JP2010135794A - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010135794A JP2010135794A JP2009275698A JP2009275698A JP2010135794A JP 2010135794 A JP2010135794 A JP 2010135794A JP 2009275698 A JP2009275698 A JP 2009275698A JP 2009275698 A JP2009275698 A JP 2009275698A JP 2010135794 A JP2010135794 A JP 2010135794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap
- liquid
- edge
- exposure apparatus
- optical axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面と異なる光学部材の外面及び光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、光軸に対して第1回収口の外側に形成された第1ギャップより小さい第2ギャップとを備えている。
【選択図】図2
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面と異なる光学部材の外面及び光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、光軸に対して第1回収口の外側に形成された第1ギャップより小さい第2ギャップとを備えている。
【選択図】図2
Description
本発明は、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
半導体デバイス、電子デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、例えば特許文献1,2に開示されているような、液体を介して基板に露光光を照射する液浸露光装置が知られている。
液浸露光装置においては、液体を所望の空間内に保持することが重要である。例えば、液体の一部が流出すると、その流出した液体の気化熱により、基板、あるいは基板の周囲の環境の温度が変化する可能性がある。その結果、露光不良が発生し、不良デバイスが発生する可能性がある。
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様に従えば、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面と異なる光学部材の外面及び光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、光軸に対して第1回収口の外側に形成された第1ギャップより小さい第2ギャップと、を備える露光装置が提供される。
本発明の第2の態様に従えば、露光光を射出する射出面を有する光学部材と、射出面と異なる光学部材の外面及び光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、光軸に対して第1回収口の外側に形成され、第1ギャップからの気体の通過を許容するとともに第1ギャップからの液体の通過を抑制する液体制限部と、を備える露光装置が提供される。
本発明の第3の態様に従えば、第1,第2の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の第4の態様に従えば、光学部材の射出面から射出された露光光を基板に照射することと、射出面と異なる光学部材の外面及び光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材を使って、射出面と基板との間の露光光の光路を液体で満たすことと、第1ギャップの少なくとも一部からの液体を第1回収口で回収することと、を含み、光軸に対して第1回収口の外側に形成された第1ギャップより小さい第2ギャップにより、第1ギャップからの液体が光軸に対して第1回収口よりも外側へ流出することが抑制される露光方法が提供される。
本発明の第5の態様に従えば、第4の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY及びθZ方向とする。
<第1実施形態>
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、基板Pの表面に液体LQを介して露光光ELを照射する液浸露光装置である。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、基板Pの表面に液体LQを介して露光光ELを照射する液浸露光装置である。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
図1において、露光装置EXは、マスクMを保持して移動可能なマスクステージ1と、基板Pを保持して移動可能な基板ステージ2と、マスクステージ1及び基板ステージ2の位置を光学的に計測する干渉計システム3と、マスクMを露光光ELで照明する照明系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンの像を基板Pに投影する投影系PLと、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSを形成可能な液浸部材4と、少なくとも投影系PLを収容するチャンバ装置5と、少なくとも投影系PLを支持するボディ6と、露光装置EX全体の動作を制御する制御装置7とを備えている。
マスクMは、基板Pに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクMは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクMとして、反射型マスクを用いることもできる。
基板Pは、デバイスを製造するための基板である。基板Pは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された多層膜とを含む。多層膜は、少なくとも感光膜を含む複数の膜が積層された膜である。感光膜は、感光材で形成された膜である。また、多層膜が、例えば反射防止膜、及び感光膜を保護する保護膜(トップコート膜)を含んでもよい。
チャンバ装置5は、実質的に閉ざされた内部空間8を形成するチャンバ部材5Aと、内部空間8の環境(温度、湿度、クリーン度、及び圧力等)を制御する環境制御装置5Bとを有する。ボディ6は、内部空間8に配置される。ボディ6は、支持面FL上に設けられた第1コラム9と、第1コラム9上に設けられた第2コラム10とを有する。第1コラム9は、第1支持部材11と、第1支持部材11に防振装置12を介して支持された第1定盤13とを有する。第2コラム10は、第1定盤13上に設けられた第2支持部材14と、第2支持部材14に防振装置15を介して支持された第2定盤16とを有する。また、本実施形態においては、支持面FL上に、防振装置17を介して、第3定盤18が配置されている。
照明系ILは、所定の照明領域IRに露光光ELを照射する。照明領域IRは、照明系ILから射出される露光光ELが照射可能な位置を含む。照明系ILは、照明領域IRに配置されたマスクMの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ELで照明する。照明系ILから射出される露光光ELとして、例えば水銀ランプから射出される輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)、及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)等が用いられる。本実施形態においては、露光光ELとして、紫外光(真空紫外光)であるArFエキシマレーザ光を用いる。
マスクステージ1は、マスクMをリリース可能に保持するマスク保持部19を有し、マスクMを保持した状態で、第2定盤16のガイド面16G上を移動可能である。マスクステージ1は、駆動システム20の作動により、照明領域IRに対して、マスクMを保持して移動可能である。駆動システム20は、マスクステージ1に配置された可動子20Aと、第2定盤16に配置された固定子20Bとを有する平面モータを含む。マスクステージ1を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第6452292号明細書に開示されている。マスクステージ1は、駆動システム20の作動により、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6つの方向に移動可能である。
投影系PLは、所定の投影領域PRに露光光ELを照射する。投影系PLは、投影領域PRに配置された基板Pの少なくとも一部に、マスクMのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影系PLは、その投影倍率が例えば1/4、1/5、又は1/8等の縮小系である。なお、投影系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影系PLの光軸AXはZ軸と平行である。また、投影系PLは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影系PLは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
投影系PLの複数の光学素子は、保持部材(鏡筒)21に保持されている。保持部材21は、フランジ21Fを有する。投影系PLは、フランジ21Fを介して、第1定盤13に支持される。なお、第1定盤13と保持部材21との間に防振装置を設けることができる。
投影系PLの複数の光学素子のうち、投影系PLの像面に最も近い終端光学素子22は、投影系PLの像面に向けて露光光ELを射出する射出面23を有する。投影領域PRは、射出面23から射出される露光光ELが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面23は−Z方向を向いており、XY平面と平行である。なお、−Z方向を向いている射出面23は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。
本実施形態において、終端光学素子22の光軸(投影系PLの像面近傍の光軸)AXは、Z軸とほぼ平行である。なお、終端光学素子22と隣り合う光学素子で規定される光軸を終端光学素子22の光軸とみなしてもよい。また、本実施形態において、投影系PLの像面は、X軸とY軸とを含むXY平面とほぼ平行である。また、本実施形態において、像面は、ほぼ水平である。ただし、像面はXY平面と平行でなくてもよいし、曲面であってもよい。
