的强化玻璃来说是不利的。SrO+BaO的优选的范围为0～3％、0～2.5％、0～2％、0～1％、0～0.2％，特别优选为0～0.1％。
另外，如果用R2O的总量除R’O的总量得到的值变大，则会显现出玻璃的耐失透性恶化的趋势。由此，以质量百分率计优选将R’O/R2O的值限制为0.5以下、0.4以下、0.3以下。
另外，由于SnO2具有提高离子交换性能、特别是提高压缩应力值的效果，因此优选含有0.01～3％、0.01～1.5％、0.1～1％。如果SnO2的含量变多，则会有产生由SnO2引起的失透、或玻璃容易着色的趋势。
另外，ZrO2具有使离子交换性能明显地提高并且提高玻璃的杨氏模量或应变点、降低高温粘性的效果。另外，由于具有提高玻璃的液相粘度附近的粘性的效果，因此通过含有规定量，就可以同时地提高离子交换性能和液相粘度。但是，如果其含量变得过多，则会有耐失透性极端地恶化的情况。由此，优选ZrO2的含量为0.001～10％、0.1～9％、0.5～7％、1～5％、2.5～5％。
另外，B2O3是具有降低玻璃的液相温度、高温粘度及密度的效果，并且具有提高玻璃的离子交换性能、特别是提高压缩应力值的效果的成分，因此可以与上述成分一起含有，然而如果其含量过多，则有可能因离子交换而在表面产生烧伤、玻璃的耐水性恶化、或液相粘度降低。另外，还有应力深度降低的趋势。由此，B2O3为0～6％，优选为0～4％，更优选为0～3％。
另外，TiO2是具有提高离子交换性能的效果的成分。另外还具有降低玻璃的高温粘度的效果。但是，如果其含量变得过多，就会使玻璃着色、失透性恶化、或密度变高。特别是在作为显示器的外罩玻璃使用的情况下，如果TiO2的含量变高，则在变更熔融气氛或原料时，玻璃的透过率容易变化。由此，在用紫外线固化树脂等利用光将玻璃基板与设备粘接的工序中，紫外线照射条件容易变动，从而难以稳定生产。由此，TiO2的含量为4％以下、优选2％以下、0.7％以下、0.5％以下、0.1％以下、0.01％以下。
本发明中，从离子交换性能提高的观点出发，优选在上述范围中含有ZrO2和TiO2，而作为TiO2源、ZrO2源，既可以使用试剂，也可以从原料等中所含的杂质中含有。
另外，从兼顾耐失透性和高离子交换性能的观点出发，优选将Al2O3+ZrO2的含量如下所示地设定。
如果Al2O3+ZrO2的含量超过12％(优选为12.001％以上、13％以上、15％以上、17％以上、18％以上、19％以上)，则可以更有效地提高玻璃的离子交换性能。但是，如果Al2O3+ZrO2的含量变得过多，则失透性就会极端地恶化，因此优选设为28％以下(优选为25％以下、23％以下、22％以下、21％以下)。
另外，P2O5是提高玻璃的离子交换性能的成分，特别是由于增大压缩应力层的厚度的效果大，因此可以将其含量设为0～8％。但是，如果P2O5的含量变多，就会使玻璃分相、或者耐水性或耐失透性容易降低，因此其含量优选为5％以下、4％以下、3％以下，特别优选为2％以下。
另外，也可以作为澄清剂，含有0.001～3％的选自As2O3、Sb2O3、CeO2、F、SO3、Cl中的一种或两种以上。但是，从对于环境方面的考虑出发，优选尽可能地控制As2O3及Sb2O3的使用，优选将各自的含量限制为小于0.1％，更优选控制为小于0.01％，最好实质上不含有。另外，由于CeO2是使玻璃的透过率降低的成分，因此优选限制为小于0.1％、优选为小于0.01％。另外，由于F使玻璃的低温粘性降低，有可能导致压缩应力值的降低，因此优选限制为小于0.1％，优选限制为小于0.01％。所以，本发明中优选的澄清剂是SO3和Cl，优选使SO3和Cl的一方或双方含有0.001～3％、0.001～1％、0.01～0.5％，更优选含有0.05～0.4％。
另外，Nb2O5或La2O3等稀土氧化物是提高玻璃的杨氏模量的成分。但是，原料本身的成本高，另外如果大量地含有就会使耐失透性恶化。由此，它们的含量优选限制为3％以下、2％以下、1％以下、0.5％以下，特别优选限制为0.1％以下。
而且，本发明中，Co、Ni等将玻璃强烈地着色的过渡金属元素由于使玻璃基板的透过率降低，因此不够理想。特别是在用于触摸面板显示器用途中的情况下，如果过渡金属元素的含量多，则触摸面板显示器的辨识性就会受到损害。具体来说，最好按照达到0.5％以下、0.1％以下、特别是0.05％以下的方式来调整原料或碎玻璃的使用量。
另外，从对于环境方面的考虑出发，应当尽可能地控制Pb、Bi等物质的使用，应当将其含量限制为小于0.1％。
本发明的强化玻璃基板可以适当地选择各成分的合适的含有范围，设为优选的玻璃组成范围。以下给出其具体例。
(1)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、7.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2。
(2)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、7.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2。
(3)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～10％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2。
(4)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～10％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2。
(5)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、9～19％的Al2O3、0～6％的B2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～6％的ZnO、0.001～10％的ZrO2、0.1～1％的SnO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3及Sb2O3。
(6)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、9～18％的Al2O3、0～4％的B2O3、0～1％的Li2O、11～17％的Na2O、0～6％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～6％的ZnO、0.1～1％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3及Sb2O3。
(7)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～63％的SiO2、9～17.5％的Al2O3、0～3％的B2O3、0～0.1％的Li2O、10～17％的Na2O、0～7％的K2O、0～5％的MgO、0～4％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的SrO+BaO、0.01～2％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，实质上不含有As2O3及Sb2O3，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～1.6、质量比K2O/Na2O的范围为0.25～0.4。
(8)一种玻璃组成，其以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.5％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2。
(9)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～71％的SiO2、8～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.5％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3及Sb2O3。
(10)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～65％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.5％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.7～2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3、Sb2O3及F。
(11)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～65％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.5％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0～8％的MgO+CaO+SrO+BaO、0.001～10％的ZrO2，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～1.7，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3、Sb2O3及F。
(12)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～63％的SiO2、9～19％的Al2O3、0～3％的B2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.1％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～8％的MgO+CaO+SrO+BaO，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为1.2～1.6，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3、Sb2O3及F。
(13)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～63％的SiO2、9～17.5％的Al2O3、0～3％的B2O3、0～1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～9％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.1％的TiO2、0.01～3％的SnO2、0.1～8％的ZrO2、0～8％的MgO+CaO+SrO+BaO，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为1.2～1.6，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3、Sb2O3及F。
(14)一种玻璃组成，其特征在于，以质量％计含有40～59％的SiO2、10～15％的Al2O3、0～3％的B2O3、0～0.1％的Li2O、10～20％的Na2O、0～7％的K2O、0～5％的MgO、0～3％的SrO、0～0.1％的TiO2、0.01～3％的SnO2、1～8％的ZrO2、0～8％的MgO+CaO+SrO+BaO，以质量百分率计(Na2O+K2O)/Al2O3的值为1.2～1.6，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，实质上不含有As2O3、Sb2O3及F。
本发明的强化玻璃基板具有上述玻璃组成，并且在玻璃表面具有压缩应力层。压缩应力层的压缩应力为300MPa以上、优选为600MPa以上、800MPa以上，更优选为1000MPa以上，进一步优选为1200MPa以上，再进一步优选为1300MPa以上。随着压缩应力变大，玻璃基板的机械强度变高。另一方面，如果在玻璃基板表面形成极大的压缩应力，则会在基板表面产生微裂纹，反而有可能使玻璃的强度降低。另外，由于玻璃基板中固有的拉伸应力有可能变得极高，因此优选设为2500MPa以下。而且，为了增大压缩应力，只要增加Al2O3、TiO2、ZrO2、MgO、ZnO、SnO2的含量、或降低SrO、BaO的含量即可。另外，只要缩短离子交换中所需的时间、或降低离子交换溶液的温度即可。
压缩应力层的厚度优选设为10μm以上、15μm以上、20μm以上、30μm以上。压缩应力层的厚度越大，则即使在玻璃基板中形成深的伤痕，玻璃基板也很难以破裂。另一方面，由于玻璃基板变得难以切断、或内部的拉伸应力变得极大而有可能破损，因此压缩应力层的厚度优选设为500μm以下、100μm以下、80μm以下、60μm以下。而且，为了增大压缩应力层的厚度，只要增加K2O、P2O5、TiO2、ZrO2的含量、或降低SrO、BaO的含量即可。另外，只要延长离子交换中所需的时间、或提高离子交换溶液的温度即可。
另外，玻璃基板内部的拉伸应力优选为200MPa以下(优选为150MPa以下、更优选为100MPa以下、进一步优选为50MPa以下)。该值越小，则玻璃因玻璃基板内部的缺陷而破损的可能性就越小，然而如果变得极小，则会导致玻璃基板表面的压缩应力值的降低或应力深度的降低，因此优选为1MPa以上、10MPa以上、15MPa以上。
本发明的强化玻璃基板的板厚优选为3.0mm、1.5mm以下、0.7mm以下、0.5mm以下，特别优选为0.3mm以下。玻璃基板的板厚越薄，则越可以将玻璃基板轻质化。另外，本发明的强化玻璃基板具有即使减小板厚也很难使玻璃基板损坏的优点。而且，在利用溢流下拉法进行玻璃的成形的情况下，由于可以不进行研磨地实现玻璃的薄壁化或平滑化，因此是有利的。
本发明的强化玻璃基板优选具有未研磨的表面，未研磨的表面的平均粗糙度(Ra)优选为以下，更优选为以下，更优选为以下，进一步优选为以下，最优选为以下。而且，表面的平均表面粗糙度(Ra)只要利用依照SEMI D7-97“FPD玻璃基板的表面粗糙度的测定方法”的方法来测定即可。虽然玻璃的理论强度本来非常高，然而经常会因远低于理论强度的应力而导致损坏。这是因为，在玻璃的成形后的工序，例如在研磨工序等中，在玻璃基板的表面产生被称作格里菲斯脆性破裂的微小的缺陷。由此，如果将强化玻璃基板的表面设为未研磨，就很难损害本来的玻璃基板的机械强度，从而使玻璃基板难以损坏。另外，如果将玻璃基板的表面设为未研磨，则可以在玻璃基板的制造工序中省略研磨工序，因此可以降低玻璃基板的制造成本。在本发明的强化玻璃基板中，如果将玻璃基板的两个面全都设为未研磨，则玻璃基板就更难以损坏。另外，在本发明的强化玻璃基板中，为了防止从玻璃基板的切割面起导致损坏的情况，也可以对玻璃基板的切割面进行倒角加工或蚀刻处理等。而且，为了获得未研磨的表面，只要利用溢流下拉法来进行玻璃的成形即可。
