JP2006231037A - 光照射装置 - Google Patents

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直樹 池田
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Abstract

【課題】従来の光照射装置における光照射手段のランプに関する問題、即ち必要な光の波長が変化した場合に対処できない、寿命が短いという問題、シャッタ機構に関する問題、比較的複雑なシャッタ機構を必要とし製造コストが比較的高価になる、シャッタ機構を光遮断状態に設定しても被照射体を支持するための支持手段近傍の雰囲気がシャッタ機構を介して加熱されて高温になってしまう傾向があるという問題、そしてまた光照射手段からの光が集中的に被照射体に照射され、被照射体が過剰に加熱されてしまう傾向があるという問題を解決する。
【解決手段】光照射手段28におけるランプ32として超高圧水銀ランプを使用する。光照射手段を選択的に作用位置と非作用位置に位置せしめる。そして更に、光照射手段からの光を、光拡散手段36を介して被照射体に照射する。
【選択図】図2

Description

本発明は、光硬化性樹脂から形成された歯牙補修材の如き被照射体に可視光を照射するための光照射装置に関する。
当業者には周知の如く、歯牙補修材として光硬化性樹脂が広く実用に供されている。光硬化性樹脂を使用して歯牙を補修する一様式においては、補修すべき歯牙の石膏模型を作成する。次いで、模型の補修部位、例えば凹所、に軟化状態の光硬化性樹脂を充填し、充填した光硬化性樹脂に可視光を照射して硬化せしめる。通常、補修部位への光硬化性樹脂の充填及び硬化は一度で完成するのではなくて、小量毎の充填と硬化を複数回繰り返し遂行する。この際には充填、硬化された光硬化性樹脂の色調を調整するために必要に応じて光硬化性樹脂の組成を変化せしめる。補修部位の形状に対応した形状に硬化せしめられた補修材が完成すると、模型から補修材を取り出し、接着剤を使用して歯牙の補修部位に固定する。
光硬化性樹脂に可視光を照射して硬化せしめるための光照射装置としては、下記特許文献1及び2に開示されているとおり、被照射体を支持するための支持手段と、この支持手段上に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段と、支持手段上の被照射体と光照射手段と間において光照射手段からの光を選択的に透過及び遮断するためのシャッタ機構とを具備した光照射装置が提案されている。光照射手段はケース並びにこのケース内に配設されたランプ及び反射板から構成されている。ランプとしては通常メタルハイランドランプが使用されている。光硬化性樹脂の充填、硬化を繰り返し遂行する毎にランプを消灯せしめると再びランプが所要照射状態に復帰するまでに相当な時間を有するので、被照射体を支持手段から一時的に取り出す際には、ランプを消灯することに代えてシャッタ機構を光遮断状態に設定して光照射手段からの光を遮断する。そして、追加充填された光硬化性樹脂の硬化を再開する際にシャッタ機構を光透過状態に戻す。
特開平8−173460号公報 特願2002−186632号公報
然るに、上述したとおりの従来の光照射装置には、次のとおりの解決すべき問題が存在する。第一の問題は光照射手段のランプに関する。メタルハイランドランプは高圧水銀中に金属ハロゲン化物を添加した高圧放電ランプであり、発光はハロゲン化物で生じ水銀は緩衝ガスとして作用する故に、発光スペクトルは特定波長に限定された輝線スペクトルである。特定波長はハロゲン化物の種類及び量に依存する。従って、硬化すべき光硬化性樹脂の組成が変化した場合には、硬化に適した光の波長が変化する故に、異なった波長の輝線スペクトルを有するメタルハイランドランプに交換することが必要になることも少なくない。また、ハロゲン化物が石英管と反応して劣化するために寿命が短く、そしてまた使用によって色度が変化してしまう。
第二の問題はシャッタ機構に関するものである。シャッタ機構が比較的複雑であり、これに起因して製造コストが比較的高価になる。また、シャッタ機構を光遮断状態に設定しても、被照射体を支持するための支持手段近傍の雰囲気がシャッタ機構を介して加熱されて高温になってしまう傾向がある。
第三に、光照射手段からの光が集中的に被照射体に照射され、被照射体が過剰に加熱されてしまう傾向がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その第一の課題は、光照射手段に関する上述したとおりの問題を解決し、光硬化すべき光硬化性樹脂の組成が変化してもランプを交換する必要がなく、そしてまた比較的長期間に渡って安定して使用することができる、新規且つ改良された光照射装置を提供することである。
本発明の第二の課題は、シャッタ機構を使用する必要がなく、シャッタ機構に関する上述したとおりの問題がない、新規且つ改良された光照射装置を提供することである。
本発明の第三の課題は、光照射手段からの光が集中的に被照射体に照射され、被照射体が過剰に加熱されることが充分に抑制乃至回避される、新規且つ改良された光照射装置を提供することである。
本発明の第一の局面によれば、光照射手段におけるランプとして超高圧水銀ランプを使用することによって上記第一の課題が達成される。
即ち、本発明の第一の局面によれば、上記第一の課題を達成する光照射装置として、被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
該光照射手段は超高圧水銀ランプを含む、ことを特徴とする光照射装置が提供される。
本発明の第二の局面によれば、光照射手段を選択的に作用位置と非作用位置に位置せしめることによって上記第二の課題が達成される。
即ち、本発明の第二の局面によれば、上記第二の課題を達成する光照射装置として、 被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
該光照射手段は作用位置と非作用位置とに選択的に位置せしめられ、該光照射手段が該作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射され、該光照射手段が該非作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射されることはない、ことを特徴とする光照射装置が提供される。
入射開口を有する照射室が配設されており、該支持手段は該照射室内に配設されており、該光照射手段は該照射室外に配設されており、該光照射手段が該作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該入射開口を通して該照射室内に入射されるのが好適である。該光照射手段が該非作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が照射される熱吸収手段が配設されているのが好ましい。
本発明の第三の局面によれば、上記第三の課題を達成するために、光照射手段からの光を光拡散手段を介して被照射体に照射する。
即ち、本発明の第三の局面によれば、上記第三の課題を達成する光照射装置として、被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
該光照射手段からの光は光拡散手段を介して被照射体に照射される、ことを特徴とする光照射装置が提供される。
入射開口を有する照射室が配設されている場合、該光照射手段と共に該光拡散手段も該照射室外に配設されているのが好適である。好適形態においては、該支持手段は入射開口を有する照射室に配設されており、該光照射手段は該照射室外に配設されており、該光拡散手段が該照射室の壁部又は該壁部と該照射手段との間に配設されており、該光照射手段からの光は該入射開口を通して該照射室内に入射され、該照射室の内面によって反射されて実質上鉛直に下方に指向される。
本発明の第一の局面〜第三の局面は、該被照射体が光硬化樹脂とすることができる。
本発明の第ニの局面及び第三の局面は、該光拡散手段が凹レンズ(又は凸レンズ)であって、該光照射手段の可視光が該凹レンズ(又は凸レンズ)を介して被照射体に照射される可視光の照射量を調整することができる。
この凹レンズを介して該光照射手段の可視光が入射される照射室に該被照射体が設けられ、該被照射体の内壁面に設けられた反射板に該可視光が反射されて該被照射体が可視光に照射されるようにできる。該光照射手段の可視光の照射量が被照射物に対して不均等に照射されているときに、該反射板に曲面を形成し、該被照射体に対する可視光の照射量を均等になるよう近づけることができ、さらに該レンズの周囲に散乱した可視光が通過する空間を形成できる。
本発明の第一の局面によって提供される光照射装置においては、超高圧水銀ランプの発光は加熱された水銀に起因するものであって、その発光スペクトルは輝線スペクトルではなくて帯スペクトル即ち連続スペクトルであり、そしてまた発光が加熱された水銀に起因するものである故に超高圧水銀ランプは比較的長寿命であり、それ故に上記第一の課題が達成される。
本発明の第二の局面によって提供される光照射装置においては、シャッタ機構を配設する必要がなく、被照射体を照射しない時には光照射手段が非作用位置に位置せしめられ、これによって光照射手段からの光が被照射体に照射されることが回避され、従ってシャッタ機構に関する上述したとおりの問題がない。
本発明の第三の局面によって提供される光照射装置においては、光照射手段からの光が光拡散手段によって拡散された後に被照射体に照射され、従って光照射手段からの光が集中的に照射されることによって被照射体が加熱されることがない。
光拡散手段に凹レンズを使用することにより、被照射体に当たる光の照射量を減じることができる。
以下、添付図面を参照して、本発明に従って構成された光照射装置の好適な第1の実施形態について、更に詳述する。
図1、図2及び図3には、本発明に従って構成された光照射装置の好適実施形態が簡略に図示されている。図示の光照射装置は全体を番号2で示すハウジング(図1、図2及び図3においては図面の複雑化を避けるために二点鎖線で示している)を備えている。このハウジング2は静止主部4と開閉扉部6とから個性されている。ハウジング2の前側に位置せしめられている開閉扉部6は、図1、図2及び図3において番号6を付して図示している閉位置と図2において番号6Aを付して図示している開位置との間を旋回自在に静止主部4に装着されている。
ハウジング2の前半部には照射室8が配設されている。かかる照射室8も静止部10と開閉部12とから構成されている。静止部10はハウジング2の静止主部4に固定されているが、開閉部12はハウジング2の開閉扉部6に固定されている。従って、ハウジング2の開閉扉部6が図2に番号6Aを付して図示している開位置に開動せしめられると、これに付随して照射室8の開閉部12も図2において番号12Aを付して図示している開位置に開動せしめられ、かくして照射室8内が前方に開放される。照射室8の後壁14には円形の入射開口16(図2)が形成されている。開閉部12が閉位置に位置せしめられている状態において、照射室8は入射開口16を除いて実質上閉じられている。照射室8を規定している壁の内面、特に後に更に言及する如く光反射面として利用される前傾斜壁部18と後方上壁部20の内面は、鏡面にせしめられているのが好適である。
図1、図2及び図3を参照して説明を続けると、ハウジング2の前半部下端には電動モータ22が配設されており、このモータ22の出力軸24は実質上鉛直に上方に延びており、その上端部は照射室8の底壁を貫通して照射室8内に突出せしめられている。出力軸24の先端には、支持手段を構成する支持円板26が固定されている。支持円板26は照射室8の下端部に位置し、実質上水平である支持上面を有する。
ハウジング2内には光照射手段28も配設されている。照射室8の後方(図1及び図2において右方)に位置する光照射手段28は、前端面及び後端面が開放されている円筒形状でよいケース30を有している。このケース30内にはランプ32と反射板34とが配設されている。ランプ32は、電極間のアーク放電によって加熱された水銀から帯スペクトル即ち連続スペクトルの光を発光する超高圧水銀ランプであることが重要である。超高圧水銀ランプの典型例としては、例えばNECライティング株式会社から商品名「NUPNUA150」として販売されている超高圧水銀ランプを挙げることができる。図4は超高圧水銀ランプ32の発光スペクトルの一例を示している。図4から明確に理解される如く、超高圧水銀ランプの発光スペクトルは広範な波長領域渡って存在する帯スペクトル即ち連続スペクトルである。これに対して、従来の光照射装置に使用されていたメタルハイランドランプの発光スペクトルは、図5に示す如く、3個の制限された波長領域のみに限定された輝線スペクトルである。光照射手段28のランプ32として超高圧水銀ランプを使用すると、発光スペクトルが連続スペクトルである故に、硬化に適した光の波長が変化してもランプを交換することなく、また発光は加熱された水銀に起因する等によってその寿命が相当長いことが注目されるべきである。光照射ケース30内に配設されている反射板34はランプ32からの光をケース30の前端面に反射せしめる。
図1に示す如く、照射室8の後端面には光拡散手段36が装着されており、ランプ32からの光は光拡散手段36を通して前方に投射される。そこを通過する光を拡散せしめるための光拡散手段36はすりガラスから構成することができる。ケース30の後端にはケース30内を冷却するための送風器38が配設されている。
図1及び図2を参照して説明を続けると、ハウジング2内には電動モータ40が配設されており、この電動モータ40の出力軸42の上端に連結部材44を介して光照射手段28のケース30が固定されている。電動モータ40を正転及び逆転せしめることによって、ケース30は図1及び図2に実線で示す作用位置と図2に二点鎖線で示し符号30Aを付している非作用位置とに選択的に位置せしめられる。ケース30が作用位置に位置せしめられている時には、光照射手段28のランプ32が照射室8の入射開口16(図3)に対応して位置せしめられ、ランプ32からの光が光拡散手段36及び入射開口16を通して照射室8内に入射される。一方、光照射手段28が図に二点鎖線で示し符号36Aを付した非作用位置に位置せしめられると、ケース30の前端面に配設されている光照射手段28のランプ32の向きは照射室8の入射開口16から変位せしめられ、ハウジング2内に配設されている熱吸収手段46(図2)に対向して位置する。熱吸収手段46は円板形状のセラミックス及び金属から構成することができる。
図示の実施形態においては、更に、ハウジング2内の後方上端部に冷却用送風器48が配設され、ハウジング2内の後方下端部には制御用電装部品50とこの電装部品50を冷却するための送風器52が配設されている。
上述したとおりの光照射装置の使用様式を説明すると、次のとおりである。例えば、石膏模型に充填した光硬化性樹脂に光を照射して硬化せしめる際には、ハウジング2の開閉扉部6及びこれに装着された照射室8の開閉部12を図2に符号6A及び12Aを付して図示する開位置に開動せしめて照射室8を開放せしめ、支持円板26上に載置する。この際には、光を照射すべき光硬化性樹脂を上方に露呈せしめることが重要である。次いで、開閉扉部6及び開閉部12を閉位置に戻して照射室8を閉じ、しかる後に電動モータ22を付勢して支持円板26を所定回転速度で回転せしめると共に、光照射手段28のランプ32を点灯する。かくすると、ランプ32からの光が図1に一点鎖線で示す如く、光拡散手段36及び入射開口16を通して照射室8内に入射せしめ、そして前傾斜壁部18の内面及び後方上壁部20の内面によって反射されて実質上鉛直に下方に指向され、支持円板26上に載置されている石膏模型中の光硬化性樹脂に照射される。ランプ32からの光は光拡散手段36によって拡散された後に光硬化性樹脂に照射される故に、光硬化性樹脂に光が集中的に照射されて光硬化性樹脂が過剰に過熱されてしまうことはない。
なお、支持円板26の上にスペーサのような支持手段(図6の光照射部67参照)を配設して光照射手段28のランプ32の光を直接被照射体に当てることもできる。
光硬化性樹脂が充分に硬化せしめられると、光照射手段28のケース30を図2に二点鎖線で示し符号28Aを付した非作用位置に位置せしめる。かくすると、ランプ32からの光は照射室8内に入射されることなく、従ってランプ32を点灯し続けても照射室8内及び支持円板26が加熱されることはない。ランプ32からの光は熱吸収手段46に照射され、熱は熱吸収手段46によって吸収される。同時に、電動モータ22を除勢して支持円板26の回転を停止する。しかる後に、ハウジング2の開閉扉部6及びこれに装着された照射室8の開閉部12を図2に符号6A及び12Aを付して図示する開位置に開動せしめて照射室8を開放せしめ、支持円板26から石膏模型を取り出し、光硬化性樹脂を追加充填する。しかる後、石膏模型を支持円板26上に戻して、開閉扉部6及び開閉部12を閉位置に戻して照射室8を閉じ、しかる後に電動モータ22を付勢して支持円板26を所定回転速度で回転せしめる。そして、光照射手段28のケース30を作用位置に戻し、ランプ32からの光を追加充填された光硬化性樹脂に照射する。光硬化性樹脂の充填と硬化を所要回数繰り返し遂行して所要形状の歯牙充填物が形成されると、電動モータ22を除勢して支持円板26の回転を停止し、光照射手段28のランプ32を消灯し、そしてハウジング2の開閉扉部6及びこれに装着された照射室8の開閉部12を図2に符号6A及び12Aを付して図示する開位置に開動せしめて照射室8を開放せしめ、支持円板26から石膏模型を取り出す。ハウジング2内に配設されている冷却用送風器38、48及び52は、例えばランプ32が点灯されている間は連続的に作動せしめることができる。
次に、本発明に従って構成された光照射装置の好適な第2の実施形態について、更に詳述する。なお、上記第1の実施形態と同じ構成物について同一の符号を付して説明し、特別な事情を除きその詳細な説明を省略する。
図6は、本実施形態の光照射装置の概略側面図であり、図7は平面図である。本第2の実施形態が上記第1の実施形態と異なる箇所は、光照射装置2の光拡散手段36をすりガラスとしたが、本実施形態では、すりガラスを廃止して光拡散手段として凹レンズを使用したことである。そして、これに伴い以下に説明する光照射装置の構成を変更している。
図6に示すように、光照射装置は照射室61と光照射手段28(ランプ32)との間に凹レンズ62を配設している。凹レンズ62は、照射室61の背面壁63に孔を空け、図8に示すように、凹レンズ62の支持部材64によって、等角度間隔で3点支持することによって取付けられている。凹レンズ62と背面壁63との間、すなわち凹レンズ62の周囲には、図9に示すように隙間65が形成され、凹レンズ62と共に光の通過が可能である。凹レンズ62の外径は、本実施の形態では25mmのものを使用している。
光照射手段28のランプ32を覆う湾曲面を有する反射板34は、超高圧水銀ランプ32の光が、散乱光を除き平行になるような曲線に形成されている。ランプ32はやや上向きに向けられ、凹レンズ62の中心位置に対して光照射手段28のランプ32の光源の中心は、わずかに低い位置にある。そして、光照射手段28を回動可能に支持するモータ40は斜め後方上側に軸心を向けて、光照射手段28を支持する。本実施の形態では、ランプ32の光源を水平線に対して上方に7度傾斜させている。
照射室61のランプ32に対向する前壁面には前傾斜壁部66が設けられている。図10に示すように、前傾斜壁部66は斜め後方のランプ32側へ下向きに傾斜し、前傾斜壁部66に形成した変曲点Pを境に、その下部側に鏡面からなる下反射板66bを配設し、上部側に下反射板66bよりもさらに下向きに配設された鏡面からなる上反射板66aを取付けている。変曲点Pの位置は、ランプ32の照射方向の中心線aの延長線上に配置している。
照射室61の下部には支持円板26が垂直方向に向けた出力軸24を軸心にして水平方向へ回動可能に配設され、水平面を有する支持円板26上には石膏模型中の光硬化性樹脂が配設される光照射部67が設けられ、光硬化性樹脂はこの光照射部67に図示しない支持手段に支持される。
このような構造により、石膏模型に充填した光硬化性樹脂を光照射部67に図示しない支持手段上に載置する。しかる後に電動モータ22を作動させて支持円板26を所定回転速度で回転せしめると共に、光照射手段28のランプ32を点灯する。かくすると、ランプ32からの平行光が図6に示す如く、凹レンズ62又は隙間65を通って照射室61に入射する。このうち、凹レンズ62を通過した光は、凹レンズ62の径方向外側に拡散される。拡散された光がさらに前方に進むと、上下反射板66a,66bに反射して、この反射光が被照射体である石膏模型中の光硬化性樹脂に照射する。また、隙間65を通った光は、そのまま直進して上下反射板66a,66bに反射された反射光によって光硬化性樹脂を照射する。
上下反射板66a,66bを配設して反射光によって光硬化性樹脂を照射させたのは、光硬化性樹脂の上面のみならず側面まで光を照射させるためである。よって、光硬化性樹脂を回転させると共に傾斜光によって、被照射体の全体を照射できるようにしている。なお、被照射体の全体を照射させるには、一般的には45度に近い照射角によって光硬化性樹脂を照射させるとよいが、本実施の形態(光源を水平線から7度傾斜させた状態)では、上反射板66aでは平行光が水平線に対して62度の角度で光硬化性樹脂を照射し、下反射板66bでは50度の角度で照射している。拡散光については、上反射板66aでは水平線に対して50度〜62度の角度で照射し、下反射板66bでは50度〜62度の角度で照射するようにしている。
上記第1の実施の形態で用いたすりガラスに対して、凹レンズ62を用いた有利な点は、すりガラスは光成分が分散するので照射室8に入射する光の照射量が減じるのに対し、凹レンズ62は照射室61に入射する光の照射量を減らさないからである。光の照射量を多く被照射体に当てるには、凹レンズよりも凸レンズの方が望ましいが、凸レンズでは光硬化性樹脂と石膏との間に塗布されている離型剤が溶けてしまうからである。離型剤が溶ける温度は50℃〜60℃程度であるので、これ以下に温度を維持する必要がある。同様に凹レンズ62を用いないで直接光源から光を光硬化性樹脂に照射することが考えられるが、直接照射でも離型剤が溶けてしまうので、凹レンズ50によって、光を拡散して熱を減少させている。
変曲点Pを設けて、上反射板66aを下反射板66bよりも下向きに傾斜させた理由は、ランプ32の中心位置の光の照射量が弱い傾向にあり、照射量が少ない被照射体の中央部分に光を均等に近づくように当てるためである。
光硬化性樹脂が充分に硬化せしめられると、光照射手段28のケース30を図7に二点鎖線で示す非作用位置に位置せしめるなど、他の作用効果は上記第1の実施の形態と同じである。
光拡散手段36は、照射室8の後壁部に配設したが、ケース30の前面に配設してもよい。
本発明に従って構成された光照射装置の好適な第1の実施形態を示す簡略側面図である。 図1の光照射手段を示す簡略平面図である。 図1の光照射手段を示す簡略正面図である。 超高圧水銀ランプの発光スペクトルを示す線図である。 メタルハイランドランプの発光スペクトルを示す線図である。 本発明に従って構成された光照射装置の好適な第1の実施形態を示す簡略側面図である。 図6の光照射手段の簡略平面図である。 図6の光照射手段の光を拡散するレンズ部の正面図である。 図6の光照射手段の光を拡散するレンズ部の拡大断面図である。 図6の光照射手段の光を反射させる照射室の壁部の拡大断面図である。
符号の説明
2 ハウジング
8,61 照射室
16 入射開口
18,66 前傾斜壁部
28 光照射手段
32 ランプ
36 光拡散手段
46 熱吸収手段
62 凹レンズ
65 隙間
66a 上反射板
66b 下反射板

Claims (14)

  1. 被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
    該光照射手段は超高圧水銀ランプを含む、ことを特徴とする光照射装置。
  2. 該光照射手段は作用位置と非作用位置とに選択的に位置せしめられ、該光照射手段が該作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射され、該光照射手段が該非作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射されることはない、請求項1記載の光照射装置。
  3. 被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
    該光照射手段は作用位置と非作用位置とに選択的に位置せしめられ、該光照射手段が該作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射され、該光照射手段が該非作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該支持手段に支持された被照射体に照射されることはない、ことを特徴とする光照射装置。
  4. 入射開口を有する照射室が配設されており、該支持手段は該照射室内に配設されており、該光照射手段は該照射室外に配設されており、該光照射手段が該作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が該入射開口を通して該照射室内に入射される、請求項2又は3記載の光照射装置。
  5. 該光照射手段が該非作用位置に位置せしめられると該光照射手段からの光が照射される該熱吸収手段が配設されている、請求項2から4までのいずれかに記載の光照射装置。
  6. 該光照射手段からの光は光拡散手段を介して被照射体に照射される、請求項1から5までのいずれかに記載の光照射装置。
  7. 被照射体を支持するための支持手段と該支持手段に支持された被照射体に可視光を照射するための光照射手段とを具備する光照射装置において、
    該光照射手段からの光は光拡散手段を介して被照射体に照射される、ことを特徴とする光照射装置。
  8. 該支持手段は入射開口を有する照射室に配設されており、該光照射手段は該照射室外に配設されており、該光拡散手段が該照射室の壁部又は該壁部と該照射手段との間に配設される、ことを特徴とする請求項7記載の光照射装置。
  9. 入射開口を有する照射室が配設されており、該支持手段は該照射室の下端部に配設され、該光照射手段は該照射室外に配設されており、該光照射手段からの光は該入射開口を通して該照射室内に入射され、該照射室の内面によって反射されて実質上鉛直に下方に指向される、請求項1、3又は7記載の光照射装置。
  10. 該被照射体が光硬化樹脂である、請求項1、3又は7記載の光照射装置。
  11. 該光拡散手段が凹レンズであって、該光照射手段の可視光が該凹レンズを介して被照射体に照射される可視光の照射量を調整した、請求項6又は7に記載の光照射装置。
  12. 該凹レンズを介して該光照射手段の可視光が入射される照射室に該被照射体が設けられ、該被照射体の内壁面に設けられた反射板に該可視光が反射して該被照射体が可視光に照射されるようにした請求項11に記載の光照射装置。
  13. 該反射板に該被照射体に対する可視光の照射量を調整する湾曲面若しくは折曲面を形成し、該被照射体に対する可視光の照射量を調整するようにしてなる請求項12に記載の光照射装置。
  14. 該レンズの周囲に可視光が通過する隙間を形成した、請求項11〜13のいずれか1項に記載の光照射装置。
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JP2017213567A (ja) * 2011-06-08 2017-12-07 ゼネックス・ディスインフェクション・サービシィズ・エルエルシイ 紫外線放電ランプ装置

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