基板ステージ2は、基板Pをリリース可能に保持する基板保持部24を有し、第3定盤18のガイド面18G上を移動可能である。基板ステージ2は、駆動システム25の作動により、投影領域PRに対して、基板Pを保持して移動可能である。駆動システム25は、基板ステージ2に配置された可動子25Aと、第3定盤18に配置された固定子25Bとを有する平面モータを含む。基板ステージ2を移動可能な平面モータは、例えば米国特許第6452292号明細書に開示されている。基板ステージ2は、駆動システム25の作動により、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6つの方向に移動可能である。
基板ステージ2は、基板保持部24の周囲に配置され、射出面23と対向可能な上面26を有する。本実施形態において、基板ステージ2は、米国特許出願公開第2007/0177125号明細書、米国特許出願公開第2008/0049209号明細書等に開示されているような、基板保持部24の周囲の少なくとも一部に配置され、プレート部材Tの下面をリリース可能に保持するプレート部材保持部27を有する。本実施形態において、基板ステージ2の上面26は、プレート部材の上面を含む。上面26は、平坦である。
干渉計システム3は、XY平面内におけるマスクステージ1(マスクM)の位置を光学的に計測可能な第1干渉計ユニット3Aと、XY平面内における基板ステージ2(基板P)の位置を光学的に計測可能な第2干渉計ユニット3Bとを有する。基板Pの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置7は、干渉計システム3の計測結果に基づいて、駆動システム20,25を作動し、マスクステージ1(マスクM)及び基板ステージ2(基板P)の位置制御を実行する。
液浸部材4は、支持機構28に支持されている。本実施形態において、支持機構28は、第1定盤13に支持されている。本実施形態において、液浸部材4は、支持機構28を介して、第1定盤13に吊り下げられている。
本実施形態の露光装置EXは、マスクMと基板Pとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクMのパターンの像を基板Pに投影する走査型露光装置(所謂スキャニングステッパ)である。基板Pの露光時、制御装置7は、マスクステージ1及び基板ステージ2を制御して、マスクM及び基板Pを、光軸AX(露光光ELの光路)と交差するXY平面内の所定の走査方向に移動する。本実施形態においては、基板Pの走査方向(同期移動方向)をY軸方向とし、マスクMの走査方向(同期移動方向)もY軸方向とする。制御装置7は、基板Pを投影系PLの投影領域PRに対してY軸方向に移動するとともに、その基板PのY軸方向への移動と同期して、照明系ILの照明領域IRに対してマスクMをY軸方向に移動しつつ、投影系PLと基板P上の液浸空間LSの液体LQとを介して基板Pに露光光ELを照射する。これにより、マスクMのパターンの像が基板Pに投影され、基板Pは露光光ELで露光される。
図2は、液浸部材4の近傍を示す側断面図、図3は、液浸部材4を上方から見た図、図4は、図2の一部を拡大した図である。図2,図3,及び図4に示すように、液浸部材4は、終端光学素子22の近傍に配置されている。液浸部材4は、射出面23から射出される露光光ELの光路が液体LQで満たされるように、露光光ELの光路の周囲の少なくとも一部に配置されている。本実施形態において、液浸部材4は、環状の部材である。液浸部材4は、露光光ELの光路の一部及び終端光学素子22の周囲に配置される。なお、液浸部材4は円形環状でなくてもよく、例えば矩形環状であってもよい。
液浸部材4は、射出面23と、射出面23と対向する位置に配置された物体との間の露光光ELの光路が液体LQで満たされるように液浸空間LSを形成する。液浸空間LSは、液体LQで満たされた部分(空間、領域)である。本実施形態において、物体は、基板ステージ2(プレート部材T)、及び基板ステージ2に保持された基板Pの少なくとも一方を含む。基板Pの露光中、液浸部材4は、終端光学素子22と基板Pとの間の露光光ELの光路が液体LQで満たされるように液浸空間LSを形成する。
液浸部材4は、物体と対向可能な下面29を有する。下面29と物体との間の空間30は、液体LQを保持可能である。下面29と物体との間に保持された液体LQによって液浸空間LSの一部が形成される。本実施形態においては、基板Pに露光光ELが照射されているときに、投影領域PRを含む基板Pの表面の一部の領域が液体LQで覆われるように液浸空間LSが形成される。液浸空間LSの液体LQの界面(メニスカス、エッジ)LG1は、液浸部材4の下面29と物体の表面(上面)との間に形成される。本実施形態の露光装置EXは、局所液浸方式を採用する。
以下、簡単のため、射出面23及び下面29と対向する位置に基板Pが配置され、射出面23及び下面29と基板Pの表面との間に液体LQが保持されて液浸空間LSが形成される場合を例にして説明する。なお、上述のように、射出面23及び下面29と基板ステージ2(プレート部材T)の上面26との間に液浸空間LSを形成することができる。
本実施形態において、液浸部材4は、終端光学素子22の外面31、及び終端光学素子22を保持する保持部材21の外面32の少なくとも一方に第1ギャップG1を介して対向する内面33を有する。本実施形態において、内面33は、終端光学素子22(投影系PL)の光軸AXに対する放射方向(光軸AXに対して垂直な方向)に、かつ終端光学素子22の射出面23が向いている方向とは逆の方向(+Z方向)に延びる第1部分34と、光軸AXに対して第1部分34の少なくとも一部の外側に配置された第2部分35とを有する。本実施形態において、第2部分35は第1部分34の周囲に配置されている。第1ギャップG1は、第1部分34を使って規定される第1空間36と、第2部分35を使って規定される第2空間37とを含む。
終端光学素子22の外面31は、射出面23と異なる面であり、射出面23の周囲に配置されている。すなわち、外面31は露光光ELが通過しない面である。外面31は、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに対して垂直な方向)に、かつ+Z方向に延びるように傾斜している。本実施形態において、外面31と第1部分34とが対向する。また、本実施形態において、外面31と第1部分34とは、ほぼ平行である。第1空間36は、外面31と第1部分34との間の空間を含む。第1空間36は、光軸AXに対する放射方向に、かつ投影系PLの像面から離れる方向(+Z方向)延びるように傾斜した空間である。すなわち、第1空間36は、光軸AXに垂直な方向に対して(XY平面に対して)+Z方向に傾斜した空間である。なお、外面31と第1部分34は平行でなくてもよい。また、外面31と第1部分34の少なくとも一方に曲面を含んでいてもよい。
本実施形態において、保持部材21の外面32は、終端光学素子22の外面31の周囲に配置されている。本実施形態において、外面32と第2部分35とが対向する。また本実施形態において、外面32と第2部分35とは、ほぼ平行である。第2空間37は、外面32と第2部分35との間の空間を含む。本実施形態において、外面32及び第2部分35は、XY平面とほぼ平行であり、第2空間37は、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに対して垂直な方向)に延びる空間である。なお、外面32と第2部分35は、XY平面とほぼ平行でなくてもよい。また外面32と第2部分35とが互いに平行でなくてもよい。また、外面32と第2部分35の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。
本実施形態において、液浸部材4は、少なくとも一部が射出面23と対向するように配置されたプレート部38と、少なくとも一部が終端光学素子22の周囲に配置される本体部39とを有する。第1部分34及び第2部分35は、本体部39に配置されている。プレート部38は、射出面23とギャップG4を介して対向する上面40と、射出面23と対向するように配置された物体(例えば、基板P)の表面とギャップG5を介して対向する下面41とを有する。また、プレート部38は、射出面23から射出された露光光ELが通過可能な開口42を有する。基板Pの露光中、射出面23から射出された露光光ELは、開口42を介して、基板Pの表面に照射される。
本実施形態において、露光装置EXは、光軸AX周りの少なくとも一部に配置され、第1ギャップG1の少なくとも一部からの液体LQを回収可能な第1回収口43と、光軸AXに対して第1回収口43の外側に、第1ギャップG1より小さい第2ギャップG2を形成する突起44とを備えている。本実施形態において、第1回収口43が、光軸AXの周囲(第1ギャップG1の周囲)に環状に配置されており、第1回収口43の周囲に環状の第2ギャップG2が配置されている。
図5は、第1回収口43及び突起44の近傍を示す図である。図2〜図5に示すように、本実施形態において、第1回収口43は、液浸部材4に設けられている。本実施形態において、第1回収口43は、第2部分35に配置されている。また本実施形態において、第1回収口43は、終端光学素子22の射出面23が向いている方向とは逆の方向(+Z方向)を向いている。第1回収口43は、射出面23の下方の空間50に供給されない、第1ギャップG1の少なくとも一部からの液体LQを回収可能である。
本実施形態において、突起44は、液浸部材4と対向する保持部材21に設けられている。突起44は、光軸AXを囲むように配置されている。すなわち、突起44は、第1ギャップG1(第2空間37)の周囲に、XY平面内において環状に設けられている。突起44は、保持部材21の外面32に配置され、その外面32から液浸部材4の第2部分35に向かって突出している。すなわち、突起44は、保持部材21の外面32から下方(−Z方向)に向かって延びている。本実施形態において、第2部分35と対向する突起44の下面45は、第2部分35とほぼ平行である。すなわち、本実施形態において、下面45は、XY平面とほぼ平行である。第2ギャップG2は、下面45と第2部分35との間に形成される。 第2ギャップG2は、第1ギャップG1からの気体の通過を許容するが、第1ギャップG1からの液体LQの通過が抑制されるように形成されている。第2ギャップG2は、できるだけ小さいことが望ましく、0.1mm以下に設定することが望ましい。
第2ギャップG2を形成する下面45及び第2部分35の少なくとも一方は、液体LQに対して撥液性である。本実施形態においては、下面45及び第2部分35の少なくとも一方において、液体LQの接触角は90°以上である。本実施形態においては、下面45及び第2部分35の両方が、液体LQに対して撥液性である。本実施形態においては、下面45及び第2部分35のそれぞれは、液体LQに対して撥液性の膜46で形成されている。膜46は、例えばフッ素を含む撥液性材料で形成される。撥液性材料としては、例えばPFA(Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer)、PTFE(Poly tetra fluoro ethylene)、PEEK(polyetheretherketone)、テフロン(登録商標)等が挙げられる。
