JP5482784B2 - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSが形成される。液浸空間LSは、液体LQで満たされた部分(空間、領域)である。基板Pは、液浸空間LSの液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (16)
- 光学系の射出面から射出される露光光の光路を純水で満たすとともに、前記純水を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された液浸部材と、
前記純水を供給する液体供給口と、
前記純水で形成された液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に炭酸ガスを供給する流体供給口と、を備え、
前記液浸空間の一部が前記液浸部材と対向する物体と前記液浸部材との間に形成され、
前記液浸部材は、前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記液体供給口から供給された純水の少なくとも一部を回収する液体回収口を有し、
前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体供給口は、前記液体回収口の外側に配置されている露光装置。 - 前記空間の少なくとも一部に供給された前記炭酸ガスの少なくとも一部を回収する流体回収口をさらに備える請求項1記載の露光装置。
- 前記光路の周囲の少なくとも一部であって、前記光学系の光軸に対する放射方向において前記液浸部材の外側に配置された保持部材をさらに備え、
前記保持部材と前記物体との間に前記炭酸ガスの少なくとも一部が保持される請求項2記載の露光装置。 - 前記流体供給口と、前記流体回収口とが、前記液浸部材に設けられている請求項2又は3記載の露光装置。
- 前記流体供給口が前記液浸部材に設けられ、
前記流体回収口が、前記保持部材に設けられている請求項3記載の露光装置。 - 前記流体供給口と、前記流体回収口とが、前記保持部材に設けられている請求項3記載の露光装置。
- 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体回収口は、前記流体供給口の外側に配置されている請求項2〜6のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1〜7のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。 - 光学系の射出面から射出される露光光の光路を純水で満たすとともに、前記純水を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記純水を供給することと、
前記純水で形成された液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に流体供給口から炭酸ガスを供給することと、
を含み、
前記液浸空間の一部は、前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された液浸部材に対向する物体と前記液浸部材との間に形成され、
前記液浸部材は、前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記液体供給口から供給された純水の少なくとも一部を回収する液体回収口を有し、
前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体供給口は、前記液体回収口の外側に配置されている露光方法。 - 前記空間の少なくとも一部に供給された前記炭酸ガスの少なくとも一部を流体回収口から回収することを含む請求項9記載の露光方法。
- 前記光路の周囲の少なくとも一部であって、前記光学系の光軸に対する放射方向において前記液浸部材の外側に配置された保持部材と前記物体との間に、前記炭酸ガスの少なくとも一部が保持される請求項10記載の露光方法。
- 前記空間の少なくとも一部に炭酸ガスを供給する前記流体供給口と、前記流体回収口とが、前記液浸部材に設けられている請求項10又は11記載の露光方法。
- 前記空間の少なくとも一部に炭酸ガスを供給する前記流体供給口が前記液浸部材に設けられ、
前記流体回収口が、前記保持部材に設けられている請求項11記載の露光方法。 - 前記空間の少なくとも一部に炭酸ガスを供給する流体供給口と、前記流体回収口とが、前記保持部材に設けられている請求項11記載の露光方法。
- 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記炭酸ガスの回収は、前記炭酸ガスの供給よりも外側で行われる請求項10〜14のいずれか一項記載の露光方法。
- 請求項9〜15のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
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