本发明的强化玻璃基板的玻璃的液相温度优选为1200℃以下、1050℃以下、1030℃以下、1010℃以下、1000℃以下、950℃以下、900℃以下，特别优选为870℃以下。为了降低液相温度，只要增加Na2O、K2O、B2O3的含量、或降低Al2O3、Li2O、MgO、ZnO、TiO2、ZrO2的含量即可。
本发明的强化玻璃基板的玻璃的液相粘度优选为104.0dPa·s以上、104.3dPa·s以上、104.5dPa·s以上、105.0dPa·s以上、105.4dPa·s以上、105.8dPa·s以上、106.0dPa·s以上、106.2dPa·s以上。为了升高液相粘度，只要增加Na2O、K2O的含量、或降低Al2O3、Li2O、MgO、ZnO、TiO2、ZrO2的含量即可。
而且，液相粘度越高、液相温度越低，则玻璃的耐失透性就越优异，并且玻璃基板的成形性越优异。此外，如果玻璃的液相温度为1200℃以下、玻璃的液相粘度为104.0dPa·s以上，就可以利用溢流下拉法来成形。
本发明的强化玻璃基板的玻璃的密度优选为2.8g/cm3以下，更优选为2.7g/cm3以下，进一步优选为2.6g/cm3以下。玻璃的密度越小，则越可以实现玻璃基板的轻质化。这里所说的“密度”是指利用公知的阿基米德法测定的值。而且，为了降低玻璃的密度，只要增加SiO2、P2O5、B2O3的含量、或降低碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、ZrO2、TiO2的含量即可。
本发明的强化玻璃基板的30～380℃的温度范围中的玻璃的热膨胀系数优选为70～110×10-7/℃，更优选为75～110×10-7/℃，进一步优选为80～110×10-7/℃，特别优选为85～110×10-7/℃。如果将玻璃的热膨胀系数设为上述范围，则热膨胀系数容易与金属、有机系粘接剂等构件匹配，可以防止金属、有机系粘接剂等构件的剥离。这里所说的“热膨胀系数”是指使用膨胀计测定30～380℃的温度范围中的平均热膨胀系数后的值。而且，为了使热膨胀系数升高，只要增加碱金属氧化物、碱土金属氧化物的含量即可，反之，为了使之降低，只要减少碱金属氧化物、碱土金属氧化物的含量即可。
本发明的强化玻璃基板的应变点优选为500℃以上，更优选为510℃以上、520℃以上、540℃以上、550℃以上，最优选为560℃以上。玻璃的应变点越高，则玻璃的耐热性就越优异，即使对强化玻璃基板实施热处理，强化层也很难消失。另外，如果玻璃的应变点高，则在离子交换中难以引起应力衰减，因此可以获得高压缩应力值。为了提高玻璃的应变点，只要减少碱金属氧化物的含量、或增加碱土金属氧化物、Al2O3、ZrO2、P2O5的含量即可。
本发明的强化玻璃基板的与玻璃的高温粘度102.5dPa·s相当的温度优选为1650℃以下、1500℃以下、1450℃以下、1430℃以下、1420℃以下、1400℃以下。与玻璃的高温粘度102.5dPa·s相当的温度相当于玻璃的熔融温度，因而与玻璃的高温粘度102.5dPa·s相当的温度越低，就可以在越低的温度下将玻璃熔融。所以，与玻璃的高温粘度102.5dPa·s相当的温度越低，对熔融窑等玻璃的制造设备的负担就越小，并且越可以提高玻璃基板的泡沫品质。由此，与玻璃的高温粘度102.5dPa·s相当的温度越低，则越可以廉价地制造玻璃基板。而且，为了降低与102.5dPa·s相当的温度，只要增加碱金属氧化物、碱土金属氧化物、ZnO、B2O3、TiO2的含量、或减少SiO2、Al2O3的含量即可。
本发明的强化玻璃基板的杨氏模量优选为70GPa以上，更优选为73GPa以上，更优选为75GPa以上。由此，在作为显示器的外罩玻璃使用时，由于杨氏模量越高，则用笔或手指按压外罩玻璃的表面时的变形量就越小，因此可以减少对内部的显示器造成的损伤。
另外，本发明的强化用玻璃的特征在于，以质量％计含有40～71％的SiO2、3～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、7～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃，优选以如下内容为特征，即，以质量％计含有40～71％的SiO2、7.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～15％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃，更优选以如下内容为特征，即，以质量％计含有40～71％的SiO2、8.5～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、10～19％的Na2O、0～10％的K2O、0～6％的MgO、0～6％的CaO、0～3％的SrO、0～3％的BaO、0～8％的ZnO、0.01～3％的SnO2、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，且用于显示器的外罩玻璃。本发明的强化用玻璃中，由于将玻璃组成限定为上述范围的理由及优选的范围与已述的强化玻璃基板相同，因此这里省略其记载。此外，本发明的强化用玻璃当然可以兼具已述的强化玻璃基板的特性、效果。
本发明的强化用玻璃由于将各构成成分限制为上述范围，因此离子交换性能良好，可以很容易地将表面的压缩应力设为600MPa以上，并且将压缩应力层的厚度设为10μm以上。
本发明的玻璃可以通过如下操作来制造，即，将按照达到上述组成范围内的玻璃组成的方式调合的玻璃原料投入连续熔融炉，在1500～1600℃下将玻璃原料加热熔融，在澄清后向成形装置供给，而后将熔融玻璃以板状成形、退火。
在将玻璃以板状成形时，优选采用溢流下拉法。如果利用溢流下拉法将玻璃基板成形，则可以制造未研磨且表面品质良好的玻璃基板。其理由在于，在溢流下拉法的情况下，应当成为玻璃基板的表面的面不与桶状耐火材料接触，被以自由表面的状态成形，从而可以制成未研磨且表面品质良好的玻璃基板。这里，溢流下拉法是如下的方法，即，使熔融状态的玻璃从耐热性的桶状结构物的两侧溢流，在使溢流的熔融玻璃在桶状结构物的下端汇流的同时，向下方拉伸成形而制造玻璃基板。桶状结构物的结构或材质只要是可以将玻璃基板的尺寸或表面精度设为所需的状态，可以实现能够用于玻璃基板的品质，就没有特别限定。另外，为了进行向下方的拉伸成形，无论对基板以何种方法施加力都可以。例如，既可以采用使具有足够大的宽度的耐热性辊在与玻璃基板接触的状态下旋转而拉伸的方法，也可以采用使多个配成对的耐热性辊仅接触玻璃基板的端面附近而拉伸的方法。本发明的玻璃由于耐失透性优异，并且具有适于成形的粘度特性，因此可以精度优良地实行利用溢流下拉法的成形。而且，如果液相温度为1200℃以下、液相粘度为104.0dPa·s以上，就可以利用溢流下拉法来制造玻璃基板。
而且，本发明中，在不要求高表面品质的情况下，可以采用溢流下拉法以外的方法。例如，可以采用下拉法(狭缝下拉法、再拉深法等)、浮法、辗平法、冲压法等各种各样的成形方法。例如如果用冲压法将玻璃成形，则可以效率优良地制造小型的玻璃基板。
在制造本发明的强化玻璃基板时，首先准备上述玻璃。然后实施强化处理。虽然将玻璃基板以规定尺寸切割也可以在强化处理之前，然而由于在强化处理后进行可以降低制造成本，因此优选。强化处理优选利用离子交换处理来进行。离子交换处理例如可以通过将玻璃板在400～550℃的硝酸钾溶液中浸渍1～8小时来进行。离子交换条件只要考虑玻璃的粘度特性、或用途、板厚、玻璃内部的拉伸应力等而选择最佳的条件即可。
实施例1
下面，基于实施例对本发明进行说明。
表1～4表示本发明的实施例(试样No.13～21、23)的玻璃组成和特性。而且，表中的“未”的表示是指未测定。另外，试样No.1～12、22、24～26为参考例。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
  No.24   No 25   No.26
  SiO2   69.9   70.6   57.3
  Al2O3   13.4   13.5   13.0
  Na2O   8.2   8.3   14.5
  Li2O   1.9   1.9   -
  K2O   5.4   5.4   4.9
  ZrO2   -   -   4.0
  TiO2   -   -   -
  B2O3   -   -   2.0
  MgO   -   -   2.0
  CaO   -   -   2.0
  SnO2   1.2   0.3   0.3
  密度(g/cm3)   2.41   2.39   2.54
  Ps(℃)   473   467   523
  Ta(℃)   521   514   563
  Ts(℃)   765   756   762
  104(℃)   1210   1205   1100
  103(℃)   1453   1454   1280
  102.5(℃)   1609   1612   1396
  杨氏模量(GPa)   74   73   75
  α(×10-7/℃)   83   84   100
  TL(℃)   900   910   855
  logηTL   6.1   5.9   6.2
  压缩应力值(MPa)   550   500   1020
  应力层深度(μm)   28   29   25
  内部拉伸应力(MPa)   16   15   27
表1～4的各试样是如下所示地制作的。首先，按照达到表中的玻璃组成的方式，调合玻璃原料，使用铂壶在1580℃熔融8小时。其后，将熔融玻璃向碳板上流出而以板状成形。对所得的玻璃基板，评价了各种特性。
密度是利用公知的阿基米德法测定的。
应变点Ps、退火点Ta是基于ASTM C336的方法测定的。
软化点Ts是基于ASTM C338的方法进行测定的。
玻璃的与粘度104.0dPa·s、103.0dPa·s、102.5dPa·s相当的温度是利用铂球提拉法测定的。
杨氏模量是利用弯曲共振法测定的。
热膨胀系数α是使用膨胀计，测定了30～380℃的温度范围中的平均热膨胀系数。
液相温度TL是将玻璃粉碎，将穿过标准筛30目(筛子网眼500μm)而在50目(筛子网眼300μm)中残留的玻璃粉末放入铂舟皿中，在温度梯度炉中保持24小时，测定晶体析出的温度。
液相粘度logηTL表示液相温度下的各玻璃的粘度。
其结果是，所得的玻璃基板的密度为2.59g/cm3以下，热膨胀系数为83～100×10-7/℃，适于作为强化玻璃原材料。另外，液相粘度高达105.1dPa·s，可以进行溢流下拉成形，而且，由于102.5dPa·s下的温度低到1612℃以下，因此可以认为，能够生产性高且廉价地供给大量的玻璃基板。而且，未强化玻璃基板与强化玻璃基板虽然在玻璃基板的表层中微观地看玻璃组成不同，然而作为玻璃基板整体来说玻璃组成实质上没有差别。所以，对于密度、粘度等特性值，未强化玻璃基板与强化玻璃基板的上述特性实质上没有差别。接下来在对试样No.1～26的各玻璃基板的两个表面实施光学研磨后，进行离子交换处理。对于试样No.1～8、13～15、24以及25，通过在430℃的KNO3熔融盐中将各试样浸渍4小时来进行，对于试样No.9～12、16～23以及26，通过在460℃的KNO3熔融盐中将各试样浸渍4小时来进行。结束了处理的各试样在清洗表面后，根据使用表面应力计(株式会社东芝制FSM-6000)观察到的干涉条纹的条数和其间隔，算出表面的压缩应力值和压缩应力层的厚度。在计算时，试样的折射率设为1.53，光学弹性常数设为28[(nm/cm)/MPa]。
其结果是，作为本发明的实施例的试样No.1～26的各玻璃基板在其表面产生500MPa以上的压缩应力，并且其厚度深达14μm以上。另外，在板厚为1mm的基板中内部的拉伸应力低至43MPa以下。
另外，通过使用作为本发明的实施例的试样No.15的玻璃试样，改变玻璃基板的厚度或离子交换条件，制作了内部应力不同的玻璃试验片，评价了由内部应力造成的破损的状态。
评价方法如下所示。
从试样No.15的玻璃中，分别制作板厚为0.5mm和板厚为0.7mm的玻璃板，将各玻璃板切成35mm×35mm的大小。对如此得到的各玻璃基板，在460℃-6小时、460℃-8小时、490℃-6小时的各条件下进行离子交换后测定压缩应力，将其结果表示于表5中。而且，压缩应力是用与上述相同的方法测定的，根据该压缩应力值，基于上述式子利用计算求出内部应力(玻璃基板内部的拉伸应力)。
[表5]
对表5的各玻璃基板，在其表面形成伤痕，为了研究该伤痕到达内部应力层时，玻璃基板是否破损，使用轮刀尖端(wheel tip)材质为金刚石的划线器，设定为气体压力0.3MPa、轮刀刃角度125°、轮刀研磨级别D521，将轮刀尖端向玻璃基板的表面敲打而将其损坏。
表6表示了将玻璃基板损坏后的破片的数目。另外，为了参考，还表示了未进行离子交换、内部应力为0的玻璃基板的破片的数目。从表6可以清楚地理解，如果内部应力为50～94MPa，则会成为与内部应力为0的玻璃基板相同程度的破片的数目。
【表6】
  内部应力   破片个数
  0   2
  50   2
  53   2
  59   3
  64   3
  76   3
  81   3
  94   3
而且，上述实施例中，从本发明的说明的方便考虑，在将玻璃熔融，进行利用流出的成形后，在离子交换处理前进行了光学研磨。在以工业的规模生产的情况下，最好利用溢流下拉法等制作玻璃基板，将玻璃基板的两个表面在未研磨的状态下进行离子交换处理。
工业上的利用可能性
本发明的强化玻璃基板适于用作携带电话、数码相机、PDA等的外罩玻璃；或者触摸面板显示器基板。另外，本发明的强化玻璃基板除了这些用途以外，还可以期待应用于要求高机械强度的用途中，例如应用于窗玻璃、磁盘用基板、平板显示器用基板、固体摄像元件用外罩玻璃、餐具等中。

Claims (10)

1.一种强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～71％的SiO2、10～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、12～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，质量比(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～2，
所述强化玻璃基板由液相粘度为104.0dPa·s以上的玻璃制成，且用于显示器的外罩玻璃。
2.根据权利要求1所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板在表面具有压缩应力层，作为玻璃组成，以质量％计含有40～70％的SiO2、12～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、12～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，质量比(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～2，