なお、第2ギャップG2を形成する下面29のみが液体LQに対して撥液性でもよいし、第2部分35のみが液体LQに対して撥液性でもよい。
また、膜46を使わずに、下面45を形成する突起44の少なくとも一部、及び/又は第2部分35を形成する液浸部材4の少なくとも一部を、PFA(Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer)、PTFE(Poly tetra fluoro ethylene)、PEEK(polyetheretherketone)などの撥液性の部材で形成してもよい。
第1回収口43は、第1エッジE1と、光軸AXに対して第1エッジE1の外側に配置された第2エッジE2とで画定される。すなわち、本実施形態においては、光軸AXの周囲に第2部分35に円環状の溝が形成されており、第1回収口43は、その溝の上端を含む。第1エッジE1は、光軸AXに近い内側の円環状エッジ(角部)であり、第2エッジE2は、第1エッジE1より光軸AXから遠い外側の円環状エッジ(角部)である。第1回収口43(溝の上端)は、第1エッジE1と第2エッジE2との間に画定されている。
突起44は、光軸AXに対して第2エッジE2の外側に第2ギャップG2を形成する。本実施形態において、第2ギャップG2は、第2エッジE2に隣接するように形成される。
突起44は、光軸AXを囲むように配置された第3エッジE3と、光軸AXに対して第3エッジE3の外側に配置された第4エッジE4とを有する。突起44の下面45は、第3エッジE3と第4エッジE4との間に配置されている。第3エッジE3は、光軸AXに近い内側のエッジ(角部)であり、第4エッジE4は、光軸AXから遠い外側のエッジ(角部)である。
本実施形態において、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)における第1エッジE1と第2エッジE2との距離(幅)W1は、放射方向における第3エッジE3と第4エッジE4との距離(幅)W2より小さい。
また、本実施形態において、第1エッジE1と第2エッジE2との距離W1は、第1ギャップG1(Z軸方向における保持部材21の外面32と液浸部材4の第2部分35との間の距離)より小さく、第2ギャップG2(Z軸方向における突起44の下面45と液浸部材4の第2部分35との間の距離)より大きい。
また、光軸AXに対する放射方向において、第4エッジE4は、第2エッジE2の外側に配置される。本実施形態においては、光軸AXに対する放射方向において、第2エッジE2と第3エッジE3とが、ほぼ同じ位置に配置されている。したがって、本実施形態において、光軸AXに垂直な方向における、第2ギャップG2の内側のエッジの位置は、第2エッジE2及び第3エッジE3とほぼ同じであり、第2ギャップG2の外側のエッジの位置は、第4エッジE4とほぼ同じである。
また、本実施形態においては、第1エッジE1と第3エッジE3との距離W3は、第1ギャップG1より小さい。
また、本実施形態において、露光装置EXは、第1ギャップG1に液体LQを供給する第1供給口47を備えている。本実施形態において、第1供給口47は、液浸部材4の内面33に配置されている。本実施形態において、第1供給口47は、終端光学素子22の外面31と対向する液浸部材4の第1部分34に配置されている。第1回収口43は、光軸AXに対して、第1供給口47より離れて配置されている。本実施形態においては、第1供給口47は、光軸AX周りに等間隔で配置されている。図3に示すように、本実施形態においては、第1供給口47が光軸AX周りに45°間隔で配置されている。なお、第1供給口47の位置及び数は、図3の場合に限られず、任意に決定することができる。
図2及び図4に示すように、本実施形態において、第1供給口47は、射出面23が向いている方向とは逆の方向(+Z方向)を向いている。なお、第1供給口47は、+Z方向を向いていなくてもよい。
また、液浸部材4は、液体LQを供給する第2供給口48と、液体LQを回収可能な第2回収口49とを備えている。第2供給口48は、液浸部材4の内面33に配置されている。第2供給口48は、第1供給口47より、射出面23の近くに配置されている。本実施形態において、第2供給口48は、射出面23とプレート部38の上面40との間の空間50に面するように配置されている。第2供給口48は、露光光ELの光路に液体LQを供給する。図3に示すように、本実施形態においては、第2供給口48は、光軸AXに対して+Y側及び−Y側のそれぞれに一つずつ配置されている。なお、第2供給口48が、光軸AXに対して+X側及び−X側のそれぞれに一つずつ配置されてもよい。また、第2供給口48の数は3つ以上でもよい。
なお、第2供給口48が、終端光学素子22の外面31と対向する位置に配置されてもよい。
なお、第1供給口47の数と第2供給口48の数が同じであってもよい。また光軸AXに関する周方向において、第1供給口47の位置と第2供給口の位置が同じであってもよいし、異なっていてもよい。
第2回収口49は、液浸部材4の下面29に配置されている。第2回収口49は、液浸部材4の下面29と対向するように配置された物体(例えば、基板P)の表面上の液体LQを回収可能である。すなわち、第2回収口49と対向するように配置された物体(基板Pなど)の表面上の液体LQは第2回収口49で回収可能である。
第2回収口49は、プレート部38の下面41の周囲の少なくとも一部に配置されている。実施形態において、第2回収口49は、下面41の周囲に環状に配置されている。また、本実施形態においては、第2回収口49に、多孔部材51が配置されている。本実施形態において、多孔部材51は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材51が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。
本実施形態において、液浸部材4の下面29は、プレート部38の下面41及び多孔部材51の下面を含む。
図2に示すように、第1供給口47は、供給流路52を介して、第1液体供給装置53と接続されている。本実施形態において、供給流路52は、液浸部材4の内部に形成された流路、及び支持機構28の内部に形成された流路を含む。同様に、第2供給口48は、供給流路54を介して、第2液体供給装置55と接続されている。第1,第2液体供給装置53,55は、クリーンで温度調整された液体LQを第1,第2供給口47,48に供給することができる。なお、供給流路52の一部、及び/又は供給流路54の一部を、液浸部材4を支持する支持機構28の内部に設けなくてもよい。
制御装置7は、第1供給口47及び第2供給口48のそれぞれから供給される単位時間当たりの液体の量を調整可能である。本実施形態においては、供給流路52及び供給流路54のそれぞれに、マスフローコントローラと呼ばれる、単位時間当たりの液体供給量を調整可能な調整装置56,57が配置されている。調整装置56,57の動作は、制御装置7に制御される。制御装置7は、調整装置56,57のそれぞれを制御して、第1供給口47及び第2供給口48のそれぞれから供給される単位時間当たりの液体の量を調整可能である。また、制御装置7は、第1,第2供給口47,48からの液体LQの量を調整して、その第1,第2供給口47,48から供給される液体LQの流速を調整可能である。
なお、すべての第1供給口47から供給される液体LQの総量は、すべての第2供給口48から供給される液体LQの総量と同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、1つの第1供給口47から供給される液体LQの量は、1つの第2供給口48から供給される液体LQの量と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
また、1つの供給流路から分岐された複数の流路を第1供給口47及び第2供給口48に接続してもよい。
第1回収口43は、回収流路58を介して、第1液体回収装置59と接続されている。本実施形態において、回収流路58は、液浸部材4の内部に形成された流路、及び支持機構28の内部に形成された流路を含む。同様に、第2回収口49は、回収流路60を介して、第2液体回収装置61と接続されている。第1,第2液体回収装置59,61は、真空システム(真空源と回収口との接続状態を制御するバルブなど)を含み、第1,第2回収口43,49から液体LQを吸引して回収することができる。なお、回収流路58の一部、及び/又は回収流路60の一部を、液浸部材4を支持する支持機構28の内部に設けなくてもよい。
制御装置7は、第1回収口43及び第2回収口49のそれぞれから回収される単位時間当たりの液体LQの量を調整可能である。また、制御装置7は、第2液体回収装置61を制御して、多孔部材51の下面側(空間30側)から上面側(回収流路60側)へ液体LQのみが通過するように、多孔部材51の下面側と上面側との間の圧力差を制御することができる。本実施形態において、下面側の空間30の圧力は、チャンバ装置5によって制御されており、ほぼ大気圧である。制御装置7は、多孔部材51の下面側から上面側へ液体LQのみが通過するように、第2液体回収装置61を制御して、下面側の圧力に応じて、上面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置7は、多孔部材51の孔を介して、基板P上の液体LQのみを回収し、気体は多孔部材51の孔を通過しないように調整する。多孔部材51の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材51の一側から他側へ液体LQのみを通過させる技術は、例えば米国特許第7292313号明細書に開示されている。
本実施形態においては、制御装置7は、第2供給口48を用いる液体供給動作と並行して、第2回収口49を用いる液体回収動作を実行することによって、一方側の終端光学素子22及び液浸部材4と、終端光学素子22及び液浸部材4と対向する他方側の物体(基板Pなど)との間に液体LQで液浸空間LSを形成可能である。
次に、上述の構成を有する露光装置EXを用いて基板Pを露光する方法について説明する。
制御装置7は、第2供給口48からの液体供給動作と並行して、第2回収口49からの液体回収動作を実行し、液浸部材4を使って、終端光学素子22の射出面23と基板Pとの間の露光光ELの光路が液体LQで満たされるように、終端光学素子22及び液浸部材4と基板Pとの間に液浸空間LSを形成し、基板ステージ2に保持されている基板Pの露光を開始する。制御装置7は、射出面23から射出された露光光ELを、液浸空間LSの液体LQを介して基板Pに照射する。
