JP4974066B2 - 強化ガラス基板及びその製造方法 - Google Patents

強化ガラス基板及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4974066B2
JP4974066B2 JP2011181264A JP2011181264A JP4974066B2 JP 4974066 B2 JP4974066 B2 JP 4974066B2 JP 2011181264 A JP2011181264 A JP 2011181264A JP 2011181264 A JP2011181264 A JP 2011181264A JP 4974066 B2 JP4974066 B2 JP 4974066B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
glass substrate
less
tempered glass
content
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011181264A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011241143A (ja
Inventor
隆 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2011181264A priority Critical patent/JP4974066B2/ja
Publication of JP2011241143A publication Critical patent/JP2011241143A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4974066B2 publication Critical patent/JP4974066B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0416—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y10T428/315—Surface modified glass [e.g., tempered, strengthened, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、強化ガラス基板に関するものであり、特に、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ（携帯端末）、太陽電池のカバーガラス、あるいはタッチパネルディスプレイ基板に好適な強化ガラス基板に関するものである。
携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、太陽電池、あるいはタッチパネルディスプレイといったデバイスは、広く使用されており、ますます普及する傾向にある。
従来、これらの用途ではディスプレイを保護するための保護部材としてアクリル等の樹脂基板が用いられていた。しかしアクリル樹脂基板はヤング率が低いため、ペンや人の指などでディスプレイの表示面が押された場合にたわみやすく、樹脂基板が内部のディスプレイに接触して表示不良が発生することがあった。またアクリル樹脂基板は表面に傷がつきやすく、視認性が悪化しやすいという問題もあった。これらの問題を解決するひとつの方法は保護部材としてガラス基板を用いることである。保護部材として使用されるガラス基板（カバーガラス）には、（１）高い機械的強度を有すること、（２）低密度で軽量であること、（３）安価で多量に供給できること、（４）泡品位に優れること、（５）可視域において高い光透過率を有すること、（６）ペンや指等で表面を押した際にたわみにくいように高いヤング率を有すること、が要求される。特に（１）の要件を満たさない場合は、保護部材としての用を足さなくなるため、従来よりイオン交換等で強化したガラス基板（所謂、強化ガラス基板）が用いられている（特許文献１、非特許文献１参照）。
特開２００６−８３０４５号公報
泉谷徹朗等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、１９８４年８月２０日、ｐ．４５１−４９８
非特許文献１には、ガラス組成中のＡｌ２Ｏ３含有量を増加させていくと、ガラスのイオン交換性能が向上し、ガラス基板の機械的強度を向上できることが記載されている。
しかし、ガラス組成中のＡｌ２Ｏ３含有量を増加させていくと、ガラスの耐失透性が悪化し、成形中にガラスが失透しやすくなり、ガラス基板の製造効率、品位等が悪化する。またガラスの耐失透性が悪いと、ロール成形等の方法でしか成形できず、表面精度の高いガラス板を得ることができない。それ故、ガラス板の成形後、別途研磨工程を付加しなければならない。しかしながらガラス基板を研磨すると、ガラス基板の表面に微小な欠陥が発生しやすくなり、ガラス基板の機械的強度を維持し難くなる。
このような事情から、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立することが困難であり、ガラス基板の機械的強度を顕著に向上させることが困難となっていた。また、デバイスの軽量化を図るため、タッチパネルディスプレイ等のデバイスに用いられるガラス基板は、年々薄肉化されてきている。薄板のガラス基板は破損しやすいことから、ガラス基板の機械的強度を向上させる技術は益々重要となってきている。
そこで、本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板を得ることを技術的課題とする。
本発明者は、種々の検討を行った結果、ガラス中のＡｌ２Ｏ３含有量やＮａ２Ｏ含有量を適正な範囲に定めることで、高いイオン交換性能と、溶融性を確保できることを見いだした。さらには、Ｃｌを含有させることで、泡品位が向上することを見出し、本発明を提案するに至った。
即ち、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、歪点が５００℃以上であることを特徴とする。なお、特に断りのない限り、以下の説明において「％」は質量％を意味する。
また本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３ １２〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、歪点が５００℃以上であることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、イオン交換により強化されてなることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、内部の引っ張り応力が２００ＭＰａ以下であることが好ましい。ここで、「内部の引っ張り応力」は次式によって計算される。
ガラス基板内部の引っ張り応力＝（圧縮応力値×応力深さ）／（板厚−応力深さ×２）
また本発明の強化ガラス基板は、表面の圧縮応力が３００ＭＰａ以上、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることが好ましい。ここで、「表面の圧縮応力」および「圧縮応力層の厚み」は、表面応力計（株式会社東芝製ＦＳＭ−６０００）を用いて試料を観察した際に、観察される干渉縞の本数とその間隔から算出される。またガラス基板内部の引っ張り応力は次式によって計算される。
なお、本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することが好ましい。ここで「未研磨の表面」とはガラス基板の両面（いわゆる表面と裏面）が研磨されていないことを意味する。言い換えれば両面が火造り面であるということを意味し、これによって平均表面粗さ（Ｒａ）を小さくすることが可能となる。平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＳＥＭＩ Ｄ７−９７「ＦＰＤガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定され、１０Å以下、好ましくは５Å以下、より好ましくは２Å以下にすべきである。なおガラス基板の端面部については、面取り等の研磨処理やエッチング処理がなされていてもよい。
また本発明の強化ガラス基板は、液相温度が１２００℃以下であることが好ましい。ここで、「液相温度」とは、ガラスを粉砕し、標準篩３０メッシュ（篩目開き５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（篩目開き３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持した後、結晶が析出する温度を指す。
また本発明の強化ガラス基板は、液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」とは、液相温度におけるガラスの粘度を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低いほど、ガラスの耐失透性が向上し、ガラス基板が成形しやすくなる。
また本発明の強化ガラス基板は、ディスプレイのカバーガラスとして用いられることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、太陽電池のカバーガラスとして用いられることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成、且つ歪点が５００℃以上となるように調合したガラス原料を溶融し、板状に成形した後、イオン交換処理を行ってガラス表面に圧縮応力層を形成することを特徴とする。
本発明の強化ガラス基板は、イオン交換性能の高いガラスにて作製される。また耐失透性に優れるガラスにて作製されるため、オーバーフローダウンドロー法等を採用することによって、表面粗さの小さいガラス基板を得ることが可能である。それゆえ成形後の研磨が不要であり、研磨により生じる微小欠陥がない。よって機械的強度が高く、しかも研磨による製造コストの増加がないため、安価に生産することが可能である。
本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、太陽電池のカバーガラス、タッチパネルディスプレイ基板として好適である。尚、タッチパネルディスプレイは、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ等に搭載されるものであり、モバイル用途のタッチパネルディスプレイでは、軽量化、薄型化、高強度化の要請が強く、薄型で機械的強度が高いガラス基板が要求されている。その点、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、実用上、十分な機械的強度を有するため、モバイル用途に好適である。
また本発明に係るガラスは、耐失透性に優れるため、オーバーフローダウンドロー法等で成形可能である。そのため本発明に係るガラスを用いれば、表面粗さが小さく、機械的強度の高いガラス基板を安価に生産することが可能である。
また本発明の強化ガラスの製造方法は、イオン交換性能が高く、且つ耐失透性に優れるガラスを用いるものであるため、機械的強度が高い強化ガラス基板を安価に作製可能である。
本発明の強化ガラス基板は、その表面に圧縮応力層を有する。ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成する方法には、物理強化法と化学強化法がある。本発明の強化ガラス基板は、化学強化法で圧縮応力層を形成することが好ましい。化学強化法は、ガラスの歪点以下の温度でイオン交換によりガラス基板の表面にイオン半径の大きいアルカリイオンを導入する方法である。化学強化法で圧縮応力層を形成すれば、ガラス基板の板厚が薄くても、良好に強化処理を施すことができ、所望の機械的強度を得ることができる。さらに、ガラス基板に圧縮応力層を形成した後にガラス基板を切断しても、風冷強化法等の物理強化法で強化されたガラス基板のように容易に破壊することがない。
イオン交換の条件は、特に限定されず、ガラスの粘度特性等を考慮して決定すればよい。特に、ＫＮＯ３溶融塩中のＫイオンをガラス基板中のＮａ成分とイオン交換すると、ガラス基板の表面に圧縮応力層を効率良く形成できるため好ましい。
本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成を上記範囲に限定した理由を以下に説明する。
ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークを形成する成分であり、その含有量は４０〜７１％、好ましくは４０〜７０％、４０〜６３％、４５〜６３％、５０〜５９％、特に５５〜５８．５％である。ＳｉＯ２の含有量が多くなり過ぎると、ガラスの溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなり過ぎて、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。一方、ＳｉＯ２の含有量が少な過ぎると、ガラス化し難くなる。またガラスの熱膨張係数が大きくなり、ガラスの耐熱衝撃性が低下しやすくなる。
Ａｌ２Ｏ３はイオン交換性能を高める成分である。またガラスの歪点およびヤング率を高くする効果もあり、その含有量は８．５〜２１％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、ガラスに失透結晶が析出しやすくなってオーバーフローダウンドロー法等による成形が困難になる。またガラスの熱膨張係数が小さくなり過ぎて周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったり、ガラスの高温粘性が高くなり溶融し難くなる。Ａｌ２Ｏ３の含有量が少な過ぎると、十分なイオン交換性能を発揮できない虞が生じる。上記観点から、Ａｌ２Ｏ３の好適な範囲は上限が２０％以下、１９％以下、１８％以下、１７％以下、１６．５％以下であることがより好ましい。また下限は、９％以上、１０％以上、１２％以上、１３％以上、１４％以上であることがより好ましい。
Ｌｉ２Ｏは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる成分である。さらにＬｉ２Ｏは、ガラスのヤング率を向上させる成分である。またＬｉ２Ｏはアルカリ金属酸化物の中では圧縮応力値を高める効果が高い。しかしＬｉ２Ｏの含有量が多くなり過ぎると液相粘度が低下してガラスが失透しやすくなる。またガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったりする。さらに、低温粘性が低下しすぎて応力緩和が起こりやすくなると、かえって圧縮応力値が低くなる場合がある。従ってＬｉ２Ｏの含有量は０〜１％であり、さらに０〜０．５％、０〜０．１％であることが好ましく、実質的に含有しないこと、つまり０．０１％未満に抑えることが最も好ましい。
Ｎａ２Ｏは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる成分である。また、Ｎａ２Ｏは、ガラスの耐失透性を改善する成分でもある。Ｎａ２Ｏの含有量は７〜２０％であるが、より好適な含有量は、１０〜２０％、１０〜１９％、１２〜１９％、１２〜１７％、１３〜１７％、特に１４〜１７％である。Ｎａ２Ｏの含有量が多くなり過ぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また歪点が低下しすぎたり、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化する傾向がある。一方、Ｎａ２Ｏの含有量が少ないと、溶融性が悪化したり、熱膨張係数が小さくなりすぎたり、イオン交換性能が悪化する。
Ｋ２Ｏは、イオン交換を促進する効果があり、アルカリ金属酸化物の中では圧縮応力層の深さを深くする効果が高い。またガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたりする効果のある成分である。また、Ｋ２Ｏは、耐失透性を改善する成分でもある。Ｋ２Ｏの含有量は０〜１５％である。Ｋ２Ｏの含有量が多過ぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。さらに歪点が低下しすぎたり、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化する傾向があるため、上限を１２％以下、１０％以下、８％以下、６％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下とすることが好ましい。
アルカリ金属酸化物Ｒ２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる１種以上）の合量が多くなり過ぎると、ガラスが失透しやすくなることに加えて、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また、アルカリ金属酸化物Ｒ２Ｏの合量が多くなり過ぎると、ガラスの歪点が低下し過ぎて、高い圧縮応力値が得られない場合がある。さらに液相温度付近の粘性が低下し、高い液相粘度を確保することが困難となる場合がある。それ故、Ｒ２Ｏの合量は２２％以下、２０％以下、特に１９％以下であることが好ましい。一方、Ｒ２Ｏの合量が少な過ぎると、ガラスのイオン交換性能や溶融性が悪化する場合がある。それ故、Ｒ２Ｏの合量は８％以上、１０％以上、１３％以上、特に１５％以上であることが好ましい。
また（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値を０．７〜２、好ましくは０．８〜１．６、より好ましくは０．９〜１．６、更に好ましくは１〜１．６、もっとも好ましくは１．２〜１．６の範囲に設定することが望ましい。この値が２より大きくなると、低温粘性が低下しすぎてイオン交換性能が低下したり、ヤング率が低下したり、熱膨張係数が高くなり耐熱衝撃性が低下しやすくなる。また組成のバランスを欠いて、失透しやすくなる。一方、０．７より小さくなると、溶融性や失透性が悪化しやすくなる。
またＫ２Ｏ／Ｎａ２Ｏの質量比の範囲は、０〜２であることが好ましい。Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏの質量比を変化させることで圧縮応力値の大きさと応力層の深さを変化させることが可能である。圧縮応力値を高く設定したい場合には、上記質量比が、０〜０．５、特に０〜０．３、０〜０．２となるように調整することが好ましい。一方、応力深さをより深くしたり、短時間で深い応力を形成したい場合には、上記質量比が、０．３〜２、特に０．５〜２、１〜２、１．２〜２、１．５〜２となるように調整することが好ましい。ここで上記質量比の上限を２に設定した理由は、２より大きくなるとガラスの組成のバランスを欠いて失透しやすくなるからである。
本発明の強化ガラス基板においては、ガラス組成として、上記の基本成分のみから構成されてもよいが、ガラスの特性を大きく損なわない範囲で他の成分を添加することもできる。
例えばアルカリ土類金属酸化物Ｒ’Ｏ（Ｒ’はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる１種以上）は、種々の目的で添加可能な成分である。しかし、アルカリ土類金属酸化物Ｒ’Ｏが多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が高くなったり、耐失透性が悪化したりすることに加えて、イオン交換性能が悪化する傾向がある。したがってアルカリ土類金属酸化物Ｒ’Ｏの合量は、０〜９．９％であり、好ましくは０〜８％、０〜６％、０〜５％である。
ＭｇＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を向上させる効果が高い。ＭｇＯの含有量は０〜６％が好ましい。しかし、ＭｇＯの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなる。したがって、その含有量は、４％以下、３％以下、２％以下、１．５％以下が好ましい。
ＣａＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を向上させる効果が高い。ＣａＯの含有量は０〜６％が好ましい。しかし、ＣａＯの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が悪化する場合がある。したがって、その含有量は、４％以下、３％以下が好ましい。
ＳｒＯ及びＢａＯは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高める成分であり、その含有量は各々０〜３％であることが好ましい。ＳｒＯやＢａＯの含有量が多くなると、イオン交換性能が悪化する傾向がある。またガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなる。ＳｒＯの含有量は、２％以下、１．５％以下、１％以下、０．５％以下、０．２％以下、特に０．１％以下であることが好ましい。またＢａＯの含有量は、２．５％以下、２％以下、１％以下、０．８％以下、０．５％以下、０．２％以下、特に０．１％以下であることが好ましい。
またＺｎＯは、ガラスのイオン交換性能を高める成分であり、特に、圧縮応力値を高くする効果が大きい。またガラスの低温粘性を低下させずに高温粘性を低下させる効果を有する成分であり、その含有量を０〜８％とすることができる。しかし、ＺｎＯの含有量が多くなると、ガラスが分相したり、失透性が悪化したり、密度が高くなるため、その含有量は６％以下、４％以下、特に３％以下であることが好ましい。
本発明においては、ＳｒＯ＋ＢａＯの合量を０〜５％に制限することによって、より効果的にイオン交換性能を向上させることができる。つまりＳｒＯとＢａＯは、上述の通り、イオン交換反応を阻害する作用があるため、これらの成分を多く含むことは、機械的強度の高い強化ガラスを得る上で不利である。ＳｒＯ＋ＢａＯの好ましい範囲は０〜３％、０〜２．５％、０〜２％、０〜１％、０〜０．２％、特に０〜０．１％である。
またＲ’Ｏの合量をＲ２Ｏの合量で除した値が大きくなると、ガラスの耐失透性が悪化する傾向が現れる。それ故、質量分率でＲ’Ｏ／Ｒ２Ｏの値を０．５以下、０．４以下、０．３以下に規制することが好ましい。
またＳｎＯ２はイオン交換性能、特に圧縮応力値を向上させる効果があるため、その含有量は０．０１〜３％、０．０１〜１．５％、０．１〜１％含有することが好ましい。ＳｎＯ２の含有量が多くなるとＳｎＯ２に起因する失透が発生したり、ガラスが着色しやすくなる傾向がある。
またＺｒＯ２はイオン交換性能を顕著に向上させると共にガラスのヤング率や歪点を高くし、高温粘性を低下させる効果がある。またガラスの液相粘度付近の粘性を高める効果があるため、所定量含有させることで、イオン交換性能と液相粘度を同時に向上させることができる。ただし、その含有量が多くなりすぎると、耐失透性が極端に悪化する場合がある。そのため、０．００１〜１０％、０．１〜９％、０．５〜７％、１〜５％、２．５〜５％含有させることが好ましい。
またＢ２Ｏ３は、ガラスの液相温度、高温粘度および密度を低下させる効果を有するとともに、ガラスのイオン交換性能、特に圧縮応力値を向上させる効果のある成分であるため、上記成分と共に含有できるが、その含有量が多過ぎると、イオン交換によって表面にヤケが発生したり、ガラスの耐水性が悪化したり、液相粘度が低下する虞がある。また応力深さが低下する傾向にある。よってＢ２Ｏ３は、０〜６％、０〜４％、さらには０〜３％が好ましい。
またＴｉＯ２はイオン交換性能を向上させる効果がある成分である。またガラスの高温粘度を低下させる効果がある。しかしその含有量が多くなりすぎると、ガラスが着色したり、失透性が悪化したり、密度が高くなる。特にディスプレイのカバーガラスとして使用する場合、ＴｉＯ２の含有量が高くなると、溶融雰囲気や原料を変更した時、ガラスの透過率が変化しやすくなる。そのため紫外線硬化樹脂等の光を利用してガラス基板をデバイスに接着する工程において、紫外線照射条件が変動しやすくなり、安定生産が困難となる。そのため１０％以下、８％以下、６％以下、５％以下、４％以下、２％以下、０．７％以下、０．５％以下、０．１％以下、０．０１％以下となるようにすることが好ましい。
本発明においては、イオン交換性能向上の観点から、ＺｒＯ２とＴｉＯ２を上記範囲で含有させることが好ましいが、ＴｉＯ２源、ＺｒＯ２源として試薬を用いても良いし原料等に含まれる不純物から含有させても良い。
また耐失透性と高いイオン交換性能を両立する観点から、Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２の含有量を以下のように定めることが好ましい。
Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２の含有量は１２％超（好ましくは１２．００１％以上、１３％以上、１５％以上、１７％以上、１８％以上、１９％以上）であればガラスのイオン交換性能をより効果的に向上させることが可能であり、好ましい。しかしＡｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２の含有量が多くなりすぎると失透性が極端に悪化するため、２８％以下（好ましくは２５％以下、２３％以下、２２％以下、２１％以下）とすることが好ましい。
またＰ２Ｏ５は、ガラスのイオン交換性能を高める成分であり、特に、圧縮応力層の厚みを大きくする効果が大きいため、その含有量を０〜８％とすることができる。しかし、Ｐ２Ｏ５の含有量が多くなると、ガラスが分相したり、耐水性や耐失透性が低下しやすくするため、その含有量は５％以下、４％以下、３％以下、特に２％以下であることが好ましい。
また清澄剤としてＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｆ、ＳＯ３、Ｃｌの群から選択された一種または二種以上を０．００１〜３％含有させてもよい。ただし、Ａｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３は環境に対する配慮から、使用は極力控えるべきであり、各々の含有量を０．１％未満、さらには０．０１％未満に制限することが好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。またＣｅＯ２は、ガラスの透過率を低下させる成分であるため、０．１％未満、好ましくは０．０１％未満に制限することが好ましい。またＦは、ガラスの低温粘性を低下させ、圧縮応力値の低下を招くおそれがあるため、０．１％未満、好ましくは０．０１％未満に制限することが好ましい。従って本発明において好ましい清澄剤は、Ｃｌであり、その含有量は０．００１〜０．４％であり、０．０１〜０．４％、さらには０．０５〜０．４％が好ましい。またＳＯ３の含有量は０．００１〜３％、０．００１〜１％、０．０１〜０．５％、さらには０．０５〜０．４％が好ましい。またＳＯ３とＣｌの合量は、０．００１〜３％、０．００１〜１％、０．０１〜０．５％、さらには０．０５〜０．４％が好ましい。
またＮｂ２Ｏ５やＬａ２Ｏ３等の希土類酸化物は、ガラスのヤング率を高める成分である。しかし、原料自体のコストが高く、また多量に含有させると耐失透性が悪化する。それ故、それらの含有量は、３％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下に制限することが望ましい。
尚、本発明において、Ｃｏ、Ｎｉ等のガラスを強く着色するような遷移金属元素は、ガラス基板の透過率を低下させるため好ましくない。特に、タッチパネルディスプレイ用途に用いる場合、遷移金属元素の含有量が多いと、タッチパネルディスプレイの視認性が損なわれる。具体的には０．５％以下、０．１％以下、特に０．０５％以下となるよう、原料あるいはカレットの使用量を調整することが望ましい。
また、Ｐｂ、Ｂｉ等の物質は環境に対する配慮から、使用は極力控えるべきであり、その含有量を０．１％未満に制限することが好ましい。
本発明の強化ガラス基板は、各成分の好適な含有範囲を適宜選択し、好ましいガラス組成範囲とすることができる。その具体例を以下に示す。
（１）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成。
（２）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成。
（３）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成。
（４）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成。
（５）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ９〜１９％、Ｂ２Ｏ３ ０〜６％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜６％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、ＳｎＯ２ ０．１〜１％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％であり、実質的にＡｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３を含有しないガラス組成。
（６）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ９〜１８％、Ｂ２Ｏ３ ０〜４％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １１〜１７％、Ｋ２Ｏ ０〜６％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜６％、ＳｎＯ２ ０．１〜１％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％であり、実質的にＡｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３を含有しないガラス組成。
（７）質量％でＳｉＯ２ ４０〜６３％、Ａｌ２Ｏ３ ９〜１７．５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜３％、Ｌｉ２Ｏ ０〜０．１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１７％、Ｋ２Ｏ ０〜７％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ０〜４％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＳｎＯ２ ０．０１〜２％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％であり、実質的にＡｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３を含有せず、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が０．９〜１．６、Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏ ０〜０．４であるガラス組成。
（８）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．５％、ＳｎＯ２ ０．００１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成。
（９）質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜２％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．５％、ＳｎＯ２ ０．００１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、実質的にＡｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３を含有しないことを特徴とするガラス組成。
（１０）質量％でＳｉＯ２ ４０〜６５％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．５％、ＳｎＯ２ ０．００１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が０．７〜２であって、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＦを含有しないことを特徴とするガラス組成。
（１１）質量％でＳｉＯ２ ４０〜６５％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．５％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜８％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％を含有し、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が０．９〜１．７であって、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＦを含有しないことを特徴とするガラス組成。
（１２）質量％でＳｉＯ２ ４０〜６３％、Ａｌ２Ｏ３ ９〜１９％、Ｂ２Ｏ３ ０〜３％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．１％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜８％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％を含有し、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が１．２〜１．６であって、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＦを含有しないことを特徴とするガラス組成。
（１３）質量％でＳｉＯ２ ４０〜６３％、Ａｌ２Ｏ３ ９〜１７．５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜３％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．１％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ ０．１〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜８％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％を含有し、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が１．２〜１．６であって、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＦを含有しないことを特徴とするガラス組成。
（１４）質量％でＳｉＯ２ ４０〜５９％、Ａｌ２Ｏ３ １０〜１５％、Ｂ２Ｏ３ ０〜３％、Ｌｉ２Ｏ ０〜０．１％、Ｎａ２Ｏ １０〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜７％、ＭｇＯ ０〜５％、ＴｉＯ２ ０〜０．１％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ １〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜８％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％を含有し、質量分率で（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３の値が１．２〜１．６であって、実質的にＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＦを含有しないことを特徴とするガラス組成。
本発明の強化ガラス基板は、上記ガラス組成を有するとともに、ガラス基板の表面に圧縮応力層を有している。表面の圧縮応力層の圧縮応力は、３００ＭＰａ以上が好ましく、６００ＭＰａ以上がより好ましく、８００ＭＰａ以上がより好ましく、１０００ＭＰａ以上がより好ましく、１２００ＭＰａ以上が更に好ましく、１３００ＭＰａ以上が更に好ましい。圧縮応力が大きくなるにつれて、ガラス基板の機械的強度が高くなる。一方、ガラス基板表面に極端に大きな圧縮応力が形成されると、基板表面にマイクロクラックが発生し、かえってガラスの強度が低下する虞がある。また、ガラス基板に内在する引っ張り応力が極端に高くなる恐れがあるため、２５００ＭＰａ以下とするのが好ましい。なお圧縮応力を大きくするには、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２の含有量を増加させたり、ＳｒＯ、ＢａＯの含有量を低減すればよい。またイオン交換に要する時間を短くしたり、イオン交換溶液の温度を下げればよい。
表面の圧縮応力層の厚みは、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上、３０μｍ以上とするのが好ましい。表面の圧縮応力層の厚みが大きい程、ガラス基板に深い傷がついても、ガラス基板が割れにくくなる。一方、ガラス基板が切断しにくくなったり、内部の引っ張り応力が極端に高くなって破損する虞れがあるため、表面の圧縮応力層の厚みは５００μｍ以下、１００μｍ以下、８０μｍ以下、６０μｍ以下とするのが好ましい。なお圧縮応力層の厚みを大きくするには、Ｋ２Ｏ、Ｐ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２の含有量を増加させたり、ＳｒＯ、ＢａＯの含有量を低減すればよい。またイオン交換に要する時間を長くしたり、イオン交換溶液の温度を高めればよい。
またガラス基板内部の引っ張り応力は、２００ＭＰａ以下（好ましくは１５０ＭＰａ以下、より好ましくは１００ＭＰａ以下、更に好ましくは５０ＭＰａ以下）である。この値が小さくなるほどガラス基板内部の欠陥によってガラスが破損にいたる恐れが少なくなるが、極端に小さくなると、ガラス基板表面の圧縮応力値の低下や、応力深さが低下するため、１ＭＰａ以上、１０ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以上であることが好ましい。