所述强化玻璃基板由液相粘度为104.0dPa·s以上的玻璃制成，且用于显示器的外罩玻璃。
3.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板是经化学强化而成的。
4.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
表面的压缩应力为300MPa以上，并且压缩应力层的厚度为10μm以上，玻璃基板内部的拉伸应力为200MPa以下。
5.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板由液相温度为1200℃以下的玻璃制成。
6.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
所述强化玻璃基板由液相粘度为104.5dPa·s以上的玻璃制成。
7.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
质量比K2O/Na2O的范围为0.3～2。
8.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其中，
Na2O的含量为12～19质量％。
9.一种强化用玻璃，以质量％计含有40～71％的SiO2、10～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、12～20％的Na2O、0～15％的K2O、0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，质量比(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～2，
其由液相粘度为104.0dPa·s以上的玻璃制成，且用于显示器的外罩玻璃。
10.一种强化玻璃基板的制造方法，其中，
按照形成以质量％计含有40～71％的SiO2、10～21％的Al2O3、0～1％的Li2O、12～20％的Na2O、0～15％的K2O，0～3％的SrO、0.001～10％的ZrO2、0～4％的TiO2，质量比K2O/Na2O的范围为0.25～2，质量比(Na2O+K2O)/Al2O3的值为0.9～2，液相粘度为104.0dPa·s以上的玻璃组成的方式调合玻璃原料，将其熔融、以板状成形后，进行离子交换处理，在玻璃表面形成压缩应力层，用于显示器的外罩玻璃。
CN201110282771.0A 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法 Active CN102320741B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007203604 2007-08-03
JP2007-203604 2007-08-03
JP2008154906A JP5467490B2 (ja) 2007-08-03 2008-06-13 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2008-154906 2008-06-13
CN2008801018058A CN101772470B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008801018058A Division CN101772470B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102320741A CN102320741A (zh) 2012-01-18
CN102320741B true CN102320741B (zh) 2015-08-19

Family

ID=40553354

Family Applications (7)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210143377.3A Active CN102701587B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2012101821514A Pending CN102718402A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2011102269273A Pending CN102320740A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2008801018058A Active CN101772470B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2011102815018A Pending CN102515517A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN201110227164.4A Active CN102424524B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板、强化用玻璃以及强化玻璃基板的制造方法
CN201110282771.0A Active CN102320741B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法

Family Applications Before (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210143377.3A Active CN102701587B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2012101821514A Pending CN102718402A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2011102269273A Pending CN102320740A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2008801018058A Active CN101772470B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN2011102815018A Pending CN102515517A (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板及其制造方法
CN201110227164.4A Active CN102424524B (zh) 2007-08-03 2008-07-17 强化玻璃基板、强化用玻璃以及强化玻璃基板的制造方法

Country Status (7)

Country Link
US (6) US9054250B2 (zh)
EP (5) EP2177485B1 (zh)
JP (20) JP5467490B2 (zh)
KR (9) KR101145748B1 (zh)
CN (7) CN102701587B (zh)
TW (9) TWI360543B (zh)
WO (1) WO2009019965A1 (zh)

Families Citing this family (242)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5808069B2 (ja) * 2007-02-16 2015-11-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板
JP2008247732A (ja) 2007-03-02 2008-10-16 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化板ガラスとその製造方法
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
JP5339173B2 (ja) * 2007-09-27 2013-11-13 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
KR20100120683A (ko) * 2008-02-08 2010-11-16 코닝 인코포레이티드 내손상성, 화학적으로-강화된 보호 커버 유리
DE202009018700U1 (de) 2008-02-26 2012-11-20 Corning Incorporated Läutermittel für Silikatgläser
JP5444846B2 (ja) 2008-05-30 2014-03-19 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置用ガラス板
JP2011527661A (ja) * 2008-07-11 2011-11-04 コーニング インコーポレイテッド 民生用途のための圧縮面を有するガラス
KR20180015272A (ko) * 2008-08-08 2018-02-12 코닝 인코포레이티드 강화 유리 제품 및 제조방법
US8341976B2 (en) 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
KR101376127B1 (ko) * 2009-02-23 2014-03-19 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 리튬 이온 전지용 유리 필름
EP2404228B1 (en) 2009-03-02 2020-01-15 Apple Inc. Techniques for strengthening glass covers for portable electronic devices
US20110019354A1 (en) * 2009-03-02 2011-01-27 Christopher Prest Techniques for Strengthening Glass Covers for Portable Electronic Devices
CN101508524B (zh) * 2009-03-31 2010-06-30 成都光明光电股份有限公司 适于化学钢化的玻璃及其化学钢化玻璃
DE102009050988B3 (de) * 2009-05-12 2010-11-04 Schott Ag Dünnschichtsolarzelle
DE102009050987B3 (de) * 2009-05-12 2010-10-07 Schott Ag Dünnschichtsolarzelle und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtsolarzelle
US9637408B2 (en) * 2009-05-29 2017-05-02 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium containing glass
US9371247B2 (en) * 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
US8647995B2 (en) * 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
US8802581B2 (en) 2009-08-21 2014-08-12 Corning Incorporated Zircon compatible glasses for down draw
EP2492247A1 (en) * 2009-10-20 2012-08-29 Asahi Glass Company, Limited Glass sheet for cu-in-ga-se solar cells, and solar cells using same
JP5621239B2 (ja) 2009-10-20 2014-11-12 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置用ガラス板、ディスプレイ装置用板ガラスおよびその製造方法
CN102092940A (zh) * 2009-12-11 2011-06-15 肖特公开股份有限公司 用于触摸屏的铝硅酸盐玻璃
WO2011085190A1 (en) * 2010-01-07 2011-07-14 Corning Incorporated Impact-damage-resistant glass sheet
US8835011B2 (en) * 2010-01-07 2014-09-16 Corning Incorporated Cover assembly for electronic display devices
DE102010006331A1 (de) * 2010-01-29 2011-08-04 Schott Ag, 55122 Aluminosilikatgläser mit hoher thermischer Beständigkeit, niedriger Verarbeitungstemperatur und hoher Kristallisationsbeständigkeit
KR100978678B1 (ko) * 2010-02-08 2010-08-27 노바테크인더스트리 주식회사 투명 전극 일체형 봉지 모듈의 제조 방법
CN102167507B (zh) * 2010-02-26 2016-03-16 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于3d紧密模压的薄锂铝硅玻璃
JP2013521615A (ja) * 2010-03-05 2013-06-10 ケアストリーム ヘルス インク 透明導電性膜、物品、および方法
JP2011195419A (ja) * 2010-03-23 2011-10-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 薄板ガラス製造装置及びその製造方法
TWI524244B (zh) * 2010-05-04 2016-03-01 Winsky Technology Ltd Touch panel and manufacturing method thereof
CN102249542B (zh) * 2010-05-18 2015-08-19 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于3d精密模压和热弯曲的碱金属铝硅酸盐玻璃