本実施形態においては、図4に示すように、少なくとも基板Pの露光中、制御装置7は、第1供給口47からの液体供給動作を実行する。第1供給口47は、第1ギャップG1に液体LQを供給する。本実施形態において、第1供給口47は、第1空間36に面しており、第1供給口47から第1ギャップG1(第1空間36)に供給された液体LQの少なくとも一部は、終端光学素子22の外面31に当たって、外面31及び第1部分34に沿って、上方(+Z方向)、かつ光軸AXから離れる方向に流れる。すなわち、第1供給口47から供給された液体LQの大部分は、第1空間36に沿って、射出面23が向いている方向とは逆の方向、且つ、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)に流れる。
第1空間36において、上方、且つ、光軸AXから離れる方向に流れた液体LQは、第2空間37に流入する。第1空間36から第2空間37に流入した液体LQは、保持部材21の外面32によって向きを変えられ、第2空間37に沿って、水平、且つ、光軸AXから離れる方向に流れる。すなわち、第2空間37において、液体LQは、XY平面と平行に、且つ、光軸AXに対する放射方向に流れる。
本実施形態においては、制御装置7は、調整装置56を制御して、第1供給口47から供給された液体LQが、第1ギャップG1において、低速で均一に流れるように、かつ第1ギャップG1がほぼ液体LQで満たされるように第1供給口47から供給される単位時間当たりの液体LQの量を調整する。
このように、本実施形態においては、制御装置7は、第1供給口47から第1ギャップG1に液体LQを供給することによって、その第1ギャップG1に光軸AXから離れる方向に液体LQの流れを形成する。
第2空間37において、光軸AXから離れる方向に流れた液体LQは、第1回収口43に回収される。第1回収口43は、第1ギャップG1の少なくとも一部からの液体LQを回収する。これにより、第1ギャップG1において、第1供給口47と第1回収口43との間の空間を液体LQで実質的に満たし続けることができる。また、光軸AXに対して第1回収口43の外側に液体LQが流出することが抑制される。本実施形態において、第1回収口43は、第1ギャップG1の少なくとも一部からの液体LQを気体とともに回収することができる。
また、本実施形態においては、光軸AXに対して第1回収口43の外側に、第1ギャップG1よりも小さい第2ギャップG2が形成されているので、第1ギャップG1からの液体LQが光軸AXに対して第1回収口43よりも外側へ流出することが抑制される。また、第2ギャップG2を形成する下面45及び第2部分35が液体LQに対して撥液性なので、第2ギャップG2に液体LQが浸入することを効果的に抑制することができる。
上述したように、液体LQ(界面LG2)が第2ギャップG2を通過できないように突起44の下面と第2部分35との距離はできるかぎり小さい方が望ましい。また、このように突起44を設けることによって、第1ギャップG1(第2空間37)に存在する液体LQの界面(メニスカス、エッジ)LG2の面積(液体LQが気体と接触する面積)を小さくすることができる。
図5に示すように、第3エッジE3と第2エッジE2との距離は、非常に小さい。したがって、図5に示すように、第1回収口43から液体LQのみを回収している場合には、第3エッジE3と第2エッジE2との間に液体LQの界面LG2が形成されるので、液体LQの気化を抑制することができる。また、図5に示すように、第3エッジE3と第1エッジE1との距離W3も、非常に小さい(例えば1mm以下)。したがって、液体LQの界面LG2が、第3エッジE3と第2エッジE2との間に形成されている状態と、第3エッジE3と第1エッジE1との間に形成されている状態と繰り返すようなことが生じても、液体LQの界面LG2の面積が小さいので、第1ギャップG1内の液体LQが液浸部材4、保持部材21、終端光学素子22の少なくとも一つに及ぼす力の変動も小さくすることができる。
また、第1供給口47から第1ギャップG1に供給された液体LQの一部は、終端光学素子22の外面31に当たって、外面31及び第1部分34に沿って、下方、且つ、光軸AXに近付く方向へ流れ、露光光ELの光路に供給される。すなわち、第1供給口47からの液体LQの一部は、射出面23が向いている方向(−Z方向)に、かつ光軸AXに近づく方向に流れる。このように、第1供給口47の下側(−Z側)においても第1空間36を液体LQで満たすことができる。したがって、本実施形態においては、第1供給口47を用いる液体供給動作と並行して、第1回収口43を用いる液体回収動作を実行することによって、液体LQの流出を抑制しつつ、第1ギャップG1をクリーンで温度調整された液体LQで満たし続けることができる。また、本実施形態においては、第1供給口47と第2供給口48を用いる液体供給動作と並行して、第2回収口49を用いる液体回収動作を実行することによって、液体LQの流出を抑制しつつ、射出面23から射出される露光光ELの光路をクリーンで温度調整された液体LQで満たし続けることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、第1回収口43と、第1回収口43の外側に第2ギャップG2を形成する突起44とを設けたので、第1回収口43より外側に液体LQが流出することを抑制することができる。本実施形態によれば、第1ギャップG1に液体LQを供給した場合でも、第1回収口43及び第2ギャップG2(突起44)によって、第1ギャップG1から外側に液体LQが流出することを効果的に抑制することができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。
また、本実施形態によれば、第1供給口47から第1ギャップG1に液体LQが供給されるので、第1ギャップG1を、第1供給口47から供給されたクリーンで温度調整された液体LQで満たすことができる。また、第1供給口47から液体LQを供給することによって、第1ギャップG1において、光軸AXから離れる方向へ向かう液体LQの流れが生成され、その液体LQの少なくとも一部を、第1回収口43より回収することができる。これにより、液体LQの流出を抑制しつつ、第1ギャップG1をクリーンで温度調整された液体LQで満たし続けることができる。したがって、第1ギャップG1において異物(汚染物)が発生したり、第1ギャップG1の液体LQが汚染されたりすることが抑制される。
また、本実施形態によれば、第1供給口47が第1ギャップG1に液体LQを供給することによって、第1ギャップG1が液体LQで満たされているので、露光光ELの光路に存在する液体LQに、第1ギャップG1から気体(気泡等)が混入することが抑制される。したがって、その気体に起因する露光不良の発生を抑制することができ、不良デバイスの発生を抑制できる。また、本実施形態においては、第1ギャップG1は、第1供給口47から供給されたクリーンで温度調整された液体LQで満たされるので、保持部材21、終端光学素子22、及び液浸部材4の少なくとも一つの温度変化を抑制できる。また、本実施形態においては、第1ギャップG1において、光軸AXから離れる方向に流れる液体LQ界面LG2が光軸AXから比較的離れており、その界面LG2で生じやすい液体LQの気化に起因する終端光学素子22及び/又は露光光ELの光路中の液体LQの温度変化を防止することができる。また、本実施形態においては、第1ギャップG1の液体LQの界面LG2は第1回収口43の近傍に安定的に形成されるので、保持部材21、終端光学素子22、及び液浸部材4の少なくとも一つが液体LQから受ける圧力変動を抑制できる。したがって、終端光学素子の位置の変動、光学特性の変動を抑制することができる。
また、本実施形態においては、調整装置56,57を設けたことにより、第1,第2供給口47,48のそれぞれから供給される単位時間当たりの液体LQの量を調整することができる。例えば、第1供給口47から供給される液体LQの量を多くすることによって、露光光ELの光路に存在する液体LQに、第1ギャップG1から気体が混入することをより効果的に抑制することができる。また、第2供給口48から供給される液体LQの量を多くすることによって、その液体LQによって、終端光学素子22及び液浸部材4の少なくとも一方の温度が調整される効果が期待できる。また、第2供給口48から供給される液体LQの量を少なくすることによって、空間30に流入する液体LQの量を抑えることができるので、第2回収口49での液体回収量を低減することができ、例えば基板P上に液体LQが残留することを抑制することができる。また、また、第1ギャップG1を形成する保持部材21、終端光学素子22、及び液浸部材4の少なくとも一つの形状に応じて、第1,第2供給口47,48から供給される液体LQの量を調整することもできる。このように、期待される効果、あるいは第1ギャップG1を形成する部材の形状等に応じて、第1,第2供給口47,48から供給される液体LQの量を適宜調整することができる。
なお、本実施形態においては、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)において、第1回収口43の第2エッジE2と突起44の第3エッジE3とがほぼ同じ位置に配置される場合を例にして説明したが、図6に示すように、第1回収口43の少なくとも一部が、突起44の下面45と対向してもよい。図6に示す例では、光軸AXに対する放射方向において、第2エッジE2が、第3エッジE3と第4エッジE4との間に配置され、且つ、第1エッジE1が、第3エッジE3の内側に配置されている。すなわち、図6の例においては、光軸AXに垂直な方向において、光軸AXと第3エッジE3との距離が、光軸AXと第1エッジE1との距離よりも長く、光軸AXと第2エッジE2との距離よりも短い。図6の例のように、第1回収口43の少なくとも一部が突起44の下面45と対向している場合においても、光軸AXに対して第1回収口43の外側に第1ギャップG1よりも小さい第2ギャップが設けられているので、液体LQの流出を抑えつつ、第1供給口47から供給された液体LQで第1ギャップG1を満たし続けることができる。
なお、光軸AXに垂直な方向において、光軸AXと第3エッジE3との距離が、光軸AXと第1エッジE1との距離とほぼ同じになるように突起44及び第1回収口43を設けてもよい。また、第1ギャップG1からの液体LQを円滑に回収できる場合には、光軸AXに垂直な方向において、光軸AXと第3エッジE3との距離が、光軸AXと第1エッジE1との距離よりも短くなるように突起44及び第1回収口43を設けてもよい。