本発明の強化ガラス基板は、板厚が３．０ｍｍ以下、１．５ｍｍ以下、０．７ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、特に０．３ｍｍ以下であることが好ましい。ガラス基板の板厚が薄い程、ガラス基板を軽量化することできる。また、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、ガラス基板が破壊しにくい利点を有している。なおガラスの成形をオーバーフローダウンドロー法で行う場合、ガラスの薄肉化や平滑化を、研磨することなく達成できるため有利である。
本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することが好ましく、未研磨の表面の平均表面粗さ（Ｒａ）は好ましくは１０Å以下、より好ましくは５Å以下、より好ましくは４Å以下、さらに好ましくは３Å以下、最も好ましくは２Å以下である。尚、表面の平均表面粗さ（Ｒａ）はＳＥＭＩ Ｄ７−９７「ＦＰＤガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定すればよい。ガラスの理論強度は本来非常に高いが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これはガラス基板の表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥がガラスの成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。それ故、強化ガラス基板の表面を未研磨とすれば、本来のガラス基板の機械的強度が損なわれ、ガラス基板が破壊し難くなる。また、ガラス基板の表面を未研磨とすれば、ガラス基板の製造工程で研磨工程を省略できるため、ガラス基板の製造コストを下げることができる。本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の両面全体を未研磨とすれば、ガラス基板が更に破壊し難くなる。また、本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の切断面から破壊に至る事態を防止するため、ガラス基板の切断面に面取り加工やエッチング処理等を行ってもよい。なお、未研磨の表面を得るためには、ガラスの成形をオーバーフローダウンドロー法で行えばよい。
本発明の強化ガラス基板は、ガラスの液相温度が１２００℃以下、１０５０℃以下、１０３０℃以下、１０１０以下、１０００℃以下、９５０℃以下、９００℃以下であることが好ましく、８７０℃以下が特に好ましい。液相温度を低下させるには、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｂ２Ｏ３の含有量を増加したり、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２の含有量を低減すればよい。
本発明の強化ガラス基板は、ガラスの液相粘度が、１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０４．３ｄＰａ・ｓ以上、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．４ｄＰａ・ｓ以上、１０５．８ｄＰａ．ｓ以上、１０６．０ｄＰａ・ｓ以上、１０６．２ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。液相粘度を上昇させるには、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの含有量を増加したり、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２の含有量を低減すればよい。
尚、液相粘度が高く、液相温度が低いほど、ガラスの耐失透性は優れるとともに、ガラス基板の成形性に優れている。そしてガラスの液相温度が１２００℃以下で、ガラスの液相粘度は、１０４．０ｄＰａ・ｓ以上であれば、オーバーフローダウンドロー法で成形可能である。
本発明の強化ガラス基板は、ガラスの密度が２．８ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、２．７ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．６ｇ／ｃｍ３以下が更に好ましい。ガラスの密度が小さい程、ガラス基板の軽量化を図ることができる。ここで、「密度」とは、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。尚、ガラスの密度を低下させるには、ＳｉＯ２、Ｐ２Ｏ５、Ｂ２Ｏ３の含有量を増加させたり、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２の含有量を低減すればよい。
本発明の強化ガラス基板は、３０〜３８０℃の温度範囲におけるガラスの熱膨張係数が７０〜１１０×１０−７／℃であることが好ましく、７５〜１１０×１０−７／℃であることがより好ましく、８０〜１１０×１０−７／℃であることが更に好ましく、８５〜１１０×１０−７／℃であることが特に好ましい。ガラスの熱膨張係数を上記範囲とすれば、金属、有機系接着剤等の部材と熱膨張係数が整合しやすくなり、金属、有機系接着剤等の部材の剥離を防止することができる。ここで、「熱膨張係数」とは、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定した値を指す。なお熱膨張係数を上昇させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物の含有量を増加さればよく、逆に低下させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物の含有量を低減すればよい。
本発明の強化ガラス基板は、歪点が５００℃以上であり、５４０℃以上が好ましく、５５０℃以上がさらに好ましく、５６０℃以上が最も好ましい。ガラスの歪点が高いほどガラスの耐熱性が優れることなり、強化ガラス基板に熱処理を施したとしても、強化層が消失しがたくなる。またガラスの歪点が高いとイオン交換中に応力緩和が起こりにくくなるため高い圧縮応力値を得ることが可能になる。ガラスの歪点を高くするためにはアルカリ金属酸化物の含有量を低減させたり、アルカリ土類金属酸化物、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｐ２Ｏ５の含有量を増加させればよい。
本発明の強化ガラス基板は、ガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が１６５０℃以下、１５００℃以下、１４５０℃以下、１４３０℃以下、１４２０℃以下、１４００℃以下であることが好ましい。ガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度は、ガラスの溶融温度に相当しており、ガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が低いほど、低温でガラスを溶融することができる。従ってガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が低い程、溶融窯等のガラスの製造設備への負担が小さくなる共に、ガラス基板の泡品位を向上させることができる。そのためガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が低い程、ガラス基板を安価に製造することができる。なお１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度を低下させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２の含有量を増加させたり、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３の含有量を低減すればよい。
本発明の強化ガラス基板は、ヤング率が７０ＧＰａ以上、好ましくは７３ＧＰａ以上、より好ましくは７５ＧＰａ以上が望ましい。そのためディスプレイのカバーガラスとして使用する場合、ヤング率が高いほど、カバーガラスの表面をペンや指で押した際の変形量が小さくなるため、内部のディスプレイに与えるダメージが低減する。
また本発明に係るガラスは、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有することを特徴とし、好ましくは質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有することを特徴とし、より好ましくは質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ １０〜１９％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜３％、ＢａＯ ０〜３％、ＺｎＯ ０〜８％、ＳｎＯ２ ０．０１〜３％、ＺｒＯ２ ０．００１〜１０％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有することを特徴とする。本発明に係るガラスにおいて、ガラス組成を上記範囲に限定した理由および好ましい範囲は、既述の強化ガラス基板と同様であるため、ここではその記載を省略する。さらに、本発明に係るガラスは、当然のことながら、既述の強化ガラス基板の特性、効果を併有することができる。
本発明に係るガラスは、各構成成分を上記範囲に規制しているため、イオン交換性能が良好であり、容易に表面の圧縮応力を６００ＭＰａ以上、且つ圧縮応力層の厚みを１０μｍ以上とすることができる。
本発明に係るガラスは、上記組成範囲内のガラス組成となるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を１５００〜１６００℃で加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。
ガラスを板状に成形するには、オーバーフローダウンドロー法を採用することが好ましい。オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形すれば、未研磨で表面品位が良好なガラス基板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス基板の表面となるべき面は桶状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されることにより、無研磨で表面品位が良好なガラス基板を成形できるからである。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融状態のガラスを耐熱性の桶状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを桶状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス基板を製造する方法である。桶状構造物の構造や材質は、ガラス基板の寸法や表面精度を所望の状態とし、ガラス基板に使用できる品位を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うためにガラス基板に対してどのような方法で力を印加するものであってもよい。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラス基板に接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラス基板の端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。本発明に係るガラスは、耐失透性が優れるとともに、成形に適した粘度特性を有しているため、オーバーフローダウンドロー法による成形を精度よく実行することができる。なお、液相温度が１２００℃以下、液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上であれば、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を製造することができる。
尚、本発明では、高い表面品位が要求されない場合には、オーバーフローダウンドロー法以外の方法を採用することができる。例えば、ダウンドロー法（スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法、ロールアウト法、プレス法等の様々な成形方法を採用することができる。例えばプレス法でガラスを成形すれば、小型のガラス基板を効率良く製造することができる。
本発明の強化ガラス基板を製造するには、まず上記ガラスを用意する。次いで強化処理を施す。ガラス基板を所定サイズに切断するのは、強化処理の前でもよいが、強化処理後に行う方が製造コストを低減できるため好ましい。強化処理は、イオン交換処理にて行うことが望ましい。イオン交換処理は、例えば４００〜５５０℃の硝酸カリウム溶液中にガラス板を１〜８時間浸漬することによって行うことができる。イオン交換条件は、ガラスの粘度特性や、用途、板厚、ガラス内部の引っ張り応力等を考慮して最適な条件を選択すればよい。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
表１〜４は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１６、１７、１９〜２３）のガラス組成と特性を示すものである。尚、表中の「未」の表示は、未測定を意味している。また、試料１〜１５、１８、２４〜２６は参考例である。
表１〜４の各試料は次のようにして作製した。まず、表中のガラス組成となるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて１５８０℃で８時間溶融した。その後、溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した。得られたガラス基板について、種々の特性を評価した。
密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。
歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａは、ＡＳＴＭ Ｃ３３６の方法に基づいて測定した。
軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭ Ｃ３３８の方法に基づいて測定を行った。
ガラスの粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度は、白金球引き上げ法で測定した。
ヤング率は、曲げ共振法により測定した。
熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定した。
液相温度ＴＬは、ガラスを粉砕し、標準篩３０メッシュ（篩目開き５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（篩目開き３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。
液相粘度ｌｏｇηＴＬは、液相温度における各ガラスの粘度を示す。
その結果、得られたガラス基板は、密度が２．５９ｇ／ｃｍ３以下、熱膨張係数が８３〜１００×１０−７／℃、強化ガラス素材として好適であった。また液相粘度が１０５．１ｄＰａ・ｓ以上と高くオーバーフローダウンドロー成形が可能であり、しかも１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が１６１２℃以下と低いので、生産性が高く安価に大量のガラス基板を供給できるものと考えられる。なお、未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、ガラス基板の表層において微視的にガラス組成が異なっているものの、ガラス基板全体としてガラス組成が実質的に相違していない。したがって、密度、粘度などの特性値については未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、上記特性が実質的に相違していない。続いて試料Ｎｏ．１〜２６の各ガラス基板の両表面に光学研磨を施した後、イオン交換処理を行った。試料Ｎｏ．１〜８、１３〜１５、２４及び２５については、４３０℃のＫＮＯ３溶融塩中に各試料を４時間、試料Ｎｏ．９〜１２、１６〜２３及び２６については４６０℃のＫＮＯ３溶融塩中に各試料を４時間浸漬することで行った。処理を終えた各試料は表面を洗浄した後、表面応力計（株式会社東芝製ＦＳＭ−６０００）を用いて観察される干渉縞の本数とその間隔から表面の圧縮応力値と圧縮応力層の厚みを算出した。算出に当たり、試料の屈折率は１．５３、光学弾性定数は２８［（ｎｍ／ｃｍ）／ＭＰａ］とした。
その結果、本発明の実施例である試料Ｎｏ．１６、１７、１９〜２３の各ガラス基板は、その表面に５００ＭＰａ以上の圧縮応力が発生しており、且つその厚みは２０μｍ以上と深かった。また、板厚１ｍｍの基板において内部の引っ張り応力は４２ＭＰａ以下と低かった。
また本発明の参考例である試料Ｎｏ．１５のガラス試料を使用し、ガラス基板の厚みやイオン交換条件を変えることによって、内部応力の異なるガラス試験片を作製し、内部応力による破損の状態を評価した。
評価方法は、以下のとおりである。
試料Ｎｏ．１５のガラスから、板厚０．５ｍｍと板厚０．７ｍｍのガラス板をそれぞれ作製し、各ガラス板を３５ｍｍ×３５ｍｍの大きさに切りだした。こうして得られた各ガラス基板について、４６０℃−６時間、４６０℃−８時間、４９０℃−６時間の各条件でイオン交換を行った後に圧縮応力を測定し、その結果を表５に示した。尚、圧縮応力は、上記と同様の方法で測定し、その圧縮応力値から上記式に基づいて内部応力（ガラス基板内部の引っ張り応力）を計算で求めた。
表５の各ガラス基板について、その表面に傷が形成され、その傷が内部応力層まで達した時に、ガラス基板が破損するかどうかを調べるため、ホイールチップ材質がダイヤモンドであるスクライブマシンを使用し、エアー圧０．３ＭＰａ、ホイールチップ刃角度１２５°、ホイールチップ研磨グレードＤ５２１に設定し、ホイールチップをガラス基板の表面にたたきつけて破壊した。
表６は、ガラス基板を破壊した後の破片の数を示したものである。また参考のため、イオン交換を行わず、内部応力が０のガラス基板の破片の数も示した。表６から明らかなように、内部応力が５０〜９４ＭＰａであれば、内部応力が０のガラス基板と同程度の破片の数となることが理解できる。
尚、上記実施例では、本発明の説明の便宜上、ガラスを溶融し、流し出しによる成形を行った後、イオン交換処理前に光学研磨を行った。工業的規模で生産する場合には、オーバーフローダウンドロー法等でガラス基板を作製し、ガラス基板の両表面が未研磨の状態でイオン交換処理することが望ましい。
本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、太陽電池等のカバーガラス、あるいはタッチパネルディスプレイ基板として好適である。また、本発明の強化ガラス基板は、これらの用途以外にも、高い機械的強度が要求される用途、例えば窓ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板、固体撮像素子用カバーガラス、食器などへの応用が期待できる。

Claims (10)

  1. 表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、歪点が５００℃以上であることを特徴とする強化ガラス基板。
  2. 表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ２ ４０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３ １２〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有し、歪点が５００℃以上であることを特徴とする請求項１記載の強化ガラス基板。
  3. イオン交換により強化されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の強化ガラス基板。
  4. 内部の引っ張り応力が２００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  5. 表面の圧縮応力が３００ＭＰａ以上、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  6. 液相温度が１２００℃以下のガラスからなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  7. 液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上のガラスからなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  8. ディスプレイのカバーガラスとして用いられることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  9. 太陽電池のカバーガラスとして用いられること特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の強化ガラス基板。
  10. 質量％でＳｉＯ２ ４０〜７１％、Ａｌ２Ｏ３ ８．５〜２１％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｎａ２Ｏ ７〜２０％、Ｋ２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜０．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜９．９％を含有するガラス組成、且つ歪点が５００℃以上となるように調合したガラス原料を溶融し、板状に成形した後、イオン交換処理を行ってガラス表面に圧縮応力層を形成することを特徴とする強化ガラス基板の製造方法。
JP2011181264A 2007-08-03 2011-08-23 強化ガラス基板及びその製造方法 Active JP4974066B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011181264A JP4974066B2 (ja) 2007-08-03 2011-08-23 強化ガラス基板及びその製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007203604 2007-08-03
JP2007203604 2007-08-03
JP2011181264A JP4974066B2 (ja) 2007-08-03 2011-08-23 強化ガラス基板及びその製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008154906A Division JP5467490B2 (ja) 2007-08-03 2008-06-13 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011241143A JP2011241143A (ja) 2011-12-01
JP4974066B2 true JP4974066B2 (ja) 2012-07-11

Family

ID=40553354

Family Applications (20)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008154906A Active JP5467490B2 (ja) 2007-08-03 2008-06-13 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2011102673A Active JP4840736B2 (ja) 2007-08-03 2011-05-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011102682A Active JP4811799B2 (ja) 2007-08-03 2011-05-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011117705A Active JP4784714B1 (ja) 2007-08-03 2011-05-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011131713A Active JP4793768B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-14 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011131716A Active JP4817133B1 (ja) 2007-08-03 2011-06-14 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011136566A Active JP4888845B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011140273A Active JP4947502B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-24 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011145059A Pending JP2011195449A (ja) 2007-08-03 2011-06-30 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011181264A Active JP4974066B2 (ja) 2007-08-03 2011-08-23 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2012148133A Active JP5088717B1 (ja) 2007-08-03 2012-07-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2012189707A Active JP5120792B1 (ja) 2007-08-03 2012-08-30 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2012211604A Active JP5392391B2 (ja) 2007-08-03 2012-09-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013079063A Active JP5602270B2 (ja) 2007-08-03 2013-04-05 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013174170A Pending JP2013234121A (ja) 2007-08-03 2013-08-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013174169A Active JP5418995B1 (ja) 2007-08-03 2013-08-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014007459A Active JP5594444B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014007460A Active JP5601605B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014008333A Active JP5679527B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-21 強化ガラス基板及びガラス
JP2014247724A Active JP5867574B2 (ja) 2007-08-03 2014-12-08 強化ガラス基板及びその製造方法

Family Applications Before (9)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008154906A Active JP5467490B2 (ja) 2007-08-03 2008-06-13 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2011102673A Active JP4840736B2 (ja) 2007-08-03 2011-05-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011102682A Active JP4811799B2 (ja) 2007-08-03 2011-05-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011117705A Active JP4784714B1 (ja) 2007-08-03 2011-05-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011131713A Active JP4793768B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-14 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011131716A Active JP4817133B1 (ja) 2007-08-03 2011-06-14 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011136566A Active JP4888845B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011140273A Active JP4947502B2 (ja) 2007-08-03 2011-06-24 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2011145059A Pending JP2011195449A (ja) 2007-08-03 2011-06-30 強化ガラス基板及びその製造方法

Family Applications After (10)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012148133A Active JP5088717B1 (ja) 2007-08-03 2012-07-02 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2012189707A Active JP5120792B1 (ja) 2007-08-03 2012-08-30 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2012211604A Active JP5392391B2 (ja) 2007-08-03 2012-09-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013079063A Active JP5602270B2 (ja) 2007-08-03 2013-04-05 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013174170A Pending JP2013234121A (ja) 2007-08-03 2013-08-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2013174169A Active JP5418995B1 (ja) 2007-08-03 2013-08-26 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014007459A Active JP5594444B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014007460A Active JP5601605B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-20 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2014008333A Active JP5679527B2 (ja) 2007-08-03 2014-01-21 強化ガラス基板及びガラス
JP2014247724A Active JP5867574B2 (ja) 2007-08-03 2014-12-08 強化ガラス基板及びその製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (6) US9054250B2 (ja)
EP (5) EP2177485B1 (ja)
JP (20) JP5467490B2 (ja)
KR (9) KR101391677B1 (ja)
CN (7) CN102701587B (ja)
TW (9) TWI386397B (ja)
WO (1) WO2009019965A1 (ja)

Families Citing this family (244)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5808069B2 (ja) * 2007-02-16 2015-11-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板
US20100119846A1 (en) 2007-03-02 2010-05-13 Masahiro Sawada Reinforced plate glass and method for manufacturing the same
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
JP5339173B2 (ja) * 2007-09-27 2013-11-13 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
EP2252558A4 (en) * 2008-02-08 2014-08-27 Corning Inc DAMAGING RESISTANT, CHEMICALLY PREVENTED PROTECTIVE GLASS
DE202009018722U1 (de) 2008-02-26 2012-11-21 Corning Inc. Läutermittel für Silikatgläser
JP5444846B2 (ja) 2008-05-30 2014-03-19 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置用ガラス板
EP2307328A1 (en) * 2008-07-11 2011-04-13 Corning Incorporated Glass with compressive surface for consumer applications
WO2010016928A2 (en) 2008-08-08 2010-02-11 Corning Incorporated Strengthened glass articles and methods of making
US8341976B2 (en) 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
WO2010095736A1 (ja) * 2009-02-23 2010-08-26 日本電気硝子株式会社 リチウムイオン電池用ガラスフィルム
US20110019354A1 (en) * 2009-03-02 2011-01-27 Christopher Prest Techniques for Strengthening Glass Covers for Portable Electronic Devices
CN102388003B (zh) 2009-03-02 2014-11-19 苹果公司 用于强化用于便携式电子设备的玻璃盖的技术
CN101508524B (zh) * 2009-03-31 2010-06-30 成都光明光电股份有限公司 适于化学钢化的玻璃及其化学钢化玻璃
DE102009050988B3 (de) * 2009-05-12 2010-11-04 Schott Ag Dünnschichtsolarzelle
DE102009050987B3 (de) * 2009-05-12 2010-10-07 Schott Ag Dünnschichtsolarzelle und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtsolarzelle
US9637408B2 (en) * 2009-05-29 2017-05-02 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium containing glass
US9371247B2 (en) 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
US8647995B2 (en) 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
US8802581B2 (en) * 2009-08-21 2014-08-12 Corning Incorporated Zircon compatible glasses for down draw
JP5621239B2 (ja) 2009-10-20 2014-11-12 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置用ガラス板、ディスプレイ装置用板ガラスおよびその製造方法
EP2492247A1 (en) * 2009-10-20 2012-08-29 Asahi Glass Company, Limited Glass sheet for cu-in-ga-se solar cells, and solar cells using same
CN102092940A (zh) * 2009-12-11 2011-06-15 肖特公开股份有限公司 用于触摸屏的铝硅酸盐玻璃
JP2013516387A (ja) * 2010-01-07 2013-05-13 コーニング インコーポレイテッド 耐衝撃損傷性ガラス板
US8835011B2 (en) * 2010-01-07 2014-09-16 Corning Incorporated Cover assembly for electronic display devices
DE102010006331A1 (de) * 2010-01-29 2011-08-04 Schott Ag, 55122 Aluminosilikatgläser mit hoher thermischer Beständigkeit, niedriger Verarbeitungstemperatur und hoher Kristallisationsbeständigkeit
KR100978678B1 (ko) * 2010-02-08 2010-08-27 노바테크인더스트리 주식회사 투명 전극 일체형 봉지 모듈의 제조 방법
DE102010009584B4 (de) * 2010-02-26 2015-01-08 Schott Ag Chemisch vorgespanntes Glas, Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung desselben
CN102167507B (zh) 2010-02-26 2016-03-16 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于3d紧密模压的薄锂铝硅玻璃
WO2011109114A2 (en) * 2010-03-05 2011-09-09 Carestream Health, Inc. Transparent conductive films, articles, and methods
JP2011195419A (ja) * 2010-03-23 2011-10-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 薄板ガラス製造装置及びその製造方法
TWI524244B (zh) * 2010-05-04 2016-03-01 Winsky Technology Ltd Touch panel and manufacturing method thereof
CN102249542B (zh) * 2010-05-18 2015-08-19 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于3d精密模压和热弯曲的碱金属铝硅酸盐玻璃
KR20130072187A (ko) 2010-05-19 2013-07-01 아사히 가라스 가부시키가이샤 화학 강화용 유리 및 디스플레이 장치용 유리판
JP5700623B2 (ja) * 2010-05-31 2015-04-15 Hoya株式会社 ガラス基板
DE102010023366B4 (de) * 2010-06-10 2017-09-21 Schott Ag Verwendung von Gläsern für Photovoltaik-Anwendungen
JP2012036074A (ja) * 2010-07-12 2012-02-23 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
JP5459122B2 (ja) * 2010-07-15 2014-04-02 旭硝子株式会社 ディスプレイ装置
KR101238214B1 (ko) * 2010-08-17 2013-03-04 웅진케미칼 주식회사 화학강화유리를 이용한 플렉시블 디스플레이 기판
US20120052275A1 (en) * 2010-08-30 2012-03-01 Avanstrate Inc. Glass substrate, chemically strengthened glass substrate and cover glass, and method for manufactruing the same
JP5909937B2 (ja) * 2010-09-09 2016-04-27 日本電気硝子株式会社 半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法
CA2752277A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-13 Gregory F. Jacobs Photovoltaic modules
FR2964655B1 (fr) * 2010-09-13 2017-05-19 Saint Gobain Feuille de verre
US9339993B2 (en) 2010-09-14 2016-05-17 Corning Incorporated Appliance fascia and mounting therefore
CN103097315B (zh) 2010-09-27 2015-10-14 旭硝子株式会社 化学强化用玻璃、化学强化玻璃及显示装置用玻璃板
US9434644B2 (en) * 2010-09-30 2016-09-06 Avanstrate Inc. Cover glass and method for producing cover glass
KR101228093B1 (ko) 2010-11-23 2013-01-31 삼성코닝정밀소재 주식회사 에칭 유리
US8883663B2 (en) 2010-11-30 2014-11-11 Corning Incorporated Fusion formed and ion exchanged glass-ceramics
EP3147767A1 (en) 2010-11-30 2017-03-29 Corning Incorporated Display device with light diffusive glass panel
US9206074B2 (en) 2010-12-08 2015-12-08 Nippon Electric Glass Co., Ltd. High-refractive-index glass
DE102010054967B4 (de) * 2010-12-08 2014-08-28 Schott Ag Borfreies Universalglas und dessen Verwendung
TWI588104B (zh) * 2010-12-14 2017-06-21 康寧公司 用於強化玻璃之熱處理
JP2012126615A (ja) * 2010-12-16 2012-07-05 Asahi Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
US20120154906A1 (en) * 2010-12-17 2012-06-21 Pallavi Tatapudy Glaraser
JP5834793B2 (ja) * 2010-12-24 2015-12-24 旭硝子株式会社 化学強化ガラスの製造方法
JP5612233B1 (ja) * 2010-12-24 2014-10-22 旭硝子株式会社 化学強化用ガラス
JP5437351B2 (ja) * 2010-12-27 2014-03-12 Ｈｏｙａ株式会社 携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器
CN102531384B (zh) 2010-12-29 2019-02-22 安瀚视特股份有限公司 玻璃盖片及其制造方法
JP2012148909A (ja) * 2011-01-18 2012-08-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス及び強化ガラス板
JP5839338B2 (ja) * 2011-01-18 2016-01-06 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板の製造方法
DE102011009769A1 (de) * 2011-01-28 2012-08-02 Eglass Asia Ltd. Hochfestes Alkali-Alumo-Silikatglas
JP5850401B2 (ja) * 2011-02-10 2016-02-03 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板
JP2012193092A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Asahi Glass Co Ltd ガラス板、およびその製造方法
JP2012193090A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Asahi Glass Co Ltd ガラス板、およびその製造方法
WO2012131824A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 日本板硝子株式会社 化学強化に適したガラス組成物、および化学強化ガラス物品
US8889575B2 (en) 2011-05-31 2014-11-18 Corning Incorporated Ion exchangeable alkali aluminosilicate glass articles
US9783452B2 (en) * 2011-07-01 2017-10-10 Corning Incorporated Ion-exchanged glass of high surface compression and shallow depth of layer with high resistance to radial crack formation from vickers indentation
TWI591039B (zh) * 2011-07-01 2017-07-11 康寧公司 具高壓縮應力的離子可交換玻璃
CN102351421A (zh) * 2011-07-19 2012-02-15 彩虹集团公司 一种显示器件用保护盖板的碱铝硅酸盐玻璃的制备方法
JP5910851B2 (ja) * 2011-07-26 2016-04-27 日本電気硝子株式会社 集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子および集光型太陽光発電装置
JP2014207251A (ja) * 2011-08-12 2014-10-30 フジプレアム株式会社 太陽電池モジュール
CN102417301A (zh) * 2011-08-22 2012-04-18 河南国控宇飞电子玻璃有限公司 一种玻璃组合物及由其制成的玻璃、制法和用途
JP5783873B2 (ja) * 2011-10-04 2015-09-24 三星ダイヤモンド工業株式会社 ガラス基板のスクライブ方法
WO2013051514A1 (ja) * 2011-10-04 2013-04-11 旭硝子株式会社 カバーガラス
RU2691186C2 (ru) 2011-10-25 2019-06-11 Корнинг Инкорпорейтед Щелочноземельные алюмосиликатные стеклянные композиции с улучшенной химической и механической стойкостью
US9517966B2 (en) 2011-10-25 2016-12-13 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
EP2771294B1 (en) 2011-10-25 2017-12-13 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
EP2683666B1 (en) 2011-10-25 2017-12-13 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US9850162B2 (en) 2012-02-29 2017-12-26 Corning Incorporated Glass packaging ensuring container integrity
US10350139B2 (en) 2011-10-25 2019-07-16 Corning Incorporated Pharmaceutical glass packaging assuring pharmaceutical sterility
KR101930681B1 (ko) * 2011-11-18 2018-12-18 에이지씨 가부시키가이샤 화학 강화용 유리
KR101338659B1 (ko) * 2011-11-29 2013-12-06 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
US20130136909A1 (en) 2011-11-30 2013-05-30 John Christopher Mauro Colored alkali aluminosilicate glass articles
KR101535823B1 (ko) * 2011-12-15 2015-07-13 엘지디스플레이 주식회사 터치 및 입체 영상 표시 기능을 갖는 액정표시장치 및 그의 제조 방법
CN103999140B (zh) * 2011-12-16 2015-12-23 旭硝子株式会社 显示器用保护玻璃、显示器用保护玻璃的制造方法
JP4932059B1 (ja) * 2011-12-16 2012-05-16 株式会社ミクロ技術研究所 強化ガラス、タッチパネル、及び強化ガラスの製造方法
GB201200890D0 (en) * 2012-01-19 2012-02-29 Univ Dundee An ion exchange substrate and metalized product and apparatus and method for production thereof
JP5930377B2 (ja) * 2012-02-20 2016-06-08 日本電気硝子株式会社 強化ガラス
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
KR102047016B1 (ko) 2012-02-28 2019-11-20 코닝 인코포레이티드 저-마찰 코팅을 갖는 유리 제품
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
JP2015205779A (ja) * 2012-02-29 2015-11-19 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法
US11179295B2 (en) 2012-02-29 2021-11-23 Corning Incorporated Glass packaging ensuring container integrity
US9701580B2 (en) 2012-02-29 2017-07-11 Corning Incorporated Aluminosilicate glasses for ion exchange
US9359251B2 (en) 2012-02-29 2016-06-07 Corning Incorporated Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles
JP5764084B2 (ja) * 2012-03-15 2015-08-12 日本板硝子株式会社 ガラス組成物、化学強化用ガラス組成物、強化ガラス物品、ディスプレイ用のカバーガラスおよび強化ガラス物品の製造方法
CN102643021A (zh) * 2012-05-09 2012-08-22 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种用于生产铝硅酸盐玻璃的复合性能增强剂
EP2848594A4 (en) * 2012-05-11 2016-01-27 Asahi Glass Co Ltd FRONT GLASS PLATE FOR LAMINATED BODY, AND LAMINATED BODY
KR101474399B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-22 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101474398B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-18 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101468669B1 (ko) * 2012-05-15 2014-12-04 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
JP2014001124A (ja) * 2012-05-25 2014-01-09 Asahi Glass Co Ltd 化学強化ガラス板、カバーガラスおよびディスプレイ装置
WO2013176150A1 (ja) * 2012-05-25 2013-11-28 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板、カバーガラス、タッチセンサ付化学強化ガラスおよびディスプレイ装置
JP2013249216A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Asahi Glass Co Ltd タッチセンサ付化学強化ガラス及びディスプレイ装置
CN104350020A (zh) * 2012-05-25 2015-02-11 旭硝子株式会社 化学强化玻璃板、保护玻璃、带触控传感器的化学强化玻璃及显示装置
JPWO2013179882A1 (ja) * 2012-05-28 2016-01-18 旭硝子株式会社 輸送機械用フラットパネルディスプレイ装置のカバーガラス、及び輸送機械用フラットパネルディスプレイ装置
EP2855383B1 (en) * 2012-05-31 2021-06-16 Corning Incorporated Ion exchangeable transition metal-containing glasses
US8951927B2 (en) 2012-05-31 2015-02-10 Corning Incorporated Zircon compatible, ion exchangeable glass with high damage resistance
US9938180B2 (en) * 2012-06-05 2018-04-10 Corning Incorporated Methods of cutting glass using a laser
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
US20150004390A1 (en) * 2012-06-08 2015-01-01 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Tempered glass, tempered glass plate, and glass for tempering
JP6168288B2 (ja) * 2012-06-13 2017-07-26 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス板
KR101512146B1 (ko) * 2012-06-21 2015-04-15 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101468668B1 (ko) * 2012-06-21 2014-12-04 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
KR101465170B1 (ko) * 2012-06-21 2014-11-25 주식회사 엘지화학 알칼리 유리 및 그 제조 방법
WO2014003188A1 (ja) * 2012-06-25 2014-01-03 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
JP6032468B2 (ja) * 2012-07-09 2016-11-30 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法
US9139469B2 (en) 2012-07-17 2015-09-22 Corning Incorporated Ion exchangeable Li-containing glass compositions for 3-D forming
JP2014037343A (ja) * 2012-07-18 2014-02-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 医薬品容器用ガラス及びこれを用いたガラス管
JP2014024717A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Asahi Glass Co Ltd Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ太陽電池用ガラス板およびそれを用いた太陽電池とその製造方法
CN110529807A (zh) * 2012-08-03 2019-12-03 常州亚玛顿股份有限公司 太阳能照明系统
JP5925642B2 (ja) 2012-08-31 2016-05-25 日本航空電子工業株式会社 無機固体材料および刃物工具
CN110698059B (zh) * 2012-10-04 2022-07-29 康宁股份有限公司 由光敏玻璃制成的压缩应力化层合玻璃制品及制备所述制品的方法
DE102012019985B4 (de) 2012-10-11 2020-11-05 Zwiesel Kristallglas Ag Verfahren zum Härten von Kristallglas
CN102910817A (zh) * 2012-10-24 2013-02-06 江苏博杰特机电有限公司 一种强化玻璃
CN102976611A (zh) * 2012-11-30 2013-03-20 东旭集团有限公司 一种轻质触摸屏用盖板玻璃的配方
US10117806B2 (en) 2012-11-30 2018-11-06 Corning Incorporated Strengthened glass containers resistant to delamination and damage
CN102976610A (zh) * 2012-11-30 2013-03-20 东旭集团有限公司 一种触屏盖板用玻璃配方
JP5510693B1 (ja) * 2012-12-07 2014-06-04 日本電気硝子株式会社 屈曲部を有する強化ガラス板の製造方法及び屈曲部を有する強化ガラス板
JP2015061808A (ja) * 2012-12-21 2015-04-02 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化ガラス板、強化ガラス容器及び強化用ガラス
WO2014115789A1 (ja) * 2013-01-23 2014-07-31 コニカミノルタ株式会社 化学強化用ガラス材、化学強化ガラスおよびカバーガラス
TW201442973A (zh) * 2013-01-24 2014-11-16 Asahi Glass Co Ltd 太陽電池用蓋玻璃及太陽電池模組
US9714192B2 (en) * 2013-02-08 2017-07-25 Corning Incorporated Ion exchangeable glass with advantaged stress profile
WO2014139147A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Chemically toughened flexible ultrathin glass
JP2014208570A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
JPWO2014157008A1 (ja) * 2013-03-29 2017-02-16 旭硝子株式会社 化学強化用ガラスおよびその製造方法、並びに化学強化ガラスの製造方法
EP2982657A4 (en) * 2013-04-03 2016-11-30 Asahi Glass Co Ltd DOUBLE GLAZING FOR BUILDING WINDOWS
US9707154B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700485B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717648B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9603775B2 (en) 2013-04-24 2017-03-28 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700486B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707153B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9713572B2 (en) 2013-04-24 2017-07-25 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717649B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707155B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9849066B2 (en) 2013-04-24 2017-12-26 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9839579B2 (en) 2013-04-24 2017-12-12 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
JP5704767B2 (ja) * 2013-04-26 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及びその製造方法
KR102225583B1 (ko) 2013-04-29 2021-03-10 코닝 인코포레이티드 광기전력 모듈 패키지
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
US9684097B2 (en) 2013-05-07 2017-06-20 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9359261B2 (en) 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
JP2014240346A (ja) * 2013-05-15 2014-12-25 日本電気硝子株式会社 強化用ガラス板及び強化ガラス板
CN105473525A (zh) * 2013-06-14 2016-04-06 旭硝子株式会社 减小由化学强化处理导致的玻璃基板的翘曲的方法、化学强化玻璃及其制造方法
JP6394110B2 (ja) * 2013-07-08 2018-09-26 日本電気硝子株式会社 強化ガラスの製造方法
US11079309B2 (en) 2013-07-26 2021-08-03 Corning Incorporated Strengthened glass articles having improved survivability
US10941071B2 (en) 2013-08-02 2021-03-09 Corning Incorporated Hybrid soda-lime silicate and aluminosilicate glass articles
CN104418504A (zh) * 2013-08-27 2015-03-18 科立视材料科技有限公司 化学强化碱铝硅酸盐玻璃用玻璃组合物及其制造方法
CN111268912B (zh) 2013-08-30 2022-08-30 康宁股份有限公司 可离子交换玻璃、玻璃-陶瓷及其制造方法
US10160688B2 (en) 2013-09-13 2018-12-25 Corning Incorporated Fracture-resistant layered-substrates and articles including the same
EP3057915B1 (en) * 2013-10-14 2022-04-20 Corning Incorporated Ion exchange processes and chemically strengthened glass substrates resulting therefrom
CN104276758A (zh) * 2013-10-31 2015-01-14 东旭集团有限公司 一种可提高化学钢化性能的触摸屏盖板玻璃
TWI656022B (zh) 2013-11-13 2019-04-11 美商康寧公司 疊層玻璃物件及其製造方法
JP5668828B1 (ja) * 2013-11-22 2015-02-12 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板
DE102013114225B4 (de) 2013-12-17 2017-03-16 Schott Ag Chemisch vorspannbares Glas und daraus hergestelltes Glaselement
US9321677B2 (en) 2014-01-29 2016-04-26 Corning Incorporated Bendable glass stack assemblies, articles and methods of making the same
US10118858B2 (en) 2014-02-24 2018-11-06 Corning Incorporated Strengthened glass with deep depth of compression
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US9670088B2 (en) 2014-05-20 2017-06-06 Corning Incorporated Scratch resistant glass and method of making
CN104020903A (zh) * 2014-05-22 2014-09-03 格林精密部件（惠州）有限公司 一种新型集成式电容触控屏
JP6347160B2 (ja) * 2014-06-17 2018-06-27 日本電気硝子株式会社 ガラス物品及びその製造方法
TWI705889B (zh) 2014-06-19 2020-10-01 美商康寧公司 無易碎應力分布曲線的玻璃
CN106660857B (zh) * 2014-06-27 2019-05-17 Ａｇｃ株式会社 玻璃和使用了该玻璃的化学强化玻璃
WO2016002888A1 (ja) * 2014-07-04 2016-01-07 旭硝子株式会社 化学強化用ガラスおよび化学強化ガラス
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
WO2016037083A1 (en) 2014-09-05 2016-03-10 Corning Incorporated Glass articles and methods for improving the reliability of glass articles
DE102014013550A1 (de) * 2014-09-12 2016-03-31 Schott Ag Beschichtetes chemisch vorgespanntes flexibles dünnes Glas
TWI695821B (zh) 2014-09-25 2020-06-11 美商康寧公司 玻璃製品
JP6532794B2 (ja) * 2014-10-03 2019-06-19 日本電気硝子株式会社 膜付きガラス板、タッチセンサ、膜及び膜付きガラス板の製造方法
CN112250301A (zh) 2014-10-08 2021-01-22 康宁股份有限公司 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃和玻璃陶瓷
CN107074639A (zh) * 2014-10-17 2017-08-18 旭硝子株式会社 盖构件
US10150698B2 (en) 2014-10-31 2018-12-11 Corning Incorporated Strengthened glass with ultra deep depth of compression
EP4011843A3 (en) 2014-11-04 2022-06-29 Corning Incorporated Deep non-frangible stress profiles and methods of making
WO2016085867A1 (en) 2014-11-26 2016-06-02 Corning Incorporated Methods for producing strengthened and durable glass containers
JP6497576B2 (ja) * 2014-12-17 2019-04-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
GB201505091D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
WO2016154901A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Kornerstone Materials Technology Company, Ltd. Glass composition for chemically strengthened alkali-aluminoborosilicate glass with low dielectric constant
CN107531563B (zh) * 2015-04-23 2021-04-16 日本电气硝子株式会社 强化玻璃
CN109133615B (zh) * 2015-06-30 2022-05-10 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
US11613103B2 (en) 2015-07-21 2023-03-28 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
US10579106B2 (en) 2015-07-21 2020-03-03 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
EP3300520B1 (en) 2015-09-14 2020-11-25 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
CN108349795B (zh) * 2015-10-16 2020-12-29 Ａｇｃ株式会社 玻璃树脂层叠体
KR102642779B1 (ko) 2015-10-22 2024-03-05 코닝 인코포레이티드 고 투과 유리
RU2729081C2 (ru) 2015-10-30 2020-08-04 Корнинг Инкорпорейтед Изделия из стекла со смешанными полимерными и металлоксидными покрытиями
EP3386930B1 (en) 2015-12-11 2021-06-16 Corning Incorporated Fusion-formable glass-based articles including a metal oxide concentration gradient
US10043903B2 (en) 2015-12-21 2018-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor devices with source/drain stress liner
JP6606451B2 (ja) * 2016-03-28 2019-11-13 フクビ化学工業株式会社 高反射防止強化ガラスの製造方法
CN105955521A (zh) * 2016-03-29 2016-09-21 安徽物宝光电材料有限公司 一种平板电脑盖板玻璃的制造方法
CN106170027A (zh) * 2016-03-29 2016-11-30 安徽物宝光电材料有限公司 一种手机电容式触摸屏盖板玻璃的制造方法
KR20200091500A (ko) 2016-04-08 2020-07-30 코닝 인코포레이티드 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법
CN111423110A (zh) 2016-04-08 2020-07-17 康宁股份有限公司 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃基制品
CN105923995A (zh) * 2016-04-26 2016-09-07 东莞市银通玻璃有限公司 一种超薄韧性玻璃及其制备方法
US20170320769A1 (en) * 2016-05-06 2017-11-09 Corning Incorporated Glass compositions that retain high compressive stress after post-ion exchange heat treatment
DE102016113825A1 (de) 2016-07-27 2018-02-01 Schott Ag Verfahren zum chemischen Vorspannen eines zylindrischen Glas-Halbzeugs oder Glas-Behälters durch ein feldunterstütztes Ionenaustauschverfahren sowie Glasbehälter oder zylindrisches Glas-Halbzeug und Verwendung hiervon
DE102016113826A1 (de) 2016-07-27 2018-02-01 Schott Ag Verfahren zum chemischen Vorspannen eines zylindrischen Glas-Halbzeugs oder Glas- Behälters sowie Glasbehälter oder zylindrisches Glas-Halbzeug und Verwendung hiervon
US10065880B2 (en) 2016-11-07 2018-09-04 Corning Incorporated Lithium containing glasses
US10968134B2 (en) 2016-11-07 2021-04-06 Corning Incorporated Low viscosity glasses and methods and systems for manufacture
WO2018218690A1 (en) * 2017-06-02 2018-12-06 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co., Ltd. High contact resistant flexible ultrathin glass
CN110770179A (zh) * 2017-06-02 2020-02-07 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 具有高抗接触性的柔性超薄玻璃
KR102624813B1 (ko) * 2017-07-24 2024-01-15 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 화학 강화 유리 및 화학 강화 유리의 제조 방법
CN107555782A (zh) * 2017-08-07 2018-01-09 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 一种高透过板玻璃
JP7365004B2 (ja) * 2017-08-08 2023-10-19 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板及び強化用ガラス板
JP2020532481A (ja) * 2017-09-04 2020-11-12 ショット グラス テクノロジーズ （スゾウ） カンパニー リミテッドＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ （Ｓｕｚｈｏｕ） Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 改善された曲げ性および化学強化性を有する薄板ガラス
CN107935378B (zh) * 2017-10-24 2020-10-20 彩虹集团（邵阳）特种玻璃有限公司 一种用于显示器件的高强度玻璃及其制备方法
JP6967081B2 (ja) * 2017-11-15 2021-11-17 富士フイルム株式会社 タッチセンサ及びタッチパネル
US11214512B2 (en) 2017-12-19 2022-01-04 Owens Coming Intellectual Capital, LLC High performance fiberglass composition
CN112313182B (zh) 2018-06-21 2023-04-04 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 没有光学橙皮的化学钢化的玻璃制品及其生产方法
DE102018116483A1 (de) 2018-07-06 2020-01-09 Schott Ag Chemisch vorspannbare Gläser mit hoher chemischer Resistenz und Rißbeständigkeit
DE102018116464A1 (de) 2018-07-06 2020-01-09 Schott Ag Chemisch vorspannbare, korrosionsstabile Gläser
DE102019117498B4 (de) 2018-07-06 2024-03-28 Schott Ag Gläser mit verbesserter Ionenaustauschbarkeit
CN108585480B (zh) * 2018-07-10 2021-05-04 科立视材料科技有限公司 一种二步法化学强化碱铝硅酸玻璃组合物及其制备方法
CN108585481A (zh) * 2018-07-13 2018-09-28 科立视材料科技有限公司 一种可快速进行离子交换的含锂铝硅酸盐玻璃
JP6593724B2 (ja) * 2018-08-16 2019-10-23 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
CN111094200B (zh) 2018-08-17 2022-01-07 康宁股份有限公司 具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品
WO2020041032A1 (en) 2018-08-24 2020-02-27 Corning Incorporated Article comprising puncture resistant laminate with ultra-thin glass layer
JP6593726B2 (ja) * 2018-09-06 2019-10-23 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス板
CN109293254A (zh) * 2018-11-06 2019-02-01 盐城易快来科技有限公司 一种硬度增强型手机显示屏
RU2726812C1 (ru) * 2019-09-25 2020-07-15 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации Стекло, упрочняемое ионным обменом
KR102244554B1 (ko) 2020-02-07 2021-04-26 부산대학교 산학협력단 자가치유 특성을 갖는 유리의 제조 방법
CN111662008B (zh) * 2020-06-30 2022-04-15 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物及其制造方法
KR20220060582A (ko) 2020-11-04 2022-05-12 삼성디스플레이 주식회사 윈도우 성형 장치 및 이를 이용한 윈도우 성형 방법
CN118234691A (zh) * 2021-10-14 2024-06-21 康宁公司 用于制造的具有增强热性质的低模量可离子交换玻璃
CN114137652B (zh) * 2021-12-07 2023-11-28 华玻视讯(珠海)科技有限公司 一种玻璃导光板
CN115159864A (zh) * 2022-07-05 2022-10-11 四川虹科创新科技有限公司 一种能够延长熔盐寿命的强碰撞玻璃及其制备方法
CN117486502A (zh) * 2022-07-26 2024-02-02 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种含y2o3的化学强化玻璃及其应用
CN116002974A (zh) * 2023-01-19 2023-04-25 清远南玻节能新材料有限公司 一种可化学强化的硅酸盐玻璃及其制备方法、强化玻璃和应用

Family Cites Families (110)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3778335A (en) * 1971-09-02 1973-12-11 Corning Glass Works Sodium aluminosilicate glass article strengthened by a surface compressive stress layer
US4015045A (en) * 1974-01-09 1977-03-29 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4055703A (en) * 1975-08-15 1977-10-25 Ppg Industries, Inc. Ion exchange strengthened glass containing P2 O5
US4119760A (en) * 1975-08-15 1978-10-10 Ppg Industries, Inc. Chemical strengthening of glass
US4053679A (en) * 1975-08-15 1977-10-11 Ppg Industries, Inc. Chemically strengthened opal glass
US4212919A (en) * 1979-06-28 1980-07-15 Corning Glass Works Strengthened polychromatic glasses
JPS57129839A (en) * 1981-02-02 1982-08-12 Seiko Epson Corp Cover glass for watch
DE3212612C2 (de) 1982-04-05 1985-12-19 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Chemisch härtbares Uhrglas mit hoher Knoop-Härte im System SiO↓2↓-Al↓2↓O↓3↓-MgO-Na↓2↓O-K↓2↓O(-B↓2↓O↓3↓-CaO-La↓2↓O↓3↓)
JPS61201639A (ja) * 1985-03-05 1986-09-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板レンズ
GB2171990B (en) * 1985-03-08 1988-12-07 Central Glass Co Ltd Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article
JPS62270439A (ja) 1986-05-17 1987-11-24 Ishizuka Glass Ltd 化学強化用ガラス
JPS63230536A (ja) * 1987-03-18 1988-09-27 Nippon Sheet Glass Co Ltd タリウム含有光学ガラス
JPS641329A (en) * 1987-06-23 1989-01-05 Fuji Electric Co Ltd Digital synchronism control circuit
JPH01201043A (ja) 1988-02-05 1989-08-14 Eta G K:Kk 高強度ガラス
JPH01239036A (ja) * 1988-03-16 1989-09-25 F G K:Kk 高強度ガラス
JPH03237036A (ja) 1989-08-24 1991-10-22 Nippon Electric Glass Co Ltd アルミナパッケージ用薄板状硼けい酸ガラス
JP2548423B2 (ja) * 1990-04-04 1996-10-30 日本板硝子株式会社 ガラス製パネル
JP3237036B2 (ja) 1993-06-17 2001-12-10 三菱マテリアル株式会社 変色防止効果の優れた紫外線遮断用顔料
JPH07101748A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス製パネル用基板
FR2727399B1 (fr) * 1994-10-13 1997-01-31 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications
CN1047158C (zh) * 1994-10-13 1999-12-08 圣戈班玻璃制造公司 增强的玻璃衬底
GB2299991B (en) * 1995-04-20 1998-09-09 Ag Technology Corp Glass substrate for magnetic disk
JP2006179180A (ja) 1995-04-27 2006-07-06 Asahi Glass Co Ltd 磁気ディスク
US5674790A (en) * 1995-12-15 1997-10-07 Corning Incorporated Strengthening glass by ion exchange
US5698812A (en) * 1996-02-23 1997-12-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Thermite destructive device
JP3271691B2 (ja) 1996-02-29 2002-04-02 セイコーインスツルメンツ株式会社 表示装置の製造方法
DE19616679C1 (de) * 1996-04-26 1997-05-07 Schott Glaswerke Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben
DE19616633C1 (de) 1996-04-26 1997-05-07 Schott Glaswerke Chemisch vorspannbare Aluminosilicatgläser und deren Verwendung
JP3187321B2 (ja) * 1996-06-14 2001-07-11 日本板硝子株式会社 化学強化用ガラス組成物および化学強化ガラス物品
JP3412804B2 (ja) 1996-12-26 2003-06-03 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板
US5972460A (en) * 1996-12-26 1999-10-26 Hoya Corporation Information recording medium
JP3254157B2 (ja) 1996-12-29 2002-02-04 ホーヤ株式会社 記録媒体用ガラス基板、及び該基板を用いた記録媒体
US6905991B1 (en) * 1997-03-13 2005-06-14 Saint-Gobain Glass France Soda-lime-silica glass compositions and applications
JPH10338548A (ja) * 1997-04-30 1998-12-22 Agfa Gevaert Nv ロール上に薄いガラスを製造するための方法
JP3384286B2 (ja) * 1997-06-20 2003-03-10 日本板硝子株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板
JPH11191212A (ja) 1997-12-25 1999-07-13 Toshitomo Morisane 高強度スムーズガラス基板
DE19802919C1 (de) * 1998-01-27 1999-10-07 Schott Glas Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
GB2335423A (en) * 1998-03-20 1999-09-22 Pilkington Plc Chemically toughenable glass
US6376403B1 (en) * 1998-04-17 2002-04-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition and process for producing the same
JP4086211B2 (ja) * 1998-04-17 2008-05-14 Ｈｏｙａ株式会社 ガラス組成物およびその製造方法
FR2780101B1 (fr) * 1998-06-18 2000-07-28 Hispano Suiza Sa Inverseur de poussee de turboreacteur a portes formant ecopes a section d'echappement adaptable
US6383404B1 (en) * 1998-08-19 2002-05-07 Hoya Corporation Glass substrate for magnetic recording medium, magnetic recording medium, and method of manufacturing the same
JP3616610B2 (ja) 1998-08-19 2005-02-02 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体及びそれらの製造方法
DE19838198C2 (de) * 1998-08-24 2002-06-27 Schott Glas Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen
JP2000159538A (ja) 1998-11-27 2000-06-13 Asahi Glass Co Ltd 太陽電池用ガラス
JP2000268348A (ja) * 1999-03-18 2000-09-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
JP2006228431A (ja) * 1999-05-13 2006-08-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク
JP2001076336A (ja) * 1999-09-08 2001-03-23 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板およびそれを用いた情報記録媒体
JP2001294442A (ja) * 2000-02-10 2001-10-23 Sony Corp 陰極線管用ガラスパネルおよびこれを用いた陰極線管ならびに陰極線管の製造方法
SG99350A1 (en) * 2000-02-17 2003-10-27 Hoya Corp Glass for cathode-ray tube, strengthened glass, method for the production thereof and use thereof
JP2001348245A (ja) 2000-06-02 2001-12-18 Hoya Corp 強化ガラス、その製造方法およびディスプレイ用ガラス
DE10017701C2 (de) * 2000-04-08 2002-03-07 Schott Glas Gefloatetes Flachglas
JP2002060242A (ja) * 2000-08-17 2002-02-26 Sony Corp 陰極線管用ファンネルおよびこれを用いた陰極線管
JP3575601B2 (ja) * 2000-09-26 2004-10-13 旭テクノグラス株式会社 電子光学部品用ガラスの製造方法
JP2002167230A (ja) * 2000-11-28 2002-06-11 Nippon Electric Glass Co Ltd プレス成形用ガラス及び情報記録媒体用基板ガラス
JP2002174810A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Hoya Corp ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
JP3702360B2 (ja) * 2001-01-04 2005-10-05 日本板硝子株式会社 化学強化用のガラス素板の製造方法
JP2002308643A (ja) * 2001-02-01 2002-10-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板
JP2002234754A (ja) * 2001-02-02 2002-08-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd 強化された機能性膜被覆ガラス物品の製造方法
EP1245545B1 (en) 2001-03-30 2011-08-10 Asahi Glass Company Ltd. Glass plate and method for tempering a glass plate
JP2002334658A (ja) * 2001-05-08 2002-11-22 Sony Corp 陰極線管及び陰極線管の分割処理方法並びに陰極線管の加工方法
JP2003012343A (ja) * 2001-06-28 2003-01-15 Nippon Electric Glass Co Ltd セラミック材料及びそれを用いた光学デバイス
JP4185266B2 (ja) * 2001-07-25 2008-11-26 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板の製造方法
DE10141666A1 (de) * 2001-08-25 2003-03-13 Schott Glas Zinkhaltiges Alkalialuminosilicatglas und seine Verwendungen
JP2003187424A (ja) * 2001-12-17 2003-07-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板
FR2839508B1 (fr) * 2002-05-07 2005-03-04 Saint Gobain Vitrage decoupe sans rompage
JP4446683B2 (ja) 2002-05-24 2010-04-07 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録媒体用ガラス基板
US7309671B2 (en) * 2002-05-24 2007-12-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass composition, glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method for producing the same
JP2004131314A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Asahi Glass Co Ltd 透明導電膜付き化学強化ガラス基板、およびその製造方法
US7964298B2 (en) 2002-10-29 2011-06-21 Hoya Corporation Glass for chemical strengthening, substrate for information recording media and information recording media
JP2004259402A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法
JP4865351B2 (ja) * 2003-03-24 2012-02-01 株式会社Ｎｓｃ 液晶ディスプレイ
JP3577492B1 (ja) * 2003-03-24 2004-10-13 西山ステンレスケミカル株式会社 ガラスの切断分離方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ
KR100792771B1 (ko) 2003-05-28 2008-01-11 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 화학강화글래스 및 그 제조방법
JP4535692B2 (ja) * 2003-05-28 2010-09-01 セントラル硝子株式会社 化学強化ガラス
US7273668B2 (en) * 2003-06-06 2007-09-25 Hoya Corporation Glass composition including zirconium, chemically strengthened glass article, glass substrate for magnetic recording media, and method of producing glass sheet
JP4656863B2 (ja) 2003-06-06 2011-03-23 Ｈｏｙａ株式会社 ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法
US7727917B2 (en) * 2003-10-24 2010-06-01 Schott Ag Lithia-alumina-silica containing glass compositions and glasses suitable for chemical tempering and articles made using the chemically tempered glass
JP2005162600A (ja) 2003-11-11 2005-06-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 半導体パッケージ用カバーガラス
JP2005162519A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Nishiyama Stainless Chem Kk フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の切断分離面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ
JP4213077B2 (ja) * 2004-04-28 2009-01-21 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法並びに情報記録媒体およびその製造方法
DE102004022629B9 (de) * 2004-05-07 2008-09-04 Schott Ag Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung
JP2006062929A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラス物品及びその製造方法
JP2006083045A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Hitachi Ltd ガラス部材
JP5201519B2 (ja) 2004-10-01 2013-06-05 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板
JP4716245B2 (ja) 2004-11-11 2011-07-06 日本電気硝子株式会社 ガラス基板及びその製造方法
JP4613635B2 (ja) 2005-02-21 2011-01-19 日本電気硝子株式会社 ガラス及びその製造方法
JP4953156B2 (ja) * 2005-06-29 2012-06-13 日本電気硝子株式会社 光学ガラス
JP2007031211A (ja) 2005-07-27 2007-02-08 Ishizuka Glass Co Ltd カバーシート用ガラス
CN102249541B (zh) * 2005-08-15 2013-03-27 安瀚视特股份有限公司 玻璃组成物
US8304078B2 (en) * 2005-09-12 2012-11-06 Saxon Glass Technologies, Inc. Chemically strengthened lithium aluminosilicate glass having high strength effective to resist fracture upon flexing
JP2007099557A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス物品およびその製造方法
JP2007164901A (ja) 2005-12-14 2007-06-28 Konica Minolta Opto Inc 磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
CN101374776A (zh) 2006-01-30 2009-02-25 松下电器产业株式会社 灯用玻璃组合物的制造方法、灯用玻璃组合物以及灯
JP2007311168A (ja) * 2006-05-18 2007-11-29 Nippon Electric Glass Co Ltd 電界放出表示装置用ガラス基板およびその製造方法
WO2007138986A1 (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 強化ガラス及びその製造方法
JP5605736B2 (ja) * 2006-05-25 2014-10-15 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及びその製造方法
JP5875133B2 (ja) * 2006-10-10 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板
EP2075237B1 (en) * 2006-10-10 2019-02-27 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Reinforced glass substrate
US20100119846A1 (en) * 2007-03-02 2010-05-13 Masahiro Sawada Reinforced plate glass and method for manufacturing the same
US7666511B2 (en) * 2007-05-18 2010-02-23 Corning Incorporated Down-drawable, chemically strengthened glass for cover plate
US8349454B2 (en) * 2007-06-07 2013-01-08 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Strengthened glass substrate and process for producing the same
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
WO2009070237A1 (en) * 2007-11-29 2009-06-04 Corning Incorporated Glasses having improved toughness and scratch resistance
WO2009099615A1 (en) * 2008-02-05 2009-08-13 Corning Incorporated Damage resistant glass article for use as a cover plate in electronic devices
EP2252558A4 (en) * 2008-02-08 2014-08-27 Corning Inc DAMAGING RESISTANT, CHEMICALLY PREVENTED PROTECTIVE GLASS
DE202009018722U1 (de) * 2008-02-26 2012-11-21 Corning Inc. Läutermittel für Silikatgläser
US8232218B2 (en) * 2008-02-29 2012-07-31 Corning Incorporated Ion exchanged, fast cooled glasses
US20120196110A1 (en) * 2011-01-19 2012-08-02 Takashi Murata Tempered glass and tempered glass sheet

Also Published As

Publication number Publication date
EP2474508A1 (en) 2012-07-11
CN102320741A (zh) 2012-01-18
JP4840736B2 (ja) 2011-12-21
KR101145748B1 (ko) 2012-05-16
TWI386397B (zh) 2013-02-21
KR20110119843A (ko) 2011-11-02
JP5392391B2 (ja) 2014-01-22
TW201420533A (zh) 2014-06-01
JP2012236760A (ja) 2012-12-06
KR101391677B1 (ko) 2014-05-07
US8679631B2 (en) 2014-03-25
KR20130141731A (ko) 2013-12-26
JP5679527B2 (ja) 2015-03-04
CN102320741B (zh) 2015-08-19
KR101330104B1 (ko) 2013-11-18
TWI386398B (zh) 2013-02-21
US8168295B2 (en) 2012-05-01
KR101493762B1 (ko) 2015-02-16
TWI360544B (en) 2012-03-21
KR101156983B1 (ko) 2012-06-20
CN102424524A (zh) 2012-04-25
CN101772470B (zh) 2012-07-25
JP5418995B1 (ja) 2014-02-19
JP5088717B1 (ja) 2012-12-05
JP5601605B2 (ja) 2014-10-08
KR101518982B1 (ko) 2015-05-11
US20090197088A1 (en) 2009-08-06
US20120251827A1 (en) 2012-10-04
KR101113108B1 (ko) 2012-03-13
JP4817133B1 (ja) 2011-11-16
JP2011195443A (ja) 2011-10-06
KR20100057594A (ko) 2010-05-31
JP2013177298A (ja) 2013-09-09
JP2013032277A (ja) 2013-02-14
JP2011241143A (ja) 2011-12-01
CN102701587B (zh) 2015-11-18
EP2474511A1 (en) 2012-07-11
KR20110094229A (ko) 2011-08-22
JP5602270B2 (ja) 2014-10-08
JP5594444B2 (ja) 2014-09-24
JP4811799B2 (ja) 2011-11-09
JP5120792B1 (ja) 2013-01-16
US20110318571A1 (en) 2011-12-29
US9299869B2 (en) 2016-03-29
JP5867574B2 (ja) 2016-02-24
EP2474510B1 (en) 2016-07-06
JP2011256104A (ja) 2011-12-22
JP4947502B2 (ja) 2012-06-06
JP4888845B2 (ja) 2012-02-29
CN102515517A (zh) 2012-06-27
JP2014139129A (ja) 2014-07-31
TWI360543B (en) 2012-03-21
US20120141801A1 (en) 2012-06-07
US20110318572A1 (en) 2011-12-29
KR20130066713A (ko) 2013-06-20
JP2009057271A (ja) 2009-03-19
TW201141837A (en) 2011-12-01
CN102701587A (zh) 2012-10-03
EP2177485A1 (en) 2010-04-21
TWI440630B (zh) 2014-06-11
JP2014097928A (ja) 2014-05-29
KR20110095427A (ko) 2011-08-24
EP2474509B1 (en) 2016-06-29
EP2474509A1 (en) 2012-07-11
JP2015044743A (ja) 2015-03-12
KR101236374B1 (ko) 2013-02-22
JP2014080365A (ja) 2014-05-08
TW201242921A (en) 2012-11-01
EP2474508B1 (en) 2015-07-01
US9034469B2 (en) 2015-05-19
TWI457327B (zh) 2014-10-21
TWI547462B (zh) 2016-09-01
US9054250B2 (en) 2015-06-09
CN102718402A (zh) 2012-10-10
TW201202204A (en) 2012-01-16
JP2011207759A (ja) 2011-10-20
TWI599550B (zh) 2017-09-21
EP2474510A1 (en) 2012-07-11
EP2177485A4 (en) 2012-07-11
EP2474511B1 (en) 2015-06-17
CN102424524B (zh) 2014-10-01
KR20120120449A (ko) 2012-11-01
JP4784714B1 (ja) 2011-10-05
US20120141760A1 (en) 2012-06-07
KR20130141732A (ko) 2013-12-26
JP2013018703A (ja) 2013-01-31
JP5467490B2 (ja) 2014-04-09
WO2009019965A1 (ja) 2009-02-12
TW201242954A (en) 2012-11-01
KR101145749B1 (ko) 2012-05-16
JP2014040365A (ja) 2014-03-06
JP4793768B2 (ja) 2011-10-12
KR20110119842A (ko) 2011-11-02
JP2011195449A (ja) 2011-10-06
JP2011178662A (ja) 2011-09-15
TWI401227B (zh) 2013-07-11
TW201420534A (zh) 2014-06-01
JP2011190174A (ja) 2011-09-29
TW200911759A (en) 2009-03-16
CN101772470A (zh) 2010-07-07
JP2013234121A (ja) 2013-11-21
CN102320740A (zh) 2012-01-18
JP2011241141A (ja) 2011-12-01
JP2011195445A (ja) 2011-10-06
TW201202205A (en) 2012-01-16
EP2177485B1 (en) 2016-07-06
TW201141838A (en) 2011-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5867574B2 (ja) 強化ガラス基板及びその製造方法
JP5365974B2 (ja) 強化ガラス基板及びその製造方法
JP5743125B2 (ja) 強化ガラス及び強化ガラス基板
JP5875133B2 (ja) 強化ガラス基板
JP5429684B2 (ja) 強化ガラス基板及びその製造方法
JP5339173B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
JP5796905B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
JP5413817B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20110907

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110912

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111026

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111031

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120208

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120319

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4974066

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120401

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420

Year of fee payment: 3