JP6288025B2 - 露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本願は、2004年6月9日に出願された特願2004−171115号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
(VUV光)などが用いられる。本実施形態においてはArFエキシマレーザ光が用いられる。
成分)よりも大きくなる可能性もあるが、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、25nmより大きいライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合には、S偏光成分(TE偏光成分)の回折光がP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりも多くマスクMから射出されるので、投影光学系PLの開口数NAが0.9〜1.3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。
素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。この場合、液体LQと接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。また、液体LQとしては、その他にも、露光光ELに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系PLや基板P表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの(例えばセダー油)を用いることも可能である。この場合も表面処理は用いる液体LQの極性に応じて行われる。
レーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
Claims (32)
- 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記基板を保持する基板ホルダと、前記基板ホルダに保持された基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面と、を有する基板ステージと、
前記ノズル部材を支持する支持部材と、
前記投影光学系と前記支持部材との間に配置された防振装置と、を備える露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記ノズル部材を支持する支持部材と、
前記投影光学系と前記支持部材との間に配置された防振装置と、
を備える露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記基板を保持する基板ホルダと、前記基板ホルダに保持された基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面と、を有する基板ステージと、
前記ノズル部材を支持する支持部材と、
前記支持部材から前記投影光学系への振動伝達を抑制する防振装置と、備える露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記ノズル部材を支持する支持部材と、
前記支持部材から前記投影光学系への振動伝達を抑制する防振装置と、
を備える露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記基板を保持する基板ホルダと、前記基板ホルダに保持された基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面と、を有する基板ステージと、
前記ノズル部材を支持する支持部材と、
前記投影光学系と前記支持部材との間に配置された防振装置と、
前記ノズル部材から前記投影光学系への振動伝達を抑制する防振装置と、を備える露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記ノズル部材から前記投影光学系への振動伝達を抑制する防振装置と、
を備える露光装置。 - 前記基板ステージに設けられた光計測部をさらに備え、
前記光計測部は、前記光計測部上に形成された液浸領域の液体を介した計測処理に用いられる請求項1〜6のいずれか一項記載の露光装置。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を有するノズル部材と、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測するための比抵抗計と、
前記基板ステージに設けられた光計測部と、を備え、
前記光計測部は、前記光計測部上に形成された液浸領域の液体を介した計測処理に用いられる露光装置。 - 前記ノズル部材は、前記投影光学系の先端部の光学素子を配置可能な穴部を有する請求項1〜8のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記ノズル部材は、液体供給口を有する請求項1〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体供給口は、前記基板の表面が対向可能に配置され、
前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように配置されている請求項10記載の露光装置。 - 前記比抵抗計は、前記液体供給口から供給される液体の比抵抗値を計測する請求項10又は11記載の露光装置。
- 前記液体供給口に接続する供給流路と、前記供給流路の途中から分岐する分岐流路とを備え、
前記液体供給口から供給される液体の比抵抗値の計測は、前記分岐流路を流れる液体の比抵抗値の計測を含む請求項12の露光装置。 - 前記比抵抗計は、前記液体回収口から回収された液体の比抵抗値を計測する請求項1〜11のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記比抵抗計の計測結果が異常か否かを判別し、該判別結果に基づいて、露光動作を制御する制御装置を備えた請求項1〜14のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記比抵抗計は、露光動作と並行して、前記液体を計測する請求項1〜15のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記比抵抗計の計測結果を時間経過に対応付けて記憶する記憶装置を備えた請求項1〜16のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記基板上に設定された複数のショット領域が順次露光され、
前記比抵抗計の計測結果を前記ショット領域に対応付けて記憶する記憶装置を備えた請求項1〜17のいずれか一項記載の露光装置。 - 請求項1〜18のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
- 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記基板ステージは、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面を有し、
前記液体回収口を有するノズル部材を支持する支持部材と前記投影光学系との間には防振装置が配置されている露光方法。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記液体回収口を有するノズル部材を支持する支持部材と前記投影光学系との間には防振装置が配置されている露光方法。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記基板ステージは、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面を有し、
前記液体回収口を有するノズル部材を支持する支持部材から前記投影光学系への振動伝達を防振装置を使って抑制しつつ、前記基板の液浸露光を行う露光方法。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記液体回収口を有するノズル部材を支持する支持部材から前記投影光学系への振動伝達を防振装置を使って抑制しつつ、前記基板の液浸露光を行う露光方法。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記基板ステージは、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ同一面となるように形成された上面を有し、
前記液体回収口を有するノズル部材から前記投影光学系への振動伝達を防振装置を使って抑制しつつ、前記基板の液浸露光を行う露光方法。 - 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、を含み、
前記液体回収口を有するノズル部材から前記投影光学系への振動伝達を防振装置を使って抑制しつつ、前記基板の液浸露光を行う露光方法。 - 前記基板ステージに設けられた光計測部上に形成された液浸領域の液体を介した計測処理を行うことをさらに含む請求項20〜25のいずれか一項記載の露光方法。
- 投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光方法において、
基板ステージの基板ホルダに基板を保持することと、
前記基板の表面が対向可能に配置された液体回収口を介して前記基板の表面から液体を回収することと、
前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値を計測することと、
前記基板ステージに設けられた光計測部上に形成された液浸領域の液体を介した計測処理を行うことと、を含む露光方法。 - 液体供給口から液体を供給することをさらに含み、
前記液体供給口からの液体供給と前記液体回収口からの液体回収を行いつつ、前記基板の表面の一部を覆う液浸領域が形成される請求項20〜27のいずれか一項記載の露光方法。 - 前記液体供給口は、前記基板の表面が対向可能に配置され、
前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように配置されている請求項28記載の露光方法。 - 前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値の計測は、前記液体供給口から供給される液体の比抵抗値の計測を含む請求項28又は29記載の露光方法。
- 前記液浸領域を形成するための液体の比抵抗値の計測は、前記液体回収口から回収された液体の比抵抗値の計測を含む請求項20〜29のいずれか一項記載の露光方法。
- 請求項20〜請求項31のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
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