また、図7に示すように、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)において、第2エッジE2を第3エッジE3の内側に配置してもよい。すなわち、光軸AXに垂直な方向において、光軸AXと第3エッジE3との距離が、光軸AXと第2エッジE2との距離よりも長くなるように突起44及び第1回収口43を設けてもよい。図7に示す例においても、第1エッジE1と第3エッジE3との距離W3は、第1ギャップG1より小さい。図7に示す例においても、第1回収口43と第2ギャップG2とによって、液体LQの流出を抑制しつつ、第1供給口47から供給された液体LQで第1ギャップG1を満たし続けることができる。
また、図8に示すように、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)において、第1エッジE1と第2エッジE2との距離W1が、第3エッジE3と第4エッジE4との距離W2より大きくなるように第1回収口43及び突起44を設けてもよい。図8に示す例においても、液浸部材4に設けた第1回収口43、及び液浸部材4の第2部分35と突起44の下面45との間に形成される第2ギャップG2によって、液体LQの流出を抑制しつつ第1ギャップG1を液体LQで満たすことができる。また、図8に示す例においては、第1エッジE1と第2エッジE2との距離W1が、第1ギャップG1(Z軸方向における保持部材21の外面32と液浸部材4の第2部分35との間の距離)より大きいが、距離W1が第1ギャップG1より小さくなるように第1回収口43と突起44を設けてもよい。すなわち、距離W1が、距離W2と第1ギャップG1の一方より小さく、他方より大きくなるように、第1回収口43及び突起44を設けてもよい。また、図8の例においては、光軸AXに垂直な方向において、光軸AXと第3エッジE3との距離が、光軸AXと第1エッジE1との距離より長く、光軸AXと第2エッジE2との距離よりも短く、かつ光軸AXと第2エッジE2との距離が光軸AXと第4エッジE4よりも短いが、光軸AXに垂直な方向における第1エッジE1、第2エッジE2、第3エッジE3、及び第4エッジE4の位置は、図5〜図7を使って説明したように適宜決めることができる。
また、上述の各例では、液浸部材4に第1回収口43が配置され、保持部材21に突起44が配置されているが、図9に示すように、液浸部材4に第1回収口43及び突起44のそれぞれが配置されてもよい。図9において、突起44は、液浸部材4の第2部分35に配置され、その第2部分35から保持部材21の外面32に向かって+Z方向に突出している。本例において、第2ギャップG2は、突起44の上面45Tと外面32との間に形成される。また、上面45T及び外面32は液体LQに対して撥液性である。また、ギャップG2(Z軸方向における上面45Tと外面32との距離)は、例えば0.1mm以下である。図9に示す例においても、第2ギャップG2は、光軸AXに対して第1回収口43の外側に形成される。したがって、液体LQの流出を抑制しつつ、第1ギャップG1を液体LQで満たすことができる。なお、上面45T及び外面32のどちらか一方のみが撥液性であってもよい。また、図9の例においても、光軸AXに垂直な方向における第1エッジE1、第2エッジE2、第3エッジE3、及び第4エッジE4の位置は、図5〜図8を使って説明したように適宜決めることができる。
また、図10に示すように、液浸部材4に第1回収口43が配置され、液浸部材4及び保持部材21のそれぞれに、環状の突起44A,44Bが配置されてもよい。図10において、突起44Aは、保持部材21の外面32に配置され、その外面32から液浸部材4に向かって−Z方向に突出している。突起44Bは、液浸部材4の第2部分35に配置され、その第2部分35から保持部材21に向かって+Z方向に突出している。図10に示す例では、第2ギャップG2は、突起44Aの第3エッジE3Aと第4エッジE4Aとの間の下面45Aと、突起44Bの第3エッジE3Bと第4エッジE4Bとの間の上面45Bとの間に形成される。突起44Aの下面45Aと突起44Bの上面45Bは液体LQに対して撥液性である。ギャップG2は非常に小さく、例えば0.1mm以下である。図10に示す例においても、第2ギャップG2は、光軸AXに対して第1回収口43の外側に配置されているので、液体LQの流出を抑制しつつ、第1ギャップG1を液体LQで満たすことができる。なお、下面45A及び上面45Bのどちらか一方のみが撥液性であってもよい。また、図10の例においては、第3エッジE3A、及び第3エッジE3Bの光軸AXからの距離がほぼ同じであるが、異なっていてもよい。同様に、図10の例においては、第4エッジE4A、及び第4エッジE4Bの光軸AXからの距離がほぼ同じであるが、異なっていてもよい。また、図10の本例においても、光軸AXに垂直な方向における、第1エッジE1、第2エッジE2、第3エッジE3A、E3B、及び第4エッジE4A,E4Bの位置は、図5〜図8を使って説明したように適宜決めることができる。
また、図11に示すように、保持部材21に第1回収口43が配置され、液浸部材4に突起44が配置されてもよい。図9の例と同様に、本例においても、第2ギャップG2は、突起44の上面45Tと外面32との間に形成される。ギャップG2を形成する上面45Tと外面32は液体LQに対して撥液性である。また、ギャップG2は非常に小さく、例えば0.1mm以下である。図11の例においても、第2ギャップG2は、光軸AXに対して第1回収口43の外側に配置されているので、液体LQの流出を抑制しつつ、第1ギャップG1を液体LQで満たすことができる。なお、上面45T及び外面32のどちらか一方のみが撥液性であってもよい。また、図11の例のように、第1回収口43が液浸部材4と対向する部材(保持部材21)に形成されている場合においても、光軸AXに垂直な方向における、第1エッジE1,第2エッジE2、第3エッジE3、第4エッジE4の位置を、図5〜図8を使って説明したように適宜決めることができる。また、図示は省略するが、液浸部材4と対向する部材(保持部材21)に第1回収口43が配置されている場合にも、図5〜図8の例のように、液浸部材4と対向する部材(保持部材21)に突起が配置されてもよいし、図10の例のように、液浸部材4及び液浸部材4と対向する部材(保持部材21)のそれぞれに、突起が配置されてもよい。
なお、上述の各例において、第1回収口43に多孔部材を配置してもよい。図12は、第1回収口43に多孔部材66を配置した一例を示し、図5で説明した第1回収口43に多孔部材66を配置した場合を示す。多孔部材66は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、多孔部材66が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。
制御装置7は、第1液体回収装置59を制御して、多孔部材66の上面側(第2空間37側)から下面側(回収流路58側)へ液体LQのみが通過するように、多孔部材66の下面側と上面側との間の圧力差を制御することができる。本実施形態において、上面側の第2空間37の圧力は、チャンバ装置5によって制御されており、ほぼ大気圧である。制御装置7は、多孔部材66の上面側から下面側へ液体LQのみが通過するように、第1液体回収装置59を制御して、上面側の圧力に応じて、下面側の圧力を調整する。すなわち、制御装置7は、多孔部材66の孔を介して、第2空間37の液体LQのみを回収し、気体は多孔部材66の孔を通過しないように調整する。多孔部材66の一側と他側との圧力差を調整して、多孔部材66の一側から他側へ液体LQのみを通過させる技術は、例えば米国特許第7292313号明細書に開示されている。
なお、図6〜図11を使って説明した例においても、第1回収口43に多孔部材66を配置することができる。特に、図8を使って説明した例のように、光軸AXに垂直な方向における第1回収口43が大きい(第1エッジE1と第2エッジE2との距離W2が長い)場合には、第1回収口43から液体LQとともに気体が混入しやすくなるので、第1回収口43に多孔部材66を配置して、液体LQの気化の影響を抑制することが好ましい。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。第2実施形態は、上述の第1実施形態の変形例である。上述の第1実施形態と異なる第2実施形態の特徴的な部分は、第1回収口43が、液浸部材4とは別の回収部材62に配置されている点にある。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。第2実施形態は、上述の第1実施形態の変形例である。上述の第1実施形態と異なる第2実施形態の特徴的な部分は、第1回収口43が、液浸部材4とは別の回収部材62に配置されている点にある。
図13は、第2実施形態に係る露光装置EXを示す図、図14は、第2実施形態に係る露光装置EXの一部を拡大した図である。図13及び図14において、露光装置EXは、液浸部材4と第3ギャップG3を介して配置され、第1回収口43が設けられた回収部材62を備えている。液浸部材4は、第1支持機構28Aに支持されている。回収部材62は、第2支持機構28Bに支持されている。本実施形態において、第1,第2支持機構28A,28Bは、第1定盤13に支持されている。すなわち、液浸部材4と回収部材62とは、一方から他方への振動の伝達が抑制されるように第3ギャップG3だけ離れて支持されている。また、液浸部材4と回収部材62とは、一方から他方への熱の伝達が抑制されるように第3ギャップG3だけ離れて配置されている。例えば、液浸部材4及び回収部材62の一方が液体LQの気化によって温度変化(温度低下)した場合にも、その温度変化が他方の部材へ伝達されることを抑制できる。本実施形態において、液浸部材4は、第1支持機構28Aを介して、第1定盤13に吊り下げられている。回収部材62は、第2支持機構28Bを介して、第1定盤13に吊り下げられている。第2支持機構28Bは、液浸部材4の周囲の少なくとも一部に回収部材62が配置されるように、回収部材62を支持する。
図14に示すように、回収部材62は、保持部材21の外面32と対向する上面63を有する。第1回収口43は、上面63に配置されている。第1回収口43は、終端光学素子22の射出面23が向いている方向とは逆の方向(+Z方向)を向いている。
図15は、液浸部材4及び回収部材62を上方から見た図である。図15に示すように、本実施形態においては、回収部材62は、液浸部材4を囲むように配置される環状の部材である。第1回収口43は、上面63において、光軸AXを囲むように配置されている。なお、液浸部材4および回収部材62は円環状でなくてもよく、例えば矩形環状であってもよい。
図14に示すように、本実施形態の突起44は、第1実施形態の図5等と同様に、回収部材62と対向する保持部材21の外面32に光軸AXを囲むように配置されている。突起44は、外面32から回収部材62に向かって−Z方向に突出するように配置されている。第2ギャップG2は、突起44の下面45と回収部材62の上面63との間に形成される。第2ギャップG2を形成する下面45及び上面63は、液体LQに対して撥液性である。なお、下面45と上面63のどちらか一方のみが液体LQに対して撥液性であってもよい。
また、本実施形態においては、液浸部材4と回収部材62との間の第3ギャップG3を形成する液浸部材4の外面64及び回収部材62の内面65の少なくとも一方は、液体LQに対して撥液性である。本実施形態においては、外面64及び内面65の両方が、液体LQに対して撥液性である。本実施形態においては、外面64及び内面65のそれぞれは、液体LQに対して撥液性の膜146で形成されている。第3ギャップG3を形成する外面64及び内面65が液体LQに対して撥液性なので、第3ギャップG3に液体LQが浸入することを効果的に抑制することができる。なお、第3ギャップG3に液体LQが入らないように、第3ギャップG3はできるだけ小さい方が望ましい。例えば、第3ギャップG3(外面64と内面65との距離)は、0.1mm以下である。
なお、第3ギャップG3を形成する外面64のみが液体LQに対して撥液性でもよいし、内面65のみが液体LQに対して撥液性でもよい。また、膜146を使わずに、内面65を形成する回収部材62の少なくとも一部、及び/又は外面64を形成する液浸部材4の少なくとも一部を、PFA(Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer)、PTFE(Poly tetra fluoro ethylene)、PEEK(polyetheretherketone)などの撥液性の部材で形成してもよい。
本実施形態においては、第1ギャップG1において光軸AXから離れる方向に流した液体LQを、保持部材21の外面32と回収部材62との間の空間(ギャップ)を介して第1回収口43で回収する。すなわち、本実施形態において、第1回収口43は、第3ギャップG3を超えて第1ギャップG1から保持部材21の外面32と回収部材62との間の空間(ギャップ)へ流れ込んだ液体LQを回収する。
本実施形態においても、第1回収口43及び第2ギャップG2(突起44)によって、第1ギャップG1からの液体LQが流出することを抑制しつつ、第1ギャップG1を液体LQでほぼ満たすことができる。
なお、本実施形態においては、液浸部材4と異なる回収部材62に第1回収口43を設け、回収部材62と対向する保持部材21の外面32に突起44を設けているが、図5〜図11を参照して説明した例と同様、保持部材21の外面32に対向する回収部材62に突起44を設けてもよいし、保持部材21の外面32に第1回収口43を設け、保持部材21の外面32及び回収部材62の上面63の少なくとも一方に突起44を設けてもよい。
また、本実施形態においては、光軸AXに対する放射方向において、第2エッジE2と第3エッジE3とがほぼ同じ位置に配置されているが、図5〜図11を参照して説明した例と同様、第1回収口43の一部と突起44とが対向しなくてもよいし、第1回収口43の少なくとも一部と突起44とが対向してもよい。すなわち、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)において、第1回収口43の第1エッジE1、第2エッジE2、及び突起44の第3エッジ、第4エッジの位置は、適宜決めることができる。
なお、上述の図12を参照して説明した例と同様に、回収部材62に設けられた第1回収口43に、多孔部材66を配置してもよい。この場合、制御装置7は、その多孔部材66の上面側から下面側へ液体LQのみが通過するように、多孔部材66の上面側と下面側との間の圧力差を制御することができる。
なお、本実施形態においては、液浸部材4が第1支持機構28Aに支持され、回収部材62が第2支持機構28Bに支持されているが、液浸部材4と回収部材62との間に第3ギャップG3が形成されている状態で、液浸部材4と回収部材62とを一つの支持機構で支持してもよい。
なお、上述の各実施形態においては、第2回収口49は液体LQのみを回収しているが、第2回収口49の周囲の気体とともに液体LQを回収してもよい。
また、上述の各実施形態においては、第1供給口47及び第2供給口48の両方から液体LQを供給しているが、第1供給口47と第2供給口48のどちらか一方を省略し、一つの供給口から供給された液体LQを、露光光ELの光路及び第1ギャップG1の両方に供給してもよい。
また、上述の各実施形態においては、なお、第2ギャップG2を形成する2つの面は、光軸AXに垂直な面と平行でなくてもよいし、その2つの面が平行でなくてもよい。また、第2ギャップG2を形成する2つの面の少なくとも一方が曲面を含んでいてもよい。
また、上述の各実施形態においては、第2空間37が、光軸AXに対する放射方向(光軸AXに垂直な方向)に延びているが、光軸AXに垂直な方向(XY平面)に対して傾斜していてもよい。例えば、第2空間37が、光軸AXに対する放射方向に、かつ+Z方向に延びるように傾斜してもよい。
なお、上述の各実施形態においては、光軸AXに垂直な方向(XY平面)に対する第1空間36の傾斜角度が、光軸AXに垂直な方向に対する第2空間37の傾斜角度より大きい場合を例にして説明したが、光軸AXに垂直な方向に対する第1空間36の傾斜角度と、光軸AXに垂直な方向に対する第2空間37の傾斜角度とが同じでもよいし、光軸AXに垂直な方向に対する第1空間36の傾斜角度が、光軸AXに垂直な方向に対する第2空間37の傾斜角度より小さくてもよい。
なお、上述の実施形態において、第1ギャップG1の大きさは、第1空間36と第2空間37とで同じでもよいし、第1空間36と第2空間37とで異なってもよい。
なお、上述の実施形態においては、保持部材21及びそれに対向する部材(液浸部材4又は回収部材62)の少なくとも一方に突起44を設けて第2ギャップG2を形成する場合を例にして説明したが、終端光学素子22及びそれに対向する部材(液浸部材4または回収部材62)の少なくとも一方に突起44を設けて第2ギャップG2を形成してもよい。例えば、液浸部材4の第2部分35(内面33)と終端光学素子22の外面とが対向している場合には、その終端光学素子22の外面に、液浸部材4の第2部分35に向かって突出するように突起44を設けることができる。
また、上述の各実施形態において、第1ギャップG1を規定する終端光学素子22の外面の少なくとも一部、保持部材21の外面の少なくとも一部、及び液浸部材の内面の少なくとも一部の少なくとも一つは、液体LQに対して親液性(液体LQとの接触角が40°、30°、20°あるいはそれ以下)であることが望ましい。
また、上述の各実施形態において、第1ギャップG1からの液体LQを回収する第1回収口43が、光軸AXの周囲(第1ギャップG1の周囲)に環状に配置されているが、光軸AXの周囲の一部に(例えば、等間隔で離散的に)配置されていてもよい。その場合も、第2ギャップG2(突起44)は光軸AXの周囲(第1ギャップG1の周囲)に環状に配置されていることが望ましいが、第1回収口43の配置に合わせて、光軸AXの周囲の一部に第2ギャップG2(突起44)を設けてもよい。
また、上述の各実施形態においては、第1回収口43は、終端光学素子22の射出面23が向いている方向(−Z方向)、またはその逆の方向(+Z方向)を向いているが、+Z方向、または−Z方向を向いていなくてもよい。例えば、光軸AXの方を向いている突起44の内面に第1回収口43の少なくとも一部を設けてもよい。すなわち、第1ギャップG1の第2空間37に面している突起44の内面に第1回収口43の少なくとも一部を設けてもよい。
また、上述の各実施形態においては、第1ギャップG1に光軸AXから離れる方向に積極的に液体LQを流して、第1ギャップG1が液体LQでほぼ満たされるようにしているが、第1ギャップG1(第1空間36又は第2空間37)から液体LQがオーバーフローした場合のみ、そのオーバーフローした液体LQを第1回収口43で回収するようにしてもよい。
また、上述の各実施形態においては、光軸AXに対して第1回収口43の外側に第2ギャップG2が形成されているが、光軸AXに対して第1回収口43の外側に配置され、第1ギャップG1からの気体の通過を許容するとともに、第1ギャップG1からの液体LQの通過を抑制する機構は、ギャップに限られず、貫通孔を設けてもよいし、第1ギャップG1からの気体の通過を許容するとともに、第1ギャップG1からの液体LQの通過を抑制するように、さらなる液体回収口を設けてもよい。
なお、上述の各実施形態においては、投影系PLの終端光学素子22の射出側(像面側)の光路が液体LQで満たされているが、例えば国際公開第2004/019128号パンフレットに開示されているように、終端光学素子22の入射側(物体面側)の光路も液体LQで満たされる投影系を採用することもできる。
なお、上述の各実施形態の液体LQは水であるが、水以外の液体であってもよい。例えば、液体LQとして、ハイドロフロロエーテル(HFE)、過フッ化ポリエーテル(PFPE)、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体LQとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
なお、上述の各実施形態の基板Pとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
露光装置EXとしては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第1パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で、投影系を用いて第1パターンの縮小像を基板P上に転写した後、第2パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で、投影系を用いて第2パターンの縮小像を第1パターンと部分的に重ねて基板P上に一括露光してもよい(スティッチ方式の一括露光装置)。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
また、例えば対応米国特許第6611316号明細書に開示されているように、2つのマスクのパターンを、投影系を介して基板上で合成し、1回の走査露光によって基板上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
また、本発明は、米国特許第6341007号明細書、米国特許第6208407号明細書、米国特許第6262796号明細書等に開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
更に、例えば米国特許第6897963号明細書、米国特許出願公開第2007/0127006号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び/又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