KR20130072187A (ko) 2010-05-19 2013-07-01 아사히 가라스 가부시키가이샤 화학 강화용 유리 및 디스플레이 장치용 유리판
JP5700623B2 (ja) * 2010-05-31 2015-04-15 Hoya株式会社 ガラス基板
DE102010023366B4 (de) * 2010-06-10 2017-09-21 Schott Ag Verwendung von Gläsern für Photovoltaik-Anwendungen
JP2012036074A (ja) * 2010-07-12 2012-02-23 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
JP5459122B2 (ja) * 2010-07-15 2014-04-02 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置
KR101238214B1 (ko) * 2010-08-17 2013-03-04 웅진케미칼 주식회사 화학강화유리를 이용한 플렉시블 디스플레이 기판
US20120052275A1 (en) * 2010-08-30 2012-03-01 Avanstrate Inc. Glass substrate, chemically strengthened glass substrate and cover glass, and method for manufactruing the same
JP5909937B2 (ja) * 2010-09-09 2016-04-27 日本電気硝子株式会社 半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法
FR2964655B1 (fr) * 2010-09-13 2017-05-19 Saint Gobain Feuille de verre
CA2752277A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-13 Gregory F. Jacobs Photovoltaic modules
WO2012037094A2 (en) 2010-09-14 2012-03-22 Corning Incorporated Appliance fascia and mounting therefore
KR101964542B1 (ko) 2010-09-27 2019-04-01 에이지씨 가부시키가이샤 화학 강화용 유리, 화학 강화 유리 및 디스플레이 장치용 유리판
US9434644B2 (en) * 2010-09-30 2016-09-06 Avanstrate Inc. Cover glass and method for producing cover glass
KR101228093B1 (ko) 2010-11-23 2013-01-31 삼성코닝정밀소재 주식회사 에칭 유리
CN103250122B (zh) 2010-11-30 2017-02-08 康宁股份有限公司 具有光漫射玻璃面板的显示设备
US8883663B2 (en) 2010-11-30 2014-11-11 Corning Incorporated Fusion formed and ion exchanged glass-ceramics
CN103168011B (zh) * 2010-12-08 2016-05-04 日本电气硝子株式会社 高折射率玻璃
DE102010054967B4 (de) * 2010-12-08 2014-08-28 Schott Ag Borfreies Universalglas und dessen Verwendung
TWI588104B (zh) * 2010-12-14 2017-06-21 康寧公司 用於強化玻璃之熱處理
JP2012126615A (ja) * 2010-12-16 2012-07-05 Asahi Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
US20120154906A1 (en) * 2010-12-17 2012-06-21 Pallavi Tatapudy Glaraser
JP5834793B2 (ja) * 2010-12-24 2015-12-24 旭硝子株式会社 化学強化ガラスの製造方法
JP5612233B1 (ja) * 2010-12-24 2014-10-22 旭硝子株式会社 化学強化用ガラス
JP5437351B2 (ja) * 2010-12-27 2014-03-12 Ｈｏｙａ株式会社 携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器
CN102531384B (zh) 2010-12-29 2019-02-22 安瀚视特股份有限公司 玻璃盖片及其制造方法
JP2012148909A (ja) * 2011-01-18 2012-08-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス及び強化ガラス板
JP5839338B2 (ja) * 2011-01-18 2016-01-06 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板の製造方法
DE102011009769A1 (de) * 2011-01-28 2012-08-02 Eglass Asia Ltd. Hochfestes Alkali-Alumo-Silikatglas
JP5850401B2 (ja) * 2011-02-10 2016-02-03 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板
JP2012193092A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Asahi Glass Co Ltd ガラス板、およびその製造方法
JP2012193090A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Asahi Glass Co Ltd ガラス板、およびその製造方法
WO2012131824A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 日本板硝子株式会社 化学強化に適したガラス組成物、および化学強化ガラス物品
US8889575B2 (en) * 2011-05-31 2014-11-18 Corning Incorporated Ion exchangeable alkali aluminosilicate glass articles
US9783452B2 (en) 2011-07-01 2017-10-10 Corning Incorporated Ion-exchanged glass of high surface compression and shallow depth of layer with high resistance to radial crack formation from vickers indentation
TWI591039B (zh) * 2011-07-01 2017-07-11 康寧公司 具高壓縮應力的離子可交換玻璃
CN102351421A (zh) * 2011-07-19 2012-02-15 彩虹集团公司 一种显示器件用保护盖板的碱铝硅酸盐玻璃的制备方法
JP5910851B2 (ja) * 2011-07-26 2016-04-27 日本電気硝子株式会社 集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子および集光型太陽光発電装置
JP2014207251A (ja) * 2011-08-12 2014-10-30 フジプレアム株式会社 太陽電池モジュール
CN102417301A (zh) * 2011-08-22 2012-04-18 河南国控宇飞电子玻璃有限公司 一种玻璃组合物及由其制成的玻璃、制法和用途
JP5783873B2 (ja) * 2011-10-04 2015-09-24 三星ダイヤモンド工業株式会社 ガラス基板のスクライブ方法
WO2013051514A1 (ja) * 2011-10-04 2013-04-11 旭硝子株式会社 カバーガラス
US10350139B2 (en) 2011-10-25 2019-07-16 Corning Incorporated Pharmaceutical glass packaging assuring pharmaceutical sterility
CN106746599B (zh) 2011-10-25 2020-05-19 康宁股份有限公司 具有改善的化学和机械耐久性的玻璃组合物
EP2771296B1 (en) 2011-10-25 2017-09-27 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9517966B2 (en) 2011-10-25 2016-12-13 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US9850162B2 (en) 2012-02-29 2017-12-26 Corning Incorporated Glass packaging ensuring container integrity
EP2771293B1 (en) 2011-10-25 2019-01-16 Corning Incorporated Alkaline earth alumino-silicate glass compositions with improved chemical and mechanical durability
JP6079635B2 (ja) * 2011-11-18 2017-02-15 旭硝子株式会社 化学強化用ガラスおよび化学強化ガラス
KR101338659B1 (ko) * 2011-11-29 2013-12-06 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
US20130136909A1 (en) * 2011-11-30 2013-05-30 John Christopher Mauro Colored alkali aluminosilicate glass articles
KR101535823B1 (ko) * 2011-12-15 2015-07-13 엘지디스플레이 주식회사 터치 및 입체 영상 표시 기능을 갖는 액정표시장치 및 그의 제조 방법
KR20150040367A (ko) 2011-12-16 2015-04-14 아사히 가라스 가부시키가이샤 디스플레이용 커버 유리, 디스플레이용 커버 유리의 제조 방법
JP4932059B1 (ja) * 2011-12-16 2012-05-16 株式会社ミクロ技術研究所 強化ガラス、タッチパネル、及び強化ガラスの製造方法
GB201200890D0 (en) * 2012-01-19 2012-02-29 Univ Dundee An ion exchange substrate and metalized product and apparatus and method for production thereof
JP5930377B2 (ja) * 2012-02-20 2016-06-08 日本電気硝子株式会社 強化ガラス
KR102047016B1 (ko) 2012-02-28 2019-11-20 코닝 인코포레이티드 저-마찰 코팅을 갖는 유리 제품
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
JP2015205779A (ja) * 2012-02-29 2015-11-19 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法
US11179295B2 (en) 2012-02-29 2021-11-23 Corning Incorporated Glass packaging ensuring container integrity
US9359251B2 (en) 2012-02-29 2016-06-07 Corning Incorporated Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles
US9701580B2 (en) * 2012-02-29 2017-07-11 Corning Incorporated Aluminosilicate glasses for ion exchange
JP5764084B2 (ja) * 2012-03-15 2015-08-12 日本板硝子株式会社 ガラス組成物、化学強化用ガラス組成物、強化ガラス物品、ディスプレイ用のカバーガラスおよび強化ガラス物品の製造方法
CN102643021A (zh) * 2012-05-09 2012-08-22 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种用于生产铝硅酸盐玻璃的复合性能增强剂
CN107738482A (zh) * 2012-05-11 2018-02-27 旭硝子株式会社 用于层叠体的前面玻璃板和层叠体
KR101468669B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-04 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101474399B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-22 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101474398B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-18 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
JP2013249216A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Asahi Glass Co Ltd タッチセンサ付化学強化ガラス及びディスプレイ装置
WO2013176150A1 (ja) * 2012-05-25 2013-11-28 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板、カバーガラス、タッチセンサ付化学強化ガラスおよびディスプレイ装置
JP2014001124A (ja) * 2012-05-25 2014-01-09 Asahi Glass Co Ltd 化学強化ガラス板、カバーガラスおよびディスプレイ装置
CN107056088A (zh) * 2012-05-25 2017-08-18 旭硝子株式会社 化学强化玻璃板、保护玻璃、带触控传感器的化学强化玻璃及显示装置
JPWO2013179882A1 (ja) * 2012-05-28 2016-01-18 旭硝子株式会社 輸送機械用フラットパネルディスプレイ装置のカバーガラス、及び輸送機械用フラットパネルディスプレイ装置
DE202013012920U1 (de) 2012-05-31 2022-01-24 Corning Incorporated Zirkon-kompatibles, ionenaustauschbares Glas mit hoher Schadensresistenz
JP6173444B2 (ja) * 2012-05-31 2017-08-02 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能な遷移金属含有ガラス
US9938180B2 (en) 2012-06-05 2018-04-10 Corning Incorporated Methods of cutting glass using a laser
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
WO2013183716A1 (ja) * 2012-06-08 2013-12-12 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス板並びに強化用ガラス
JP6168288B2 (ja) * 2012-06-13 2017-07-26 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス板
KR101468668B1 (ko) * 2012-06-21 2014-12-04 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101512146B1 (ko) * 2012-06-21 2015-04-15 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101465170B1 (ko) * 2012-06-21 2014-11-25 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101641980B1 (ko) * 2012-06-25 2016-07-22 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 강화 유리 기판 및 그 제조 방법
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
JP6032468B2 (ja) * 2012-07-09 2016-11-30 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法
US9139469B2 (en) 2012-07-17 2015-09-22 Corning Incorporated Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming
JP2014037343A (ja) * 2012-07-18 2014-02-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 医薬品容器用ガラス及びこれを用いたガラス管
JP2014024717A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Asahi Glass Co Ltd Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ太陽電池用ガラス板およびそれを用いた太陽電池とその製造方法
CN103574478A (zh) * 2012-08-03 2014-02-12 常州亚玛顿股份有限公司 太阳能照明系统
JP5925642B2 (ja) 2012-08-31 2016-05-25 日本航空電子工業株式会社 無機固体材料および刃物工具
IN2015DN03050A (zh) * 2012-10-04 2015-10-02 Corning Inc
DE102012019985B4 (de) 2012-10-11 2020-11-05 Zwiesel Kristallglas Ag Verfahren zum Härten von Kristallglas
CN102910817A (zh) * 2012-10-24 2013-02-06 江苏博杰特机电有限公司 一种强化玻璃
CN102976610A (zh) * 2012-11-30 2013-03-20 东旭集团有限公司 一种触屏盖板用玻璃配方
US10117806B2 (en) 2012-11-30 2018-11-06 Corning Incorporated Strengthened glass containers resistant to delamination and damage
CN102976611A (zh) * 2012-11-30 2013-03-20 东旭集团有限公司 一种轻质触摸屏用盖板玻璃的配方
JP5510693B1 (ja) * 2012-12-07 2014-06-04 日本電気硝子株式会社 屈曲部を有する強化ガラス板の製造方法及び屈曲部を有する強化ガラス板
JP2015061808A (ja) * 2012-12-21 2015-04-02 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化ガラス板、強化ガラス容器及び強化用ガラス
WO2014115789A1 (ja) * 2013-01-23 2014-07-31 コニカミノルタ株式会社 化学強化用ガラス材、化学強化ガラスおよびカバーガラス
TW201442973A (zh) * 2013-01-24 2014-11-16 Asahi Glass Co Ltd 太陽電池用蓋玻璃及太陽電池模組
US9714192B2 (en) * 2013-02-08 2017-07-25 Corning Incorporated Ion exchangeable glass with advantaged stress profile
JP6195941B2 (ja) * 2013-03-15 2017-09-13 ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 可撓性の超薄板化学強化ガラス
JP2014208570A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
WO2014157008A1 (ja) * 2013-03-29 2014-10-02 旭硝子株式会社 化学強化用ガラスおよびその製造方法、並びに化学強化ガラスの製造方法
CN105073676A (zh) * 2013-04-03 2015-11-18 旭硝子株式会社 建筑窗用多层玻璃
US9700486B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9713572B2 (en) 2013-04-24 2017-07-25 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717648B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9839579B2 (en) 2013-04-24 2017-12-12 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707154B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717649B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707155B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707153B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700485B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9603775B2 (en) 2013-04-24 2017-03-28 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9849066B2 (en) 2013-04-24 2017-12-26 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
JP5704767B2 (ja) * 2013-04-26 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及びその製造方法
US9701567B2 (en) 2013-04-29 2017-07-11 Corning Incorporated Photovoltaic module package
US9359261B2 (en) 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9684097B2 (en) 2013-05-07 2017-06-20 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
JP2014240346A (ja) * 2013-05-15 2014-12-25 日本電気硝子株式会社 強化用ガラス板及び強化ガラス板
JPWO2014200097A1 (ja) * 2013-06-14 2017-02-23 旭硝子株式会社 化学強化処理によるガラス基板の反りを低減する方法、化学強化ガラス及びその製造方法
JP6394110B2 (ja) * 2013-07-08 2018-09-26 日本電気硝子株式会社 強化ガラスの製造方法
US11079309B2 (en) 2013-07-26 2021-08-03 Corning Incorporated Strengthened glass articles having improved survivability
US10941071B2 (en) * 2013-08-02 2021-03-09 Corning Incorporated Hybrid soda-lime silicate and aluminosilicate glass articles
CN104418504A (zh) * 2013-08-27 2015-03-18 科立视材料科技有限公司 化学强化碱铝硅酸盐玻璃用玻璃组合物及其制造方法
KR102634877B1 (ko) 2013-08-30 2024-02-08 코닝 인코포레이티드 이온 교환 가능한 유리, 유리-세라믹 및 이의 제조방법
US10160688B2 (en) 2013-09-13 2018-12-25 Corning Incorporated Fracture-resistant layered-substrates and articles including the same
CN112919828A (zh) 2013-10-14 2021-06-08 康宁股份有限公司 离子交换方法以及通过该离子交换方法得到的经过化学强化的玻璃基材
CN104276758A (zh) * 2013-10-31 2015-01-14 东旭集团有限公司 一种可提高化学钢化性能的触摸屏盖板玻璃
TWI656022B (zh) 2013-11-13 2019-04-11 美商康寧公司 疊層玻璃物件及其製造方法
JP5668828B1 (ja) * 2013-11-22 2015-02-12 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板
DE102013114225B4 (de) 2013-12-17 2017-03-16 Schott Ag Chemisch vorspannbares Glas und daraus hergestelltes Glaselement
US9321677B2 (en) 2014-01-29 2016-04-26 Corning Incorporated Bendable glass stack assemblies, articles and methods of making the same
US9517968B2 (en) 2014-02-24 2016-12-13 Corning Incorporated Strengthened glass with deep depth of compression
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US9670088B2 (en) 2014-05-20 2017-06-06 Corning Incorporated Scratch resistant glass and method of making
CN104020903A (zh) * 2014-05-22 2014-09-03 格林精密部件（惠州）有限公司 一种新型集成式电容触控屏
JP6347160B2 (ja) * 2014-06-17 2018-06-27 日本電気硝子株式会社 ガラス物品及びその製造方法
TWI729925B (zh) 2014-06-19 2021-06-01 美商康寧公司 無易碎應力分布曲線的玻璃
WO2015199150A1 (ja) * 2014-06-27 2015-12-30 旭硝子株式会社 ガラス、および、それを用いた化学強化ガラス
JP6583271B2 (ja) * 2014-07-04 2019-10-02 Ａｇｃ株式会社 化学強化用ガラスおよび化学強化ガラス
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
BR112017004460A2 (pt) 2014-09-05 2017-12-05 Corning Inc ?artigos de vidro e métodos para melhorar a confiabilidade de artigos de vidro?
DE102014013550A1 (de) * 2014-09-12 2016-03-31 Schott Ag Beschichtetes chemisch vorgespanntes flexibles dünnes Glas
EP3197841B1 (en) 2014-09-25 2021-12-08 Corning Incorporated Uv blocking for improved transmission glasses
US10457593B2 (en) 2014-10-03 2019-10-29 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass plate with film, touch sensor, film and method for producing glass plate with film
KR20190090090A (ko) 2014-10-08 2019-07-31 코닝 인코포레이티드 금속 산화물 농도 구배를 포함한 유리 및 유리 세라믹
JPWO2016060202A1 (ja) * 2014-10-17 2017-08-31 旭硝子株式会社 カバー部材
US10150698B2 (en) 2014-10-31 2018-12-11 Corning Incorporated Strengthened glass with ultra deep depth of compression
TWI768788B (zh) 2014-11-04 2022-06-21 美商康寧公司 深不易碎的應力分佈及其製造方法
CN107001102A (zh) 2014-11-26 2017-08-01 康宁股份有限公司 用于生产强化且耐用玻璃容器的方法
JP6497576B2 (ja) * 2014-12-17 2019-04-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
GB201505091D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
WO2016154901A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Kornerstone Materials Technology Company, Ltd. Glass composition for chemically strengthened alkali-aluminoborosilicate glass with low dielectric constant
JP6675592B2 (ja) * 2015-04-23 2020-04-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス
KR102295451B1 (ko) * 2015-06-30 2021-08-27 아반스트레이트 가부시키가이샤 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
US10579106B2 (en) 2015-07-21 2020-03-03 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
US11613103B2 (en) 2015-07-21 2023-03-28 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
EP3770649A1 (en) 2015-09-14 2021-01-27 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
CN108349795B (zh) * 2015-10-16 2020-12-29 Ａｇｃ株式会社 玻璃树脂层叠体
JP6949014B2 (ja) 2015-10-22 2021-10-13 コーニング インコーポレイテッド 高透過率ガラス
BR112018008744B1 (pt) 2015-10-30 2022-09-06 Corning Incorporated Artigos de vidro com revestimento de óxido metálico e polímero misto
EP3909927A1 (en) 2015-12-11 2021-11-17 Corning Incorporated Fusion-formable glass-based articles including a metal oxide concentration gradient
US10043903B2 (en) 2015-12-21 2018-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor devices with source/drain stress liner
JP6606451B2 (ja) * 2016-03-28 2019-11-13 フクビ化学工業株式会社 高反射防止強化ガラスの製造方法
CN106170027A (zh) * 2016-03-29 2016-11-30 安徽物宝光电材料有限公司 一种手机电容式触摸屏盖板玻璃的制造方法
CN105955521A (zh) * 2016-03-29 2016-09-21 安徽物宝光电材料有限公司 一种平板电脑盖板玻璃的制造方法
TWI750807B (zh) 2016-04-08 2021-12-21 美商康寧公司 包含金屬氧化物濃度梯度之玻璃基底物件
KR20180132077A (ko) 2016-04-08 2018-12-11 코닝 인코포레이티드 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법
CN105923995A (zh) * 2016-04-26 2016-09-07 东莞市银通玻璃有限公司 一种超薄韧性玻璃及其制备方法
US20170320769A1 (en) * 2016-05-06 2017-11-09 Corning Incorporated Glass compositions that retain high compressive stress after post-ion exchange heat treatment
DE102016113826A1 (de) 2016-07-27 2018-02-01 Schott Ag Verfahren zum chemischen Vorspannen eines zylindrischen Glas-Halbzeugs oder Glas- Behälters sowie Glasbehälter oder zylindrisches Glas-Halbzeug und Verwendung hiervon
DE102016113825A1 (de) 2016-07-27 2018-02-01 Schott Ag Verfahren zum chemischen Vorspannen eines zylindrischen Glas-Halbzeugs oder Glas-Behälters durch ein feldunterstütztes Ionenaustauschverfahren sowie Glasbehälter oder zylindrisches Glas-Halbzeug und Verwendung hiervon
US11111173B2 (en) 2016-11-07 2021-09-07 Corning Incorporated Lithium containing glasses
JP2019532906A (ja) 2016-11-07 2019-11-14 コーニング インコーポレイテッド 低粘度ガラス並びに製造方法及びシステム
JP6991230B2 (ja) * 2017-06-02 2022-01-12 ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッド 接触耐性の高いフレキシブル超薄ガラス
KR102512670B1 (ko) * 2017-06-02 2023-03-21 쇼오트 글라스 테크놀로지스 (쑤저우) 코퍼레이션 리미티드. 높은 접촉 저항을 갖는 가요성 초박형 유리
KR102624813B1 (ko) * 2017-07-24 2024-01-15 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 화학 강화 유리 및 화학 강화 유리의 제조 방법
CN107555782A (zh) * 2017-08-07 2018-01-09 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 一种高透过板玻璃
WO2019031189A1 (ja) * 2017-08-08 2019-02-14 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板及び強化ガラス球
KR102580074B1 (ko) * 2017-09-04 2023-09-18 쇼오트 글라스 테크놀로지스 (쑤저우) 코퍼레이션 리미티드. 개선된 굽힘성 및 화학적 강인성을 지닌 박형 유리
CN107935378B (zh) * 2017-10-24 2020-10-20 彩虹集团（邵阳）特种玻璃有限公司 一种用于显示器件的高强度玻璃及其制备方法
CN111433163B (zh) * 2017-11-15 2022-06-17 富士胶片株式会社 触摸传感器及触摸面板
MX2020006064A (es) 2017-12-19 2020-08-24 Ocv Intellectual Capital Llc Composicion de fibra de vidrio de alto rendimiento.
CN112313182B (zh) 2018-06-21 2023-04-04 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 没有光学橙皮的化学钢化的玻璃制品及其生产方法
DE102019117498B4 (de) 2018-07-06 2024-03-28 Schott Ag Gläser mit verbesserter Ionenaustauschbarkeit
DE102018116483A1 (de) 2018-07-06 2020-01-09 Schott Ag Chemisch vorspannbare Gläser mit hoher chemischer Resistenz und Rißbeständigkeit
DE102018116464A1 (de) 2018-07-06 2020-01-09 Schott Ag Chemisch vorspannbare, korrosionsstabile Gläser
CN108585480B (zh) * 2018-07-10 2021-05-04 科立视材料科技有限公司 一种二步法化学强化碱铝硅酸玻璃组合物及其制备方法
CN108585481A (zh) * 2018-07-13 2018-09-28 科立视材料科技有限公司 一种可快速进行离子交换的含锂铝硅酸盐玻璃
JP6593724B2 (ja) * 2018-08-16 2019-10-23 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
WO2020037042A1 (en) 2018-08-17 2020-02-20 Corning Incorporated Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures
WO2020041032A1 (en) * 2018-08-24 2020-02-27 Corning Incorporated Article comprising puncture resistant laminate with ultra-thin glass layer
JP6593726B2 (ja) * 2018-09-06 2019-10-23 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
KR20210073545A (ko) * 2018-10-09 2021-06-18 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 강화 유리 및 강화 유리의 제조 방법
CN109293254A (zh) * 2018-11-06 2019-02-01 盐城易快来科技有限公司 一种硬度增强型手机显示屏
RU2726812C1 (ru) * 2019-09-25 2020-07-15 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации Стекло, упрочняемое ионным обменом
KR102244554B1 (ko) 2020-02-07 2021-04-26 부산대학교 산학협력단 자가치유 특성을 갖는 유리의 제조 방법
CN111662008B (zh) * 2020-06-30 2022-04-15 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物及其制造方法
WO2023064070A1 (en) * 2021-10-14 2023-04-20 Corning Incorporated Low-modulus ion-exchangeable glasses with enhanced thermal properties for manufacturing
CN114137652B (zh) * 2021-12-07 2023-11-28 华玻视讯(珠海)科技有限公司 一种玻璃导光板
CN115159864A (zh) * 2022-07-05 2022-10-11 四川虹科创新科技有限公司 一种能够延长熔盐寿命的强碰撞玻璃及其制备方法
CN116002974A (zh) * 2023-01-19 2023-04-25 清远南玻节能新材料有限公司 一种可化学强化的硅酸盐玻璃及其制备方法、强化玻璃和应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4053679A (en) * 1975-08-15 1977-10-11 Ppg Industries, Inc. Chemically strengthened opal glass
JP2002174810A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Hoya Corp ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
JP2004131314A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Asahi Glass Co Ltd 透明導電膜付き化学強化ガラス基板、およびその製造方法

Family Cites Families (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3778335A (en) * 1971-09-02 1973-12-11 Corning Glass Works Sodium aluminosilicate glass article strengthened by a surface compressive stress layer
US4015045A (en) * 1974-01-09 1977-03-29 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4119760A (en) * 1975-08-15 1978-10-10 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4055703A (en) * 1975-08-15 1977-10-25 Ppg Industries, Inc. Ion exchange strengthened glass containing P2 O5
US4212919A (en) * 1979-06-28 1980-07-15 Corning Glass Works Strengthened polychromatic glasses
JPS57129839A (en) * 1981-02-02 1982-08-12 Seiko Epson Corp Cover glass for watch
DE3212612C2 (de) 1982-04-05 1985-12-19 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Chemisch härtbares Uhrglas mit hoher Knoop-Härte im System SiO↓2↓-Al↓2↓O↓3↓-MgO-Na↓2↓O-K↓2↓O(-B↓2↓O↓3↓-CaO-La↓2↓O↓3↓)
JPS61201639A (ja) * 1985-03-05 1986-09-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板レンズ
GB2171990B (en) * 1985-03-08 1988-12-07 Central Glass Co Ltd Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article
JPS62270439A (ja) 1986-05-17 1987-11-24 Ishizuka Glass Ltd 化学強化用ガラス
JPS63230536A (ja) * 1987-03-18 1988-09-27 Nippon Sheet Glass Co Ltd タリウム含有光学ガラス
JPH01201043A (ja) 1988-02-05 1989-08-14 Eta G K:Kk 高強度ガラス
JPH01239036A (ja) * 1988-03-16 1989-09-25 F G K:Kk 高強度ガラス
JPH03237036A (ja) 1989-08-24 1991-10-22 Nippon Electric Glass Co Ltd アルミナパッケージ用薄板状硼けい酸ガラス
JP2548423B2 (ja) * 1990-04-04 1996-10-30 日本板硝子株式会社 ガラス製パネル
JP3237036B2 (ja) 1993-06-17 2001-12-10 三菱マテリアル株式会社 変色防止効果の優れた紫外線遮断用顔料
JPH07101748A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス製パネル用基板
FR2727399B1 (fr) 1994-10-13 1997-01-31 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications
KR100402511B1 (ko) 1994-10-13 2004-03-20 쌩-고벵 글래스 프랑스 강화된유리기판및이를포함하는경질자기디스크
GB2299991B (en) * 1995-04-20 1998-09-09 Ag Technology Corp Glass substrate for magnetic disk
JP2006179180A (ja) 1995-04-27 2006-07-06 Asahi Glass Co Ltd 磁気ディスク
US5674790A (en) * 1995-12-15 1997-10-07 Corning Incorporated Strengthening glass by ion exchange
US5698812A (en) * 1996-02-23 1997-12-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Thermite destructive device
JP3271691B2 (ja) 1996-02-29 2002-04-02 セイコーインスツルメンツ株式会社 表示装置の製造方法
DE19616679C1 (de) 1996-04-26 1997-05-07 Schott Glaswerke Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben
DE19616633C1 (de) * 1996-04-26 1997-05-07 Schott Glaswerke Chemisch vorspannbare Aluminosilicatgläser und deren Verwendung
JP3187321B2 (ja) * 1996-06-14 2001-07-11 日本板硝子株式会社 化学強化用ガラス組成物および化学強化ガラス物品
US5972460A (en) * 1996-12-26 1999-10-26 Hoya Corporation Information recording medium
JP3412804B2 (ja) 1996-12-26 2003-06-03 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板
JP3254157B2 (ja) 1996-12-29 2002-02-04 ホーヤ株式会社 記録媒体用ガラス基板、及び該基板を用いた記録媒体
MY119917A (en) * 1997-03-13 2005-08-30 Saint Gobain Vitrage Silica-soda-lime glass compositions and their applications
DE69818541T2 (de) * 1997-04-30 2004-08-05 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung von dünnem Glas auf einer Rolle
JP3384286B2 (ja) * 1997-06-20 2003-03-10 日本板硝子株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板
JPH11191212A (ja) 1997-12-25 1999-07-13 Toshitomo Morisane 高強度スムーズガラス基板
DE19802919C1 (de) * 1998-01-27 1999-10-07 Schott Glas Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
GB2335423A (en) * 1998-03-20 1999-09-22 Pilkington Plc Chemically toughenable glass
US6376403B1 (en) * 1998-04-17 2002-04-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition and process for producing the same
JP4086211B2 (ja) * 1998-04-17 2008-05-14 Ｈｏｙａ株式会社 ガラス組成物およびその製造方法
FR2780101B1 (fr) * 1998-06-18 2000-07-28 Hispano Suiza Sa Inverseur de poussee de turboreacteur a portes formant ecopes a section d'echappement adaptable
US6383404B1 (en) 1998-08-19 2002-05-07 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same
JP3616610B2 (ja) 1998-08-19 2005-02-02 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体及びそれらの製造方法
DE19838198C2 (de) * 1998-08-24 2002-06-27 Schott Glas Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen
JP2000159538A (ja) 1998-11-27 2000-06-13 Asahi Glass Co Ltd 太陽電池用ガラス
JP2000268348A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
JP2006228431A (ja) * 1999-05-13 2006-08-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク
JP2001076336A (ja) * 1999-09-08 2001-03-23 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板およびそれを用いた情報記録媒体
JP2001294442A (ja) * 2000-02-10 2001-10-23 Sony Corp 陰極線管用ガラスパネルおよびこれを用いた陰極線管ならびに陰極線管の製造方法
JP2001348245A (ja) 2000-06-02 2001-12-18 Hoya Corp 強化ガラス、その製造方法およびディスプレイ用ガラス
SG99350A1 (en) 2000-02-17 2003-10-27 Hoya Corp Glass for cathode-ray tube, strengthened glass, method for the production thereof and use thereof
DE10017701C2 (de) * 2000-04-08 2002-03-07 Schott Glas Gefloatetes Flachglas
JP2002060242A (ja) * 2000-08-17 2002-02-26 Sony Corp 陰極線管用ファンネルおよびこれを用いた陰極線管
JP3575601B2 (ja) * 2000-09-26 2004-10-13 旭テクノグラス株式会社 電子光学部品用ガラスの製造方法
JP2002167230A (ja) * 2000-11-28 2002-06-11 Nippon Electric Glass Co Ltd プレス成形用ガラス及び情報記録媒体用基板ガラス
JP3702360B2 (ja) * 2001-01-04 2005-10-05 日本板硝子株式会社 化学強化用のガラス素板の製造方法
JP2002308643A (ja) * 2001-02-01 2002-10-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板
JP2002234754A (ja) * 2001-02-02 2002-08-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd 強化された機能性膜被覆ガラス物品の製造方法
EP1245545B1 (en) 2001-03-30 2011-08-10 Asahi Glass Company Ltd. Glass plate and method for tempering a glass plate
JP2002334658A (ja) 2001-05-08 2002-11-22 Sony Corp 陰極線管及び陰極線管の分割処理方法並びに陰極線管の加工方法
JP2003012343A (ja) * 2001-06-28 2003-01-15 Nippon Electric Glass Co Ltd セラミック材料及びそれを用いた光学デバイス
JP4185266B2 (ja) * 2001-07-25 2008-11-26 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板の製造方法
DE10141666A1 (de) * 2001-08-25 2003-03-13 Schott Glas Zinkhaltiges Alkalialuminosilicatglas und seine Verwendungen
JP2003187424A (ja) * 2001-12-17 2003-07-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板
FR2839508B1 (fr) * 2002-05-07 2005-03-04 Saint Gobain Vitrage decoupe sans rompage
US7309671B2 (en) * 2002-05-24 2007-12-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition, glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method for producing the same
JP4446683B2 (ja) 2002-05-24 2010-04-07 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板
JP4252956B2 (ja) * 2002-10-29 2009-04-08 Ｈｏｙａ株式会社 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法
JP2004259402A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法
JP4865351B2 (ja) * 2003-03-24 2012-02-01 株式会社Ｎｓｃ 液晶ディスプレイ
JP3577492B1 (ja) 2003-03-24 2004-10-13 西山ステンレスケミカル株式会社 ガラスの切断分離方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ
KR100792771B1 (ko) 2003-05-28 2008-01-11 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 화학강화글래스 및 그 제조방법
JP4535692B2 (ja) * 2003-05-28 2010-09-01 セントラル硝子株式会社 化学強化ガラス
JP4656863B2 (ja) 2003-06-06 2011-03-23 Ｈｏｙａ株式会社 ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法
US7273668B2 (en) * 2003-06-06 2007-09-25 Hoya Corporation Glass composition including zirconium, chemically strengthened glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method of producing glass sheet
US7727917B2 (en) * 2003-10-24 2010-06-01 Schott Ag Lithia-alumina-silica containing glass compositions and glasses suitable for chemical tempering and articles made using the chemically tempered glass
JP2005162600A (ja) 2003-11-11 2005-06-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 半導体パッケージ用カバーガラス
JP2005162519A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Nishiyama Stainless Chem Kk フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の切断分離面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ
JP4213077B2 (ja) * 2004-04-28 2009-01-21 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法並びに情報記録媒体およびその製造方法
DE102004022629B9 (de) * 2004-05-07 2008-09-04 Schott Ag Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung
JP2006062929A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラス物品及びその製造方法
JP2006083045A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Hitachi Ltd ガラス部材
JP5201519B2 (ja) 2004-10-01 2013-06-05 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板
JP4716245B2 (ja) 2004-11-11 2011-07-06 日本電気硝子株式会社 ガラス基板及びその製造方法
JP4613635B2 (ja) 2005-02-21 2011-01-19 日本電気硝子株式会社 ガラス及びその製造方法
JP4953156B2 (ja) * 2005-06-29 2012-06-13 日本電気硝子株式会社 光学ガラス
JP2007031211A (ja) 2005-07-27 2007-02-08 Ishizuka Glass Co Ltd カバーシート用ガラス
CN102249541B (zh) 2005-08-15 2013-03-27 安瀚视特股份有限公司 玻璃组成物
US8304078B2 (en) * 2005-09-12 2012-11-06 Saxon Glass Technologies, Inc. Chemically strengthened lithium aluminosilicate glass having high strength effective to resist fracture upon flexing
JP2007099557A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス物品およびその製造方法
JP2007164901A (ja) 2005-12-14 2007-06-28 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
CN101374776A (zh) 2006-01-30 2009-02-25 松下电器产业株式会社 灯用玻璃组合物的制造方法、灯用玻璃组合物以及灯
JP2007311168A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Nippon Electric Glass Co Ltd 電界放出表示装置用ガラス基板およびその製造方法
CN101454252A (zh) * 2006-05-25 2009-06-10 日本电气硝子株式会社 强化玻璃及其制造方法
JP5605736B2 (ja) * 2006-05-25 2014-10-15 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及びその製造方法
CN102718401B (zh) 2006-10-10 2015-04-01 日本电气硝子株式会社 钢化玻璃基板
JP5875133B2 (ja) * 2006-10-10 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板
JP2008247732A (ja) * 2007-03-02 2008-10-16 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化板ガラスとその製造方法
US7666511B2 (en) * 2007-05-18 2010-02-23 Corning Incorporated Down-drawable, chemically strengthened glass for cover plate
US8349454B2 (en) * 2007-06-07 2013-01-08 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Strengthened glass substrate and process for producing the same
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
CN101910079A (zh) 2007-11-29 2010-12-08 康宁股份有限公司 具有改进的韧性和抗刮性的玻璃
US20090197048A1 (en) 2008-02-05 2009-08-06 Jaymin Amin Damage resistant glass article for use as a cover plate in electronic devices
KR20100120683A (ko) 2008-02-08 2010-11-16 코닝 인코포레이티드 내손상성, 화학적으로-강화된 보호 커버 유리
DE202009018700U1 (de) 2008-02-26 2012-11-20 Corning Incorporated Läutermittel für Silikatgläser
US8232218B2 (en) * 2008-02-29 2012-07-31 Corning Incorporated Ion exchanged, fast cooled glasses
US20120196110A1 (en) * 2011-01-19 2012-08-02 Takashi Murata Tempered glass and tempered glass sheet

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4053679A (en) * 1975-08-15 1977-10-11 Ppg Industries, Inc. Chemically strengthened opal glass
JP2002174810A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Hoya Corp ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
JP2004131314A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Asahi Glass Co Ltd 透明導電膜付き化学強化ガラス基板、およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2474511A1 (en) 2012-07-11
TW201242921A (en) 2012-11-01
CN102320741A (zh) 2012-01-18
KR101391677B1 (ko) 2014-05-07
TW200911759A (en) 2009-03-16
US20120141801A1 (en) 2012-06-07
JP4811799B2 (ja) 2011-11-09
KR101493762B1 (ko) 2015-02-16
TW201141837A (en) 2011-12-01
KR101236374B1 (ko) 2013-02-22
EP2177485B1 (en) 2016-07-06
KR20110095427A (ko) 2011-08-24
US9299869B2 (en) 2016-03-29
KR101330104B1 (ko) 2013-11-18
JP5467490B2 (ja) 2014-04-09
TW201202204A (en) 2012-01-16
JP2013018703A (ja) 2013-01-31
KR20130141732A (ko) 2013-12-26
CN102320740A (zh) 2012-01-18
TWI547462B (zh) 2016-09-01
US9034469B2 (en) 2015-05-19
JP2011195449A (ja) 2011-10-06
TW201420534A (zh) 2014-06-01
JP5392391B2 (ja) 2014-01-22
KR20130066713A (ko) 2013-06-20
US20110318571A1 (en) 2011-12-29
TWI360544B (en) 2012-03-21
JP2011178662A (ja) 2011-09-15
KR20120120449A (ko) 2012-11-01
JP2014139129A (ja) 2014-07-31
US8679631B2 (en) 2014-03-25
CN101772470B (zh) 2012-07-25
KR101156983B1 (ko) 2012-06-20
JP2011241141A (ja) 2011-12-01
TWI360543B (en) 2012-03-21
JP5594444B2 (ja) 2014-09-24
CN102718402A (zh) 2012-10-10
JP2011256104A (ja) 2011-12-22
KR101518982B1 (ko) 2015-05-11
US8168295B2 (en) 2012-05-01
TWI386397B (zh) 2013-02-21
JP2014080365A (ja) 2014-05-08
EP2474508B1 (en) 2015-07-01
EP2474508A1 (en) 2012-07-11
KR20110119842A (ko) 2011-11-02
US20120141760A1 (en) 2012-06-07
EP2177485A4 (en) 2012-07-11
JP4784714B1 (ja) 2011-10-05
JP2015044743A (ja) 2015-03-12
JP2011195443A (ja) 2011-10-06
JP2011195445A (ja) 2011-10-06
TW201141838A (en) 2011-12-01
TWI386398B (zh) 2013-02-21
JP2011190174A (ja) 2011-09-29
JP5120792B1 (ja) 2013-01-16
KR20110119843A (ko) 2011-11-02
CN102424524B (zh) 2014-10-01
KR101145748B1 (ko) 2012-05-16
US20090197088A1 (en) 2009-08-06
JP2014097928A (ja) 2014-05-29
JP2013177298A (ja) 2013-09-09
TWI401227B (zh) 2013-07-11
JP4888845B2 (ja) 2012-02-29
JP2014040365A (ja) 2014-03-06
JP5867574B2 (ja) 2016-02-24
EP2474509A1 (en) 2012-07-11
TW201420533A (zh) 2014-06-01
EP2474511B1 (en) 2015-06-17
EP2474510B1 (en) 2016-07-06
WO2009019965A1 (ja) 2009-02-12
TWI440630B (zh) 2014-06-11
JP4974066B2 (ja) 2012-07-11
JP4793768B2 (ja) 2011-10-12
KR20110094229A (ko) 2011-08-22
KR20130141731A (ko) 2013-12-26
CN101772470A (zh) 2010-07-07
JP2012236760A (ja) 2012-12-06
US20110318572A1 (en) 2011-12-29
JP4947502B2 (ja) 2012-06-06
CN102701587A (zh) 2012-10-03
CN102701587B (zh) 2015-11-18
JP4840736B2 (ja) 2011-12-21
TW201202205A (en) 2012-01-16
US9054250B2 (en) 2015-06-09
EP2177485A1 (en) 2010-04-21
JP2009057271A (ja) 2009-03-19
KR101145749B1 (ko) 2012-05-16
JP5418995B1 (ja) 2014-02-19
EP2474510A1 (en) 2012-07-11
TWI457327B (zh) 2014-10-21
KR101113108B1 (ko) 2012-03-13
CN102424524A (zh) 2012-04-25
TWI599550B (zh) 2017-09-21
JP2011241143A (ja) 2011-12-01
EP2474509B1 (en) 2016-06-29
TW201242954A (en) 2012-11-01
KR20100057594A (ko) 2010-05-31
JP5602270B2 (ja) 2014-10-08
US20120251827A1 (en) 2012-10-04
JP2011207759A (ja) 2011-10-20
JP2013032277A (ja) 2013-02-14
CN102515517A (zh) 2012-06-27
JP4817133B1 (ja) 2011-11-16
JP2013234121A (ja) 2013-11-21
JP5679527B2 (ja) 2015-03-04
JP5088717B1 (ja) 2012-12-05
JP5601605B2 (ja) 2014-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102320741B (zh) 强化玻璃基板及其制造方法
CN101679105B (zh) 强化玻璃基板及其制造方法
CN103476728B (zh) 强化玻璃基板及其制造方法
CN104302591A (zh) 强化玻璃基板及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant