JP6669821B2 - 消毒剤源の動作パラメータのスケジュールを決定するシステム - Google Patents

Description

本発明は、一般に紫外線放電ランプ装置及び殺菌デバイスの動作を制御するためのシス
テムに関し、より具体的には、１つ又は複数の反射器を有する紫外線放電ランプ装置、こ
のような装置を操作する方法、及び殺菌デバイスの動作パラメータ及び消毒スケジュール
を決定するシステムに関する。

以下の記載及び例は、本項目に含まれているという理由で、先行技術とは認められない
。

一般に殺菌システムは、１つ又は複数の表面及び／若しくは対象物を殺菌剤にさらして
、１つ又は複数の表面及び／若しくは対象物上に残留する微生物を不活性化するか又は殺
すように設計されている。殺菌システムの応用は、滅菌、対象物の消毒、及び室／領域の
汚染除去を含むがこれらに限定されない。滅菌システムの例としては、手術器具、食品又
は医薬品梱包の滅菌に使用されるものがある。領域／室の汚染除去システムの例としては
、病室においてその表面及び病室内の対象物を消毒するために使用されるもの、並びに飼
育動物及び／又は家畜に対して使用されるもの等、農業関連の活動において使用されるも
のがある。領域／室の消毒は、病原性微生物が環境内に存在して感染を引き起こすことが
明らかとなったため、ますます重要となっている。これは、特に抗菌剤に耐性を有する微
生物が環境内により一般的に見られ、対処がますます難しくなっているため、重要となっ
てきている。

従来の室／領域汚染除去システムの課題は、消毒が必要な全ての表面に対して殺菌剤を
効率的に拡散することである。特に、多くの従来の室／領域汚染除去システムでは、コス
ト及びサイズ面での制約によって、システムが含む消毒剤源の数が限定されている。更に
、従来の室／領域汚染除去システムにおける殺菌剤の指向性が固定されている。その結果
、従来のシステムは、室内又は領域内の多数の表面を同時に消毒できるよう、大用量の殺
菌剤を供給するように構成されることが多い。大用量の殺菌剤を全面的に拡散することに
よる問題は、室又は容積のいくつかの部分が殺菌剤に過剰にさらされることであり、これ
は事実上殺菌剤の無駄であるばかりか、潜在的に、消毒プロセスを実施するための時間及
び／又はエネルギの無駄である。更に場合によっては、殺菌剤を室全体に全面的に拡散す
る際、室／領域の一部、特に消毒剤源から比較的遠距離にある表面及び／又は消毒源と一
直線上にない表面は、十分な量の殺菌剤を受け取ることができない。殺菌剤への曝露が不
足すると、表面又は対象物に望ましくない多数の病原性微生物を残留させることになり、
これらの表面と後に接触するヒトが感染しやすくなる。

従来の室／領域汚染除去システムの更なる問題は、消毒プロセスを実施するにあたって
、室内の対象物及び表面に対する考察及び優先順位がないことである。結果として、割り
当てられた時間よりも早く室／領域の消毒プロセスが中断された場合、室内のうち、強く
汚染されている可能性のある対象物及び／又は表面が十分に消毒されていない可能性があ
る。特に、室／領域汚染除去システムの消毒剤源は、この消毒剤源から室／領域の周縁部
までの殺菌剤の曝露が、室／領域全体にわたって実質的に均一となるように（１つ又は複
数の特定の対象物の近傍ではなく）室の中心点付近に位置付け又は設置されることが多い
。同様に、システムが複数の消毒デバイスを含む場合、所定の消毒プロセスで室全体を消
毒するために、デバイスは、１つ又は複数の特定の対象物の近傍ではなく、室全体にわた
って均一に分散されることが多い。

いくつかの実施形態では、室／領域汚染除去システムにおける消毒剤源は、病室内のベ
ッド等の対象物又は表面の近傍に位置付けしていてもよいが、消毒剤源を特定の対象物の
近傍に位置付けすると、ドアのハンドル又は室の電灯のスイッチ等、より強く汚染されて
いる可能性があると考えられる室／領域内の他の対象物又は表面を消毒する必要性に対処
できない。更に、消毒剤源を室内の特定の位置に固定して設置する場合、特定の対象物に
対する消毒剤源の配置の効果は、その対象物が移動すると無くなる。汚染除去システムが
、室内で自由に位置付けできる１つ又は複数の消毒剤源を含む場合、１つ又は複数の消毒
剤源の位置付けという作業は一般に手作業で行われ、したがってこれは大きな労働力を要
し、配置誤差を発生させる傾向がある。更に、後で挙げたこれらの構成は、室内に消毒剤
源を配置するための室の特徴（例えばサイズ、面積構成及び／又は室内での対象物の相対
配置）の分析を伴わない。

漂白等の化学的方法から紫外線（ＵＶ）消毒等の先進的な方法にわたる、表面及び対象
物を消毒するための多数の異なる方法が存在する。特に、約２００〜約３２０ｎｍのスペ
クトルでのＵＶ照射は、微生物を不活性化したり、場合によっては微生物を殺すことに効
果的であることが知られており、これが、物品の消毒及び／又は滅菌のための紫外線光技
術の使用の理由になっている。いくつかのＵＶ消毒デバイスは、放電ランプを利用して紫
外線光を生成する。消毒及び滅菌用途に使用するのに加えて、放電ランプは例えばポリマ
ー硬化等の広範な用途において紫外線（ＵＶ）光を生成するために使用される。一般に、
放電ランプとは、ガス中の電極の間での内部放電を利用して光を生成するランプを指す。
この放電は、放射光を供給するプラズマを生成する。水銀蒸気ランプ等いくつかの例にお
いては、生成される光はひとたびランプをトリガすると途切れない。閃光電球又は閃光ラ
ンプとも呼ばれる放電ランプの他の構成は、極めて短時間だけ光を生成する。このような
放電ランプは、光の循環パルスを供給するために使用されることがあり、したがってパル
ス光源と呼ばれることがある。一般に使用される閃光ランプはキセノン閃光電球である。

様々な用途にＵＶ光を提供するために、様々なタイプの放電ランプが研究されてきたが
、特に紫外線光の伝播（すなわち、標的となる対象物への距離及び入射角度）に関して、
放電ランプを有する装置において生成される紫外線光の効率を改善する放電ランプの研究
は殆ど行われていない。このように進歩が起きない理由は、食品滅菌デバイス及び単一対
象物消毒デバイス等、放電ランプを有する多くの装置は、ランプに近接してランプと一直
線上に整列させて配置した物品を処理するように構成されており、したがってＵＶ光の伝
播を変更することによるＵＶ光の効率の改善は殆ど又は全く実現できないことである。更
に、室／領域汚染除去システムは、ＵＶ光を広い領域にわたって分散させるよう特に設計
されており、したがってシステムからのＵＶの伝播を変更すると、このような目的の妨げ
となる。更に、放電ランプを備えた多くの装置の用途及び多用途性は限定されている。例
えば、多くの食品滅菌デバイス及び単一対象物消毒デバイスは自己完結型装置であり、特
定の物品の処理のために構成されており、したがって一般には、他の物品の処理のために
又は他の用途における使用のためにシステムの多用途性を改善する特徴をもたない。更に
、装置によっては、ユーザを怪我から保護するために、時間がかかり及び／又は厄介な対
策が必要なものもある。例えば、パルス紫外線光技術は、一般に極めて明るく強い可視光
を含む深紫外線から赤外線までの広範なスペクトルの光のパルスを生成するキセノン閃光
ランプを使用する。可視光及び紫外線光の曝露は有害であり、したがって、装置の領域内
又は室汚染除去ユニットを使用する室の遮蔽窓内にパルス光を閉じ込める等の対策が必要
となる。

したがって、その利用を改善するような特徴を有する紫外線放電ランプ装置を開発する
ことは有益であり、このような特徴は、生成される紫外線光の効率を改善し、装置の多用
途性を向上させ、従来のシステムが必要とする時間のかかる厄介な対策を削減及び／又は
排除するような特徴を含むがそれに限定されない。更に、従来の室／領域汚染除去システ
ムよりも効果的で効率の良い室／領域汚染除去システムを開発すると有利である。

システムの様々な実施形態に関する以下の説明は、決して添付した請求項の主題を限定
するものと解釈するべきではない。

本明細書で開示する装置の実施形態は、紫外線光を放出するように構成された放電ラン
プ、放電ランプを動作させるように構成された電源回路、及び放電ランプが放出した紫外
線光を再配向するよう構成された反射器システムを含み、放電ランプが放出した光からレ
ーザを生成するための光学装置を備えていない。いくつかの実施形態では、装置は、電源
回路を含みかつ放電ランプを支持する支持構造を含む。このような実施形態のうちのいく
つかでは、反射器システムは、支持構造から離れる方向に伝播する紫外線光を、装置の外
側の、装置を配設する室の床から約２〜約４フィートである領域へと再配向するように構
成されている。更に又は代替として、他の実施形態では、反射器システムは、支持構造か
ら離れる方向に伝播する紫外線光を、装置の外側表面を取り囲む領域へと再配向するよう
に構成され、反射器システムは、更に装置の動作中にこの取り囲み領域へと再配向された
紫外線光を全て集めると、この取り囲み領域全体を占めるように構成されている。いずれ
の場合においても、いくつかの実施形態では、本明細書で開示する装置の反射器システム
は、再位置付け可能な反射器を含んでいる。

システムの実施形態は、消毒剤源並びにプロセッサ及びプログラム命令を備えた処理サ
ブシステムを含み、上記プログラム命令は、消毒剤源を配設する室の物理的属性に関する
データを受信するためにプロセッサが実行可能なものである。更に処理サブシステムは、
受信したデータに基づいて室内での位置を決定し、これによって消毒剤源及び／又は消毒
剤源を備えた構成部品の配向を位置付けするために、プロセッサが実行可能なプログラム
命令を含む。

システムの他の実施形態は、複数の消毒剤源、並びに１つ又は複数のプロセッサ及びこ
の１つ又は複数のプロセッサが実行可能なプログラム命令を備えた処理サブシステムを含
む。場合によっては、複数の消毒剤源を配設する室の特徴に関するデータを受信し、受信
したデータに基づいて複数の消毒剤源に関する１つ又は複数の独立した動作パラメータを
決定するために、１つ又は複数のプロセッサがプログラム命令を実行可能である。他の場
合には、複数の消毒剤源のそれぞれに関して、消毒剤源を配設する室内の標的位置、領域
、対象物又は表面を判別して、この標的位置、領域、対象物又は表面のうち２つ以上を比
較するために、１つ又は複数のプロセッサがプログラム命令を実行可能である。このよう
なシステムでは、更に２つ以上の標的位置が互いから所定の距離内にあることを検知する
とすぐに、及び／又は２つ以上の標的領域が重なっていることを検知するとすぐに、複数
の消毒剤源のうちの少なくとも１つの計画された消毒プロセスを変更するための１つ又は
複数の補正動作を実行するために、１つ又は複数のプロセッサがプログラム命令を実行可
能である。

本発明の他の目的及び利点は、以下の詳細な説明を読み、かつ添付した図面を参照すれ
ば、明らかになるであろう。

図１は、水平に位置付けされた放電ランプを有する紫外線放電ランプ装置の概略断面図である。 図２ａは、図１に示す紫外線放電ランプ装置に光学フィルタを収容するための代替構成を示す。 図２ｂは、図１に示す紫外線放電ランプ装置に光学フィルタを収容するための他の代替構成を示す。 図２ｃは、図１に示す紫外線放電ランプ装置に光学フィルタを収容するための更に他の代替構成を示す。 図３は、装置の支持構造の外側に設けられた放電ランプを有する図１に示す紫外線放電ランプ装置の代替構成を示す。 図４は、垂直に位置付けされた放電ランプを有する紫外線放電ランプ装置の斜視図である。 図５は、図４に示す紫外線放電ランプ装置のための放電ランプアセンブリの代替構成を示す断面図。 図６は、図４に示す紫外線放電ランプ装置のための光学フィルタの代替構成を示す斜視図。 図７は、図４に示す紫外線放電ランプ装置のための光学フィルタの他の代替構成を示す斜視図。 図８は、複数の紫外線放電ランプ装置を含むシステムを示す説明図。 図９は、１つ又は複数の消毒剤源と、１つ又は複数の消毒剤源に関して動作パラメータ及び消毒スケジュールを決定するためのプロセッサ実行可能プログラム命令を有する処理サブシステムとを含むシステムを示す。 図１０は、ある方法の概略を示すフローチャートであり、図９に示すシステムのプロセッサ実行可能なプログラム命令は、上記方法のために実行されるように構成している。 図１１は、他の方法の概略を示すフローチャートであり、図９に示すシステムのプロセッサ実行可能なプログラム命令は、上記他の方法のために実行されるように構成している。

本発明は様々な改変及び代替形態を許容するものであるが、特定の実施形態を例として
図示し、ここで詳細に説明する。しかしながら、図面及び図面に対する詳細な説明は、本
発明を最初に開示した特定の形態に本発明を限定することを意図したものではなく、反対
に、添付した請求項によって定義される本発明の精神及び範囲内にあるあらゆる改変、均
等物及び代替形態を包含することを意図していることを理解するべきである。

ここで図面に戻ると、放電ランプ装置の例示的実施形態が提供されている。より具体的
には、図１〜３には、ランプを支持する装置の平面に対して平行に縦方向に配設された放
電ランプ（これ以降「水平に位置付けされたランプ」と呼ぶ）を有する装置の例示的な構
成を示す。更に図４〜７には、ランプを支持する装置の平面に対して垂直に縦方向に設け
られた放電ランプ（これ以降「垂直に位置付けされたランプ」と呼ぶ）を有する装置の例
示的な構成を示す。更に図８には、２つの放電ランプ装置を有するシステムを示す。以下
、詳細に説明するように、本明細書で説明する装置及び特徴は、放電ランプが「水平」及
び「垂直」位置に限定されないことを含めて、図面に描写したものに限定されない。更に
、特定の特徴部分を他の特徴部分よりも大きな縮尺で描くことでその特徴を強調する場合
、図面は必ずしも正確な縮尺で描かれている必要がないことに留意されたい。

図１〜８を参照して説明する各装置は、紫外線光を生成するよう構成された放電ランプ
を含み、したがって図１〜８を参照して説明する装置を「紫外線放電ランプ装置」と呼ぶ
ことがある。いくつかの実施形態では、他の範囲の光を生成するように装置の放電ランプ
を更に構成してもよいが、「紫外線放電ランプ装置」として本明細書で説明する装置の参
照を妨げるものではない。いずれの場合においても、図１〜８を参照して説明する装置は
、放電ランプが放出する光からレーザを生成するための光学装置を備えておらず、したが
って本明細書では、いくつかの実施形態においてこの装置を非レーザ装置と呼ぶこともで
きる。言い換えると、図１〜８を参照して説明する装置は、放電ランプが放出する光をレ
ーザではない様式で伝播するよう構成されている。以下に、詳細に説明するように、図１
〜８を参照して説明する装置は、領域及び室並びに対象物全体を紫外線光に曝露するよう
構成され、したがって特に、レーザが生成するような、回折が限定された狭い光線を生成
するのではなく、広い範囲に光を分配するよう構成されている。

本明細書で使用する用語「放電ランプ」は、ガス中の電極の間での内部放電を利用して
光を生成するランプを指す。この用語はガス放電ランプも内包し、これはイオン性ガスを
通して放電を送ることによって光を生成する（すなわち、プラズマ）。この用語は、また
表面放電ランプも内包し、これはガスの存在下で誘電性基材の表面に沿って放電を送り、
基材の表面に沿ってプラズマを生成することによって光を生成する。したがって、本明細
書で説明する装置に関して考えられる放電ランプは、ガス放電ランプ及び表面放電ランプ
を含む。放電ランプ、は更に使用する１つ又は複数のガスのタイプ、及びランプを動作さ
せる圧力によって特徴づけることができる。本明細書で説明する装置に関して考えられる
放電ランプは、低圧、中圧及び高強度の放電ランプを含んでいる。更に、使用する１つ又
は複数のガスは、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素、酸素、水
素、水蒸気、二酸化炭素、水銀蒸気、ナトリウム蒸気及びこれらのいずれの組み合わせを
含んでいてもよい。更に、本明細書で説明する装置に関して考えられる放電ランプは、装
置の設計仕様に応じていずれのサイズ及び形状のものであってもよい。更に、本明細書で
説明する装置に関して考えられる放電ランプは、連続した光を生成するもの及び短期間だ
け光を生成するものを含んでいてもよく、本明細書では後者を閃光電球又は閃光ランプと
呼ぶ。光の回帰パルスを供給するために使用される閃光電球又は閃光ランプを、本明細書
ではパルス光源と呼ぶ。

連続した光を生成するために通常使用するガス放電ランプは水銀蒸気ランプであり、本
明細書で説明する装置うちのいくつかに関してこれを想定できる。水銀蒸気ランプは、ピ
ーク強度２５３．７ｍｍの光を放出し、この光は殺菌消毒に特に応用できると考えられ、
したがって紫外線殺菌放射（ＵＶＧＩ）において一般的に挙げられる。本明細書で説明す
る装置に関して考えられる通常使用される閃光ランプは、キセノン閃光電球である。水銀
蒸気ランプとは反対に、キセノン閃光電球は、紫外線から赤外線までの広範なスペクトル
の光を生成し、したがって殺菌性のものとして公知であるスペクトル（すなわち、約２０
０〜約３２０ｎｍ）全体にわたる紫外線光を提供する。更にキセノン閃光電球は、最適な
殺菌性を有するとして公知であるスペクトル（すなわち、約２６０〜約２６５ｎｍ）にお
いて比較的十分な強度を提供できる。更にキセノン閃光電球は極めて多量の熱を生成し、
これもまた微生物を不活性化するか殺すために更に役立たせることができる。

現在に至るまで容易には入手できないものの、上述のように、本明細書で説明する装置
のうちのいくつかに関して表面放電ランプを想定している。キセノン閃光電球と同様、表
面放電ランプは、殺菌性のものとして公知であるスペクトル（すなわち、約２００〜約３
２０ｎｍ）全体にわたる紫外線光を生成する。しかしながら対照的に、表面放電ランプは
、キセノンランプと比べてパルスに対してより高いエネルギレベルで動作し、したがって
より優れたＵＶ効率で動作し、またより長い寿命を提供する。水銀蒸気ランプ、キセノン
閃光ランプ及び表面放電ランプに関する以上の説明及び比較は、このようなランプを含む
ように本明細書で説明する装置を限定するものではないことに留意されたい。むしろ、以
上の説明及び比較は、特に装置の目的及び応用に応じて紫外線放電ランプ装置のための放
電ランプを選択する際に当業者が考慮できる因子を提供するためだけに提供されたもので
ある。

上述のように、図１〜８を参照して説明する装置は、対象物全体及び／又は領域／室を
処理できるように、広い範囲にわたって紫外線光を分配するように構成される。言い換え
ると、図１〜８を参照して説明する装置は、レーザの適用のために使用できるような、特
定の小さな標的のための狭い光線を生成するようには構成されていない。広い範囲に紫外
線光を分配するように構成すれば、図１〜８を参照して説明する装置は、対象物全体並び
に領域及び／又は室を消毒、汚染除去、及び／又は滅菌するために特に応用可能である。
例えば、図１〜８を参照して説明する装置は、病室を消毒するために使用してもよく、又
は農業関連の活動において使用してもよく、これは飼育動物及び／若しくは家畜に対して
使用されるものを含む。更に又は代替として、図１〜８を参照して説明する装置は、植物
上の微生物の成長を低減するために、又は手術器具、食品若しくは医薬品梱包を滅菌する
ために使用してもよい。紫外線光に対する広い範囲の曝露を伴う図１〜８を参照して説明
する装置の他の応用は、ポリマー硬化及び医療的手順であってもよい。

場合によっては、本明細書で説明する装置は、特に室の消毒を対象としてもよい。より
具体的には、かつ以下により詳細に説明するように、図１〜８を参照して説明する装置に
関して提示する特徴のうちのいくつか（特に、光学フィルタを備えていること、装置の支
持構造から伝播する紫外線光を再配向するための反射器システムを備えていること、動作
中に室内全体にわたって移動するよう適合されていること、及び／又はシステムが複数の
放電ランプ装置を含むこと）は、室内消毒装置に特に適している。このような理由から、
図１〜８を参照して説明する装置の多くは、室内消毒装置を対象とする。更に、以下に記
載する理由から、図１〜８を参照して説明する装置は、具体的には床をベースとして自立
する持ち運び可能な室内消毒装置を対象とする。しかしながら、図１〜８を参照して説明
する装置に関して説明する特徴は、室内消毒装置又は床をベースとする、持ち運び可能な
若しくは自立する構成に必ずしも限定されない。むしろ、図１〜８を参照して説明する特
徴は、いずれのタイプの紫外線放電ランプ装置に適用できる。本明細書で使用する用語「
室内消毒」は、ヒトの住居に適した境界を定められた領域を洗浄して、この領域において
保菌微生物を不活性化し、破壊し、又は保菌微生物の成長を防止することを意味する。

本明細書で説明する室内消毒装置は、床をベースとするもの、壁をベースとするもの及
び天井をベースとするものを含む幅広い構成を採り得る。しかしながら、室内消毒装置を
室の天井内に又は壁内に若しくは壁に対して配置してよいものの、多くの場合、紫外線室
内消毒装置をこのような構造から離して位置付けすると有利である。特に、対象物に対す
るＵＶ光の強度（したがってＵＶの消毒効率）に影響する主因子の１つは、対象物との距
離であり、したがって多くの場合、紫外線室内消毒装置を室の中心付近、又は汚染が疑わ
れる対象物の近傍に位置付けして、対象物との距離を最小化すると有利である。その上、
室内消毒装置をビル（例えば病院等）の複数の室で使用できる環境では、装置を持ち運び
可能とすると一般に有益である。これらの理由から、本明細書で説明し図面に示す装置の
多くは、自立型、持ち運び可能かつ床をベースとする室内消毒装置を対象とする。

一般に、図１〜８を参照して説明する装置は、実質的に一方向又は多方向に光を分配す
るよう構成してもよい。本明細書で使用している「実質的に一方向に光を分配するよう構
成される」とは、放電ランプから放出された光の大部分を単一の方向に伝播させ、副次的
な光をこの方向から３０°未満の角度に伝播するような装置の構成を指している。これ以
外の全ての光の分配は、「多方向に光を分配するように構成される」という言葉で表して
いる。実質的に一方向に光を分配するように構成された室内消毒装置は、壁若しくは天井
内に配置されるものであってもよく、及び／又は、装置の境界内にある放電ランプを有し
、かつ装置から離れる方向に伝播する光を再配向するための副次的な光学構成部品システ
ムをもたないものであってもよい。対照的に、多方向に光を分配するように構成された室
内消毒装置は、放電ランプが支持される構造及び／又は装置から離れる方向に伝播する光
を再配向するための副次的な光学構成部品システムを有する構造から外側へ延在する放電
ランプを有するものであってもよい。

室が一般に、室内の所定の地点から様々な高さ及び距離に位置する（これは消毒する表
面の数を増やし、位置を変化させる）、異なるサイズ及び形状の対象物を含むとすると、
室内消毒のために用いる紫外線装置を、多くの方向に（すなわち、多方向に）紫外線光を
分配するように構成すると有利である場合がある。更に、上述したように、室内の様々な
対象物への距離を縮め、装置が放出するＵＶ光の消毒効率を効果的に増大させるために、
紫外線室内消毒装置を室の壁から離間して位置付けすると有利である場合がある。このよ
うな着想に更に加えて、放電ランプが生成する少なくともある程度の紫外線光が、装置の
外側表面を取り囲む領域に伝播するように、及び更に、装置の動作中にこの取り囲み領域
へと伝播する紫外線光を全て集めると、この取り囲み領域全体を占めるように、紫外線室
内消毒装置を構成すると効果的である場合がある。このような構成は、天井又は壁に配置
された紫外線室内消毒装置とは異なっており、図示した装置のうちのいくつかを参照して
以下により詳細に説明する。

図１に戻ると、水平に位置付けされたランプを有する紫外線放電ランプ装置の例示的な
構成が提供される。特に、支持構造２４内に配置され、かつ放電ランプ２２を支持する装
置２０の平面に対して平行に縦方向に特に設けられた（すなわち、支持構造２４の上側表
面に対して平行に設けられた）放電ランプ２２を有する装置２０を示す。上述のように、
また以下により詳細に説明するように、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置は、放
電ランプを「水平位置」に設ける実施形態に限定されない。むしろ、本明細書で説明する
紫外線放電ランプ装置は、放電ランプを支持する支持構造の表面平面に対していずれの角
度で設けた放電ランプを含んでいてもよい。更に、本明細書で説明する紫外線放電ランプ
装置は、装置の上側表面に近接して放電ランプを設ける実施形態に限定されない。特に、
本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置は、側壁及び底部表面を含む装置のいずれの外
側表面に近接して設けた放電ランプを有していてもよい。

本明細書では、支持構造の上側表面に近接して設けられた、水平に位置付けられた及び
垂直に位置付けられたランプについて特に記載しているが、それは、これらランプが、本
明細書で開示する紫外線放電ランプ装置の新規の特徴のうちのいくつかを高めるために使
用された構成であるからである。しかしながら、このような開示は、本明細書で説明する
紫外線放電ランプ装置内での放電ランプの配置を必然的に限定するものと解釈されるべき
ではない。更に、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置は、図１に示すような支持構
造の境界内に放電ランプが配置されている実施形態に限定されない。むしろ、その代わり
に紫外線放電ランプ装置は、図３〜７に示す例示的実施形態に関して説明するように、少
なくとも部分的に支持構造の外側に配設された放電ランプを有していてもよい。

放電ランプ２２に加えて、装置２０は、支持構造２４内に配置された電源回路２６及び
トリガ回路３０、並びに図１に示すように電源回路及びトリガ回路を放電ランプ２２に接
続する電気回路構成を含む。一般に、電源回路２６、トリガ回路３０及び接続用電気回路
構成は、放電ランプ２２を動作させるよう（すなわち、ランプへ放電を送って、ランプ内
で放射プラズマを生成するよう）に構成される。特に、トリガ回路３０を使用して、放電
ランプ２２の点火電極にトリガ電圧を印加し、ここでこの点火電極は、ランプの周りに巻
き付けられていてもよく、又はランプのアノード若しくはカソードであってもよく、また
電源回路２６（例えばキャパシタ）を使用して、ランプのカソードとアノードとの間に電
位を印加する。場合によっては、特に放電ランプ装置が閃光電球を含む場合、本明細書で
はトリガ回路３０をパルス生成器回路と呼んでもよい。トリガ電圧はランプ内部のガスを
イオン化し、これによってガスの導電性が上昇して、カソードとアノードとの間にアーク
を形成できるようになる。

上述のように、場合によっては、放電ランプ２２は水銀蒸気ランプ等の連続光ランプで
あってもよい。このような実施形態では、トリガ回路３０は、一般に１０００ボルト未満
の信号を生成でき、高電圧を考慮することはできない。（本明細書で使用する用語「高電
圧」は、１０００ボルト超の電圧を表す。）他の実施形態では、放電ランプ２２は閃光電
球であってもよい。閃光電球は、より高い電圧、すなわち一般に２０００〜１５００００
ボルトでの点火を必要とする。キセノン電球のためのトリガ回路の電圧範囲の例は、約２
０〜３０ｋＶである。これと比較すると、キセノン電球のための電力貯蔵回路の電圧範囲
の例は、約１〜約１０ｋＶである。いずれにせよ、装置２０は、装置内の、図１に示すよ
うな中央演算処理装置（ＣＰＵ）３２、ユーザインタフェース３４及び室内占有センサ３
６を含むがこれらに限定されない他の特徴部分に電力を提供するための、追加の電気回路
を含んでいてもよい。

不可欠ではないが、装置２０の１つ又は複数の動作はコンピュータで操作されていても
よく、したがっていくつかの実施形態では、装置２０は適用可能なプログラム命令を実行
するためのＣＰＵ３２を含んでいてもよい。更に、装置２０は任意に、装置２０の動作及
び場合によっては特定の動作モードを起動するための手段をユーザに提供するために、並
びに装置から収集したデータにアクセスするための手段をユーザに提供するために、ユー
ザインタフェース３４を含んでいてもよい。場合によっては、ユーザインタフェース３４
は上記の代わりに、装置２０とは別個ではあるものの、装置２０と有線又は無線通信する
ように構成されたデバイスであってもよい。このようにして、装置２０を遠隔制御しても
よい。室内占有センサ３６は任意の安全機構であり、一般には、室内に人が居るかどうか
を、移動検知又は光認識等によって決定するように構成されている。装置２０において示
す他の任意の特徴部分としては、装置の可搬性に影響を与えるようにホイール３８及びハ
ンドル３９が挙げられるが、装置の設計仕様に応じてこれらを省略してもよい。

図１に示すように、装置２０は光学フィルタ４０、冷却システム４４及び反射器システ
ム６０を含んでいる。以下により詳細に説明するように、光学フィルタ、冷却システム及
び反射器システムの構成並びに放電ランプの配置は、本明細書で説明する紫外線光装置の
間で変化し得る。実際、図２〜７を参照して、このような特徴部分のうちの１つ又は複数
に関して、図１を参照して図示及び説明した構成に対する代替実施形態を説明する。この
ような実施形態はそれぞれ、図１に関して説明したような支持構造及びこれに付随する構
成部品、具体的には支持構造２４、電源回路２６、トリガ回路３０、ＣＰＵ３２、ユーザ
インタフェース３４、室内占有センサ３６、ホイール３８及びハンドル３９を含む。しか
しながら、簡略化のため、並びに図示した光学フィルタ及び反射器システムの異なる構成
並びに放電ランプの配置を強調するために、図２〜７にはこのような特徴部分を示してい
ない。

上述のように、図１〜８を参照して説明する装置は、それぞれ紫外線光を生成するよう
構成された放電ランプを含む。いくつかの実施形態では、装置の放電ランプは、更に可視
光を含むがこれに限定されない他の範囲の光を生成するように構成してもよい。このよう
な場合のうちのいくつかにおいては、生成した可視光が極めて明るい及び／又は散乱しが
ちである場合、特に（ただし必ずしもこのような場合に限定されないが）可視光を減衰さ
せることが有利となる。例えばキセノン閃光ランプは、太陽光のスペクトルと同様の広範
なスペクトルの光のパルスを生成するが、可視光の強度は太陽光の可視光の強度の最大２
００００倍にもなる。したがって、いくつかの実施形態では、本明細書で説明する装置は
、可視光を減衰させるように構成された光学フィルタを含んでいる。場合によっては、本
明細書で説明する装置は、可視光スペクトルの大部分、可視光スペクトルの７５％超、又
は全可視光スペクトルの光を減衰させるように構成された光学フィルタを含んでいる。し
かしながら他の実施形態では、光学フィルタを、可視光スペクトルの大部分より少ない部
分の光を減衰させるよう構成してもよい。いずれの場合においても、光学フィルタを、可
視光スペクトルの所定の部分の光の大部分を減衰させるように構成してもよく、また場合
によっては、可視光スペクトルの所定の部分の光の７５％超、又は全てを減衰させるよう
に構成してもよい。

図１〜８を参照して説明する装置は、紫外線光曝露のために構成されるため、光学フィ
ルタは、可視光を減衰させる上に紫外線光を通過させなければならない。したがって場合
によっては、光学フィルタは可視光帯域阻止フィルタである。しかしながら他の実施形態
では、光学フィルタは紫外線帯域通過フィルタであってもよい。いずれの場合においても
、光学フィルタは、紫外線光スペクトルの所定の部分の光の大部分を通過させるように構
成してもよく、いくつかの実施形態では、紫外線光スペクトルの所定の部分の光の７５％
超又は全てを通過させるように構成してもよい。場合によっては、紫外線光スペクトルの
所定の部分は、紫外線光スペクトルの大部分、紫外線光スペクトルの７５％超、又は全紫
外線光スペクトルであってもよい。しかしながら他の実施形態では、紫外線光スペクトル
の所定の部分は、紫外線光スペクトルの大部分より少ない部分であってもよい。いくつか
の実施形態では、光学フィルタは紫外線スペクトルの特定の部分の光を通過させるように
特に構成している。例えば、装置を消毒、汚染除去又は滅菌目的に使用する場合、光学フ
ィルタを、殺菌ＵＶスペクトル（すなわち、約２００〜３２０ｎｍ）の大部分、７５％超
、又は全体の光を通過させるように構成してもよい。更に又は代替として、光学フィルタ
は、最適な殺菌性を有するものとして公知である紫外線光スペクトルの大部分（すなわち
、約２６０〜２６５ｎｍ）、７５％超、又は全体の光を通過させるように構成してもよい
。

本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置のための光学フィルタとして使用できる例示
的な光学フィルタガラス材料は、ニューヨーク州エルムズフォードのＳＣＨＯＴＴ Ｎｏ
ｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．から入手可能なＳｃｈｏｔｔ ＵＧ５ガラスフィルタ
である。Ｓｃｈｏｔｔ ＵＧ５ガラスフィルタは、可視光スペクトルの大部分を減衰させ
る一方で、約２６０〜約２６５ｎｍの紫外線光の約８５％を通過させることができる。装
置の設計仕様に応じて、同様の特徴又は異なる特徴を有する他の光学フィルタガラス材料
を使用してもよい。他の場合においては、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置に関
して考えられる光学フィルタは、上述の光学特性のいずれを有するフィルムであってもよ
い。このような実施形態では、フィルムを水晶等の光学的に透明な材料上に配置してもよ
い。他の実施形態では、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置に関して考えられる光
学フィルタは、光学フィルタガラス材料と、その上に配置されるフィルムとの組み合わせ
であってよく、光学フィルタガラス材料及びフィルムは、それぞれ可視光を減衰させるよ
うに構成されている。

本明細書で使用する用語「光学フィルタ材料」は、特定の波長スペクトルをブロックす
るか又は減衰させることにより、光の分光透過率に影響を与えるように設計された材料を
表す。対照的に、本明細書で使用する用語「光学的に透明な」は、特定の波長のスペクト
ルを実質的にブロックするか又は減衰させることなく光を通過させることができる材料を
表す。推奨は、よく知られた光学的に透明な材料である。本明細書で使用する用語「フィ
ルム」は、物質の薄い層を表し、ある表面上に広がる物質の層を表す用語「コーティング
」を包含する。本明細書で説明する光学フィルタに関して考えられるフィルムは、固体又
は半固体形態であり、したがって固体物質及びゲルを包含する。更に、本明細書で説明す
る光学フィルタに関して考えられるフィルムは、材料に適用する際には、液体、半固体、
又は固体形態であってもよく、適用後、液体及び半固体形態は後に固体又は半固体形態に
変換できる。

いずれの場合においても、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置内に配置される光
学フィルタの効率は、時間が経つとソラリゼーションによって低下するので、光学フィル
タを定期的に交換する必要が生じる。ソラリゼーションは、紫外線放射を伝達する光学構
成要素の能力の、ＵＶ放射への曝露時間に関係する低下に関わる現象である。いくつかの
実施形態では、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置に関して考えられる光学フィル
タは、装置が備えた放電ランプの劣化率のほぼ整数倍であるソラリゼーション率を含んで
いてもよい。言い換えると、放電ランプは、光学フィルタのソラリゼーション率の因数に
ほぼ等しい劣化率を有していてもよい。光学フィルタの特徴付けにおける用語「因数」は
、この用語の数学的な定義を表しており、具体的には、別の数を均等に分割することがで
きる、すなわち余り無く分割することができる数を表す。光学フィルタのソラリゼーショ
ン率は、放電ランプの劣化率のいずれの整数（１を含む）倍にほぼ等しく、したがってい
くつかの実施形態では、光学フィルタのソラリゼーション率は放電ランプの劣化率と同様
又は同一であってもよい。

一般に、放電ランプは使用回数（すなわち、プラズマを生成するための特定のトリガ回
数）が保証されており、これは、その構成部品のうちの１つ又は複数の予測される劣化に
応じて決定される。例えばパルス光源は、特定のパルス回数を保証されていることが多い
。本明細書で説明する装置に関しては、このような使用回数を用いて、各動作時間中に放
出される紫外線光の量と、放電ランプの使用が保証されているトリガ回数とを積算するこ
とにより、放電ランプの劣化率を特徴付けることができる。このようにして、光学フィル
タのソラリゼーション率と相関している劣化率を計算してもよい。光学フィルタのソラリ
ゼーション率は、装置内の放電ランプの劣化率のほぼ整数倍である場合、有利には構成部
品を同時に交換する。したがって装置の休止時間を、構成部品をそれぞれ独立した特長に
基づいて交換する実施形態と比べて短縮できる。更に、物品の交換のタイミングを決定す
るために光を監視する場合、１つの構成部品のみからの光を測定すればよいように、監視
プロセスを簡略化してもよい。本明細書で説明する装置に組み込まれる光学フィルタのソ
ラリゼーションに対処する他の特徴部分については、図１、３を参照して、具体的には放
電ランプの動作に関連するパラメータ、光学フィルタの透過率、及び装置内に熱回復シス
テムが含まれているかどうかを監視するように構成されたセンサシステムを参照して、以
下により詳細に説明する。

光学フィルタの複数の異なる例示的構成及び配置並びに任意の付随的な構成部品につい
て、特に図１〜７を参照して以下に詳細に説明する。より具体的には、放電ランプと整列
された状態で光学フィルタを収容するための、装置の複数の異なる構成を以下に説明する
。図１〜７を参照して説明する実施形態の光学フィルタは、それぞれ上述のような光学フ
ィルタの特徴を有している。簡潔にするために、これらの特徴を各実施形態について繰り
返さない。上述の通り、必ずしもこれに限定するものではないが、光学フィルタは特に室
内消毒装置に適していている。これが、室内消毒装置が装置の環境に光を分配するように
一般に構成されており、したがって光を閉じ込めるためのハウジングを含まない理由であ
る。光学フィルタを含むことは、本明細書で説明する装置のうちのいくつかにおいては有
益で有るが、これは必ずしも必要なものではなく、したがっていくつかの実施形態では省
略してもよいことに留意されたい。

本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置のために例示する他の明確な特徴は、装置の
支持構造から離れる方向に伝播する紫外線光を再配向するよう構成された反射器システム
である。一般に、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置に関して考えられる反射器シ
ステムを使用して、装置によって紫外線光に曝露される領域のサイズを増大させ、紫外線
光が標的対象物若しくは領域へと伝播する距離を減少させ、及び／又は標的対象物若しく
は領域上への紫外線光の入射角度を改善することができる。このような目的のうちの１つ
又は複数を実現するために構成される反射器システムの複数の異なる例示的な構成及び配
置を、以下により詳細に説明し、図１〜７に示す。特に、再位置付け可能な反射器を有す
る装置について説明する。更に、装置の支持構造から離れる方向に伝播する紫外線光を、
装置の外側表面を取り囲むよう再配向するように構成された反射器システムを有する装置
について説明する。上述のように、このような構成は室内消毒装置に特に適用可能である
。

更に、装置の支持構造から離れる方向に伝播する紫外線光を、装置の外側の、装置を配
設する室の床から約２〜約４フィートである領域へと再配向するよう構成された反射器シ
ステムを有する装置について説明する。一般に、室の床から約２〜約４フィートである領
域は、使用頻度の高い対象物をこのような領域に一般に配置するため、室の「高接触」領
域と考えられる。室の高接触領域に典型的に見られる対象物の例としては、デスクトップ
コンピュータ、キーボード、電話機、椅子、ドア及びキャビネットのハンドル、電灯スイ
ッチ並びに流し台が挙げられるがこれらに限定されない。更に又は代替として、病室の高
接触領域にある対象物の例としては、ベッド、ベッドサイドテーブル、トレーテーブル、
及び点滴スタンドが挙げられる。このような領域を高接触領域と考えることにより、この
ような領域は一般に、菌と接触する蓋然性が最も高い領域と考えられ、いくつかの研究に
より、高接触領域は最も高い密度の菌を有する領域となり得ることが示されている。この
ような理由から、少なくともいくつかの紫外線光を、室の床から約２〜約４フィートであ
る領域に向けると有利である。本明細書で説明するような反射器システムは、このような
目的を達成するために使用するために装置に含んでいる。

必ずしもこのように限定する必要はないが、本明細書で説明する反射器システムは、室
内消毒装置に特に適している。これは、室内消毒装置は、一般に装置の環境内に光を分配
するよう構成され、よって、光を閉じ込めて反射するためのハウジングを含まないためで
ある。上述の理由から、本明細書で説明し図面に示す紫外線放電ランプ装置のうちの多く
は、床をベースとする室内消毒装置を対象とし、ここで放電ランプは、装置の支持構造の
上側表面上に光を伝播するように配設される。しかしながら上述のように、このように強
調した開示内容は、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置の構成を不必要に限定する
ものと解釈されるべきではない。例えば、装置の支持構造の側壁表面に隣接するように光
を伝播するように放電ランプを配設する実施形態では、装置の反射器システムは、紫外線
光を集中領域へと下方向又は上方向に反射するように、側壁表面の最上部分に連結された
反射器及び／又は側壁表面の最下部分に連結された反射器を含んでいる。装置の支持構造
の下側表面の下に光を伝播するように放電ランプを設けるその他の場合においては、装置
の反射器システムは、放電ランプの下側に反射器を含んでいる。特に、装置によって紫外
線光に曝露される領域のサイズを増大させ、紫外線光が標的対象物若しくは領域へと伝播
する距離を減少させ、及び／又は標的対象物若しくは領域上への紫外線光の入射角度を改
善するために、複数の他の配置も同様に適切である。

いずれの場合においても、以下により詳細に説明するように、本明細書で説目する装置
に関して考えられる反射器システムは、１つ又は複数の反射器を含んでおり、この反射器
はいずれのサイズ又は形状であってもよく、光の所望の再配向を達成するために装置内の
いずれの位置に設けてもよい。更に、１つ又は複数の反射器の材料は、所望の光の再配向
に適切であると判明しているいずれの材料であってもよい。本明細書で説明する装置の構
成の多くに適切であると判明している例示的な反射器材料は、ＡＬＡＮＯＤ Ａｌｕｍｉ
ｎｉｕｍ−Ｖｅｒｅｄｌｕｎｇ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧから入手可能な４３００ＵＰ Ｍ
ｉｒｏ−ＵＶである。本明細書で説明する装置の構成の多くに適切であると判明している
他の例示的な反射器材料は、Ｗ．Ｌ．Ｇｏｒｅ＆Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ，Ｉｎｃ．から入
手可能なＧＯＲＥ（登録商標）ＤＲＰ（登録商標）Ｄｉｆｆｕｓｅ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ
Ｍａｔｅｒｉａｌである。反射システムの設計仕様に応じて、他の反射器材料を追加又
は代替として使用してもよい。いずれの場合においても、図１〜７を参照して説明する反
射システムの実施形態のそれぞれは、上述の反射システムの特徴を有している。簡潔にす
るために、これらの特徴を各実施形態について繰り返さない。本明細書で説明する装置に
光学フィルタを含めるのと同様、いくつかの装置に反射器システムを含めることは有益で
あるものの、これは必ずしも必要なものではなく、したがっていくつかの実施形態では省
略してもよい。更に、光学フィルタ及び反射器システムの特徴は、装置に対して互いに排
他的又は包括的ではなく、したがって装置はこれらの特徴の一方又は両方を含んでいても
よい。

図１に戻ると、装置２０は、放電ランプ２２から放出される可視光を減衰させるように
構成された光学フィルタ４０を含む。図１の、放電ランプ２２から放出される可視光を減
衰させるための光学フィルタ４０の構成は、具体的には、可視光を減衰させるためのフィ
ルタの光学特性、及び放電ランプ２２の上側において放電ランプ２２と整列させた光学フ
ィルタの配置を伴う。図１に示すように、光学フィルタ４０を、カップ状のハウジング４
２の側壁の間であって、支持構造２４の上側表面と同一平面上をなすように設け、これに
より光学フィルタ４０は、放電ランプ２２を封止するハウジングの一部を構成する。以下
により詳細に説明するように、本明細書で説明する装置は、放電ランプの温度を統御する
ための冷却システムを含み、包囲体内にランプを格納することは、所望の温度を達成する
ための効率のよい方法を提供する。光学フィルタ４０を放電電球２２のハウジングの一部
として使用することによって、装置２０への光学フィルタの組み込みを簡略化でき、した
がって設計面である程度有益となる。しかしながら、いくつかの実施形態では、放電ラン
プ２２のハウジングと分離させて光学フィルタ４０を設けると有益である。例えば場合に
よっては、装置の所望の動作に応じて、放電ランプと整列させて及び整列させずに光学フ
ィルタを配置できると有利となる。このような構成については以下で詳細に説明し、この
ような構成を内包する装置２０の例示的な変形例を図２ａ〜２ｃに示す。

本明細書で説明する装置に関して考えられる冷却システムは様々であってよく、一般に
は装置の設計仕様に左右される。使用できる例示的な冷却システムは、強制通風システム
及び液体冷却システムを含むがこれらに限定されない。図１に示す冷却システム４４は、
空気流入口４６、空気吸入ダクト４８、ファン５０、温度センサ５２、空気ダクト５４及
び空気流出口５６を含む強制通風システムである。場合によっては、空気流入口４６、空
気吸入ダクト４８、空気ダクト５４及び空気流出口５６のうちの１つ又は複数は空気フィ
ルタを含んでいてもよい。いくつかの実施形態では、空気ダクト５４及び／又は空気流出
口５６は、追加又は代替としてオゾンフィルタを含んでいてもよい。しかしながら、他の
場合においては、装置からオゾンフィルタを省略してもよい。オゾンは一般に、特にラン
プが約２４０ｎｍより短い波長の紫外線光を生成する場合に、放電ランプ２２の使用によ
る副産物として生成され、これはＵＶ光のこのようなスペクトルが、酸素分子の酸素原子
の結合の分離を引き起こし、オゾン生成プロセスを開始させるためである。オゾンは健康
及び空気の品質にとって害があることで知られており、したがって、デバイスによるオゾ
ンの放出は、環境保護庁（ＥＰＡ）によって規制されている。オゾンが効果的な殺菌剤で
あることもまた公知であり、したがって、放電ランプが生成するオゾンの量がＥＰＡによ
るオゾン曝露制限よりも低い場合、このような放電ランプを含む装置からオゾンフィルタ
を取り除くと有益である。

いずれの場合においても、装置２０及び本明細書で説明する他の装置に関して、冷却シ
ステム４４のため流出口ダクトの様々な構成が考えられる。例えばいくつかの構成では、
冷却システムを、支持構造２４の側壁の下部又は支持構造２４の底部表面上に空気流出口
を有するように構成してもよい。このような代替構成による利点としては、特に空気流出
口を支持構造２４の底部表面に位置付けした場合の、オゾンフィルタの性能の向上及び環
境への悪影響の低減が挙げられる。いずれの場合においても、本明細書で説明する装置は
、支持構造２４内の残りの構成部品のための冷却システムを含んでいてもよい。場合によ
っては、支持構造冷却システムは、放電ランプ２２用の冷却システム４４と一体であって
もよい。しかしながら他の実施形態では、２つの冷却システムは別個のものであってもよ
い。１つ又は複数の冷却システムを含めることは、本明細書で説明する装置のうちのいく
つかにおいて有益であるものの、これは必ずしも必要なものではなく、したがっていくつ
かの実施形態では省略してもよい。

上述のように、装置２０は反射器システム６０を含んでいてもよい。一般に、反射器シ
ステム６０は、支持構造２４から離れる方向に伝播する紫外線光を再配向するように構成
される。このような目的を達成するための反射器システム６０の構成は、反射器６２の配
置、形状、サイズ及び角度に関係する。特に、支持構造２４の上側表面の上側に光を伝播
するように装置２０内に放電ランプ２２を設け、伝播した紫外線光を再配向するために、
反射器６２を放電ランプ２２の上側に設ける。一般に、紫外線光の再配向は、紫外線光が
装置と隣接する対象物（対象物の下側表面並びに対象物の上面及び側壁表面を含む）まで
移動する距離を縮める。特に、反射器６２を介した紫外線光の再配向は、装置の上側の表
面（例えば装置が配設される室の天井）へ移動して装置に隣接する対象物へと戻るように
反射するのを防ぐ。このように、装置の上側の表面への移動を防ぐことによっても、（装
置を配設する室の床からの反射を介して等によって）対象物の下側に入射するために紫外
線光が移動しなければならない距離を短縮できる。したがって、反射器システム６０は、
図１の反射器６２に示すように、支持構造２４の上側に、装置を構成する空間の天井から
離間して配置される反射器を含んでいてもよい。しかしながら場合によっては、反射器シ
ステム６０は、装置を設ける室の天井内又は天井上に反射器を配置してもよい。

場合によっては、反射器システム６０は、紫外線光を対象物表面へと配向する入射角度
を最適化するよう構成する。例えば反射器６２は、特定のサイズ及び／若しくは形状で設
計してもよく、並びに／又は対象物上への最適な入射角度を得られるように再位置付け可
能としてもよい。反射器６２が再位置付け可能である例示的構成について、以下でより詳
細に説明する。いずれの場合においても、いくつかの実施形態では、反射器システム６０
は１つ又は複数の追加の反射器を（すなわち、反射器６２に加えて）設けることができる
。例えば場合によっては、反射器システム６０は支持構造２４の側壁に連結された反射器
を含んでいてもよく、これは反射器６２から受信した紫外線光を再配向するよう構成され
る。このような追加の反射器を含めることは、室内の対象物の下側に紫外線光を配向する
ために有益である。追加の反射器は、同様に又は代替として使用してもよく、また一般に
、反射器６２と関連する反射器システム６０に関して上述したような目的のうちのいずれ
の１つを達成するように設計（すなわち、サイズ、形状及び配置に関して）される。

いくつかの実施形態では、反射器システム６０を、支持構造２４から離れる方向に伝播
する紫外線光を、装置２０を配設した室の床から約２〜約４フィートである領域へと再配
向するよう構成すればよい。特に上述のように、このような領域は高接触領域であるため
、紫外線光をこのような領域に再配向すると有利である。場合によっては、追加又は代替
として、反射器システム６０を、支持構造２４から離れる方向に伝播する紫外線光を、装
置の外側表面を包囲する領域へと再配向するように構成してもよい。例えば反射器６２は
、支持構造２４を包囲する領域へと紫外線光を再配向するような形状及びサイズのもので
あってもよい。代替として、反射器６２は、反射器システム６０を包囲する領域へと紫外
線光を再配向するような形状及びサイズのものであってもよい。いずれの場合においても
、このような再配向を達成するためには、円錐形の反射器６２が特に適切である。

本明細書で使用する用語「包囲する」とは、対象物の周りでの連続的な円の形成を表す
。この用語は、対象物全体又は対象物の大部分を取り囲む実施形態に限定されない。よっ
て、「紫外線光が装置の外側表面を包囲するように本明細書で説明する紫外線放電ランプ
装置を構成してもよい」という表現は、装置の外側部分の少なくともある程度の部分の周
りに紫外線光の連続的なリングを形成することを表す。更に、「装置の動作中に装置を包
囲する領域へと伝播する紫外線光を全て集めると、包囲領域全体を占めるように、本明細
書で説明する紫外線放電ランプ装置を構成してもよい」という表現は、装置の動作中のあ
る程度の時間に、装置の周りの連続的なリング領域の各部分が紫外線光に曝露されること
を表す。

反射システム６０の構成に関わらず、又は装置２０が反射システム６０をも含むかどう
かに関わらず、いくつかの実施形態では、装置２０は、支持構造２４内に設けられ、放電
ランプ２２から放出された光を、支持構造から離れる方向への光の伝播方向に再配向する
よう構成された他の反射システムを含んでいてもよい。特に、装置２０は、放電ランプ２
２の側部表面及び底部表面から放出される光を、放電ランプ２２の上部表面から放出され
る光と同じ方向に再配向するよう構成された反射システムを含んでいてもよい。このよう
な反射システムがある実施例は、反射材料を有するカップ状のハウジング４２の床及び／
又は側壁を伴ってもよい。しかしながら本明細書で説明する装置に関して、他の構成の反
射システムも考えられる。

図１に示すように、反射器システム６０は、反射器６２を懸架するための支持ビーム６
４、６６を備えている。このようなカンチレバー式支持構造は単なる一例であり、反射器
６２に関して様々な他の支持構造が考えられる。放電ランプ２２の上側に反射器６２を懸
架するための構造に関わらず、場合によっては反射器システム６０は、反射器システム６
０へと伝播するある程度の光を反射器システム６０の上側へ通過させることができるよう
な貫通孔を設けていてもよい。貫通孔６８を含む支持ビーム６６を有する実施形態の例を
図１に示す。追加又は代替として、反射器６２がこのような目的の貫通孔を備えていても
よい。他の実施形態では、反射器システム６０はこのような貫通孔を全くもたなくてもよ
い。上記に関わらず、反射器システム６０のサイズ及びより具体的には反射器６２のサイ
ズは、装置によって変化させてもよい。場合によっては、反射器６２の面積的寸法は、放
電ランプ２２を内包するハウジングの面積的寸法と同一であるか又はこれより大きくても
よい。このようにして、支持構造２４から伝播する光のほぼ全てが反射器６２へと配向さ
れることになる。しかしながら他の実施形態では、反射器６２の面積的寸法は、放電ラン
プ２２を内包するハウジングの面積的寸法より小さくてもよい。このような場合、支持構
造２４から伝播する光のうちのいくらかは、反射器６２を超えて配向される。

場合によっては、反射器システム６０を、そのサイズ及び構成に関わらず、図１に白抜
きの両矢印で示すように水平及び／又は垂直方向に反射器６２を移動させるように構成し
てもよい。このようにして、反射器６２を再位置付け可能な反射器とすることができる。
いくつかの実施形態では、反射器６２は装置２０の複数の動作の間で移動してもよく、し
たがって、場合によっては反射器システム６０は、再配置可能な反射器を装置２０内の異
なる位置に固定するための手段を含んでいる。他の実施形態では、反射器システム６０は
、装置２０の動作中に反射器６２を移動させるための手段を含んでいてもよい。反射器６
２の移動は、装置２０の動作中において連続的であっても又は周期的であってもよく、し
たがって反射器６２は、場合によっては放電ランプ２２が光を放出している間に移動でき
る。装置２０が動作中であるという表現は、放電ランプ２２を動作させる（具体的には放
電ランプ内で放射プラズマを生成するための動作を行う）ために、装置の構成部品が起動
されている期間を表す。上述のように、いくつかの実施形態では、放電ランプ２２は、ひ
とたびランプがトリガされると連続的な光を生成するよう構成されており、したがって、
このような場合には、装置２０が動作中であるという表現は、ランプをトリガするために
使用される時間、及び連続的な光を放出する時間を表す。他の実施形態では、閃光ランプ
又はパルス光源が放電ランプ２２のために使用されており、装置２０が動作中であるとい
う表現は、ランプから光が放出されている時間及び閃光の間の時間を表す。

いずれの場合においても、いくつかの実施形態では、反射器６２を移動させるため、及
び反射器６２を装置２０内の異なる位置に固定するための手段は、ビーム６４及び／若し
くはビーム６６用の１つ又は複数のリニアアクチュエータ、並びに１つ又は複数のリニア
アクチュエータの移動及びそのタイミングに影響を及ぼすためにＣＰＵ３２が処理するプ
ログラム命令を備えている。いくつかの実施形態では、装置２０を、反射器６２が手動で
移動可能であるように構成している。このような場合、装置２０内の異なる位置に反射器
６２を固定するための例示的な手段は、支持ビーム６４及び／若しくは支持ビーム６６に
沿ったノッチ並びにこれを受承する反射器６２上の突出部、又はこの逆の構造を備えてい
る。反射器６２を移動させる及び／又は反射器６２を装置２０内の異なる位置に固定する
ための他の様々な手段も同様に考えられる。したがって、装置は上述の実施例に限定され
ない。いずれの場合においても、放電ランプ２２に対する反射器６２の移動に影響を与え
るために及び／又は装置２０の保管の容易さ若しくは可搬性のために、反射器６２は場合
によっては装置２０から取り外し可能であってもよい。

場合によっては、反射器６２の移動は装置２０を配設する室の特徴に基づいている。よ
り一般には、いくつかの実施形態では、室の特徴にアクセスして及び／又はこれを分析し
て、このような情報を用いて、反射器６２の配置及び／又は反射器６２の移動特性を含む
がこれらに限定されない、装置２０のための多数の動作パラメータを決定すると有利であ
る。例えば、室内の比較的多数の対象物が同一の一般領域にある場合、室の他の領域に比
べてこの領域に多くの光を配向するように反射器６２を位置付けすると有益である。室の
特徴に基づいて消毒剤源の動作パラメータを決定する他の実施例について、図２ａ〜２ｃ
を参照して（室の特徴に基づいて光学フィルタ４０の位置を決定する）、図７を参照して
（室の特徴に基づいて光学フィルタ／反射器アセンブリの位置を決定する）、及び図９、
１０を参照して説明する。

一般に、本明細書で使用する句「室の特徴」は、室の物理的特質及び非物理的特質を表
す。室の非物理的特質は、室を参照するために使用される識別子（例えば、室番号及び／
又は室名）並びに室に関する占有情報（例えば、室を占有していた患者の感染情報又は患
者が室を占有するスケジュール）を含むが、必ずしもこれらに限定されない。室の物理的
特質は、室のサイズ及び／若しくは寸法、並びに／又は室内の表面、対象物及び／若しく
は物品の数、サイズ、距離、位置、反射率及び／若しくは識別を含むが、必ずしもこれら
に限定されない。場合によっては、室の物理的特質は、室内の１つ又は複数の病理学的有
機体の識別であってもよく、及び更には、室内、特に室の特定の領域内又は室の特定の表
面上の１つ又は複数のこのような有機体の数又は密度である場合もある。本明細書で使用
する「消毒剤源の動作パラメータ」とは、消毒剤源の動作に影響を与えるいずれのパラメ
ータをも表し、これは、消毒剤源の実行時間、消毒剤源の位置、消毒剤源を備えた構成部
品の配向、及び／又は消毒剤源に供給される電力を含むがこれらに限定されない。本明細
書で使用する用語「消毒剤源」とは、殺菌剤を生成及び分配するために使用される１つ又
は複数の構成部品の集合体を表し、場合によっては殺菌剤の生成又は分配を実行するため
に使用されるいずれの追加の構成部品を包括する。例えば、図１の放電ランプ２２、電源
回路２６、トリガ回路３０、光学フィルタ４０及び反射器システム６０を総合して、消毒
剤源と呼んでもよい。代替として、装置２０全体を消毒剤源と呼んでもよい。

いくつかの実施形態では、装置２０は、装置２０を配設する室の特徴を列挙したデータ
ベースを含むか、又はこのようなデータベースにアクセスするよう構成してもよい。更に
又は代替として、装置２０は、装置を配設する室の特徴に関するデータを収集及び／又は
生成するためのシステム７０を含んでいてもよい。このような場合、生成されるデータに
応じて、室の特徴を収集、生成及び／又は分析するための、当該技術分野で公知のいずれ
のシステムを用いてもよい。例としては、空間センサ、光認識システム及び／又は線量計
が挙げられる。図１に示すように、いくつかの実施形態では、システム７０は操作上ＣＰ
Ｕ３２と連結していてもよい。代替として、ＣＰＵ３２は、データベースからの室の特徴
のデータにアクセスするように構成される。いずれの場合においても、ＣＰＵ３２は、装
置２０を配設する室の特徴に関するデータを取得し、及びこのようなデータにアクセスし
、このデータに基づいて、反射器６２の位置等、装置２０の動作パラメータを決定するよ
う構成してもよい。いくつかの実施形態では、決定された動作パラメータをユーザインタ
フェース３４を介して中継してもよく、これにより装置２０のユーザに、反射器６２を特
定の位置に移動させる等、装置２０の動作パラメータを発動させることを知らせてもよい
。他の場合では、ＣＰＵ３２は、決定された動作パラメータと関連するコマンドを、自動
的に反射器６２を移動させる等、動作パラメータを自動的に発動させるための装置２０内
の手段に送信するよう構成してもよい。

いくつかの実施形態では、システム７０を用いて、装置２０を配設する室内の対象物又
は地点において受け取られる紫外線光の用量を測定してもよい。特に、室内の対象物又は
地点において受け止められる紫外線光の用量を測定することは、反射器６２の位置を最適
化する等、装置２０の動作パラメータの決定を助けることができる。上述のように、対象
物上のＵＶ光強度に影響を与える主因子の１つは、対象物への距離である。他の主因子は
、光の入射角度である。以上に鑑みて、室内の対象物又は地点において受け止められる紫
外線光の用量を測定でき、このような測定を用いて、装置２０の動作パラメータを決定で
きる（例えば、対象物又は地点への入射角度を最適化する等のために反射器６２を移動さ
せる）。ＣＰＵ３２へのシステム７０の動作可能な連結を通して、ＣＰＵ３２は、システ
ム７０から測定結果を取得し、この測定結果に基づいて反射器６２の位置等の装置２０の
動作パラメータを決定し、決定された動作パラメータをユーザインタフェース３４に中継
する及び／又は決定された動作パラメータに関連するコマンドを、動作パラメータを自動
的に発動させる（反射器６２を移動させる等）ための装置２０内の手段に送信するよう構
成してもよい。一般に、紫外線光用量を測定するための当該技術分野で公知のいずれのシ
ステムを、システム７０として使用してもよい。例としては、紫外線線量計及び放射計が
挙げられる。

上述のように、放電ランプ及び光学フィルタの効率は、時間が経つとソラリゼーション
によって低下する。更に、放電ランプは、一般に相当な回数使用するとその構成部品が疲
労するため、限定された寿命を有する。したがって、いくつかの実施形態では、本明細書
で考える紫外線放電ランプ装置は、放電ランプの動作に関連する１つ又は複数のパラメー
タ、及び場合によっては光学フィルタの透過率に関する１つ又は複数のパラメータを監視
するよう構成されたセンサシステムを含んでいる。特に、このようなセンサシステムは、
放電ランプ及び場合によっては光学フィルタを交換する時期を決定するため、並びに装置
が放出するＵＶ光の効率を（これがＵＶ強度及び用量に関係するため）監視するために有
益である。一般に、光学フィルタの透過率に関連する１つ又は複数のパラメータは、紫外
線容量又は紫外線強度であってもよい。放電ランプの動作に関して同じパラメータを監視
してもよいが、放電ランプは一般に特定のパルス回数を保証されているため、追加又は代
替としてパルス回数を監視してもよい。いずれの場合においても、センサシステムを用い
て放電ランプの動作及び光学フィルタの透過率の両方に関連する１つ又は複数のパラメー
タを監視する場合、センサシステムは、２つの構成部品に関して同じパラメータ又は異な
るパラメータを監視するよう構成してもよい。いくつかの実施形態では、センサシステム
は、放電ランプ及び光学フィルタに関連する１つ又は複数のパラメータを測定するよう構
成された単一のセンサを含んでいる。しかしながら他の実施形態では、センサシステムは
、放電ランプ及び光学フィルタの各パラメータを測定するための別個のセンサを含んでい
てもよい。

図１の装置２０のための例示的なセンサシステムは、反射器システム６０の下側に配設
されたセンサ７２、及び放電ランプ２２を備えたハウジング内に設けたセンサ７４を含む
。一般に、センサ７４を用いて、放電ランプ２２の動作に関連するパラメータを監視して
もよく、より具体的には、光学フィルタ４０を通過する前の、放電ランプ２２が放出する
光を監視している。図１は、カップ状のハウジング４２の側壁表面上に配置されたセンサ
７４を示すが、センサ７４は放電ランプ２２のハウジング内のいずれの位置に設けてもよ
い。他の実施形態では、センサ７４は装置２０から省略してもよい。特に、いくつかの実
施形態では、センサ７２は、放電ランプ２２の動作に関連するパラメータを（パルス回数
等によって）監視するよう構成しており、したがってセンサ７４は不要である。いずれの
場合においても、センサ７２を用いて、光学フィルタ４０の透過率に関連するパラメータ
を監視していてもく、したがってセンサ７２は、光学フィルタ４０を通過した光を受け止
めるように、装置２０上又は装置２０近傍のいずれの場所に設けてよい。図１は反射器シ
ステム６０の下側に設けたセンサ７２を示すが、このような配置は一例示である。

上術したように、場合によっては、装置の所望の動作に応じて、放電ランプと整列させ
て及び整列させずに光学フィルタを配置できると有利となる。例示的な実施形態は、装置
が様々な室内で使用される実施形態を含み、窓を有する場合と有さない場合がとある。上
述のように、窓を有する室内で放電ランプと整列された光学フィルタを有すると有利であ
る。しかしながら対照的に、光学フィルタの不必要な劣化を防ぐために、窓をもたない閉
鎖された室内で放電ランプと整列させずに光学フィルタを配設できると有益である。より
具体的には、放電ランプが閉鎖された室内で生成する可視光は見えないため、この光をフ
ィルタリングする必要はなくなる。更に上述のように、紫外線放射を伝達する光学フィル
タの能力は、ソラリゼーションによって、ＵＶ放射への曝露時間と関連して低下する。し
たがって、放電ランプと整列させずに光学フィルタを配設できることにより、所定の装置
のための光学フィルタの寿命を延ばす方法を提供できる。

放電ランプ２２と整列させて及び整列させずに光学フィルタを配置できるよう構成され
た装置２０の例示的変形形態を、図２ａ〜２ｃに示す。特に、図２ａ〜２ｃは、放電ラン
プ２２のハウジングの一部として、図１に示す配置に対する光学フィルタ４０の配置の変
形例を示す。図２ａ〜２ｃは放電ランプと整列させて及び整列させずに光学フィルタを内
包するための構成の単なる例を挙げているに過ぎず、このような例示的な開示及び図示は
、本明細書で説明する装置の構成をこのような対象物に関して限定するものと解釈される
べきではないことに留意されたい。更に、図２ａ〜２ｃは、図１に示す装置２０の変形例
として記載されたものであるが、図２ａ〜２ｃは図を簡略化するために装置の一部のみを
示していることに留意されたい。特に、図２ａ〜２ｃは、支持構造２４内の放電ランプ２
２を収納したハウジングに対する光学フィルタ４０の配置のみを示している。図１を参照
して説明したものと同一の構成を有する図２ａ〜２ｃに示す特徴には同一の参照番号（す
なわち、放電ランプ２２、支持構造２４、光学フィルタ４０及びカップ状のハウジング４
２）が付されており、簡略化のために、このような特徴に関する説明は繰り返さないこと
に留意されたい。図２ａ〜２ｃに示す実施形態は、放電ランプ２２を収納したハウジング
の一部としての光学フィルタ４０をもたさないため、図２ａ〜２ｃそれぞれは図１に対し
て新規の特徴、具体的にはハウジングの蓋部８２を含む。一般にハウジングの蓋部８２は
、水晶を含むがこれに限定されない光学的に透明な材料製である。

図２ａに示すように、装置２０の変形例８０は、ハウジングの蓋部８２の上に光学フィ
ルタ４０を設けたものである。このような構成では、いくつかの実施形態では、光学フィ
ルタ４０は支持構造２４の上（すなわち、ハウジングの蓋部８２を含む支持構造２４の部
分）に、光学フィルタ４０を支持構造に固定する手段を用いずにただ配置してもよい。代
替として、変形例８０は光学フィルタ４０を支持構造２４に固定するための手段を含んで
いてもよい。いずれの場合においても、筐体蓋部８２上への光学フィルタ４０の配置は手
動であってもよく、又は自動化されていてもよい。図２ｂは、図２ａの変形例８０に対し
て若干修正を加えた装置２０の変形例８４を示す。特に図２ｂは、光学フィルタ４０の片
側に設けたヒンジ８６を含む構成を示す。このようにして、光学フィルタ４０をハウジン
グの蓋部８２上に設けてもよく、装置から分離させることなくこの位置から取り外すこと
ができる。ヒンジ８６は、図２ｂに示す光学フィルタ４０の位置に対して９０〜１８０°
の間のいずれの角度でも光学フィルタ４０を枢動させるように構成してもよい。したがっ
て光学フィルタ４０は、直立位置と、放電ランプの上側から移動させる場合の、放電ラン
プ２２と反対側の支持構造２４上の位置との間のいずれの位置をも採ることができる。こ
のような実施形態における光学フィルタ４０の移動は手動であってもよく、又は自動化さ
れていてもよい。装置２０の異なる変形例を図２ｃに示す。これは、水平な両矢印で表す
ように、光学フィルタを支持構造２４の上側表面に沿って、放電ランプ２２と整列する及
び整列しないように移動させるための図示していないスライダ上に設けた、光学フィルタ
４０を有する。スライダ上の光学フィルタ４０の移動は手動であっても自動化されていて
もよい。

放電ランプ２２と整列させて及び整列させずに光学フィルタ４０を配置できるという装
置２０の構成に関わらず、装置２０は、光学フィルタ４０が放電ランプ２２と整列されて
いない時に紫外線光に対する曝露から保護されるよう構成している。例えばいくつかの実
施形態では、装置２０は、光学フィルタ４０を装置から取り外す及び／又は装置内で再位
置付けする際に光学フィルタ４０を配置できる区画を含んでいる。更に又は代替として、
装置２０は、光学フィルタ４０を放電ランプ２２と整列しない位置とした時に光学フィル
タ４０を覆う区画を含んでいてもよい。いずれの場合においても、上述のように、図２ａ
〜２ｃに開示した各実施形態は自動化されていてもよく、したがって、本明細書で説明す
る紫外線放電ランプ装置は、放電ランプと整列させて及び整列させずに光学フィルタを内
包するように構成してよいだけではなく、いくつかの実施形態では、装置は、放電ランプ
と整列した及び整列していない位置に光学フィルタを自動的に移動させるための手段を含
んでいる。このような手段は、対象物を移動させるための当該技術分野で公知のいずれの
１つ又は複数の手段を含んでいてもよい。いくつかの実施形態では、光学フィルタを移動
させるかどうかの決定及び／又は光学フィルタを移動させるタイミングの決定は、装置２
０のユーザが行う。しかしながら他の場合では、光学フィルタを移動させるかどうかの決
定及び／又は光学フィルタを移動させるタイミングの決定は自動化されていてよいものと
するために、装置２０はＣＰＵ３２が実行可能なプログラム命令を含んでいる。

上述のように、いくつかの実施形態では、室の特徴にアクセスする及び／又は室の特徴
を分析し、この情報を用いて装置２０の多数の動作パラメータを決定すると有利である。
特に、装置２０を配設する室に窓があるかどうかを決定し、このデータに基づいて光学フ
ィルタ４０の位置を決定すると有利である。このようにして、装置２０を配設する室内に
窓が検知される実施形態では、放電ランプを動作させて光を生成する前に、光学フィルタ
４０を放電ランプ２２と整列させて配設してもよい。反対に、装置２０を配設する室内に
窓が検知されない実施形態では、放電ランプを動作させて光を生成する前に、光学フィル
タ４０を放電ランプ２２と整列させずに配設してもよい。光学フィルタ４０の移動に影響
を与える任意の構成を、反射器６２の移動に影響を与えるための上述の構成要素に追加す
るか又はその代替としてよいことに留意されたい。上述のように、装置２０は１つ又は複
数の室の特性を列挙したデータベースを含むか若しくはこのようなデータベースにアクセ
スできるよう構成され、並びに／又は室の特性に関するデータを収集及び／若しくは生成
するためのシステム７０を含んでいる。一般に、反射センサを含むがこれに限定されない
。室内に窓があるかどうかを決定するための当該技術分野で公知のいずれのシステムを、
この場合のシステム７０として使用してもよい。更に上述のように、装置２０のＣＰＵ３
２は、データを取得し及び／又はデータにアクセスして、このデータに基づいて光学フィ
ルタ４０の位置を決定し、決定された位置をユーザインタフェース３４に中継する及び／
又は決定された位置に関するコマンドを、光学フィルタ４０を自動的に移動させるための
装置２０内の手段に送信するよう構成してもよい。

図２ｃは、光学フィルタ４０のための図示していないスライダを一体として設け、具体
的には支持構造２４に隣接する熱回復チャンバ９０を有する、装置２０の任意の特徴を示
す。上述のように、紫外線放射を伝達する光学フィルタの能力は、ソラリゼーションによ
って、ＵＶ放射への曝露時間と関連して低下する。しかしながら場合によっては、光学フ
ィルタを５００℃程度等の高温に加熱すると、ソラリゼーション効果は逆転する。このよ
うなプロセスは装置２０と無関係に実施してよいが、いくつかの実施形態では、装置の休
止時間を短縮するために及び／又は光学フィルタ４０を回復させる間に交換用光学フィル
タを用意する必要がないようにするために、このプロセスを装置２０に組込むと有利であ
る。ソラリゼーションの効果を逆転させるために必要な高温のために、熱回復チャンバ９
０は支持構造２４から分離したチャンバであることが好ましい。更に、支持構造２４内の
構成部品の熱による劣化／損傷を防ぐために、熱回復チャンバ９０を、その中で生成され
る熱に耐えられるだけではなく、実質的にその熱を閉じ込めるように構成すると有利であ
る。

図２ｃの下方向を指向する矢印によって示すように、いくつかの実施形態では、装置２
０は光学フィルタ４０を熱回復チャンバ９０内へと移動させるよう構成してもよい。他の
実施形態では、これを手動で行ってもよい。いずれの場合においても、いくつかの実施形
態では、熱回復チャンバ９０内への光学フィルタ４０の移動は、光学フィルタ４０の透過
率に関して行われる測定に依存している。特に、光学フィルタ４０の透過率に関してセン
サ７２から収集される情報を用いて、光学フィルタを熱回復チャンバ９０内へと移動させ
るタイミングを決定する。熱回復チャンバを含めることはいくつかの装置においては有益
であるが、これは必要な要件ではなく、したがっていくつかの実施形態では省略してもよ
い。更に、図２ｃに示すように、熱回復チャンバ９０及び光学フィルタ４０がスライダ上
にあるという特徴は、装置に対して互いに排他的又は包括的ではなく、したがって装置は
これらの特徴の一方又は両方を含んでいてもよい。実際、本明細書で説明する光学フィル
タを含むいずれかの装置は、図１、２ａ、２ｂを参照して上述した装置及び図３〜７を参
照して以下に説明するものを含む熱回復チャンバを含んでいる。

上述したように、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置は、図１に示すような支持
構造の境界内に放電ランプが配置されている（すなわち、入っている）実施形態に限定さ
れない。むしろその代わりに紫外線放電ランプ装置は、少なくとも部分的に支持構造２４
の外側に配設された放電ランプを有していてもよい。放電ランプ２２が少なくとも部分的
に支持構造の外側に配設される装置２０の変形例の例示的な実施形態を図３に示す。図３
に示すように、変形例９２は、装置２０に関して図１に示したものとは異なる光学フィル
タ構成を備えている。具体的には光学フィルタ４０の代わりに他の光学フィルタ９４を備
えている。放電ランプ２２の上側に伝播する可視光を減衰させるように構成するのに加え
て、光学フィルタ９４は、放電ランプ２２が支持構造２４の上側に設けられることを考慮
して、放電ランプから横方向に伝播する可視光を減衰させるよう構成されている。放電ラ
ンプ２２のこのような転換により、いくつかの実施形態では、図３に示すようにカップ状
のハウジング４２を支持構造２４から省略してもよい。この例では、光学フィルタ９４内
が本発明のハウジングに相当する。このような場合、図３に示すように、いくつかの実施
形態では、放電ランプ２２の底部から放出される光を上向きに再配向するために、変形例
９２は放電ランプ２２の下側に配置された反射平面９６を含んでいる。

更に上述のように、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置は、放電ランプを「水平
位置」に配設する実施形態に限定されない。むしろ、本明細書で説明する紫外線放電ラン
プ装置は、放電ランプを支持する表面平面に対していずれの角度で設けた放電ランプを含
んでいる。「垂直位置」に配設された（すなわち、ランプを支持する装置の平面に対して
縦方向に垂直に設けた）放電ランプを有する紫外線放電ランプ装置の例を、図４〜７に示
す。図１に示すように、このような実施形態はそれぞれ、支持構造、電源回路、トリガ回
路並びに付随する任意の構成部品（例えばＣＰＵ、ユーザインタフェース、センサ、室特
徴システム、ヒンジ、スライダ及び／又は熱回復チャンバ）を含む。しかしながら、簡略
化のため並びに図示した光学フィルタ及び反射器システムの異なる構成を強調するために
、図４〜７それぞれにおいてこれらの各特徴部分は図示されていない。更に、簡略化のた
めに、これらの各特徴部分については図４〜７を参照して説明していない。

図４を参照すると、支持構造１０２上に支持され、支持構造１０２の平面に対して縦方
向に垂直に設けた放電ランプアセンブリを有する装置１００が示されている。放電ランプ
アセンブリは、光学フィルタ１０６に取り囲まれかつファン１０８とオゾンフィルタ１１
９との間に垂直に配置された放電ランプ１０４を含む。更に、放電ランプアセンブリは、
ベース１１４において支持されたベース１１０及び空気フィルタ１１２を含む。いくつか
の実施形態では、光学フィルタ１０６は放電ランプ１０４を封止するハウジングの壁を構
成し、ファン１０８と共に、装置１００のための強制空冷システムを構成する。更に装置
１００は、光学フィルタ１０６の頂部においてオゾンフィルタ１１９に固定された反射器
１１８を含む。反射器１１８、放電ランプ１０４及び装置１００の冷却システムの特徴、
並びに光学フィルタ１０６の光学特性は、一般に、本明細書で考えられる全ての紫外線放
電ランプ装置に関して上述したものを含んでおり、簡略化のために、これらについては繰
り返して説明しない。上述の実施形態と同様に、本明細書で説明する紫外線放電ランプ装
置の他の構成のために、装置１００が含む構成部品のうち複数、特に光学フィルタ１０６
、反射器１１８、オゾンフィルタ１１９及び装置１００の冷却システムを交換及び／又は
省略してもよい。したがって、図４に示す構成部品の完成品及び構成は必ずしも互いに包
括的ではない。

更に、装置１００は追加の構成部品（すなわち、図４に示したもの以外の構成部品）を
備えていてもよいことに留意されたい。例えばいくつかの実施形態では、装置１００は、
放電ランプ１０４と光学フィルタ１０６との間にこれらから離間して設けられた光学的に
透明な中間バリアを含んでいてもよい。中間バリアの例示的な材料は水晶であってもよい
が、その組成はこれに限定されない。中間バリアは放電ランプ１０４を封止するハウジン
グの壁であってもよく、したがって、ファン１０８とオゾンフィルタ１１９との間に垂直
に配置されており、装置１００の冷却システムの一部であってもよい。このような場合、
光学フィルタ１０６は、中間バリアから離間した別個のガラス部品として中間バリアを取
り囲み、ベース１１０、ファン１０８及び／又は反射器１１８に固定される。放電ランプ
１０４と光学フィルタ１０６との間に中間バリアを組み込むことは、放電ランプ１０４と
整列させて及び整列させずに光学フィルタ１０６を設けることができるようにすることが
望ましい場合、又は装置の動作中に光学フィルタ１０６を放電ランプ１０４と独立して移
動させることが望ましい場合に有利である。特に、中間バリアは放電ランプ１０４のハウ
ジングの一部としての役割を果たすことができ、これによって、放電ランプ１０４のため
の冷却システムを犠牲にすることなく光学フィルタ１０６の移動が可能となる。

以下により詳細に説明するように、いくつかの実施形態では、本明細書で説明する装置
の光学フィルタを装置の動作中に中心軸の周りで移動させる（例えば、回転又は振動させ
る）と有利である。しかしながら一般には、放電ランプの損傷に対する懸念から、放電ラ
ンプを同じ様式で移動させることは望ましくない。したがって、いくつかの実施形態では
、光学フィルタ１０６をベース１１０若しくはファン１０８に固定してもよい一方で反射
器１１８から離間させるか、又はその逆であってもよい。このような場合、装置１００は
光学フィルタ１０６に連結された１つ又は複数の追加の構成部品を備えていてもよく、こ
の追加の構成部品は、光学フィルタ１０６と、ベース１１０、ファン１０８又は反射器１
１８との間の空隙において、光、特に可視光を遮断するよう構成されている。このような
機能に特に適切である例示的な構成部品は、高密度に密集した剛毛である。

いずれの場合においても、装置から吐出される冷却ガスの量及び流速は大幅に変化し、
かつ一般に装置の設計仕様に左右されるものであるが、いくつかの実施形態では、本明細
書で説明する装置の開発中に発見されたように、特に冷却システムの流出口ダクトを天井
に向けた場合、ガスの量及び流速は、室内の散水システムをトリガするために十分なもの
であってもよい。したがって場合によっては、装置１００は放電ランプアセンブリの上側
に離間してキャップ構成部品を備えていてもよく、これによって装置の上側ではなく装置
の側方への空気の吐出が可能となる。キャップ構成部品の例示的な構成を図５に示し、以
下により詳細に説明する。冷却システムの排気ガスから散水システムがトリガされるのを
防ぐための代替的な解決法は、これによって放電ランプが所定の最高動作温度を上回るこ
とがない限りにおいて、ランプアセンブリを通過するガスの流速を低下させることである
。反対に、より低い温度で放電ランプを動作させると一般にランプの寿命が伸び、また理
論的にはより多くの紫外線光を生成できるため、ガスの流速を低下させることは場合によ
っては（すなわち、これによって放電ランプがその最高動作温度を超過しない場合であっ
ても）望ましくない。

図５は、冷却システムからの排気ガスを装置の上側ではなく側方に配向できるよう、装
置の放電ランプアセンブリの上側、より具体的には放電ランプアセンブリ内の冷却システ
ムの流出口の上側に設けたキャップ構成部品１１７を有する装置１００に対する変形例１
１５を示す。図５に示すように、キャップ構成部品１１７は、対象物がその上に配置され
るのを防ぐためにドーム型としている。このようなドーム型による構成は、装置が放電ラ
ンプアセンブリの上側にキャップ構成部品を含む実施形態に限定されない。特に、場合に
よっては、放電ランプアセンブリの頂部はその上に対象物が配置されるのを防ぐためにド
ーム型としてもよい。更に、キャップ構成部品１１７を含めることは、図５に示すように
オゾンフィルタ１１９が放電ランプアセンブリの頂部全体を含む実施形態に対して互いに
包括的ではない。特に、本明細書で開示するいずれの装置も、冷却システムからの排気ガ
スを配向するための冷却システムの流出口から離間した構成部品を備えていてもよい。

図４に示すように、いくつかの実施形態では、装置１００はベース１１４に連結された
リニアアクチュエータ１１６を含んでいる。一般にリニアアクチュエータ１１６は、放電
ランプアセンブリ及びこれに取り付けられた反射器１１８を支持構造１０２内及び外で移
動させるために使用できる。このような構成は、装置１００が使用されていない間、特に
輸送時に、放電ランプアセンブリ及びこれに取り付けられた反射器を損傷から保護するた
めに有利である。他の実施形態では、リニアアクチュエータ１１６は、装置１００の動作
中に、及び場合によっては放電ランプ１０４が光を放出している間に、放電ランプ及びこ
れに取り付けられた反射器を移動させるために使用できる。特にいくつかの実施形態では
、装置を配設する室内での紫外線光の分配を助けるために、放電ランプ及びこれに取り付
けられた反射器を装置１００の動作中に移動させると有利である。放電ランプアセンブリ
及びこれに取り付けられた反射器の移動を実行するための他の方法を用いてもよく、した
がって本明細書で考えた装置は、このような目的を達成するにあたって、リニアアクチュ
エータ１１６に必ずしも限定されない。例えば代替として、装置１００は固定されたレー
ルを備えていてもよく、このレールに沿って放電ランプアセンブリ及びこれに取り付けら
れた反射器が移動できる。いずれの場合においても、装置の動作中に放電ランプアセンブ
リを移動させる構成は、装置が放電ランプアセンブリに取り付けられた反射器及び／又は
放電ランプアセンブリの上側に取り付けられた反射器を含む実施形態に対して排他的では
ない。

装置１００は、放電ランプ１０４が支持構造１０２の外側表面を超えて延在するように
構成されるため、光学フィルタ１０６は放電ランプ１０４を取り囲むよう構成され、した
がって図４に示すような場合においては円筒形であってもよい。このような光学フィルタ
１０６の構成は、直円柱状に形成された光学フィルタガラスでもよく、又は、例えば水晶
等の光学的に透明な直円柱状基材上に配置された所望の光学特性を有するフィルムでもよ
い。図６、７を参照して以下に詳細に説明するように、放電ランプ１０４を取り囲む光学
フィルタの他の構成も可能である。更に他の場合では、光学フィルタ１０６を装置１００
から省略してもよい。特に上述のように、光学フィルタを含むことは本明細書で説明する
装置のうちのいくつかにおいては有益であるが、これは必ずしも必要な要件ではない。

放電ランプ１０４を支持構造１０２の外側表面を超えて延在させるように装置１００を
構成することによる利点は、放電ランプ１０４が放出し、場合によっては光学フィルタ１
０６を通過する紫外線光が、反射器１１８を含む必要なしに、装置の外側表面を包囲する
ことである。特に、本質的には支持構造１０２の外側表面を超えて放電ランプ１０４が延
在することによって、放電ランプ１０４が放出し、場合によっては光学フィルタ１０６を
通過する紫外線光が、ランプのハウジングを包囲し、このハウジングは装置の外側表面を
構成する。支持構造１０２の高さ及び放電ランプアセンブリの高さに応じて、支持構造１
０２の外側表面を超えて放電ランプ１０４が延在することによって、放電ランプ１０４が
放出する紫外線光が支持構造１０２を同様に包囲している。更にいくつかの実施形態では
、支持構造１０２の外側表面を超えて放電ランプ１０４が延在することによって、紫外線
光が、装置を配設する室の床から約２〜約４フィートである領域へと伝播する。これは上
述のように、室内の高接触領域が特に効果的な消毒を必要とする場合に関して考えられる
。更に他の場合には、放電ランプ１０４を支持構造１０２の上側に懸架することは装置１
００の周りに光を分配するにあたって有益であるが、放電ランプ１０４の配置は必ずしも
このように限定されない。特に代替として、放電ランプ１０４を支持構造１０２上に設け
てもよく、又は部分的に支持構造１０２と共に配置してもよい。

支持構造の外側表面を超えて放電ランプが延在することは、装置の周りに光を伝播する
にあたって効果的であるため、装置から離れる方向に伝播する紫外線光を再配向するため
の反射器システムは、本明細書で説明する装置のいくつかの実施形態、特に垂直に位置付
けされた放電ランプを有する装置においては不要となる。しかしながら場合によっては、
図４に示すように、装置１００はこのような反射器システムを含んでいてもよい。上述の
ように、装置１００の反射器システムは、光学フィルタ１０６の頂部においてオゾンフィ
ルタ１１９に固定された反射器１１８を含んでいる。このような構成は、反射器１１８を
放電ランプアセンブリと共に（すなわち、支持構造１０２内及び外において垂直方向に）
移動させるにあたって有利であるが、装置の構成はこれに限定されない。特に代替として
、反射器１１８は装置１００内の放電ランプアセンブリから取り外してもよい。このよう
な構成は、特定の領域への紫外線光の再配向を最適化する等のために、反射器を放電ラン
プアセンブリと独立して移動させることが望ましい実施形態において有利である。装置１
００の他の代替的な構成は、同一又は同様の直径を有しかつ図５に示すように互いに対し
て垂直に配置された、反射器１１８及びオゾンフィルタ１１９を含む。特に図５は、オゾ
ンフィルタ１１９が放電ランプアセンブリの頂部を構成し、反射器１１８がアセンブリの
底部を含むような装置１００の変形例１１５を示す。このような構成は有利には、より多
くの空気流にランプのハウジングを通過させることができ、より効率的な冷却システムを
提供する。更に他の実施例では、オゾンフィルタ１１９を装置１００から省略して、空気
フィルタ及び／又は光学フィルタと交換してもよい。

いずれの場合においても、反射器１１８は図４に示すように円形であってもよく、いく
つかの実施形態では特に円錐形であってもよい。しかしながら、反射器１１８に関して他
の形状も考えられる。いくつかの実施形態では、反射器１１８はある程度の紫外線光を装
置１００の上側に伝播できるように孔を含んでいてもよい。いずれの場合においても、い
くつかの実施形態では、装置１００は放電ランプ１０４及び／又は反射器１１８から伝播
する紫外線光を再配向するための追加の１つ又は複数の反射器を含んでいてもよい。例え
ばいくつかの実施形態では、装置１００は放電ランプアセンブリのベースの周りに配置さ
れた反射器を含んでいてもよい。場合によっては、追加の反射器を放電ランプアセンブリ
に取り付けて、追加の反射器が放電ランプアセンブリと共に移動するようにしてもよい。
他の実施形態では、追加の反射器を支持構造１０２の上部表面に固定し、放電ランプアセ
ンブリはこれを通り抜けて移動してもよい。反射器１１８の形状と同様、場合によっては
追加の反射器は円形及び円錐形でさえあってもよいが他の形状も考えられる。反射器１１
８の構成に関わらず、又は装置１００がこれを含むかどうかにさえ関わらず放電ランプ１
０４を支持するベース（例えば、ファン１０８の頂部）は反射器を備えていてもよい。

上述したように、本明細書で開示する紫外線放電ランプ装置に関して、放電ランプ１０
４を取り囲む光学フィルタの他の構成が考えられ、これを図６、７に示す。図６、７に示
す装置の変形例は、本明細書で説明する装置に関して考えられる光学フィルタの様々な構
成を強調するために使用されることに留意されたい。図示してはいないが、図６、７に示
す装置の変形例は、図１〜５に示し説明した構成部品のいずれを含んでいてもよい。例え
ばこれらの変形例は、図４を参照して説明したランプアセンブリのいずれの構成部品及び
反射器１１８を含んでいてもよい。更に、装置の設計仕様に応じて、図６、７のオゾンフ
ィルタ１１９のサイズは図示したものから変更してもよく、及び／又はオゾンフィルタ１
１９は図６、７の構成から省略してもよい。

図６は、放電ランプ１０４を取り囲む多面光学フィルタ１２２を有する装置１００の変
形例１２０を示す。図６は、支持構造１０２上に設けた多面光学フィルタ１２２を示すが
、このような配置は例示的なものである。光学フィルタ１０６に関して図４に示したもの
と同様、多面光学フィルタ１２２を支持構造１０２上に懸架してもよい。更に他の実施形
態では、多面光学フィルタ１２２及び付随する放電電球１０４を部分的に支持構造１０２
内に配置してもよい。いずれの場合においても、多面光学フィルタは一般に、１つに融着
された複数の光学フィルタのパネルを含む。多面光学フィルタ１２２は６つのパネルを含
むものとして示されているが、これに限定されない。特に、本明細書で説明する装置に関
して考えられる多面光学フィルタは、いずれの数の光学フィルタパネルを含んでいてもよ
い。更に光学フィルタパネルは、光学フィルタガラス材料製であってもよく、又は例えば
水晶等の光学的に透明な基材製であってもよく、所望の光学特性を有するフィルムがその
上に配置される。いずれの場合においても、いくつかの実施形態では、光学フィルタパネ
ルは、構造を指示するための異なる材料（金属又はプラスチック等）の幅狭ストリップを
備えている。場合によっては、幅狭ストリップのうちの１つ又は複数は、部分的又は全体
的に反射性材料を有しており、これによって、幅狭ストリップが周りに設けた放電ランプ
から放出される光の再配向を助ける。

いくつかの実施形態では、特に光学フィルタが光学フィルタガラス材料製である実施形
態について、多面光学フィルタは真円筒形光学フィルタより安価である。しかしながら、
多面光学フィルタを使用する際の欠点は、プレートが融着されたところ及び／又は支持ス
トリップが配置されたところで紫外線光が阻止され、したがって装置を設けた室の複数の
領域が十分に消毒されないことである。このような欠点を克服する１つの方法は、装置の
動作中に多面光学フィルタを移動させることである。特に、装置の動作中に装置１００を
包囲する領域に伝播する紫外線光を集めるとこの包囲領域全体を占めることができるよう
に、多面光学フィルタを中心軸の周りで移動させる。装置の動作中に多面光学フィルタを
１回転以上回転させ、又は装置の動作中に多面光学フィルタを１回転未満だけ回転させて
もよい。いくつかの実施形態では、多面光学フィルタは１回転のうちの一部分だけ移動し
、この一部分は、多面光学フィルタを備える光学パネルの数に対応する。例えば、多面光
学フィルタが６つの光学パネルを含む実施形態では、多面光学フィルタを１回転の１／６
だけ移動させればよい。

いずれの場合においても、本明細書で説明する装置のうちのいくつかは、中心軸の周り
で光学フィルタを移動させるための手段を含んでいてもよい。このような手段は、対象物
を移動させるための当該技術分野で公知のいずれの機構でよく、さらなる実施形態では、
中心軸の周りで光学フィルタを移動させるタイミングを自動化することができるようにＣ
ＰＵ３２が実行可能なプログラム命令を備えているとよい。上述のように、いくつかの実
施形態では本明細書で説明する紫外線放電ランプ装置の光学フィルタを、装置の動作中に
中心軸の周りで移動させると有利であるが、一般に放電ランプの損傷に対する懸念から、
放電ランプを同じ様式で移動させることは望ましくない。したがっていくつかの実施形態
では、変形例１２０は放電ランプ１０４と多面光学フィルタ１２２との間に中間バリアを
含んでいる。上述のように、中間バリアは放電ランプ１０４の周りのハウジングの一部で
あってもよい。更に多面光学フィルタ１２２は、中間バリアと独立して移動するよう構成
してもよい。

更に他の実施形態では、多面光学フィルタ１２２は、装置の動作中に中心軸の周りで移
動するよう構成しなくてもよい。特に、多面光学フィルタ１２２の隣接した光学フィルタ
パネルから伝播される光はある１点で収斂し、したがって装置１００の動作中に中心軸の
周りで多面光学フィルタ１２２を移動させることなく、紫外線光が装置１００の外側表面
を包囲できると考えられる。更に他の実施形態では、放電ランプ１０４は、光学フィルタ
パネルの融着領域及び／又は多面光学フィルタ１２２上に配置された支持ストリップから
の潜在的な遮断と相互作用する構成を含んでいる。例えば放電ランプ１０４は、Ｕ字の「
バー」の間に融着領域及び／又は支持ストリップの幅より大きい空間を有する、Ｕ字型電
球であってもよい。このような場合のいずれにおいても、装置１００は、放電ランプ１０
４から放出され多面光学フィルタ１２２を通過する紫外線光のうちの少なくともある程度
が、装置の外側表面を包囲するように構成されているものと言える。代替として、光学フ
ィルタパネルの融着領域及び／又は多面光学フィルタ１２２上に支持ストリップが配置さ
れている箇所によって発生する隙間は重大なものとはならず、したがって多面光学フィル
タ１２２の移動は不要となる。

図７は、本明細書で説明する装置内で使用できる光学フィルタの更に他の構成を示す。
特に図７は、放電ランプ１０４を取り囲む光学フィルタ１２６及び反射器１２８のアセン
ブリを有する装置１００の変形例１２４を示す。図７に示すように、いくつかの実施形態
では、光学フィルタ１２６及び反射器１２８は、アセンブリの円筒形側壁に沿ってほぼ等
しいサイズであってもよい。しかしながら、光学フィルタ１２６が反射器１２８のアセン
ブリの側壁に沿った部分よりも大きいもの、及び光学フィルタ１２６が反射器１２８のア
センブリの側壁に沿った部分よりも小さいものを含む他の構成も可能である。したがって
、本明細書で説明する装置に関して考えられる光学フィルタ／反射器アセンブリのより一
般的な説明は、光学フィルタ及び光学フィルタに対向する反射器、又はその逆を含むアセ
ンブリとなる。

図７に示すように、場合によっては反射器１２８は更にアセンブリの頂部を備えていて
もよい。しかしながら、代替として光学フィルタ１２６がアセンブリの頂部を含む構成、
又はアセンブリの頂部をを含む反射器１２８及び光学フィルタ１２６の組合せを有する構
成といったアセンブリの頂部に関する他の構成も考えられる。更に、光学フィルタ／反射
器アセンブリの形状は、図７に示すような真円筒形に限定されないことに留意されたい。
むしろ、反射器１２８及び光学フィルタ１２６のうちの１つ又は複数は、複数のパネルを
含んでいてもよく、したがって場合によってはアセンブリは多角柱形状であってよい。更
に又は代替として、アセンブリの頂部は傾斜していてもよく、又はより一般には、高さが
変化する。このような構成は、紫外線光を室内の所望の領域へと下向きに再配向できるよ
うに、頂部の少なくとも一部が反射器１２８を含む場合に特に有利である。更に又は代替
として、このような構成は、装置の冷却システムからの排気ガスが、装置を配設した室の
天井へと直接送られるのを防ぐために有利である。

いずれの場合においても、図７の光学フィルタ／反射器アセンブリは、対象物の密度が
高い領域等、装置と隣接した室内の特定の領域を標的とするにあたって効果的である。い
くつかの実施形態では、光学フィルタ／反射器アセンブリは移動するように構成してもよ
い。例えば場合によっては、光学フィルタ／反射器アセンブリは振動するように構成して
もよい。このような構成は、所定の標的領域が、光学フィルタ／反射器アセンブリが静止
時に効果的に紫外線を放出できる範囲より大きい場合に有利である。他の実施形態では、
光学フィルタ／反射器アセンブリは回転するように構成してもよい。いずれの場合におい
ても、いくつかの実施形態では、光学フィルタ／反射器アセンブリの移動は装置１００を
配設する室の特徴に基づいていればよい。例えば、室内の比較的多数の対象物が同一の一
般領域にある場合、室内の他の領域に比べて特定の領域に光を配向するように光学フィル
タ／反射器アセンブリを位置付けすると有益である。

図１、２ａ〜２ｃを参照して説明した装置２０と同様に、装置１００は、１つ若しくは
複数の室の特徴を列挙したデータベースを含むか、若しくはこのようなデータベースにア
クセスできるよう構成され、並びに／又は装置１００は、室の特性に関するデータを収集
及び／若しくは生成するためのシステム７０を備えている。室の特徴を生成、収集及び／
又は分析するための当該技術分野で公知のいずれのシステムを使用してもよい。例として
は、線量計、空間センサ及び／又は光認識システムが挙げられる。場合によっては、装置
１００は更に、データを取得し、このデータに基づいて光学フィルタ／反射器アセンブリ
の位置を決定し、決定された位置をユーザインタフェース３４に中継する及び／又は決定
された位置に関するコマンドを、光学フィルタ／反射器アセンブリを自動的に移動させる
ための装置１００内の手段に送信するための、ＣＰＵ３２を含んでいるとよい。

上述の特徴に加えて又はその代替として、いくつかの実施形態では、本明細書で説明す
る紫外線放電ランプ装置は複数の放電ランプを含んでいる。このような装置は、このよう
な特徴に関する上記の説明にしたがって、各放電ランプに対して光学フィルタ及び／又は
反射器システムを含んでいてもよい。いくつかの実施形態では、装置は、放出した可視光
の大半を減衰させるように構成された光学フィルタを有する放電ランプを備えており、更
に、近接して光学フィルタが設けられていない放電ランプを備えていてもよい。このよう
な構成は、装置の動作中に可視光を減衰させることが望まれるかどうかに応じて放電ラン
プの使用を交替させるにあたって有利である。場合によっては、複数の放電ランプのうち
のいくつか又は全てを、同一の電源回路及び／又は同一のトリガ回路によって動作させて
もよい。他の実施形態では、装置は各放電ランプに対して別個の電源回路及び／又は別個
のトリガ回路を含んでいる。いずれの場合においても、本明細書では、それぞれ１つ又は
複数の放電ランプを有する複数の装置を、互いに連携して（すなわち、システムを形成し
て）動作させて室を消毒するように構成するとよいと考えられる。図８は、それぞれ放電
ランプアセンブリ１３４、１４４及びセンサ１３６、１４６を含む複数の紫外線放電ラン
プ装置１３２、１４２を含む、例示的なシステム１３０を示す。装置１３２と装置１４２
との間の点線は、これらのユニットを互いに連携するよう構成できること、及び／又は中
央処理ユニットを介して接続できることを表している。

いずれの場合においても、複数の放電ランプを有する装置又は複数の放電ランプ装置を
有するシステムは、これらの放電ランプを同時に、連続して又は装置／システムの別個の
動作において動作させるよう構成している。複数の放電ランプを同時に動作させると、あ
る領域を処理するために必要な時間が短縮でき有利である。過剰なＵＶ光による領域への
「過量使用」を防ぎつつ、ある領域を処理するために必要な時間を更に最小化するために
、装置／システムは、各ランプの強度又はパルス周波数等の装置／システムの動作パラメ
ータを、装置／システムを配設する室の特徴又は標的対象物から反射した紫外線光に基づ
いて修正するよう構成している。ここで、室の特徴又は標的対象物から反射した紫外線光
の量若しくは強度を決定するために、データベース又は１つ若しくは複数のセンサ及び場
合によっては各放電ランプユニットのためのセンサを使用している。場合によっては、装
置／システムは装置／システムを配設する室をマッピングするために超音波、赤外線又は
その他のセンサを含んでおり、またいくつかの実施形態では、装置／システムは各放電ラ
ンプユニットに対して室をマッピングするよう構成している。このようなマッピング適合
は、必ずしも複数装置システムの一部ではない単一の放電ランプを含む装置にも含まれて
いてもよい。

いずれの場合においても、装置／システムのＣＰＵは、全ての標的とする表面上に最小
用量が届くようにするために、１つ又は複数のマップを分析して、必要な紫外線光用量を
決定するよう構成している。更に、複数ランプ装置／システムのＣＰＵは、室の総処理時
間を最適化するために各放電ランプに電力を割り当てるよう構成している。これは、反射
した紫外線光を測定するために使用されるセンサからのフィードバックを用いて達成する
こともできる。全てのセンサからの情報（例えば、放出された紫外線光、室サイズ／形状
、及び全電球ユニットの位置付け）を、各電球ユニットの総動作時間を決定する等式又は
アルゴリズムに入れることができる。これにより、ある領域内での汚染除去速度を最適化
するために、電力をユニットに送電できる。例えばあるシステム構成においては、２つの
ユニットを用いて、ある領域の異なる部分又は異なる室さえも処理できる。複数の部分の
うちの１つが必要な紫外線光用量を受け取っていることをセンサが検知すると、対応する
ユニットは停止してもよい。いくつかの実施形態では、残ったユニットが送電された電力
を受けることができ、必要であればより高い周波数でパルスを発生させることができる。
異なる部分間に共通の空間があるかどうかを検知できる、更にこの共通のユニットを処理
するよう第２のユニットに指示し、この領域を第１のユニットに関する用量算出から除外
できるほど、センサシステムを複雑化してもよい。更に、各電球ユニットに関して放出さ
れた紫外線光の配向を、反射器の高さ、方向及び／又は形状を変化させることによって変
更することで、動作時間を最適化できる。

いくつかの実施形態では、室内を移動して紫外線光分散に複数の焦点を与える装置又は
システムを作成できる。このような場合には、（超音波若しくは赤外線センサ又は反射し
た紫外線光による）室の感知から得られる情報を用いて室内を移動する装置／システムを
ガイドしてよい。装置／システムはモータ駆動ホイールを用いて移動でき、障害物を回避
するためのセンサを備えていてもよい。装置／システムは、これが移動する際のリアルタ
イムでの感知、これが移動する際に各表面が受け取る用量のマッピングを通して、室を「
学習」できる。ユーザが手動で装置／システムを室内で押してもよく、その一方で装置／
システムが室をマッピングし、装置／システムのＣＰＵがこのマップを分析して、装置／
システムの動作のための各位置における正確な用量を決定する。マップ及び用量要件を用
いて、可動装置／システムが異なる表面を通過する際の速度を変化させることができる。

図９〜１１を参照すると、殺菌デバイスの動作を制御するためのシステム、より具体的
には、殺菌デバイスの動作パラメータ及び消毒スケジュールを決定するシステムが提供さ
れる。特に図９は、１つ又は複数の消毒剤源並びに１つ又は複数の消毒剤源の動作パラメ
ータ及び消毒スケジュールを決定するためのプロセッサ実行可能プログラム命令を備えた
システムを示す。図１０は、図９に示すシステムのプロセッサ実行可能プログラム命令が
実行するよう構成される方法の概略を表すフローチャートを示す。図１１は、図９に示す
システムのプロセッサ実行可能プログラム命令が実行するよう構成される他の方法の概略
を表すフローチャートを示す。一般に、図９〜１１を参照して説明するシステム及びプロ
セスは、消毒剤源を含むいずれのシステムにも適用可能である。本明細書で使用する用語
「消毒剤源」とは、殺菌剤を生成及び分配するために使用される１つ又は複数の構成部品
の集合体を表し、場合によっては殺菌剤の生成又は分散を実行するために使用されるいず
れの追加の構成部品を包括する。いくつかの実施形態では、デバイス又は装置は、殺菌剤
を生成するための複数の構成部品の１つのセットを含んでいてもよい。このような場合、
殺菌剤の生成に関連する構成部品を消毒剤源と呼んでおり、又は代替として、デバイス若
しくは装置全体を消毒剤源と表現している。他の実施形態では、デバイス又は装置は複数
の消毒剤源（すなわち、１つ又は複数の殺菌剤の複数の源を生成するための複数の構成部
品の複数のセット）を含んでいる。

いずれの場合においても、本明細書で使用する用語「殺菌剤」は、微生物、特に病気を
保持する及び／又は病気を発生させる微生物（すなわち病原菌）を不活性するか殺すため
の薬剤を表す。本明細書で使用する用語「殺す」とは、有機体の死を引き起こすことを意
味する。対照的に、本明細書で使用する用語「不活性化する」とは、有機体を殺すことな
く、繁殖不可能とすることを意味する。したがって、微生物を不活性化するように構成さ
れた殺菌剤は、微生物を繁殖不可能とするが、有機体は生きたままとする薬剤を表す。一
般に、図９〜１１に開示したシステム及びプロセスに関して考えられる１つ又は複数の消
毒剤源は、液体、蒸気、ガス、プラズマ、紫外線光及び／又は高強度狭スペクトル（ＨＩ
ＮＳ）光の形態の殺菌剤を生成するよう構成している。したがって、図９〜１１に開示し
たシステム及びプロセスに関して考えられる１つ又は複数の消毒剤源は、図１〜８を参照
して上述した放電ランプ装置を含む、必ずしもこれに限定されない。液体、蒸気、ガス又
はプラズマ殺菌剤を分散させるように構成してもよい消毒剤源の例は、液体霧吹き、噴霧
器、プラズマトーチ、並びに湿式及び乾式霧化システムを含む霧化システムを含むが、必
ずしもこれらに限定されない。本明細書で使用する用語「霧」とは、液体の微小球がガス
中に浮遊したものを表す。本明細書での使用においては、殺菌剤霧は液体殺菌剤に分類さ
れる。

いくつかの実施形態では、液体、蒸気、ガス又はプラズマ殺菌剤は使用される様式によ
って不活性化又は殺機能を発揮できる。例えば、沸騰水、蒸気及び加熱された空気は、こ
れらが使用される温度から、効果的な滅菌剤となる場合がある。更に、ある種のプラズマ
殺菌剤の殺菌効果は、プラズマを形成する荷電粒子の分子組成ではなく、荷電粒子の存在
及び活性によるものである。本明細書で使用する「分子的に構成される」とは、この後に
記載される機能を発揮するための物質の元素組成（すなわち、物質を形成する原子の数及
びタイプ）を表す。場合によっては、液体、蒸気、ガス又はプラズマ殺菌剤の、微生物を
不活性化する及び／又は殺す機能は、殺菌剤を構成する元素に帰するものであり、したが
ってこのような殺菌剤は、微生物を不活性化する及び／又は殺すように分子的に構成され
ているものと表現することができる。

微生物を殺すように分子的に構成されているガス殺菌剤の例はオゾンである。微生物を
不活性化する又は殺すよう分子的に構成されているプラズマ殺菌剤の例は、反応性酸素種
を使用又は生成するものである。微生物を不活性化する又は殺すように分子的に構成され
ている液体及び蒸気殺菌剤の例は、漂白剤、過酸化水素、塩素、アルコール、四価アンモ
ニウム化合物又はオゾン等を含むがこれらに限定されない基本的な消毒剤を有する液体及
び蒸気消毒溶液を含む。これらのいずれの場合においても、液体及び蒸気殺菌剤は水性又
は非水性であってもよい。図９〜１１で開示するシステム及びプロセスに関して考えられ
る１つ又は複数の消毒剤源は、殺菌剤を使用する様式によって及び殺菌剤の分子的な構成
によって不活性化又は殺機能を発揮するよう構成されたものを含んでいてもよい。

図９を参照すると、１つ又は複数の消毒剤源１６０及び任意の１つ又は複数の消毒剤源
１６２、１６４を含むシステム１５０が示されている。特に、１つ又は複数の消毒剤源１
６２、１６４の境界となっている点線は、これらがシステム１５０の任意的な特徴である
ことを表す。一般に、システム１５０は、１つのみの消毒剤源又はいずれかの複数の消毒
剤源を含む、いずれかの数の消毒剤源を含んでいてもよい。更にシステム１５０は、１つ
又は複数の消毒剤源を含むいずれかの数のデバイス又は装置を含んでいてもよい。特に、
システム１５０は場合によっては、１つ又は複数の消毒剤源を有する単一の消毒デバイス
又は装置を含んでいてもよい。他の実施形態では、システム１５０は、図９で示すように
、それぞれ１つ又は複数の消毒剤源を有する複数の消毒デバイス又は装置を含んでいる。

いずれの場合においても、システム１５０内の１つ又は複数の消毒剤源を、室内に固定
して配設するか、又は可搬性とする。システム１５０が複数の消毒剤源を含む実施形態で
は、消毒剤源のうちのある程度を室内に固定して設けていればよく、残りを可搬性として
もよい。システム１５０が複数の消毒剤源を含む更に他の実施形態では、消毒剤源の全て
を室内に固定しておいても、又は全てを可搬性としてもよい。更に上述のように、図９〜
１１で開示するシステム及びプロセスに関して考えられる１つ又は複数の消毒剤源は、液
体、蒸気、ガス、プラズマ、紫外線光及び／又は高強度狭スペクトル（ＨＩＮＳ）光の形
態の殺菌剤を生成するよう構成してもよい。システム１５０が複数の消毒剤源を含む実施
形態では、１つ又は複数の消毒剤源は、液体、蒸気、ガス、プラズマ、紫外線光及び／又
は高強度狭スペクトル（ＨＩＮＳ）光の形態の殺菌剤を生成するよう構成された源のいず
れの組合せであってもよく、又は同一のタイプの消毒剤源のみを含んでいてもよいことに
留意されたい。

以下により詳細に説明するように、１つ又は複数の消毒剤源１６０及び任意の１つ又は
複数の消毒剤源１６２、１６４の動作パラメータ及び消毒スケジュールを決定するための
、図１０、１１に概略を示すプロセスは、システム１５０を配設する室の特徴に基づく。
したがって、システム１５０の１つ又は複数の消毒剤源並びに１つ又は複数の消毒剤源を
備えた１つ又は複数のデバイス及び１つ又は複数の装置は、特に室内消毒のために構成す
る。より具体的には、システム１５０の１つ又は複数の消毒剤源並びに１つ又は複数の消
毒剤源を備えた１つ又は複数のデバイス及び１つ又は複数の装置は、室を処理できるよう
な広範囲に殺菌剤を分配させるよう構成している。本明細書で使用する用語「室内消毒」
とは、ヒトの住居に適した境界が定められた領域を洗浄して、この領域において保菌微生
物を不活性化し、破壊し、又は保菌微生物の成長を防止することを意味する。本明細書で
説明する室内消毒デバイス及び装置、特に図９〜１１を参照して説明するシステム及びプ
ロセスに関して考えられるものは、床をベースとするもの、壁をベースとするもの及び天
井をベースとするものを含む様々な構成を採っている。

図９に更に示すように、システム１５０は、プロセッサ１５６及びプロセッサ１５６が
実行可能なプログラム命令１５４を有する処理サブシステム１５２を含む。図１０、１１
を参照して以下により詳細に説明するように、プログラム命令１５４は、システム１５０
を備える消毒剤源（例えば１つ又は複数の消毒剤源１６０及び場合によっては１つ又は複
数の消毒剤源１６２、１６４）の動作パラメータ及び／又は消毒スケジュールを決定する
よう構成している。本明細書で使用する用語「プログラム命令」とは、一般に、入力の受
信、信号の受信の記録、デバイスに動作を開始させることができるタイミング及び／又は
動作を開始させることができるかどうかの決定、並びにデバイスの動作を開始及び／又は
終了させる信号の送信等、特定の機能を実行するよう構成されたプログラム内の命令を表
している。プログラム命令は、いずれの様々な方法で実装しており、とりわけプロシージ
ャベース技術、構成部品ベース技術及び／又はオブジェクト指向技術を含む。プログラム
命令は、例えば、所望に応じてアクティブＸコントロール、Ｃ＋＋オブジェクト、ジャバ
ビーンズ、マイクロソフトファウンデーションクラス（「ＭＦＣ」）又は他の技術若しく
は方法論を用いて実装している。本明細書で説明するプロセスを実装するプログラム命令
は、ワイヤ、ケーブル又は無線伝送リンク等のキャリア媒体を通して伝送している。

いくつかの実施形態では、処理サブシステム１５２は、システム１５０の１つ又は複数
の消毒剤源それぞれに接続される単一の処理ユニットであり、したがって特にシステム１
５０が複数の消毒剤源を含む場合、中央処理ユニットと考えてもよい。このような場合、
いくつかの実施形態では、処理サブシステム１５２は、図９に示すように、システム１５
０の１つ又は複数の消毒剤源を備えた１つ若しくは複数のデバイス又は１つ若しくは複数
の装置から独立した実体である。更に他の場合、処理サブシステム１５２は、システム１
５０の１つ又は複数の消毒剤源を備えたデバイス又は装置内に配置している。更に他の実
施形態では、処理サブシステム１５２は複数のプロセッサを含んでおり、これらはそれぞ
れ、システム１５０の１つ又は複数の消毒剤源を備えた異なるデバイス又は装置上に配置
されている。このような場合、処理サブシステム１５２は、複数の消毒源を備えたデバイ
ス又は装置間に少なくとも部分的に分配することができる。いくつかの実施形態では、シ
ステム１５０の１つ又は複数の消毒剤源を備えた各デバイス又は装置は、プロセッサ及び
プログラム命令１５４を含んでいる。

図１０を参照すると、１つ又は複数の消毒剤源を配設する室の特徴に基づいて、殺菌シ
ステムの１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定するためのプロ
セスの概略を説明するフローチャートが提供されている。図１０のブロック１７０に示す
ように、本方法は、１つ又は複数の消毒剤源を配設する室の特徴に関するデータを受信す
ることを含む。このようなプロセスは、ブロック１７２に示すように、このようなデータ
を含むデータベースにアクセスすること及び／又はブロック１７４に示すように、このよ
うなデータを生成する室内の１つ若しくは複数のセンサからデータを受信することを含ん
でいる。後者の場合、いくつかの実施形態では、１つ又は複数のセンサは、殺菌システム
の１つ又は複数の消毒剤源及び処理サブシステムから独立していている。他の場合、セン
サのうちの１つ又は複数は、殺菌システムの消毒剤源のうちの１つ若しくは複数内、又は
処理サブシステムが１つ若しくは複数の消毒剤源から分離している場合は処理サブシステ
ム内に配置している。

一般に、本明細書で使用する「室の特徴」とは、室の物理的特質及び非物理的特質を表
す。室の非物理的特質は、室を参照するために使用される識別子（例えば室番号及び／又
は室名）並びに室に関する占有情報（例えば室を占有していた患者の感染情報又は患者が
室を占有するスケジュール）を含むが、必ずしもこれらに限定されない。室の物理的特質
は、室のサイズ及び／若しくは寸法、並びに／又は室内の表面及び／若しくは対象物の数
、サイズ、距離、位置、反射率及び／若しくは識別若しくは優先順位付けを含むが、必ず
しもこれらに限定されない。場合によっては、室の物理的特質は、室内の１つ又は複数の
病理学的有機体の識別（すなわち、試料分析からの検知）であってもよく、更には、室内
、室の特定の領域内又は室の特定の表面上の１つ又は複数のこのような有機体の数又は密
度である場合もある。本明細書で使用する「消毒剤源の動作パラメータ」とは、消毒剤源
の動作に影響を与え得るいずれかのパラメータを表し、これは、消毒剤源の実行時間、消
毒剤源の位置、消毒剤源を備えた構成部品の配向、消毒剤源の殺菌剤用量パラメータ、及
び／又は消毒剤源に供給される電力を含むがこれらに限定されない。

図１０のブロック１８０に示すように、本方法は更に、室の特徴に関する受信したデー
タに基づいて、１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の独立した動作パラメータを決定
することを含む。一般に、このようなプロセスを実行するにあたって数多くの方法が存在
する。特にいくつかの実施形態では、このプロセスは室の特質のリスト及び１つ又は複数
の消毒剤源の対応する１つ又は複数の所定の動作パラメータを含むデータベースにアクセ
スすることを伴う。例えば、室番号、室名又は室に関する占有情報等の室の非物理的特質
を、殺菌システムのユーザインタフェースに入力してもよく、このようなデータの入力に
より、１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数のパラメータを決定するための、上述のデ
ータベースへのアクセスを開始してもよい。

特に、予め割り当てられた室識別子（「１０３」又は「操作室」等）をユーザインタフ
ェースに（キー入力又はバーコード走査等によって）入力しておき、このような相関情報
の概略を含むデータベースから、このような室内に配設される１つ又は複数の消毒剤源の
１つ又は複数の動作パラメータを決定してもよい。このような実施形態は特に、１つ又は
複数の可搬性消毒デバイスを含む殺菌システムに適用可能であり、したがって複数の異な
る室内で使用される。別の例は、室に関する占有情報（例えば、室を占有していた患者の
感染情報又は患者の室占有スケジュール）をユーザインタフェースに入力し、このような
情報から、１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定してもよい。
このような実施形態は特に、室を占有していた患者が特定の芽胞形成菌感染と診断されて
いた及び／若しくはそのための治療を受けていた場合、又は低免疫系を有することが分か
っている（ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）等）患者が入室する場合に適用可能である。
このような場合、１つ又は複数の消毒剤源に関して決定される動作パラメータは、患者の
病気に基づく。

場合によっては、上述のプロセスを、室内に配設する消毒剤源又はデバイスの数及び／
又はタイプを因子として、増加させてもよい。特に、室番号、室名又は室に関する占有情
報等の室の非物理的特質をユーザインタフェースに入力することに加えて、１つ又は複数
の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定するために、室内に配設する消毒剤源
又はデバイスの数及び／又はタイプをユーザインタフェースに入力してもよい。このよう
な場合、このような入力においてアクセスされるデータベースは、消毒剤源の数及び又は
タイプに関する１つ又は複数の追加のフィールドを含んでおり、このフィールドは、列挙
された室の特質それぞれ、及びこれに対応する、各消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメ
ータの異なるセットに適用可能である。場合によっては、室の特徴に基づいて、特定の消
毒源を使用するよう選択する。上述の実施形態は、１つ又は複数の可搬性消毒デバイスを
有する殺菌システムのみに排他的に適用可能なものではなく、１つ又は複数の可搬性消毒
デバイスを、室内に固定して配置された消毒剤源と組合せて有する殺菌システムにも適用
可能であることに留意されたい。このような実施形態のうち後者においては、場合によっ
ては、データベースが挙げる動作パラメータは、室内の固定して配置された消毒剤源の公
知の位置に基づいて予め設定されている。

１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定するためにデータベー
スにアクセスすることは、室の非物理的特質（室識別子又は室に関する占有情報等）に限
定されないことに留意されたい。特に、追加又は代替として、データベースは、室内に配
置され得る１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の物理的特質（室のサイズ及び／若し
くは寸法、並びに／又は室内の表面及び／又は対象物の数、サイズ、距離、位置、反射率
及び／若しくは識別若しくは優先順位付け等）の値又は範囲のリスト、並びにこれに対応
する１つ又は複数の所定の動作パラメータを含んでいる。このような実施形態もまた、１
つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定するために、室内に配設す
る消毒剤源又はデバイスの数及び／又はタイプを因子として、増加させてもよい。

いずれの場合においても、物理的特質はユーザインタフェースを介して入力しており、
又は室内の１つ若しくは複数のセンサを介して得ている。上述の場合が適用可能である実
施形態の例は、室のサイズが得られており、アクセス可能なデータベースが、異なる室の
サイズ又は室のサイズの範囲に対して、異なる実行時間、異なる殺菌剤排出量、及び／又
は消毒剤源に供給される異なる電力レベルを含む場合である。特に、比較的広い室は、よ
り狭い室と比べて長い及び／又は効率のよい殺菌剤曝露を必要とする傾向があり、したが
って、実行時間、殺菌剤排出量、及び／又は消毒源に供給される電力レベルを室のサイズ
に基づいて設定すると有利であると考えられる。データベースに関して、室の特徴と消毒
剤源の動作パラメータとの他の相関も考えられ、したがって上述の例は、本明細書で提供
する開示の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。

１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを室の特徴に基づいて決定す
る代替方法は、このような変数と相関するアルゴリズムを使用することである。いくつか
の実施形態では、アルゴリズムは室の物理的特質のみに基づいて１つ又は複数の消毒剤源
の１つ又は複数の動作パラメータを決定している。他の場合では、アルゴリズムは室の物
理的特質及び非物理的特質の組合せに基づいて１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の
動作パラメータを決定している。いずれの実施形態においても、１つ又は複数の消毒剤源
の動作パラメータを決定するのに加えて又はその代替として、特にアルゴリズムの使用に
よって、室の特徴に基づいて特定の消毒剤源の使用を選択してもよい。上述のデータベー
スの実施形態と同様、いくつかの実施形態では、アルゴリズムは、室の特徴に加えて、室
内に配設する消毒デバイスの数及び／又はタイプに基づいている。必ずしもこのように限
定されるものではないが、１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータの決
定に室の複数の特徴が影響する場合、アルゴリズムベースのプロセスを用いると有利であ
る。更に又は代替として、複数の動作パラメータを決定したい場合及び／又は複数の消毒
剤源に関して１つ若しくは複数の独立した動作パラメータを決定したい場合、アルゴリズ
ムベースのプロセスを用いると有利である。特に、相関する変数の範囲は、より多くの変
数が役割を有するにしたがってより複雑になり、したがってこのような場合は、データベ
ースよりもアルゴリズムの方がより適切である。

場合によっては、図１０のブロック１７０で受信した室の特徴のデータを用いて、ブロ
ック１７６、１７８に示すように、室内の位置、領域、対象物及び／又は表面を識別して
いる。このような場合、ブロック１８０に示す、１つ又は複数の消毒剤源の独立した動作
パラメータを決定するプロセスは、ブロック１７６又はブロック１７８の（すなわち、デ
ータベース又はアルゴリズムによる）、識別した位置、領域、対象物又は表面に基づいて
いる。ブロック１７６に示すように、いくつかの実施形態では、ブロック１７０で受信し
た室の特徴のデータを用いて、室内の位置、領域、対象物及び／又は表面を識別しており
、優先順位と識別した位置、領域、対象物及び／又は表面との所定の関連にしたがって（
データベース又はアルゴリズムによって等）、識別した位置、領域、対象物及び／又は表
面それぞれに優先順位ランキング（例えば数字又は文字）を割り当てている。場合によっ
ては、表面のうちの少なくともいくつかに対する優先順位ランキングは、それらの最後の
消毒からの時間量に基づいてもよい。ブロック１７６における優先順位ランキングの割り
当ては、室内の位置、領域、対象物及び／又は表面に優先順位付けを導入するための１つ
の方法であることに留意されたい。代替として、位置、領域、対象物及び／又は表面に優
先順位ランキングを予め割り当ててもよい。いずれの場合においても、優先順位ランキン
グは、数字、文字及び「高い」「低い」等の単語を含むがこれらに限定されない、室内の
位置、領域、対象物及び表面の間の階層的な重要度を表すいずれのタイプの記号を含んで
いてもよい。

図１０に示すように、いくつかの実施形態では、ブロック１７６で割り当てられる優先
順位記号を用いて、ブロック１７６とブロック１７８との間の矢印で示すように、室内の
標的位置、領域、対象物及び／又は表面を識別している。しかしながら、ブロック１７６
、１７８の境界となっている点線は、これらのプロセスが任意であることを示しているこ
とに留意されたい。したがっていくつかの実施形態では、ブロック１７６をプロセスから
省略しており、ブロック１７０で受信した室の特徴のデータを用いて、ブロック１７８に
おいて（データベース又はアルゴリズムによって等）、室内の標的位置、領域、対象物及
び／又は表面を直接識別している。他の場合では、ブロック１７８を省略しており、ブロ
ック１７６で識別された位置、領域、対象物及び／又は表面を用いてブロック１８０で１
つ又は複数の独立した動作パラメータを決定している。更に他の実施形態では、ブロック
１７６、１７８の両方を本方法から省略しており、したがって図１０に概略を示すプロセ
スは、場合によってはブロック１７０から直接ブロック１８０に続いている。室内の標的
位置、領域、対象物及び／又は表面を識別する場合において、ブロック１８０のプロセス
は、各消毒剤源に関して、１つ又は複数の標的位置、領域、対象物及び／若しくは表面に
固有の、１つ又は複数の動作パラメータを決定することに留意されたい。

ブロック１７８の、標的位置、領域、対象物及び／又は表面を識別するプロセスは、様
々な方法で実装すればよく、一般にはこのような標的に関して室を分析するために使用す
るセンサのタイプに依存する。例えば場合によっては、標的は各消毒剤源からの最大距離
、すなわち装置から対象物までの最大距離又は近傍に他の装置が検知されない場合は消毒
剤源からの最大距離の検知によって（すなわち、距離センサを用いて）識別してもよい。
他の実施形態では、標的は、各消毒剤源からの最短距離の検知又は各消毒剤源から特定の
距離にある表面の検知によって識別してもよい。代替例では、センサを用いて室内の対象
物及び／又は表面の寸法を評価し、このデータから、殺菌システムのセンサ及び／又は処
理サブシステムは、対象物及び／又は表面が何であるか（病室内のベッド、ナイトテーブ
ル又はIVポール等）を確認できる。

このような実施形態のうちのいくつかでは、標的を、確認された対象物又は表面に基づ
いて選択している。例えば場合によっては、標的領域を、領域内の比較的多数の対象物又
は表面に基づいて識別している。他の実施形態では、標的領域は、１つ又は複数の高優先
順位対象物及び／若しくは表面が領域内にあることに基づいて識別している。同様に、標
的位置、対象物又は表面を、室内の位置、対象物及び／又は表面の優先順位付けに基づい
て識別してもよい。場合によっては、標的位置、領域、対象物又は表面の識別は、それぞ
れ各消毒剤源の近傍に配置された複数の位置、領域、対象物及び表面のサブセットを識別
すること、並びに各サブセット内の１つの位置、領域、対象物及び表面を標的として指定
することを含んでいてもよい。この指定プロセスは、位置、領域、対象物若しくは表面及
び／又は各消毒剤源からの距離の優先順位付けを含むがこれらに限定されない多数の様々
な修飾子に基づいていてもよい。

１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定するためのデータベー
ス及び／又はアルゴリズムを作り出すための方法は数多く存在する。いくつかの例示的な
方法を、図１０のブロック１８４、１８６に示す。特にブロック１８４は、１つ又は複数
の独立した動作パラメータを、室の床、壁及び天井ではなく、室内の家具及び／又は設備
の優先的に消毒する表面に適合させることを明示している。このような場合のうちのいく
つかでは、プロセスは更に、事前に設定した時間量の間に室内の家具及び設備を消毒した
後、室の床、壁及び／又は天井を優先的に消毒するために、１つ又は複数の副次的動作パ
ラメータを決定することを含んでいる。一般に、室内の家具及び設備は、室の床、壁及び
天井よりも細菌が存在する蓋然性が高く、したがってこれらの表面を優先的に消毒するよ
うに消毒プロセスを適合させるのは有利である。特に、このような優先を消毒スケジュー
ルに対して実施することによって、より短く及び／若しくはより効率のよい消毒プロセス
が実行でき、又は少なくとも、消毒プロセスが早期に中断された場合に十分な量の消毒が
終わっている可能性を高めることができる。

上述したように、室の床から約２〜約４フィートである領域は、使用頻度の高い対象物
をこのような領域に一般に配置するため、室の「高接触」領域と考えられる。このような
領域を高接触領域と考えることにより、このような領域は一般に、菌と接触する蓋然性が
最も高い領域と考えられ、いくつかの研究により、高接触領域は最も高い密度の菌を有す
る領域となることが示されている。このような理由から、室の床から約２〜約４フィート
である領域にある家具及び／又は設備の表面を優先して消毒するよう、１つ又は複数の独
立した動作パラメータを適合させると有利である。更に又は代替として、１つ又は複数の
独立した動作パラメータを、異なる家具及び／若しくは設備の間で、又は家具及び／若し
くは設備の異なる構成部品の間で適合させると有利である。例えば、キャビネットのハン
ドルについて、キャビネットの垂直面よりも高い及び／長い殺菌剤用量を保証する。処理
する部屋の消毒の必要に応じて消毒剤源の動作パラメータを適合させるために、家具、設
備及び構成部品の間での他の複数の優先も同様に考えられる。

図１０のブロック１８６に示すように、いくつかの実施形態では、ブロック１８０のプ
ロセスは、１つ又は複数の独立した動作パラメータを、室内の位置、領域、対象物及び／
又は表面に対してブロック１７６で割り当ててよい又は事前に割り当ててもよい高い優先
順位ランキングを有する優先的に消毒する表面に対して適合させることを含んでいる。ブ
ロック１８４のプロセスと同様、このような優先を消毒スケジュールに対して実施するブ
ロック１８６のプロセスによって、より短く及び／若しくはより効率のよい消毒プロセス
が実行でき、又は少なくとも、消毒プロセスが早期に中断された場合に十分な量の消毒が
終わっている可能性を高めることができる。このような場合のうちのいくつかでは、本方
法は、事前に設定した時間量の間に、最高の優先順位ランキングを有する表面を消毒した
後、より低い優先順位ランキングを有する表面を優先的に消毒するために、１つ又は複数
の副次的動作パラメータを決定することを含んでいる。ブロック１８４、１８６は図１０
では点線で囲まれており、これはこれらのブロックが任意のものであることを示している
。特に、１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを、室の特徴のデータ
に基づいて適合させるために、多くの他の方法を用いており、したがって本明細書で提供
する開示の範囲は、図１０の描写に必ずしも限定されるものではない。

更に図１０に示すように、プロセスは任意に、１つ又は複数の消毒剤源の独立した動作
パラメータのスケジュールを決定するためのブロック１８２を含んでいる。このような文
脈において、用語「スケジュール」とは、１つ又は複数の消毒剤源に対して連続的に実施
される一連の動作パラメータ指定を表す。ブロック１８０のプロセスを実行するというオ
プションについて説明したように、動作パラメータのスケジュールの決定は、室内の家具
及び設備を優先的に消毒することに基づいており、並びに／又は室内の位置、領域、対象
物及び／若しくは表面に事前に割り当てられた優先順位付けに基づいている。他の方法を
用いてスケジュールを同様に適合させてもよい。

１つ又は複数の消毒剤源の１つ又は複数の動作パラメータを決定する方法に関わらず、
いくつかの実施形態では、図１０のプロセスは、１つ又は複数の独立した動作パラメータ
に応じて情報を１つ又は複数の消毒剤源に送信するブロック１８８を含んでいる。情報は
、１つ若しくは複数の消毒剤源の１つ又は複数の実行時間、１つ若しくは複数の消毒剤源
からの殺菌剤の排出量を調整するためのコマンド、及び／又は１つ若しくは複数の消毒剤
源が動作する電力レベルの量を含んでいる。更に他の実施形態では、ブロック１８０を参
照して実行される決定プロセスに応じて、１つ又は複数の特定の量の電力を、１つ又は複
数の消毒剤源に送っている。場合によっては、１つ又は複数の消毒剤源に送信される情報
は、室内で消毒剤源が位置する位置、及び／又は１つ若しくは複数の消毒剤源を構成する
１つ若しくは複数の構成部品の１つ若しくは複数の配向であってもよい。このような場合
、１つ若しくは複数の消毒剤源を備えた１つ若しくは複数の消毒デバイスは、移動するよ
うに構成しており、及び／又はこれらが受信した情報に従うことができるよう、その構成
部品の１つ若しくは複数が移動できる。代替として、ブロック１８０で決定された１つ又
は複数の動作パラメータは、ユーザインタフェースに表示しており、殺菌システムのユー
ザは１つ又は複数の動作パラメータを発動させられる。

図１０に概略を示すプロセスの、室内消毒に特に用途があると考えられる実施形態を、
以下に詳細に説明する。このような実施形態を詳細に説明し、これらに関して更なる強化
を考えるが、このような実施形態の特定の開示は、図１０に関して上述した開示の範囲を
限定するものと解釈されるべきではない。

室内消毒に特に用途があると考えられるあるシステムは、消毒剤源並びにプロセッサ及
び消毒剤源を配設する室の物理的特質に関するデータを受信するためにプロセッサが実行
可能なプログラム命令を備えた処理サブシステムを含む。このようなプログラム命令は、
データを含むデータベースにアクセスするため及び／又はデータを生成するシステムの１
つ若しくは複数のセンサからデータを受信するためのものであってよい。いずれの場合に
おいても、処理サブシステムは受信したデータに基づいて、消毒剤源を位置付けする室内
の位置及び／又は消毒剤源を構成する構成部品の配向を決定するための、プロセッサが実
行可能なプログラム命令を含む。場合によっては、プログラム命令は更に、データに基づ
いて、消毒剤源を位置付けする室内の位置のスケジュール及び／又は消毒剤源を構成する
１つ若しくは複数の構成部品の配向のスケジュールを決定するためのものである。いくつ
かの実施形態では、消毒剤源はシステムを構成する複数の消毒剤源のうちの１つであって
よい。このような場合、システムのプログラム命令は、複数の消毒剤源それぞれを位置付
けする室内の位置を決定するため及び／又は複数の消毒剤源それぞれの１つ若しくは複数
の構成部品の配向を決定するために、プロセッサが実行可能であってもよい。

上述のシステムの１つ又は複数の消毒剤源は、１つ又は複数の液体、蒸気、ガス、プラ
ズマ、紫外線光及び／又は高強度狭スペクトル（ＨＩＮＳ）光消毒剤源を含んでいる。更
に、１つ又は複数の消毒剤源の調整可能な１つ又は複数の構成部品は、１つ又は複数の消
毒剤源のいずれの可動構成部品を含んでいる。光ベースの消毒剤源の可動構成部品の例は
、消毒剤源を構成する光学フィルタ、又は図１〜８に示した紫外線放電ランプ装置に関し
て説明したもの等の、消毒剤源を構成する反射器システムのいずれの構成部品を含んでよ
いがこれらに限定されない。いくつかの実施形態では、消毒剤源は１つ又は複数の消毒剤
を備えるデバイス又は装置に対して移動するよう構成してもよい。可動消毒剤源の可能な
構成の例は、１８０°の移動能力又はほぼ３６０°の移動能力さえ有する可動スポットラ
イトと同様のものであってもよい。可動消毒剤源の他の構成も考えられる。例えば場合に
よっては、消毒剤源はトラックに沿って移動するよう構成してもよい。他の実施形態では
、消毒剤源を備えるデバイス又は装置全体は、特に室内の異なる位置へと移動するよう構
成してもよい。

いずれの場合においても、消毒剤源が移動する及び／又は消毒剤源の１つ若しくは複数
の構成部品が移動するように消毒剤源が構成された実施形態では、処理サブシステムは更
に、消毒剤源を所定の位置に位置付けする及び／又は構成部品を所定の配向に配設するた
めの情報を消毒剤源に送信するためにプロセッサが実行可能なプログラム命令を含んでい
る。更に他の実施形態では、所定の位置及び／又は所定の構成部品の配向をユーザインタ
フェースに表示してもよく、殺菌システムのユーザは１つ又は複数の動作パラメータを発
動させてもよい。いずれの場合においても、上述の方法に特に適切であると考えられる消
毒剤源は、再位置付け可能な反射器を有する紫外線光消毒剤源である。しかしながら、こ
のような開示は本明細書で説明するシステム及び／又は方法の範囲を限定するものと解釈
されるべきではない。いずれの場合においても、上述のシステムは、図９、１０を参照し
て上述した構成のうちのいずれかを有していればよい。したがって、システムは室の物理
的特質に関するデータを受信するものに必ずしも限定されない。特に、システムは同様に
、室の非物理的特質に関するデータを受信するよう構成していればよい。更に、システム
は、室の特徴に基づいて消毒剤源のいずれの同差パラメータを決定するためのプログラム
命令を含んでいればよい。特に、上述のシステムは、消毒剤源を位置付けする室内の位置
及び／又は消毒剤源を構成する構成部品の方向を決定するものに必ずしも限定されない。

室内消毒に特に用途があると考えられる別のシステムは、複数の消毒剤源、並びに１つ
又は複数のプロセッサ及び複数の消毒剤源を配設する室の特徴に関するデータを受信する
ために、この１つ又は複数のプロセッサが実行可能なプログラム命令を備えた処理サブシ
ステムを含む。更に、プログラム命令は、データに基づいて、複数の消毒剤源の１つ又は
複数の独立した動作パラメータを決定するためのものである。特に、１つ又は複数の独立
した動作パラメータは、消毒剤源それぞれについて固有である。１つ又は複数の独立した
動作パラメータは、消毒剤源の実行時間、室内における消毒剤源の位置若しくは速度、消
毒剤源を構成する構成部品の配向、消毒剤源からの殺菌剤排出量、及び／又は消毒剤源に
供給される電力を含んでいる。場合によっては、プログラム命令は更に、データに基づい
て、複数の消毒剤源それぞれの独立した動作パラメータのスケジュールを室の特徴に基づ
いて決定するためのものである。一般に、複数の消毒剤源は、液体、ガス、蒸気、プラズ
マ、紫外線光及び／又は高強度狭スペクトル（ＨＩＮＳ）光消毒剤源を含んでいる。複数
の消毒剤源は、同一のタイプの消毒剤源を含んでもよく、又は、少なくともその一部が互
いに異なる消毒剤源の組合せを含んでいてもよい。更に上述のシステムは、図９、１０を
参照して上述した構成のうちのいずれかを有していればよい。

上述のシステムに特に適切であると考えられる殺菌システムは、複数の消毒剤源、及び
更に処理サブシステムが決定したように光消毒剤源それぞれに独立した電力要件を分配す
るための電力分配手段を有する光消毒システムである。電力分配手段の代わりに、消毒剤
源それぞれが電力制御回路を含んでいる。このような場合、処理サブシステム、電力制御
回路に独立した信号を送信して、各消毒剤源が光を生成するために使用する電力量を設定
するための、プロセッサ実行可能プログラム命令を含んでいる。いずれの場合においても
、異なる光消毒剤源は異なる装置間に分配され、同一の装置に配置されており、又はこれ
らの組合せであってもよい。上述の光消毒剤システムは、複数の消毒剤源を使用する室内
消毒に特に適していると考えられるが、このような開示は、本明細書で説明するシステム
及び／又は方法の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。特に、他のタイプの殺
菌消毒剤源を同様のシステムで使用してもよく、及び／又はシステムを、電力以外の変化
する動作パラメータを用いて構成してもよい。

図１１を参照して以下により詳細に説明するように、いくつかの実施形態では、特に消
毒剤源が消毒の標的とする位置、領域、対象物及び／又は表面に関して、消毒剤源を互い
に協働させるように、システムを構成している。場合によっては、協働のための努力は、
別個の装置が互いに通信することを伴う。特に、別個の装置上に配置された消毒剤源を含
むシステムは、特にその存在／互いに対する配置及び／又はその１つ若しくは複数の消毒
剤源が消毒の標的とする位置、領域、対象物及び／又は表面に関して、装置のうちの少な
くともいくつかが互いに通信するように構成している。より具体的には、場合によっては
装置は、超音波感知又は赤外線感知等を含むがこれらに限定されない感知システムを介し
て互いを検知するよう構成している。他の実施形態では、少なくとも１つの装置は、プロ
セッサと、装置の位置又は装置の消毒剤源の標的位置、領域、対象物若しくは表面に関す
る情報を送信するためにプロセッサが実行可能なプログラム命令とを含んでいる。したが
って、本明細書で説明するシステムの殺菌装置は、室内に他の殺菌装置が存在すること又
はその位置を知るか又は確認できるように構成していればよい。

装置が装置の消毒剤源の標的位置、領域、対象物又は表面に関する情報を送信するよう
に構成されている場合、別の装置は、プロセッサと、この情報を受信して、受信した情報
をその消毒剤源の標的位置、領域、対象物又は表面と比較するための、プロセッサ実行可
能プログラム命令とを含んでいる。しかしながら、追加又は代替として、協働のための努
力は、複数の消毒剤源の標的位置、領域、対象物又は表面に関する情報を中央処理ユニッ
トで比較することを伴う。いずれの状況においても、システムは、図１１を参照して以下
により詳細に説明するように、２つ以上の位置、対象物若しくは表面が互いから所定の距
離内にあること又は２つ以上の領域が重複していることを検知するとすぐに、１つ又は複
数の補正動作を実行するよう構成している。更に、システムは、消毒プロセスの行程中に
装置が消毒した領域を記録して、これらの領域の優先順位付けを解除するか、又はこれら
の領域を、消毒プロセスの後続の段階において消毒するものとみなさないようにするよう
構成している。

図１１を参照すると、図９に示すシステムのプロセッサ実行可能プログラム命令がその
ために実行されるように構成される方法の概略を示すフローチャートが示されている。特
に図１１は、複数の消毒剤源の標的位置、領域、対象物又は表面に関する情報を協働させ
るため、並びに２つ以上の位置、対象物若しくは表面が互いから所定の距離内にあること
又は２つ以上の領域が重複していることを検知するとすぐに、標的位置、領域、対象物若
しくは表面及び／又は消毒剤源のうちの１つ若しくは複数の動作パラメータの変更を実行
するための方法の概略を示す。図１１のブロック１９０、１９２に示すように、本方法は
、複数の消毒剤源それぞれについて、複数の消毒剤源を配設する室内の標的位置、領域、
対象物又は表面を弁別することを含む。本明細書で使用する用語「弁別する」とは、図１
０のブロック１７８を参照して説明したように、室の特徴のデータに基づいて標的位置、
領域、対象物又は表面を決定／識別することを包含するが、ユーザ入力、バーコード走査
又はデータベースへのアクセス等によって標的位置、領域、対象物又は表面を受信するこ
とも包含することに留意されたい。いずれの場合においても、ブロック１９４、１９６に
おいて、２つ以上の標的位置、対象物若しくは表面が互いから所定の距離内にあるかどう
か又は２つ以上の標的領域が重複しているかどうかを決定する。所定の距離はいずれの所
定の値のものであってもよく、場合によっては、標的位置、対象物若しくは表面が同一で
あるかどうかを示す閾値であってもよい。

ブロック１９４又はブロック１９６の決定が「いいえ」である場合、本方法はブロック
１９８へと向かい、消毒剤源に関して識別された標的位置、領域、対象物又は表面に基づ
いて、消毒プロセスのためのシステムの準備を続行する。場合によっては、ブロック１９
８のプロセスは、図１０を参照して説明したように、各消毒剤源の１つ又は複数の独立し
た動作パラメータを決定することを含んでいる。しかしながら、代替実施形態では、この
ようなプロセスはブロック１９４、１９６の前に実行してもよい。場合によっては、ブロ
ック１９８のプロセスは、図１０のブロック１８８を参照して説明したように、各消毒剤
源の独立した動作パラメータに応じて、消毒剤源に情報を送信することを含んでいる。代
替実施形態では、ブロック１９８のプロセスは、１つ又は複数の動作パラメータをユーザ
インタフェースに表示することを含んでおり、殺菌システムのユーザはこの１つ又は複数
の動作パラメータを発動できる。

ブロック１９４又はブロック１９６の決定が「はい」である場合、本方法はブロック２
００へと続き、１つ又は複数の補正動作を実行し、特に複数の消毒剤源のうちの少なくと
も１つの計画された消毒プロセスを変更する。ブロック２０２、２０４は、実行し得る補
正動作の例を提示するために提供したものであるが、他の補正動作も考えられる。ブロッ
ク２０２、２０４の両方をブロック２００のために実行し、又はブロック２０２、２０４
の一方のみをブロック２００のために実行してもよい。ブロック２０２に示すように、１
つの補正動作は、２つ以上の検知した位置、領域、対象物及び／又は表面に対応する消毒
剤源のうちの少なくとも１つに関して、異なる標的位置、領域、対象物又は表面を識別す
ることであってもよい。別の補正動作は、ブロック２０４に示すように、２つ以上の検知
した位置、領域、対象物及び／又は表面に対応する消毒剤源のうちの少なくとも１つの動
作パラメータを変更することであってもよい。このような場合、変更される動作パラメー
タは、消毒剤源の実行時間、室内での消毒剤源の位置、消毒剤源を構成する構成部品の配
向、消毒剤源からの殺菌剤の排出量、及び／又は消毒剤源に供給される電力である。場合
によっては、２つ以上の検知した位置、領域、対象物及び／又は表面に対応する消毒剤源
に関する所定の動作パラメータを、ブロック２００で１つ又は複数の補正動作を実行する
前に比較してもよい。特に、ブロック１９４又はブロック１９６の決定が「はい」である
場合、消毒剤源に関する所定の動作パラメータを比較し、この比較は、ブロック２００を
参照して実行される１つ又は複数の補正動作の因子となる。

図１０、１１に概略を示したプロセッサ実行可能プログラム命令は、１つ又は複数の消
毒剤源を含むシステムの一部として説明したが、プロセッサ実行可能プログラム命令は必
ずしもこのように限定されないことに留意されたい。特に、図１０、１１に概略を示した
プロセッサ実行可能プログラム命令は、独立しており必ずしも特定の殺菌システムと関連
しない記録媒体上に配置してもよい。より具体的には、図１０、１１に概略を示したプロ
セッサ実行可能プログラム命令は、１つ又は複数の殺菌システムに組み込むために商業的
に実現可能な記録媒体上に、ソフトウェアとして配布してもよい。一般に、本明細書で使
用する用語「記録媒体」とは、プログラム命令の１つ又は複数のセットを保持するよう構
成されたいずれの電子媒体をも表しており、読み出し専用メモリ、ランダムアクセスメモ
リ、磁気若しくは光学ディスク又は磁気テープ等を含むがこれらに限定されない。

本開示の便益を享受する当業者には、本発明が、１つ又は複数の反射器を有する紫外線
放電ランプ装置及びこのような装置を動作させる方法を提供するものと考えられることを
理解されたい。更に、本発明は、殺菌デバイスの動作パラメータ及び／又は消毒スケジュ
ールを決定するシステムを提供すると考えられる。特に、システムは「スマートな」様式
で動作する（すなわち、室の１つ又は複数の特徴を考慮して、殺菌デバイスの動作パラメ
ータ及び／又は消毒スケジュールを決定する）ように構成されている。場合によっては、
室の消毒プロセス（例えば時間、効率及び徹底度）を最適化するようにシステムを構成し
てもよい。本発明の様々な態様の更なる修正及び代替実施形態は、当業者には本明細書に
鑑みて明らかであろう。

例えば、以上の議論では消毒目的の紫外線放電ランプ装置の構成を強調しているが、本
開示の範囲はこれに限定されない。特に、本明細書で説明した紫外線放電ランプ装置は、
紫外線光を利用するいずれの用途に使用してもよい。更に、本明細書で説明した動作パラ
メータ及び消毒スケジュールを決定するためのシステム及びプロセスは、いずれの殺菌シ
ステムにも適切である。したがって、この説明は説明のみを目的としたものと解釈される
べきであり、本発明を実施する一般的な方法を当業者に教示する目的のものである。本明
細書に示し説明した本発明の形態は、現時点で好ましい実施形態として解釈されるべきも
のであると理解されたい。本明細書で図示及び説明した要素及び材料を置換してもよく、
また部品及びプロセスを逆転させてもよく、本発明の特定の特徴を独立して利用してもよ
く、これら全ては、本発明に関するこの説明の便益を享受した後であれば、当業者には明
らかであろう。以下の請求項に記載した本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、本
明細書で説明した要素に変更を加えてよい。

Claims (14)

1. 消毒剤源と、
   １つ以上のプロセッサおよびこのプロセッサによって実行可能なプログラム命令を具備する処理サブシステムと、
   を備えるシステムであって、
   前記処理サブシステムは、室に関する室識別情報を受信し、かつ前記室を殺菌するために前記室識別情報に基づいて前記消毒剤源から殺菌剤を排出する量のスケジュールを決定し、かつ前記消毒剤源から殺菌剤を排出する量のスケジュールを決定した後前記決定された殺菌剤を排出する量のスケジュールに従って前記消毒剤源から殺菌剤を排出する量を設定または調整するコマンドを送信する、システム。
2. 消毒剤源と、
   １つ以上のプロセッサおよびこのプロセッサによって実行可能なプログラム命令を具備する処理サブシステムと、
   を備えたシステムであって、
   前記処理サブシステムは、室に関する室識別情報を受信し、前記室を殺菌するために前記室識別情報に基づいて前記消毒剤源へ供給される電力のスケジュールを決定し、前記消毒剤源へ供給される電力のスケジュールを決定した後前記決定された消毒剤源へ供給される電力のスケジュールに従って前記消毒剤源へ供給される電力の量を設定または調整するコマンドを送信する、システム。
3. 消毒剤源と、
   １つ以上のプロセッサおよびこのプロセッサによって実行可能なプログラム命令を具備する処理サブシステムと、
   を備えたシステムであって、
   前記処理サブシステムは、室に関する室識別情報を受信し、前記室を殺菌するために前記室識別情報に基づいて前記消毒剤源の実行時間のスケジュールを決定し、前記実行時間のスケジュールを決定した後前記決定された実行時間のスケジュールに従って前記消毒剤源の実行時間を設定または調整するコマンドを送信する、システム。
4. 殺菌光源および反射器を具備する消毒剤源と、
   １つ以上のプロセッサおよびこのプロセッサによって実行可能なプログラム命令を具備する処理サブシステムと、
   を備えたシステムであって、
   前記処理サブシステムは、室に関する室識別情報を受信し、前記室識別情報に基づいて前記反射器の配向のスケジュールを決定し、前記反射器の配向のスケジュールを決定した後前記決定された前記反射器の配向のスケジュールに従って前記反射器の位置を設定または調整するコマンドを送信する、システム。
5. 前記室識別情報は室番号及び／または室名である、請求項１から４のいずれか１つに記載のシステム。
6. 前記消毒剤源は、前記消毒剤源が前記部屋に配置されたとき、前記部屋の床から２〜４フィートの領域へ殺菌剤を放出するように構成されている、請求項１から５のいずれかに１つに記載のシステム。
7. 前記消毒剤源は、液体、ガス、蒸気、プラズマ、紫外線光及び／又は高強度狭スペクトル（ＨＩＮＳ）光を消毒剤源として含んでいる、請求項１から６のいずれか１つに記載のシステム。
8. 前記プログラム命令は、前記室識別情報に基づいて前記消毒剤源のための１つ以上の追加の動作パラメータを更に決定するためのものである、請求項１から７のいずれか１つに記載のシステム。
9. 前記１つ以上の追加の動作パラメータを決定するためのプログラム命令は、前記部屋を消毒する前記消毒剤源のための前記１つ以上の追加の動作パラメータの少なくとも１つのスケジュールを決定すること含む、請求項８に記載のシステム。
10. 前記プロセスサブシステムは、前記室識別情報に基づいて前記消毒剤源のための１つ以上の追加の動作パラメータを決定し、かつ前記室の物理的な属性に関するデータを受信し、かつ前記物理的な属性データに基づいて前記１つ以上の追加の動作パラメータを変更する、前記プロセッサによって実行可能なプログラム命令を更に備える、請求項１から７のいずれか１つに記載のシステム。
11. 反射器を更に備え、前記消毒剤源は殺菌光源を備え、前記プログラム命令は前記部屋識別情報に基づいて前記反射器の配向を更に決定する、請求項１から３のいずれか１つに記載のシステム。
12. 前記プログラム命令は、前記部屋識別情報に基づいて前記消毒剤源の実行時間、前記室内の前記消毒剤源の位置または前記消毒剤源が前記室全体を移動する速度を更に決定するためのものである、請求項１、２および４のいずれか１つに記載のシステム。
13. 前記プログラム命令は、前記部屋識別情報に基づいて前記室内の前記消毒剤源の位置または前記室全体を移動する前記消毒剤源の速度を更に決定するためのものである、請求項３に記載のシステム。
14. 前記消毒剤源は紫外線ランプであり、前記システムは１つ以上の紫外線光量センサを更に備え、前記プログラム命令は前記１つ以上の紫外線光量センサの測定値に基づいて前記紫外線ランプの１つ以上の動作パラメータまたは前記システムを構成する構成部品の配向の更なる修正のためのものである、請求項１から１３のいずれか１つに記載のシステム。

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