露光装置EXの種類としては、基板Pに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
また、上述の各実施形態では、露光光ELとしてArFエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ArFエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許第7023610号明細書に開示されているように、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長193nmのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6778257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク(電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる)を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子(空間光変調器)の一種であるDMD(Digital Micro-mirror Device)等を含む。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。自発光型画像表示素子としては、例えば、CRT(Cathode Ray Tube)、無機ELディスプレイ、有機ELディスプレイ(OLED:Organic Light Emitting Diode)、LEDディスプレイ、LDディスプレイ、電界放出ディスプレイ(FED:Field Emission Display)、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)等が挙げられる。
上述の各実施形態においては、投影系PLを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影系PLを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影系PLを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
また、例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板P上に形成することによって、基板P上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置(リソグラフィシステム)にも本発明を適用することができる。
以上のように、本実施形態の露光装置EXは、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図16に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
2…基板ステージ、4…液浸部材、7…制御装置、21…保持部材、22…終端光学素子、23…射出面、28…支持機構、28A…第1支持機構、28B…第2支持機構、31…外面、32…外面、33…内面、34…第1部分、35…第2部分、36…第1空間、37…第2空間、43…第1回収口、44…突起、47…第1供給口、48…第2供給口、49…第2回収口、56…調整装置、57…調整装置、62…回収部材、66…多孔部材、AX…光軸、E1…第1エッジ、E2…第2エッジ、E3…第3エッジ、E4…第4エッジ、EL…露光光、EX…露光装置、G1…第1ギャップ、G2…第2ギャップ、G3…第3ギャップ、LQ…液体、LS…液浸空間、P…基板、W1…距離、W2…距離、W3…距離
Claims (41)
- 露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
前記射出面と異なる前記光学部材の外面及び前記光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、前記射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、
前記光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、前記第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、
前記光軸に対して前記第1回収口の外側に形成された前記第1ギャップより小さい第2ギャップと、を備える露光装置。 - 前記第1回収口が設けられた一方の部材及び前記一方の部材と対向する他方の部材の少なくとも一方に前記光軸を囲むように配置された突起をさらに備え、
前記第2ギャップは、前記突起によって形成される請求項1記載の露光装置。 - 前記突起は、前記他方の部材に配置され、
前記第1回収口は、第1エッジと、前記光軸に対して前記第1エッジの外側に配置された第2エッジとで画定され、
前記突起は、前記光軸に対して前記第2エッジの外側に前記第2ギャップを形成する請求項2記載の露光装置。 - 前記突起は、前記光軸を囲むように配置された第3エッジと、前記光軸に対して前記第3エッジの外側に配置された第4エッジとを有し、
前記光軸に対する放射方向において、前記第4エッジは、前記第2エッジの外側に配置される請求項3記載の露光装置。 - 前記放射方向における前記第1エッジと前記第2エッジとの距離は、前記放射方向における前記第3エッジと前記第4エッジとの距離より小さい請求項4記載の露光装置。
- 前記放射方向における前記第1エッジと前記第2エッジとの距離は、前記放射方向における前記第3エッジと前記第4エッジとの距離より大きい請求項4記載の露光装置。
- 前記放射方向における前記第1エッジと前記第2エッジとの距離は、前記第1ギャップより小さく、前記第2ギャップより大きい請求項4〜6のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記放射方向において、前記第2エッジは、前記第3エッジと前記第4エッジとの間に配置され、前記第1エッジは、前記第3エッジの内側に配置される請求項4〜7のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1回収口の少なくとも一部は、前記突起と対向する請求項8記載の露光装置。
- 前記放射方向において、前記第2エッジと前記第3エッジとがほぼ同じ位置に配置される請求項4〜7のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記放射方向における前記第1エッジと前記第3エッジとの距離は、前記第1ギャップより小さい請求項4〜10のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1回収口に配置された多孔部材を有する請求項1〜11のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記多孔部材の一側から他側へ液体のみが通過するように、前記多孔部材の一側と他側の間の圧力差を制御する請求項12記載の露光装置。
- 前記第1回収口は、前記第1ギャップの少なくとも一部からの液体を気体とともに回収する請求項1〜12記載の露光装置。
- 前記第1回収口は、前記射出面が向いている方向とは逆の方向を向いている請求項1〜14のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1ギャップに液体を供給する第1供給口をさらに備え、
前記第1ギャップにおいて、前記第1供給口から供給される液体の少なくとも一部を前記光軸から離れる方向に流す請求項1〜15のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第1ギャップにおける前記第1供給口と前記第1回収口との間の空間は、前記第1供給口から供給された液体で実質的に満たされる請求項16記載の露光装置。
- 前記第1供給口は、前記第2部材の前記内面に配置される請求項16又は17記載の露光装置。
- 前記第1回収口は、前記光軸に対して、前記第1供給口より離れて配置される請求項16〜18のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1供給口は、前記射出面が向いている方向とは逆の方向を向いている請求項16〜19のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1供給口から前記第1ギャップに供給された前記液体の一部は、前記露光光の光路に供給される請求項16〜20のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2部材の内面に配置され、液体を供給する第2供給口をさらに備え、
前記第2供給口は、前記第1供給口より前記射出面の近くに配置されている請求項16〜21のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第1供給口及び前記第2供給口のそれぞれから供給される単位時間当たりの液体の量を調整する調整装置を備える請求項22記載の露光装置。
- 前記一方の部材は、前記第2部材を含み、
前記第1回収口は、前記第2部材の前記内面に配置される請求項1〜23のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記内面は、前記光軸に対する放射方向に、かつ前記射出面が向いている方向とは逆の方向に延びる第1部分と、前記光軸に対して前記第1部分の少なくとも一部の外側に配置された第2部分とを有し、
前記第1回収口は、前記第2部分に配置される請求項24記載の露光装置。 - 前記第1ギャップは、前記第1部分を使って規定される第1空間と、前記第2部分を使って規定される第2空間とを含み、
前記第2空間は、前記光学部材の光軸に対して垂直に延びる請求項25記載の露光装置。 - 前記一方の部材は、前記第2部材と第3ギャップを介して配置された第3部材を含む請求項1〜26のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2部材を支持する第1支持機構と、前記第2部材の周囲の少なくとも一部に前記第3部材が配置されるように、前記第3部材を支持する第2支持機構とを備える請求項27記載の露光装置。
- 前記第3ギャップを形成する2つの面の少なくとも一方は、前記液体に対して撥液性である請求項27又は28記載の露光装置。
- 前記他方の部材は、前記光学部材及び前記第1部材の少なくとも一方を含む請求項24〜29のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記一方の部材は、前記光学部材及び前記第1部材の少なくとも一方を含む請求項1〜23のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記他方の部材は、前記第2部材を含む請求項31記載の露光装置。
- 前記他方の部材は、前記第2部材と第3ギャップを介して配置される第3部材を含む請求項31記載の露光装置。
- 前記第2ギャップを形成する2つの面の少なくとも一方は、前記液体に対して撥液性である請求項1〜33のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1回収口は、前記第1ギャップの少なくとも一部からオーバーフローした液体を回収する請求項1〜34のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2部材は、第2回収口を有し、
前記第2回収口に対向する前記基板の表面上の液体は、前記第2回収口から回収可能である請求項1〜35のいずれか一項記載の露光装置。 - 露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
前記射出面と異なる前記光学部材の外面及び前記光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、前記射出面からの露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材と、
前記光学部材の光軸周りの少なくとも一部に配置され、前記第1ギャップの少なくとも一部からの液体を回収可能な第1回収口と、
前記光軸に対して前記第1回収口の外側に形成され、前記第1ギャップからの気体の通過を許容するとともに前記第1ギャップからの液体の通過を抑制する液体制限部と、を備える露光装置。 - 前記液体制限部は、前記光軸に対して前記第1回収口の外側に形成された前記第1ギャップより小さい第2ギャップを含む請求項37記載の露光装置。
- 請求項1〜38のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 光学部材の射出面から射出された露光光を基板に照射することと、
前記射出面と異なる前記光学部材の外面及び前記光学部材を保持する第1部材の外面の少なくとも一方に第1ギャップを介して対向する内面を有し、前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置された第2部材を使って、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路を液体で満たすことと、
前記第1ギャップの少なくとも一部からの液体を第1回収口で回収することと、を含み、
前記光学部材の光軸に対して前記第1回収口の外側に形成された前記第1ギャップより小さい第2ギャップにより、前記第1ギャップからの液体が前記光軸に対して前記第1回収口よりも外側へ流出することが抑制される露光方法。 - 請求項40記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US19351808P | 2008-12-04 | 2008-12-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010135794A true JP2010135794A (ja) | 2010-06-17 |
Family
ID=42352134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009275698A Pending JP2010135794A (ja) | 2008-12-04 | 2009-12-03 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010135794A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8634059B2 (en) | 2006-04-14 | 2014-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2014014123A1 (en) * | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Nikon Corporation | Liquid immersion member and exposure apparatus |
JP2018136561A (ja) * | 2012-12-27 | 2018-08-30 | 株式会社ニコン | 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-12-03 JP JP2009275698A patent/JP2010135794A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8634059B2 (en) | 2006-04-14 | 2014-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2014014123A1 (en) * | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Nikon Corporation | Liquid immersion member and exposure apparatus |
JP2015528132A (ja) * | 2012-07-20 | 2015-09-24 | 株式会社ニコン | 液浸部材および露光装置 |
US9823580B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-11-21 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium |
US10007189B2 (en) | 2012-07-20 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium |
US10739683B2 (en) | 2012-07-20 | 2020-08-11 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium |
JP2018136561A (ja) * | 2012-12-27 | 2018-08-30 | 株式会社ニコン | 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
US10423080B2 (en) | 2012-12-27 | 2019-09-24 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5668825B2 (ja) | 露光装置、液浸部材、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5516598B2 (ja) | 液浸部材、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP5846191B2 (ja) | 液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 | |
TW201809910A (zh) | 液浸構件、曝光裝置、及元件製造方法 | |
JP2009239286A (ja) | 液浸システム、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
KR20120113238A (ko) | 액침 부재, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2010528449A (ja) | 露光装置、液浸システム、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010205914A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5369443B2 (ja) | ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011086804A (ja) | 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010135794A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
US20100328637A1 (en) | Exposure apparatus, exposing method and device fabricating method | |
JP2009188119A (ja) | カバー部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
US20100196832A1 (en) | Exposure apparatus, exposing method, liquid immersion member and device fabricating method | |
US20100323303A1 (en) | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method | |
JP2010135796A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010157724A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010258453A (ja) | 液体回収システム、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010157726A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2010135795A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2009212234A (ja) | 液体回収システム、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2009188060A (ja) | 液浸システム、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011018744A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011086906A (ja) | 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011159865A (ja) | 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |