JP2018136561A - 液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

液浸部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材は、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面１２と対向する物体Ｐの表面上に液浸空間を形成可能である。液浸部材は、露光光の光路の周囲に配置される第１部分２１１を含み、露光光が通過可能な第１開口部２３、及び第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され物体の表面と対向可能な第１液体供給部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部５１を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材２２と、を備える。【選択図】図２

Description

本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
本願は、２０１２年１２月２７日に出願された米国特許仮出願第６１／７４６，４９７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献１に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
米国特許第７８６４２９２号
液浸露光装置において、例えば液体が所定の空間から流出したり基板などの物体の上に残留したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
本発明の第１の態様に従えば、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部、及び第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され物体の表面と対向可能な第１液体供給部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材が提供される。
本発明の第２の態様に従えば、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して第１液体回収部の外側に配置され物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材が提供される。
本発明の第３の態様に従えば、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して光路と第１液体回収部との間に配置され物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材が提供される。
本発明の第４の態様に従えば、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材に配置され、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材が提供される。
本発明の第５の態様に従えば、液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能である第２液体回収部と、を備え、第１部材と第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、光学部材の光軸に対して第１間隙部分の外側に配置され、第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、第２液体回収部は、第１間隙部分から液体を回収可能である液浸部材が提供される。
本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第５のいずれか一つの態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。
本発明の第７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能な物体上に液体の液浸空間を形成可能であり、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方において物体と対向可能に配置され、第１部材に対して移動可能な第２部材と、を有する液浸部材と、液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給する気体供給部と、を備える露光装置が提供される。
本発明の第８の態様に従えば、第６又は第７の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の第９の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部、及び第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され基板の表面と対向可能な第１液体供給部が第１部分に設けられた第１部材と、基板の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１０の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して第１液体回収部の外側に配置され物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１１の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して光路と第１液体回収部との間に配置され物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１２の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材に配置され、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１３の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備え、第１部材と第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、光学部材の光軸に対して第１間隙部分の外側に配置され、第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、第２液体回収部は、第１間隙部分から液体を回収可能な液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１４の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方において物体と対向可能に配置され、第１部材に対して可動な第２部材と、を有する第１液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、気体供給部から液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給することと、を含む露光方法が提供される。
本発明の第１５の態様に従えば、第９〜第１４のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の第１６の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部、及び第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され基板の表面と対向可能な第１液体供給部が第１部分に設けられた第１部材と、基板の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第１７の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して第１液体回収部の外側に配置され物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第１８の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して光路と第１液体回収部との間に配置され物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第１９の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材に配置され、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第２０の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能である第２液体回収部と、を備え、第１部材と第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、光学部材の光軸に対して第１間隙部分の外側に配置され、第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、第２液体回収部は、第１間隙部分から液体を回収可能である液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第２１の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方において物体と対向可能に配置され、第１部材に対して可動な第２部材と、を有する第１液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、気体供給部から液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。
本発明の第２２の態様に従えば、第１６〜第２１のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る第１部材を下方から見た図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る第２部材の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。 第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第５実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第６実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第７実施形態に係る液浸部材の一例を説明するための図である。 第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第９実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。 第１０実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。 基板ステージの一例を示す図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳとは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。チャンバ装置９は、空間ＣＳに気体Ｇｓを供給する空調装置９Ｓを有する。空調装置９Ｓは、温度、湿度、及びクリーン度が調整された気体Ｇｓを空間ＣＳに供給する。
空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。
投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ軸方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ軸方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。
終端光学素子１３の光軸ＡＸと平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。本実施形態において、射出面１２側（像面側）が下側（下方）であり、入射面側（物体面側）が上側（上方）である。
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。
なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよい。カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ軸方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な終端光学素子１３及び液浸部材５の断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。図５は、液浸部材５の第１部材２１を下側（−Ｚ側）から見た図である。
終端光学素子１３は、−Ｚ軸方向を向く射出面１２と、射出面１２の周囲に配置される外面１３１とを有する。露光光ＥＬは、射出面１２から射出される。露光光ＥＬは、外面１３１から射出されない。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、外面１３１を通過しない。外面１３１は、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。本実施形態において、外面１３１は、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。
液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体の表面（上面）上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体の表面（上面）は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。
本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。
基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。
液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。
液浸部材５は、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部分２１１を含む第１部材２１と、少なくとも一部が光路Ｋに対して第１部分２１１の外側に配置される第２部材２２とを有する。第２部材２２は、露光光ＥＬの光路に対して第１部分２１１の外側で第１部材２１に対して移動可能である。
本実施形態において、第１部分２１１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。なお、第１部分２１１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部、及び終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＫＬ（終端光学素子１３を進行する露光光ＥＬの光路ＫＬ）の周囲の少なくとも一部に配置されてもよい。換言すれば、本実施形態において、露光光ＥＬの光路は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の露光光ＥＬの光路Ｋを含む概念でもよいし、終端光学素子１３における露光光ＥＬの光路ＫＬを含む概念でもよい。第１部分２１１は、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される部分でもよいし、光路Ｋ及び光路ＫＬ（光路Ｋ及び終端光学素子１３）の周囲の少なくとも一部に配置される部分でもよい。
第１部材２１の第１部分２１１は、第１部材２１の最下部を含む。第１部材２１の第１部分２１１は、第１部材２１の、基板Ｐ（物体）の表面（上面）に最も接近する部位を含む。本実施形態において、第１部材２１の第１部分２１１は、終端光学素子１３の射出面１２よりも下方に配置される。なお、第１部分２１１の少なくとも一部が、射出面１２よりも上方に配置される概念でもよい。
第２部材２２は、移動可能な可動部材である。終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。第１部材２１は、終端光学素子１３に対して実質的に移動しない。
第１部材２１は、終端光学素子１３に接触しないように配置される。終端光学素子１３と第１部材２１との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように配置される。第１部材２１と第２部材２２との間に間隙が形成される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１と接触しないように移動する。
基板Ｐ（物体）は、間隙を介して終端光学素子１３の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第１部材２１の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、間隙を介して第２部材２２の少なくとも一部と対向可能である。基板Ｐ（物体）は、終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２の下方で移動可能である。
第１部材２１の少なくとも一部は、間隙を介して終端光学素子１３と対向する。本実施形態において、第１部材２１は、外面１３１と対向し、射出面１２と対向しない。
第２部材２２の少なくとも一部は、間隙を介して第１部材２１と対向する。第２部材２２は、終端光学素子１３と対向しない。第２部材２２と終端光学素子１３との間に第１部材２１が配置される。
第１部材２１は、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第１部分２１１と、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第２部分２１２とを含む。第２部分２１２は、第１部分２１１の上方に配置される。本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。第１部分２１１は、光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２１２は、終端光学素子１３の周囲に配置される。
第１部材２１は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第１開口部２３と、第１開口部２３の周囲に配置され、−Ｚ軸方向を向く下面２４と、少なくとも一部が終端光学素子１３の外面１３１と対向する内面２５と、内面２５の反対方向を向く外面２６と、＋Ｚ軸方向を向く上面２７と、上面２７の反対方向を向く下面２８と、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側を向く外面２９と、を有する。
下面２４は、第１開口部２３の下端の周囲に配置される。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、下面２４と対向可能である。下面２４は、第２部材２２とは対向しない。第１開口部２３及び下面２４は、第１部分２１１に設けられる。
内面２５の少なくとも一部は、間隙を介して外面１３１と対向する。内面２５の一部（下部）は、光路Ｋの周囲に配置される。内面２５の一部（上部）は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部分２１１は、内面２５の一部（下部）を含み、第２部分２１２は、内面２５の一部（上部）を含む。
外面２６の少なくとも一部は、間隙を介して第２部材２２と対向する。第１部分２１１は、外面２６の一部（下部）を含み、第２部分２１２は、外面２６の一部（上部）を含む。
下面２４は、内面２５の下端と外面２６の下端とを結ぶように配置される。下面２４の内縁と内面２５の下端とが結ばれる。下面２４の外縁と外面２６の下端とが結ばれる。
上面２７は、空間ＣＳに面する。上面２７は、第２部材２２とは対向しない。上面２７は、内面２５の上端と結ばれる。上面２７は、内面２５の上端の周囲に配置される。第２部分２１２は、上面２７を含む。
下面２８の少なくとも一部は、間隙を介して第２部材２２と対向する。下面２８は、外面２６の上端と結ばれる。下面２８は、上面２６の上端の周囲に配置される。第２部分２１２は、下面２８を含む。
外面２９は、空間ＣＳに面する。外面２９は、第２部材２２とは対向しない。外面２９は、上面２７の外縁と下面２８の外縁とを結ぶように配置される。第２部分２１２は、外面２９を含む。
下面２４、内面２５、外面２６、上面２７、下面２８、及び外面２９のそれぞれは、液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。下面２４は、基板Ｐ（物体）との間において液体ＬＱを保持可能である。内面２５は、終端光学素子１３との間において液体ＬＱを保持可能である。外面２６及び下面２８は、第２部材２２との間において液体ＬＱを保持可能である。
以下の説明において、下面２４、内面２５、及び外面２６を有する第１部材２１の一部分を適宜、包囲部２１３、と称し、上面２７、下面２８、及び外面２９を有する第１部材２１の一部分を適宜、上板部２１４、と称する。
包囲部２１３の少なくとも一部は、終端光学素子１３の外面１３１と対向する。包囲部２１３は、光路Ｋ及び終端光学素子１３（光路ＫＬ）の周囲に配置される。上板部２１４は、包囲部２１３の上方に配置される。上板部２１４は、包囲部２１３の上端と結ばれる。包囲部２１３は、第１部分２１１を含む。包囲部２１３は、第２部分２１２の一部を含む。上板部２１４は、第２部分２１２の一部を含む。上板部２１４（第２部分２１２）の下方に第２部材２２が配置される。なお、包囲部２１３は、第２部分２１２を含まなくてもよい。なお、上板部２１４は、第１部分２１１を含んでもよい。
下面２４は、射出面１２よりも下方に配置される。下面２４は、終端光学素子１３の光軸ＡＸ（Ｚ軸）と垂直な平面（ＸＹ平面）と実質的に平行である。
内面２５は、下面２４よりも上方に配置される。内面２５の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、内面２５は、下面２４の内縁と結ばれ、光軸ＡＸ（Ｚ軸）と実質的に平行な領域２５１と、領域２５１よりも上方に配置され、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する領域２５２とを含む。Ｚ軸方向に関して、領域２５２の寸法は、領域２５１の寸法よりも大きい。
外面２６は、下面２４よりも上方に配置される。外面２６の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。外面２６は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して下面２４よりも外側に配置される。
上面２７は、下面２４、内面２５、外面２６、及び下面２８よりも上方に配置される。
上面２７は、ＸＹ平面と実質的に平行である。
下面２８は、下面２４及び外面２６よりも上方に配置される。下面２８は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して下面２４及び外面２６よりも外側に配置される。下面２６と下面２８との間に段差が形成される。下面２８は、ＸＹ平面と実質的に平行である。
第２部材２２は、第１部分２１１及び第２部分２１２の少なくとも一部を囲むように配置される。なお、第２部材２２は、第１部分２１１の少なくとも一部を囲むように配置され、第２部分２１２を囲まなくてもよい。本実施形態において、第２部材２２は、環状の部材である。
本実施形態において、第２部材２２は包囲部２１３の外側に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、上板部２１４の下方に配置される。換言すれば、第２部材２２の少なくとも一部は、上板部２１４と基板Ｐ（物体）との間に配置される。本実施形態において、第２部材２２は、上板部２１４の下方であって、包囲部２１３の外側の空間に配置される。第２部材２２は、上板部２１４の下方であって、包囲部２１３の外側の空間において移動する。
第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な第２開口部３０と、第２開口部３０の周囲に配置され、−Ｚ軸方向を向く下面３１と、少なくとも一部が第１部材２１の外面２６と対向する内面３２と、少なくとも一部が＋Ｚ軸方向を向く上面３３と、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側を向く外面３４と、を有する。
ＸＹ平面内において、第２開口部３０は、第１開口部２３よりも大きい。第２開口部３０の内側に、光路Ｋ及び第１部材２１の少なくとも一部が配置される。本実施形態においては、第２開口部３０の内側に、第１部材２１の第１部分２１１が配置される。
以下の説明においては、第１部材２１と第２部材２２との間隙の一端（下端）の開口部を適宜、開口部３０１、と称する。開口部３０１は、第１部分２１１と第２部材２２との間に配置される。開口部３０１は、下面２４の外縁と下面３１の内縁との間に配置される。第１部材２１と第２部材２２との間隙の一端（開口部３０１）は、基板Ｐ（物体）の表面（上面）が対向するように配置される。開口部３０１から、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが第１部材２１と第２部材２２との間隙に流入可能である。
下面３１は、第２開口部３０（開口部３０１）の下端の周囲に配置される。本実施形態において、下面３１は、下面２４の周囲に配置される。基板Ｐ（物体）の表面（上面）は、下面３１と対向可能である。開口部３０１は、下面２４と下面３１との間に配置される。
内面３２の少なくとも一部は、間隙を介して第１部材２１と対向する。本実施形態において、内面３２の少なくとも一部は、間隙を介して外面２６と対向する。内面３２の少なくとも一部は、包囲部２１３の周囲に配置される。下面３１の内縁と内面３２の下端とが結ばれる。
上面３３の少なくとも一部は、間隙を介して第１部材２１と対向する。上面３３は、内面３２の上端と結ばれる。上面３３は、内面３２の上端の周囲に配置される。
外面３４は、空間ＣＳに面する。外面３４は、第１部材２１とは対向しない。外面３４は、上面３３の外縁と下面３１の外縁とを結ぶように配置される。
下面３１、内面３２、上面３３、及び外面３４のそれぞれは、液体ＬＱを回収不可能な非回収部である。下面３１は、基板Ｐ（物体）との間において液体ＬＱを保持可能である。内面３２及び上面３３は、第１部材２１との間において液体ＬＱを保持可能である。
下面３１は、射出面１２よりも下方に配置される。下面３１は、終端光学素子１３の光軸ＡＸ（Ｚ軸）と垂直な平面（ＸＹ平面）と実質的に平行である。本実施形態において、下面２４と下面３１とは、同一平面内に配置される（面一である）。
内面３２は、下面３１よりも上方に配置される。内面３２の少なくとも一部は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、内面３２は、下面３１の内縁と結ばれ、光軸ＡＸ（Ｚ軸）と実質的に平行な領域３２１と、領域３２１よりも上方に配置され、光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する領域３２２とを含む。Ｚ軸方向に関して、領域３２２の寸法は、領域３２１の寸法よりも大きい。
上面３３は、下面３１、及び外面３２よりも上方に配置される。上面３３は、光軸ＡＸに対する放射方向に関して内面３２よりも外側に配置される。本実施形態において、上面３３は、内面３２の上端と結ばれた領域３３１と、光軸ＡＸに対する放射方向に関して領域３３１の外側に配置され、領域３３１よりも上方に配置される領域３３２とを含む。本実施形態において、光軸ＡＸに対する放射方向に関して、領域３３２の寸法は、領域３３１の寸法よりも小さい。領域３３１は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域３３２は、ＸＹ平面と実質的に平行である。領域３３１と領域３３２との間に段差が形成される。
本実施形態において、第２部材２２は、領域３３１の周囲に凸部（壁部）３３３を有する。領域３３２は、凸部３３３の上面を含む。
図４に示すように、ＸＹ平面内において、第１開口部２３は、実質的に円形である。第２開口部３０も、実質的に円形である。開口部３０１は、環状（円環状）である。
図４に示すように、ＸＹ平面内において、第１部材２１の外形は、実質的に円形である。第２部材２２の外形は、四角形である。領域３３２は、環状（円環状）である。
以下の説明において、射出面１２が面する空間を適宜、光路空間ＳＰＫ、と称する。光路空間ＳＰＫは、射出面１２側の空間である。光路空間ＳＰＫは、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間である。光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間の光路Ｋを含む空間である。
また、下面２４が面する空間を適宜、第１空間ＳＰ１、と称する。第１空間ＳＰ１は、下面２４側の空間である。第１空間ＳＰ１は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間の空間である。第１空間ＳＰ１は、下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間である。
また、下面３１が面する空間を適宜、第２空間ＳＰ２、と称する。第２空間ＳＰ２は、下面３１側の空間である。第２空間ＳＰ２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間である。第２空間ＳＰ２は、下面３１と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間である。
なお、本実施形態において、第２空間ＳＰ２のＺ軸方向の寸法、すなわちＺ軸方向における下面３１と基板Ｐ（物体）の上面との距離は、０．１ｍｍ〜０．２ｍｍである。
また、内面２５が面する空間を適宜、第３空間ＳＰ３、と称する。第３空間ＳＰ３は、内面２５側の空間である。第３空間ＳＰ３は、第１部材２１と終端光学素子１３との空間である。第３空間ＳＰ３は、内面２５と外面１３１との間の空間である。
また、内面３２及び上面３３が面する空間を適宜、第４空間ＳＰ４、と称する。第４空間ＳＰ４は、内面３２及び上面３３が面する空間である。第４空間ＳＰ４は、第１部材２１と第２部材２２との間の間隙（空間）である。第４空間ＳＰ４は、内面３２及び上面３３と、外面２６及び下面２８との間の空間である。
また、第４空間ＳＰ４のうち、包囲部２１３（第１部分２１１）と第２部材２２との間の空間を適宜、空間ＳＰ４ａ、と称し、上板部２１４（第２部分２１２）と第２部材２２との間の空間ＳＰ４を適宜、空間ＳＰ４ｂ、と称する。
本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）は、寸法Ｈａの第１間隙部分と、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して第１間隙部分の外側に配置され、寸法Ｈａよりも小さい寸法Ｈｂの第２間隙部分とを含む。
本実施形態において、第１間隙部分は、領域３３１と下面２８との間の間隙（空間）を含む。第２間隙部分は、領域３３２と下面２８との間の間隙（空間）を含む。第２間隙部分を規定する第１部材２１の下面２８と、その下面２８に対向する第２部材２２の領域３３２とは、ＸＹ平面と実質的に平行である。
本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）に面する第１部材２１の表面及び第２部材２２の表面の一方又は両方の少なくとも一部が、液体ＬＱに対して撥液性でもよい。例えば、第２部材２２の上面３３が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。第１部材２１の下面２８が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対して撥液性の表面は、例えば液体ＬＱに対する接触角が９０度以上の表面を含む。なお、液体ＬＱに対して撥液性の表面は、例えば液体ＬＱに対する接触角が１００度以上の表面でもよいし、１１０度以上の表面でもよいし、１２０度以上の表面でもよい。液体ＬＱに対して撥液性の表面は、液体ＬＱに対して撥液性の膜の表面を含む。その膜は、例えばフッ素を含む樹脂の膜でもよい。例えば、上面３３が、フッ素を含む樹脂の膜の表面でもよい。下面２８が、フッ素を含む樹脂の膜の表面でもよい。液体ＬＱに対して撥液性の膜は、ＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）を含む膜でもよい。液体ＬＱに対して撥液性の膜は、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoroethylene）を含む膜でもよい。
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。
以下の説明において、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。
液浸部材５は、液体ＬＱを供給可能な第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３と、液体ＬＱを回収可能な第１液体回収部５１、第２液体回収部５２、及び第３液体回収部５３と、気体を供給可能な第１気体供給部６１とを備えている。
第１液体供給部４１は、第１部材２１の第１部分２１１に配置される。第１液体供給部４１は、第１開口部２３の周囲の少なくとも一部に配置される。第１液体供給部４１は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能に配置される。第１液体供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。第１液体供給部４１は、下面２４に配置される。
本実施形態において、第１液体供給部４１は、下面２４に配置され、液体ＬＱを供給可能な開口（第１液体供給口）４１Ｍを含む。図４に示すように、第１液体供給口４１Ｍは、下面２４に複数配置される。第１液体供給口４１Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置される。第１液体供給口４１Ｍは、光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置される。本実施形態において、複数の第１液体供給口４１Ｍは、ＸＹ平面内において円形の仮想線に沿うように配置される。
第１液体供給部４１（第１液体供給口４１Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された供給流路４１Ｒを介して、液体供給装置（不図示）と接続される。液体供給装置は、供給する液体ＬＱをクリーンにするフィルタ装置、及び供給する液体ＬＱの温度を調整可能な温度調整装置等を含み、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給可能である。液体供給装置から送出された液体ＬＱは、供給流路４１Ｒを介して、第１液体供給部４１に送られる。第１液体供給部４１は、供給流路４１Ｒを介して液体供給装置から供給された液体ＬＱを第１空間ＳＰ１に供給する。
第２液体供給部４２は、第２部材２２に配置される。第２液体供給部４２は、第２開口部３０の周囲の少なくとも一部に配置される。第２液体供給部４２は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能に配置される。第２液体供給部４２は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。第２液体供給部４２は、下面３１に配置される。
本実施形態において、第２液体供給部４２は、下面３１に配置され、液体ＬＱを供給可能な開口（第２液体供給口）４２Ｍを含む。図４に示すように、第２液体供給口４２Ｍは、下面３１に複数配置される。第２液体供給口４２Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置される。第２液体供給口４２Ｍは、光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置される。本実施形態において、複数の第２液体供給口４２Ｍは、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように配置される。
第２液体供給部４２（第２液体供給口４２Ｍ）は、第２部材２２の内部に形成された供給流路４２Ｒを介して、液体供給装置（不図示）と接続される。液体供給装置から送出された液体ＬＱは、供給流路４２Ｒを介して、第２液体供給部４２に送られる。第２液体供給部４２は、供給流路４２Ｒを介して液体供給装置から供給された液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に供給する。
第３液体供給部４３は、第１部材２１に配置される。本実施形態において、第３液体供給部４３は、第１部材２１の第１部分２１１に配置される。第３液体供給部４３は、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。第３液体供給部４３は、光路Ｋに面するように配置される。第３液体供給部４３は、光路空間ＳＰＫに面するように配置される。第３液体供給部４３は、内面２５に配置される。
本実施形態において、第３液体供給部４３は、内面２５に配置され、液体ＬＱを供給可能な開口（第３液体供給口）４３Ｍを含む。第３液体供給口４３Ｍは、内面２５に複数配置される。第３液体供給口４３Ｍは、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよい。第３液体供給口４３Ｍは、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置されてもよい。第３液体供給口４３Ｍは、光路Ｋに対して＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側、及び−Ｙ側のそれぞれに配置されてもよい。第３液体供給口４３Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置されてもよい。
第３液体供給部４３（第３液体供給口４３Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された供給流路４３Ｒを介して、液体供給装置（不図示）と接続される。液体供給装置から送出された液体ＬＱは、供給流路４３Ｒを介して、第３液体供給部４３に送られる。第３液体供給部４３は、供給流路４３Ｒを介して液体供給装置から供給された液体ＬＱを光路空間ＳＰＫに供給する。
なお、第３液体供給部４３（第３液体供給口４３Ｍ）は、第３空間ＳＰ３に面するように第１部材２１に配置されてもよい。すなわち、第３液体供給口４３Ｍは、外面１３１と対向するように、第１部材２１の内面２５に配置されてもよい。第３液体供給部４３は、第１部材２１と終端光学素子１３との間の間隙（第３空間ＳＰ３）に液体ＬＱを供給してもよい。第１部分２１１が光路Ｋ及び光路ＫＬ（終端光学素子１３）の周囲に配置される第１部材２１の一部分である場合、第３液体供給部４３は、終端光学素子１３の外面１３１と対向するように第１部分２１１に配置されてもよい。
第１液体回収部５１は、第２部材２２に配置される。第１液体回収部５１は、第２開口部３０の周囲の少なくとも一部に配置される。第１液体回収部５１は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能に配置される。第１液体回収部５１は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。第１液体回収部５１は、下面３１に配置される。
本実施形態において、第１液体回収部５１は、下面３１に配置され、液体ＬＱを回収可能な開口（第１液体回収口）５１Ｍを含む。図４に示すように、第１液体回収口５１Ｍは、下面３１に複数配置される。第１液体回収口５１Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置される。第１液体回収口５１Ｍは、光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置される。本実施形態において、複数の第１液体回収口５１Ｍは、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように配置される。
第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）は、第２部材２２の内部に形成された回収流路５１Ｒを介して、液体回収装置（不図示）と接続される。液体回収装置は、第１液体回収部５１と真空システム（吸引装置）とを接続可能である。液体回収装置は、回収された液体ＬＱを収容するタンクを備えてもよい。第１液体回収部５１は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１液体回収部５１から回収された液体ＬＱは、回収流路５１Ｒを介して、液体回収装置に回収される。
本実施形態において、第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）は、第２空間ＳＰ１の液体ＬＱと気体Ｇとの両方を回収（吸引）する。第１液体回収部５１は、液体ＬＱと気体Ｇとを一緒に回収可能である。換言すれば、第１液体回収部５１は、気液混合回収する。また、第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）の下に液体ＬＱが存在しないときに、第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）から気体だけを回収してもよい。
第２液体回収部５２は、第１部材２１に配置される。第２液体回収部５２は、基板Ｐ（物体）上から第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２液体回収部５２は、開口部３０１を介して第１部材２１と第２部材２２との間の第４空間ＳＰ４に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２液体回収部５２は、第４空間ＳＰ４に面するように配置される。第２液体回収部５２は、第４空間ＳＰ４の内側において、開口部３０１よりも上方に配置される。本実施形態において、第２液体回収部５２は、第１部材２１の第２部分２１２に配置される。本実施形態において、第２液体回収部５２は、上板部２１４（第２部分２１２）と第２部材２２との間の空間ＳＰ４ｂに面するように、上板部２１４（第２部分２１２）に配置される。本実施形態において、第２液体回収部５２は、下面２８に配置される。第２液体回収部５２は、空間ＳＰ４ｂのうち、寸法Ｈａの第１間隙部分から液体ＬＱを回収する。
第２液体回収部５２（第２液体回収口５２Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された回収流路５２Ｒを介して、液体回収装置（不図示）と接続される。第２液体回収部５２は、第４空間ＳＰ４の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２液体回収部５２から回収された液体ＬＱは、回収流路５２Ｒを介して、液体回収装置に回収される。
本実施形態において、第２液体回収部５２は、多孔部材５７を含む。多孔部材５７は、メッシュプレートを含む。多孔部材５７は、上面３３と対向可能な下面と、回収流路５２Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。下面２８は、多孔部材５７の下面の周囲に配置される。第２液体回収部５２は、多孔部材５７の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態においては、多孔部材５７の孔が、液体ＬＱを回収可能な開口（第２液体回収口）５２Ｍとして機能する。第２液体回収部５２（第２液体回収口５２Ｍ）から回収された第４空間ＳＰ４の液体ＬＱは、回収流路５２Ｒに流入し、その回収流路５２Ｒを流れて、液体回収装置に回収される。
本実施形態においては、第２液体回収部５２を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体Ｇの回収が制限されている。制御装置６は、第４空間ＳＰ４の液体ＬＱが多孔部材５７の孔を通過して回収流路５２Ｒに流入し、気体Ｇは通過しないように、多孔部材５７の下面側の圧力（第４空間ＳＰ４の圧力）と上面側の圧力（回収流路５２Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。
なお、第２液体回収部５２は、多孔部材５７を介して液体ＬＱ及び気体Ｇの両方を回収（吸引）してもよい。すなわち、第２液体回収部５２が、液体ＬＱを気体とともに回収してもよい。また、第２液体回収部５２の下に液体ＬＱが存在しないときに、第２液体回収部５２から気体だけを回収してもよい。なお、第２液体回収部５２は、多孔部材５７を有しなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第４空間ＳＰ４の流体（液体ＬＱ及び気体Ｇの一方又は両方）が回収されてもよい。
第３液体回収部５３は、第１部材２１に配置される。第３液体回収部５３は、終端光学素子１３と第１部材２１との間隙（第３空間ＳＰ３）から液体ＬＱを回収する。第３液体回収部５３は、終端光学素子１３と第１部材２１との間の第３空間ＳＰ３に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第３液体回収部５３は、第３空間ＳＰ３に面するように配置される。第３液体回収部５３は、第１開口部２３よりも上方に配置される。第３液体回収部５３は、第３液体供給部４３よりも上方に配置される。第３液体回収部５３は、射出面１２よりも上方に配置される。第３液体回収部５３は、終端光学素子１３の外面１３１と対向するように配置される。第３液体回収部５３は、第１部分２１１に配置される。第１部分２１１は、光路Ｋの周囲に配置される第１部材２１の一部分でもよいし、光路ＫＬ（終端光学素子１３）の周囲に配置される第１部材２１の一部分を含む概念でもよい。本実施形態において、第３液体回収部５３は、内面２５に配置される。
第３液体回収部５３（第３液体回収口５３Ｍ）は、第１部材２１の内部に形成された回収流路５３Ｒを介して、液体回収装置（不図示）と接続される。第３液体回収部５３は、第３空間ＳＰ３の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第３液体回収部５３から回収された液体ＬＱは、回収流路５３Ｒを介して、液体回収装置に回収される。
本実施形態において、第３液体回収部５３は、多孔部材５８を含む。多孔部材５８は、メッシュプレートを含む。多孔部材５８は、外面１３１と対向可能な一方の面と、回収流路５３Ｒに面する他方の面と、一方の面と他方の面とを結ぶ複数の孔とを有する。本実施形態において、内面２５は、多孔部材５８の一方の面の周囲に配置される。第３液体回収部５３は、多孔部材５８の孔を介して液体ＬＱを回収する。本実施形態においては、多孔部材５８の孔が、液体ＬＱを回収可能な開口（第３液体回収口）５３Ｍとして機能する。第３液体回収部５３（第３液体回収口５３Ｍ）から回収された第３空間ＳＰ３の液体ＬＱは、回収流路５３Ｒに流入し、その回収流路５３Ｒを流れて、液体回収装置に回収される。
本実施形態においては、第３液体回収部５３を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体Ｇの回収が制限されている。制御装置６は、第３空間ＳＰ３の液体ＬＱが多孔部材５８の孔を通過して回収流路５３Ｒに流入し、気体Ｇは通過しないように、多孔部材５８の一方の面側の圧力（第３空間ＳＰ３の圧力）と他方の面側の圧力（回収流路５３Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。
なお、第３液体回収部５３は、多孔部材５８を介して液体ＬＱ及び気体Ｇの両方を回収（吸引）してもよい。すなわち、第３液体回収部５３が、液体ＬＱを気体とともに回収してもよい。また、第３液体回収部５３と終端光学素子１３との間に液体ＬＱが存在しないときに、第３液体回収部５３から気体だけを回収してもよい。なお、第３液体回収部５３は、多孔部材５８を有しなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第３空間ＳＰ３の流体（液体ＬＱ及び気体Ｇの一方又は両方）が回収されてもよい。
第１気体供給部６１は、第２部材２２に配置される。第１気体供給部６１は、第２開口部３０の周囲の少なくとも一部に配置される。第１気体供給部６１は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能に配置される。第１気体供給部６１は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。第１気体供給部６１は、下面３１に配置される。
本実施形態において、第１気体供給部６１は、下面３１に配置され、気体Ｇを供給可能な開口（第１気体供給口）６１Ｍを含む。図４に示すように、第１気体供給口６１Ｍは、下面３１に複数配置される。第１気体供給口６１Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置される。第１気体供給口６１Ｍは、光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置される。本実施形態において、複数の第１気体供給口６１Ｍは、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように配置される。
第１気体供給部６１（第１気体供給口６１Ｍ）は、第２部材２２の内部に形成された供給流路６１Ｒを介して、気体供給装置（不図示）と接続される。気体供給装置は、供給する気体Ｇをクリーンにするフィルタ装置、及び供給する気体Ｇの温度を調整可能な温度調整装置等を含み、クリーンで温度調整された気体Ｇを供給可能である。また、本実施形態において、気体供給装置は、供給する気体Ｇの湿度を調整可能な湿度調整装置を含み、例えば加湿された気体Ｇを供給可能である。湿度調整装置は、液浸空間ＬＳを形成する液体ＬＱ（露光用の液体ＬＱ）で気体Ｇの湿度を高めることができる。気体供給装置から送出された気体Ｇは、供給流路６１Ｒを介して、第１気体供給部６１に送られる。第１気体供給部６１は、供給流路６１Ｒを介して気体供給装置から供給された気体Ｇを第２空間ＳＰ２に供給する。
本実施形態において、第１気体供給部６１は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、第１液体回収部５１の外側に配置される。
第２液体供給部４２は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、光路Ｋと第１液体回収部５１との間に配置される。第２液体供給部４２は、第２開口部３０の中心に対する放射方向に関して、第２開口部３０の中心と第１液体回収部５１との間に配置される。
第１液体供給部４１は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、光路Ｋと第２液体供給部４２との間に配置される。第１液体供給部４１は、第１開口部２３の中心に対する放射方向に関して、第１開口部２３の中心と開口部３０１との間に配置される。
第３液体供給部４３は、第２液体供給部４２よりも光路Ｋ側に配置される。第３液体供給部４３は、第１、第２液体供給部４１、４２よりも上方に配置される。第３液体供給部４３は、第３液体回収部５３よりも下方に配置される。第３液体供給部４３は、第３液体回収部５３よりも光路Ｋ側に配置される。
第２液体回収部５２は、第１、第２液体供給部４１、４２よりも上方に配置される。第２液体回収部５２は、開口部３０１よりも上方に配置される。第２液体回収部５２は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して開口部３０１よりも外側に配置される。
第３空間ＳＰ３は、第１開口部２３とは異なる開口部３５を介して、液浸部材５の外部の空間ＣＳに通ずる。開口部３５は、終端光学素子１３と第１部材２１との間隙の上端に配置される。第３空間ＳＰ３は、開口部３５を介して、空間ＣＳ（液浸部材５の周囲の雰囲気）に開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第３空間ＳＰ３は、開口部３５を介して、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。
開口部３５は、第１開口部２３よりも高い位置に配置される。開口部３５は、外面１３１と上面２７（上面２７の内縁）との間に配置される。開口部３５は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱと接触しない。
第４空間ＳＰ４は、開口部３０１とは異なる開口部３０２を介して、液浸部材５の外部の空間ＣＳに通ずる。開口部３０２は、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）の他端に配置される。第４空間ＳＰ４は、開口部３０２を介して、空間ＣＳ（液浸部材５の周囲の雰囲気）に開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第４空間ＳＰ４は、開口部３０２を介して、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。
第１部材２１と第２部材２２との間隙の他端（開口部３０２）は、第１部材２１と第２部材２２との間隙の一端（開口部３０１）よりも高い位置に配置される。開口部３０２は、下面２８（下面２８の外縁）と上面３３（上面３３の外縁）との間に配置される。換言すれば、開口部３０２は、外面２９と外面３４との間に配置される。開口部３０２は、基板Ｐ（物体）の表面が対向しないように配置される。開口部３０２は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱと接触しない。
第２空間ＳＰ２は、開口部３６を介して、液浸部材５の外部の空間ＣＳに通ずる。開口部３６は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間隙の他端に配置される。開口部３６は、下面３１（下面３１の外縁）と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置される。第２空間ＳＰ２は、開口部３６を介して、空間ＣＳ（液浸部材５の周囲の雰囲気）に開放されている。空間ＣＳが大気圧である場合、第２空間ＳＰ２は、開口部３６を介して、大気開放される。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。
第２空間ＳＰ２と第４空間ＳＰ４とは、開口部３０１を介して結ばれる。第１空間ＳＰ１と第４空間ＳＰ４とは、開口部３０１を介して結ばれる。第１空間ＳＰ１と光路空間ＳＰＫとは、第１開口部２３を介して結ばれる。光路空間ＳＰＫと第３空間ＳＰ３とは、射出面１２と内面２５との間の開口部３７を介して結ばれる。
すなわち、流体（液体ＬＱ及び気体Ｇの一方又は両方）は、光路空間ＳＰＫと第３空間ＳＰ３との間において流通（移動）可能であり、光路空間ＳＰＫと第１空間ＳＰ１との間において流通（移動）可能であり、第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３との間において流通（移動）可能であり、第２空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３との間において流通可能であり、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２との間において流通可能である。
また、第２液体回収部５２（多孔部材５７）が面する第４空間ＳＰ４の圧力は、チャンバ装置９によって調整可能である。回収流路５７Ｒの圧力は、その回収流路５７Ｒに接続される液体回収装置によって調整可能である。
また、第３液体回収部５３（多孔部材５８）が面する第３空間ＳＰ３の圧力は、チャンバ装置９によって調整可能である。回収流路５８Ｒの圧力は、その回収流路５８Ｒに接続される液体回収装置によって調整可能である。
本実施形態においては、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３からの少なくとも一つの液体ＬＱの供給動作と並行して、第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
第１液体供給部４１の液体ＬＱの供給動作が行われる場合、第１液体回収部５１は、第１液体回収部４１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２液体供給部４２の液体ＬＱの供給動作が行われる場合、第１液体回収部５１は、第２液体回収部４２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第３液体供給部４３の液体ＬＱの供給動作が行われる場合、第１液体回収部５１は、第３液体回収部４３からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。
第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作が行われることにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ（第１界面ＬＧ１）は、光軸ＡＸ（光路Ｋ）に対する放射方向に関して、第１液体回収部５１よりも内側に維持される。第１界面ＬＧ１は、少なくとも第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）の外側の端部よりも内側に維持される。
例えば、第２液体供給部４２からの液体ＬＱの供給動作と並行して、第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ（第１界面ＬＧ１）は、光軸ＡＸ（光路Ｋ）に対する放射方向に関して、第２液体供給部４２と第１液体回収部５１との間に維持される。第１界面ＬＧ１は、少なくとも、第２液体供給部４２と、第１液体回収部５１（第１液体回収口５１Ｍ）の外側の端部との間に維持される。第２液体供給部４２からの液体ＬＱの供給動作と並行して、第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作が実行されることにより、液浸空間ＬＳが形成されている状態で第２部材２２がＸＹ平面内において移動しても、第１界面ＬＧ１は、第２液体供給部４２と第１液体回収部５１との間に維持される。
また、本実施形態においては、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３からの少なくとも一つの液体ＬＱの供給動作、及び第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作と並行して、第２液体回収部５２からの液体ＬＱの回収動作が実行される。これにより、開口部３０１を介して第４空間ＳＰ４に流入した液体ＬＱが、第４空間ＳＰ４から流出することが抑制される。
また、本実施形態においては、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３からの少なくとも一つの液体ＬＱの供給動作、及び第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作と並行して、第３液体回収部５３からの液体ＬＱの回収動作が実行される。これにより、第３空間ＳＰ３に流入した液体ＬＱが、第３空間ＳＰ３から流出することが抑制される。
また、本実施形態においては、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３からの少なくとも一つの液体ＬＱの供給動作、及び第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作と並行して、第１気体供給部６１からの気体Ｇの供給動作が実行される。第１気体供給部６１は、液浸空間ＬＳの外側で、気体Ｇを供給することができる。第１気体供給部６１から供給された気体Ｇにより、液浸空間ＬＳの外側にガスシールが形成される。これにより、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱが、第２空間ＳＰ２から流出することが抑制される。
本実施形態において、第１気体供給部６１から加湿された気体Ｇが供給されてもよい。第１気体供給部６１から供給される気体Ｇの湿度は、チャンバ装置９の空調装置９Ｓから供給される気体Ｇｓの湿度よりも高い。加湿された気体Ｇが供給されることにより、気化熱の発生が抑制される。これにより、気化熱の発生に伴う、基板Ｐ（物体）の温度変化、液浸部材５の温度変化、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの温度変化、及び液浸部材５が配置されている空間（環境）の温度変化などの発生が抑制される。
次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。
第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２と第１部材２１との相対位置は、変化する。第２部材２２と終端光学素子１３との相対位置は、変化する。
第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内を移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。本実施形態において、第２部材２２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。
なお、第２部材２２が、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能でもよいし、それら６つの方向の少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。なお、第２部材２２が、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。
第２部材２２がＸＹ平面内において移動することにより、例えば第１部材２１の外面２６と第２部材２２の内面３２との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２がＸＹ平面内において移動することによって、外面２６と内面３２との間の空間の大きさが変化する。例えば、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２６と内面３２との間隙の寸法が小さくなる（外面２６と内面３２との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外面２６と内面３２との間隙の寸法が大きくなる（外面２６と内面３２との間の空間が大きくなる）。
本実施形態においては、第１部材２１（外面２６）と第２部材２２（内面３２）とが接触しないように、第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）が定められる。
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動してもよい。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動してもよい。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ軸方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ軸方向）に移動してもよい。
第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成された状態で移動してもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触された状態で移動してもよい。第２部材２２は、第２空間ＳＰ２及び第４空間ＳＰ４の一方又は両方に液体ＬＱが存在する状態で移動してもよい。
第２部材２２は、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３の少なくとも一つからの液体ＬＱの供給動作と並行して移動してもよい。
第２部材２２は、第１液体回収部５１、第２液体回収部５２、及び第３液体回収部５３の少なくとも一つからの液体ＬＱの回収動作と並行して移動してもよい。
第２部材２２は、第１気体供給部６１からの気体Ｇの供給動作と並行して移動してもよい。
第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動してもよい。
第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。
第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動してもよい。
第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しないときに移動してもよい。第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しないときに移動してもよい。
第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しないときに移動してもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていないときに移動してもよい。
本実施形態において、第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、第１、第２、第３液体供給部４１、４２、４３の少なくとも一つからの液体ＬＱの供給と、第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。
本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との相対移動が、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）に追従するように移動してもよい。
相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。
また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。
また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。
また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。
第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向（または−Ｘ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向（または−Ｘ軸方向）に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ軸方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向（又は−Ｙ軸方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ軸方向に移動可能である。
すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。
なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。
次に、上述の露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
以下の説明においては、液浸空間ＬＳを形成するために、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３のそれぞれから液体ＬＱが供給されるとともに、第１液体回収部５１、第２液体回収部５２、及び第３液体回収部５３のそれぞれから液体ＬＱが回収されることとする。
また、以下の説明においては、第１、第２、第３液体供給部４１、４２、４３を合わせて適宜、液体供給部４０、と称する。第１、第２、第３液体回収部５１、５２、５３を合わせて適宜、液体回収部５０、と称する。
なお、液浸空間ＬＳを形成するために、例えば第３液体供給部４３から液体ＬＱを供給し、第１、第２液体供給部４１、４２から液体ＬＱを供給しなくてもよい。第２、第３液体供給部４２、４３から液体ＬＱを供給し、第１液体供給部４１から液体ＬＱを供給しなくてもよい。第２液体供給部４２から液体ＬＱを供給し、第１、第３液体供給部４１、４３から液体ＬＱを供給しなくてもよい。第１、第２液体供給部４１、４２から液体ＬＱを供給し、第３液体供給部４３から液体ＬＱを供給しなくてもよい。第１液体供給部４１から液体ＬＱを供給し、第２、第３液体供給部４２、４３から液体ＬＱを供給しなくてもよい。
また、例えば第１液体回収部５１から液体ＬＱを回収し、第２、第３液体回収部５１、５２から液体ＬＱを回収しなくてもよい。第１、第２液体回収部５１、５２から液体ＬＱを回収し、第３液体回収部５３から液体ＬＱを回収しなくてもよい。第１、第３液体回収部５１、５３から液体ＬＱを回収し、第２液体回収部５２から液体ＬＱを回収しなくてもよい。
液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部４０からの液体ＬＱの供給と、液体回収部５０からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部４０からの液体ＬＱの供給と並行して液体回収部５０からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
図６は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。
そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。
制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。
本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。
露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。
ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。
ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。
以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。
スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。
スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。
制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。
なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。
露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。
制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。
一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図６中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。
第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。
また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。
なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。
図７は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図７は、第２部材２２を上方から見た図である。
以下の説明においては、第２部材２２はＸ軸方向に移動することとする。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。
第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された移動可能範囲（可動範囲）を移動する。射出面１２からの露光光ＥＬが第１開口部２３及び第２開口部３０を通過するとともに、第２部材２２が第１部材２１に接触しないように、第２部材２２の移動可能範囲が定められる。
基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、図７（Ａ）〜図７（Ｅ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。図７（Ａ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ側の端の位置Ｊｒに第２部材２２が配置されている状態を示す。図７（Ｃ）は、移動可能範囲の中央の位置Ｊｍに第２部材２２が配置されている状態を示す。図７（Ｅ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ側の端の位置Ｊｓに第２部材２２が配置されている状態を示す。
以下の説明において、図７（Ａ）に示す第２部材２２の位置Ｊｒを適宜、第１端部位置Ｊｒ、と称する。図７（Ｃ）に示す第２部材２２の位置Ｊｍを適宜、中央位置Ｊｍ、と称する。図７（Ｅ）に示す第２部材２２の位置Ｊｓを適宜、第２端部位置Ｊｓ、と称する。
また、図７（Ｂ）は、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｒｍに配置されている状態を示す。図７（Ｄ）は、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｓｍに配置されている状態を示す。
なお、本実施形態において、第２部材２２が中央位置Ｊｍに配置される状態は、第２部材２２の第２開口部３０の中心と終端光学素子１３の光軸ＡＸとが実質的に一致している状態を含む。第２開口部３０の中心が光軸ＡＸに一致する第２部材２２の位置を、原点、と称してもよい。
第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置Ｊｒと第２端部位置Ｊｓとの距離を含む。
制御装置６は、終端光学素子１３（投影領域ＰＲ）に対する第２部材２２の位置を異ならせることができる。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのうち選択された２つの位置の間において第２部材２２を移動可能である。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓの少なくとも一つにおいて第２部材２２を停止可能である。制御装置６は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓに限らず、それ以外の任意の位置において、第２部材２２を停止可能であってもよい。
位置Ｊｒと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｒｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。位置Ｊｓと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離は、位置Ｊｓｍと位置Ｊｍとの間の第２部材２２の移動距離よりも長い。
制御装置６は、定められた移動条件で第２部材２２を移動可能である。第２部材２２の移動条件は、移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを含む。制御装置６は、第２部材２２の移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを制御可能である。
図８は、基板Ｐを＋Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。
図８に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、終端光学素子１３の下において、投影領域ＰＲが基板Ｐの位置ｄ１に配置される状態からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２に配置される状態までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２に配置される状態からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３に配置される状態までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３に配置される状態からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４に配置される状態までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４に配置される状態からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５に配置される状態までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５に配置される状態からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６に配置される状態までの経路Ｔｐ５を、基板Ｐは順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。
経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが−Ｘ軸方向を主成分とする方向に移動する経路である。
液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。
すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。
図９及び図１０は、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるときの第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図９及び図１０は、第２部材２２を上方から見た図である。
基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、図９（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。
基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、図９（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図９（Ａ）に示す状態から図９（Ｂ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。
基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、図９（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｍに配置される。
基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、図９（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図９（Ｂ）に示す状態から図９（Ｃ）に示す状態を経て図９（Ｄ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。
基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、図１０（Ａ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図９（Ｄ）に示す状態から図１０（Ａ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。
基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、図１０（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｍに配置される。
基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、図１０（Ｃ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１０（Ａ）に示す状態から図１０（Ｂ）に示す状態を経て図１０（Ｃ）に示す状態に変化するように、−Ｘ軸方向に移動する。
基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、図１０（Ｄ）に示すように、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１０（Ｃ）に示す状態から図１０（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ軸方向に移動する。
すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが−Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ軸方向に移動する。
また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ軸方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が−Ｘ軸方向に移動しても露光光ＥＬが第１、第２開口部２３、３０を通過可能であり、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。
すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ軸方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が位置Ｊｒから位置Ｊｓへ−Ｘ軸方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度−Ｘ軸方向に移動できるように、第２部材２２が位置Ｊｓから位置Ｊｒへ戻る。すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が＋Ｘ軸方向に移動するので、第２開口部３０の寸法が必要最小限に抑えられ、第１部材２１と第２部材２２との接触が抑制される。
また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒ（第２端部位置Ｊｓ）に配置されても、第１液体回収部５１の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、第１液体回収部５１は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。
また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒ（第２端部位置Ｊｓ）に配置されても、第１気体供給部６１の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間にガスシールが形成され続ける。
したがって、液体ＬＱの流出が抑制される。
なお、図９及び図１０を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置Ｊｓに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよい。
なお、図９及び図１０を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置Ｊｒに配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。
また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置Ｊｍとは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば中央位置Ｊｍと第２端部位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよいし、中央位置Ｊｍと第１端部位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。
なお、基板Ｐのスキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）と同じ−Ｘ軸方向に移動してもよい。
なお、基板Ｐのステップ移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ軸方向）とは逆の＋Ｘ軸方向に移動してもよい。
すなわち、基板Ｐの移動期間（スキャン移動期間及びステップ移動期間）の一部において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動し、基板Ｐの移動期間の一部において、停止したり、相対速度が大きくなるように移動したりしてもよい。
以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１に対して移動可能な第２部材２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。
すなわち、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において高速で移動する場合、その物体と対向する部材（液浸部材など）が静止していると、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりする可能性がある。
本実施形態においては、第２部材２２は、例えば物体との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように移動可能である。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、光路Ｋ（光路ＫＬ）の周囲に第１部材２１の第１部分２１１が配置され、その第１部分２１１の外側で第２部材２２が移動する。そのため、光路空間ＳＰＫに気体部分が生成されたり、光路Ｋの液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。すなわち、本実施形態においては、第１部材２１の第１部分２１１が光路Ｋ（光路ＫＬ）の周囲の少なくとも一部に配置されているので、その第１部分２１１の外側で第２部材２２が移動しても、第１部分２１１の内側において圧力が変動したり、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱの圧力が変動したり、液体ＬＱの第３界面ＬＧ３の形状が大きく変動したりすることが抑制される。したがって、例えば液体ＬＱに気泡が発生することなどが抑制される。また、終端光学素子１３に過剰な力が作用することが抑制される。また、本実施形態においては、第１部材２１は実質的に移動しないため、終端光学素子１３と第１部材２１との間において圧力が大きく変動したり、液体ＬＱの第２、第３界面ＬＧ２、ＬＧ３の形状が大きく変動したりすることが抑制される。
したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。
また、本実施形態において、第２部材２２は、第１液体回収部５１を有する。そのため、第１液体回収部５１と基板Ｐ（物体）との間に形成される第１界面ＬＧ１の形状が変化することが抑制される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが液浸部材５（第２部材２２）と基板Ｐ（物体）との間の空間から流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、第１部分２１１の下面２４に第１液体供給部４１が設けられる。これにより、例えば物体の移動などに起因して第１界面ＬＧ１が第１開口部２３に近付こうとしても、第１液体供給部４１から供給される液体ＬＱによって、第１開口部２３の内側に第１界面ＬＧ１が移動したり、第１開口部２３の内側の液体ＬＱに気体が入り込んだりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、第２部材２２の下面３１に第２液体供給部４２が設けられる。これにより、例えば物体の移動などに起因して第１界面ＬＧ１が第１開口部２３（開口部３０１）に近付こうとしても、第２液体供給部４２から供給される液体ＬＱによって、第１開口部２３（開口部３０１）の内側に第１界面ＬＧ１が移動したり、第１開口部２３（開口部３０１）の内側の液体ＬＱに気体が入り込んだりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、第２部材２２の下面３１に第１気体供給部６１が設けられる。これにより、第２部材２２と物体との間にガスシールが形成される。そのため、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの流出が抑制される。また、第１液体回収部５１からの回収動作と並行して、第１気体供給部６１から気体Ｇが供給されることにより、第１液体回収部５１の回収動作に起因する第２空間ＳＰ２の圧力低下を抑制することができる。
また、本実施形態においては、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）は、雰囲気に開放されている。そのため、物体上の液体ＬＱは、開口部３０１を介して、第４空間ＳＰ４に円滑に流入可能である。したがって、例えば光路空間ＳＰＫの圧力が変動したり、第３空間ＳＰ３の圧力が変動したり、第２空間ＳＰ２の圧力が変動したりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、第２液体回収部５２が設けられる。そのため、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）に流入した液体ＬＱが、間隙（第４空間ＳＰ４）から流出することが抑制される。
また、本実施形態においては、第２液体回収部５２は、第２部分２１２に配置される。これにより、開口部３０１から第４空間ＳＰ４に流入した液体ＬＱは、外面２６、内面３２、下面２８の少なくとも一部、及び上面３３の少なくとも一部に接触した後、第２液体回収部５２から回収される。すなわち、第２液体回収部５２を第２部分２１２に配置することにより、液体ＬＱと第１部材２１との接触面積（接触時間）、及び液体ＬＱと第２部材２２との接触面積（接触時間）を大きくする（長くする）ことができる。これにより、第１部材２１及び第２部材２２の温度が液体供給部４０（第１、第２、第３液体供給部４１、４２、４３の少なくとも一つ）から供給された液体ＬＱによって調整される。
また、本実施形態においては、第４空間ＳＰ４において、寸法Ｈａの第１間隙部分と寸法Ｈｂの第２間隙部分とが設けられる。第２液体回収部５２は、第１間隙部分から液体ＬＱを回収するため、第２間隙部分は気体空間となる。気体が満たされた第２間隙部分は、第２部材２２の振動を抑制する減衰部として機能することができる。気体が満たされた第２間隙部分は、所謂、スクイズフィルムダンパとして機能することができる。例えば、第２部材２２がＸＹ平面内において移動した場合においても、第２間隙部分（減衰部）により、Ｚ軸方向に関する第２部材２２の振動（望まれない振動）が抑制される。
なお、寸法Ｈｂは、０．２ｍｍ以下であり、０．０１ｍｍ〜０．１ｍｍでもよい。
また、本実施形態においては、第２間隙部分を形成する壁部３３３が設けられる。これにより、第４空間ＳＰ４の液体ＬＱが第４空間ＳＰ４から流出することが抑制される。
また、本実施形態においては、第１部材２１と第２部材２２との間隙（第４空間ＳＰ４）に面する第１部材２１の表面（外面２６、下面２８）、及び第２部材２２の表面（内面３２、上面３３）の少なくとも一部が、液体ＬＱに対して撥液性である。これにより、第２部材２２が移動しても、例えば液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動したり、望まれない液体ＬＱの流れが発生したりすることが抑制される。
また、本実施形態によれば、第３液体供給部４３が設けられる。これにより、光路Ｋを液体ＬＱで円滑に満たすことができる。
また、本実施形態においては、終端光学素子１３と第１部材２１との間隙（第３空間ＳＰ３）は、雰囲気に開放されている。そのため、物体上の液体ＬＱは、開口部３７を介して、第３空間ＳＰ３に円滑に流入可能である。したがって、例えば光路空間ＳＰＫの圧力が変動したり、第３空間ＳＰ３の圧力が変動したり、第２空間ＳＰ２の圧力が変動したりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、第３液体回収部５３が設けられる。そのため、終端光学素子１３と第１部材２１との間隙（第３空間ＳＰ３）に流入した液体ＬＱが、間隙（第３空間ＳＰ３）から流出することが抑制される。
なお、本実施形態において、第１部材２１が移動可能であってもよい。第１部材２１は、終端光学素子１３に対して移動してもよい。第１部材２１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向のうちの少なくとも一つの方向に移動してもよい。例えば、終端光学素子１３と第１部材２１との位置関係を調整したり、第１部材２１と第２部材２２との位置関係を調整したりするために、第１部材２１を移動してもよい。
なお、第１部材２１は、第２部材２２が移動する期間において実質的に移動せず、第２部材２２が移動しない期間の少なくとも一部において移動してもよい。
なお、第１部材２１は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において実質的に移動せず、液浸空間ＬＳが形成されていない状態において移動してもよい。
なお、第１部材２１は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間において移動せず、射出面１２から露光光ＥＬが射出されていない期間において移動してもよい。
なお、第１部材２１は、第２部材２２が移動する期間の少なくとも一部において移動してもよい。なお、第１部材２１は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において移動してもよい。なお、第１部材１２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部において移動してもよい。なお、第１部材２１は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において移動してもよい。
第１部材２１は、第２部材２２よりも低速度で移動してもよい。第１部材２１は、第２部材２２よりも低加速度で移動してもよい。第１部材２１は、基板Ｐよりも低速度で移動してもよい。第１部材２１は、基板Ｐよりも低加速度で移動してもよい。
＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図１１〜図１６は、第１液体回収口５１Ｍの配置の一例を示す。
図１１に示すように、第１液体回収口５１Ｍが、四角形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。図１１において、仮想線を描く四角形は、実質的に正方形である。四角形の頂点（角）が、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側に配置されるとともに、＋Ｙ側及び−Ｙ側に配置される。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間における液体ＬＱの第１界面ＬＧ１の外形は、複数の第１液体回収口５１Ｍに沿うように実質的に四角形に規定される。
図１２に示すように、四角形の仮想線の辺が曲がっていてもよい。第１液体回収口５１Ｍは、その曲線を含む仮想線に沿って複数配置されてもよい。
図１３に示すように、第１液体回収口５１Ｍが、Ｙ軸方向に長い菱形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。なお、第１液体回収口５１Ｍは、Ｘ軸方向に長い菱形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。
図１４に示すように、第１液体回収口５１Ｍが、円形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。
図１５に示すように、第１液体回収口５１Ｍが、Ｙ軸方向に長い楕円形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。なお、第１液体回収口５１Ｍは、Ｘ軸方向に長い楕円形の仮想線に沿って複数配置されてもよい。
図１６に示すように、四角形の仮想線の角が丸みを帯びていてもよい。第１液体回収口５１Ｍは、その曲線を含む仮想線に沿って複数配置されてもよい。
＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図１７は、本実施形態に係る第２液体回収部５２Ｃの一例を示す図である。第２液体回収部５２Ｃは、基板Ｐ（物体）上から第１部材２１Ｃと第２部材２２Ｃとの間隙（第４空間ＳＰ４）に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。本実施形態において、第２液体回収部５２Ｃは、第２部材２２Ｃに配置される。図１７に示す例では、第２液体回収部５２Ｃは、第２部材２２Ｃの上面３３に配置される。
なお、第１部材２１と第２部材２２との間隙に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を回収する第２液体回収部が第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。
＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図１８は、本実施形態に係る第２間隙部分の一例を示す図である。図１８に示すように、凸部（壁部）３３３Ｄが第１部材２１Ｄに設けられてもよい。凸部３３３Ｄは、第１部材２１Ｄの下面２８に設けられる。凸部３３３Ｄは、下方（第２部材２２Ｄ側に向かって）に突出する。凸部３３３Ｄの下面と第２部材２２Ｄの上面２８とによって、寸法Ｈｂの第２間隙部分が規定される。
なお、第１部材２１及び第２部材２２の両方に、第２間隙部分を規定するための凸部が設けられてもよい。すなわち、下方に突出するように第１部材２１に設けられた凸部の下面と、上方に突出するように第２部材２２に設けられた凸部の上面との間に第２間隙部分が規定されてもよい。
＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図１９は、本実施形態に係る第２部材２２Ｅの一例を示す図である。図１９（Ａ）に示すように、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して第１気体供給部６１の外側に、第２気体供給部６２が配置されてもよい。第２気体供給部６２は、第２部材２２の下面３１に配置される。第２気体供給部６２から供給される気体Ｇによって、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの流出が抑制される。
＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図２０は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。図２０（Ａ）に示すように、露光光ＥＬの光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材２２の外側に、基板Ｐ（物体）の表面が対向可能な第２気体供給部６２Ｆを有する第３部材２３０が配置されてもよい。第３部材２３０は、第２部材２２と接触しないように、第２部材２２が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２の移動条件（移動方向、移動速度、加速度など）に基づいて移動してもよい。第３部材２３０は、移動しながら、第２気体供給部６２Ｆからの気体Ｇの供給動作を行ってもよい。
なお、図１９（Ａ）及び図２０（Ａ）に示す例において、第２気体供給部６２（６２Ｆ）に代えて、液体回収部を配置してもよい。露光光ＥＬの光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第１液体回収部５１及び第１気体供給部６１の外側に、液体回収部を設けることにより、第１気体供給部６１の外側に液体ＬＱが流出しても、その液体ＬＱを液体回収部から回収することができる。
なお、図１９（Ｂ）に示すように、第２気体供給部６２に代えて、気体回収部６３を配置してもよい。露光光ＥＬの光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第１液体回収部５１及び第１気体供給部６１の外側に、気体回収部６３を設けることにより、液体ＬＱと接触した湿った気体、あるいは第１気体供給部６１から供給された気体Ｇの一部を、その気体回収部から回収することができる。
また、図２０（Ｂ）に示すように、第２気体供給部６２Ｆに代えて、気体回収部６３Ｆを配置してもよい。露光光ＥＬの光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第１液体回収部５１及び第１気体供給部６１の外側に、気体回収部６３Ｆを設けることにより、液体ＬＱと接触した湿った気体、あるいは第１気体供給部６１から供給された気体Ｇの一部を、その気体回収部から回収することができる。
なお、気体回収部６３（６３Ｆ）から気体Ｇとともに液体ＬＱの滴などが流入してもよい。
なお、第２気体供給部６２（６２Ｆ）に加えて、液体回収部が配置されてもよい。
＜第７実施形態＞
第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図２１は、終端光学素子１３の射出面１２と、第１部材２１（第１部分２１１）の下面２４と、第２部材２２の下面３１との関係を示す模式図である。
図２１に示すように、第１部材２１（第１部分２１１）の下面２４は、射出面１２よりも下方に配置されてもよいし、射出面１２と実質的に同じ高さに配置されてもよいし、射出面１２よりも上方に配置されてもよい。下面２４は、射出面１２と同一平面内に配置されてもよい。下面２４は、ＸＹ平面と実質的に平行でもよいし、射出面１２に対して傾斜してもよいし、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、平坦面でもよいし、曲面を含んでもよい。
図２１に示すように、第２部材２２の下面３１は、射出面１２よりも下方に配置されてもよいし、射出面１２と実質的に同じ高さに配置されてもよいし、射出面１２よりも上方に配置されてもよい。下面３１は、射出面１２と同一平面内に配置されてもよい。下面３１は、ＸＹ平面と実質的に平行でもよいし、射出面１２に対して傾斜してもよいし、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、平坦面でもよいし、曲面を含んでもよい。
図２１に示すように、第２部材２２の下面３１は、第１部材２１（第１部分２１１）の下面２４よりも下方に配置されてもよいし、下面２４と実質的に同じ高さに配置されてもよいし、下面２４よりも上方に配置されてもよい。下面３１は、下面２４と同一平面内に配置されてもよい。下面３１は、下面２４に対して傾斜してもよい。その下面２４は、射出面１２よりも下方に配置されてもよいし、射出面１２と実質的に同じ高さに配置されてもよいし、射出面１２よりも上方に配置されてもよい。
＜第８実施形態＞
第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図２２は、本実施形態に係る液浸部材５Ｈの一例を示す図である。図２２に示すように、第２部材２２Ｈの少なくとも一部が、第１部分２１１Ｈの下面２４の下方に配置されてもよい。換言すれば、第２部材２２Ｈの少なくとも一部が第１部分２１１Ｈと基板Ｐ（物体）との間に配置されてもよい。また、図２２に示すように、第２部材２２Ｈの少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２の下方に配置されてもよい。換言すれば、第２部材２２の少なくとも一部が終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置されてもよい。
また、図２２に示すように、第２部材２２の第２開口部３０Ｈが、第１部材２１の第１開口部２３Ｈよりも小さくてもよい。
＜第９実施形態＞
第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図２３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｉ（第１部材２１Ｉ）の一例を示す図である。
図２３に示すように、終端光学素子１３の外面１３１と対向する第３液体供給部４３Ｉが、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して一側（例えば＋Ｘ側）に配置され、終端光学素子１３の外面１３１と対向する第３液体回収部５３Ｉが、終端光学素子１３の光軸ＡＸに対して他側（例えば−Ｘ側）に配置されてもよい。これにより、光路空間ＳＰＫにおいて、液体ＬＱは、光軸ＡＸに対して一側から他側に流れる。
なお、第３液体供給部４３Ｉが、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋ（光路空間ＳＰＫ）に面するように配置されてもよい。第３液体回収部５３Ｉが、光路Ｋ（光路空間ＳＰＫ）に面するように配置されてもよい。換言すれば、第３液体供給部４３Ｉ及び第３液体回収部５３Ｉの一方又は両方が、射出面１２よりも下方に配置されてもよい。
＜第１０実施形態＞
次に、第１０実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
本実施形態においては、第２部材２２の動作の一例について説明する。図２４（Ａ）は、ショット領域Ｓａ及びショット領域Ｓｂを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。図２４（Ｂ）は、ショット領域Ｓａ及びショット領域Ｓｂを順次露光するときの、本実施形態に係る第２部材２２の移動軌跡の一例を模式的に示す図である。
本実施形態においても、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作及びステップ移動動作を行うとき、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材２１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように移動する。
図２４（Ａ）に示すように、ショット領域Ｓａが露光されるとき、終端光学素子１３の下において、投影領域ＰＲが基板Ｐの位置ｄ１に配置される状態からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２に配置される状態までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２に配置される状態からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３に配置される状態までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３に配置される状態からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４に配置される状態までの経路Ｔｐ３、及び位置ｄ４に配置される状態からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５に配置される状態までの経路Ｔｐ４を、基板Ｐは順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４は、ＸＹ平面内における位置である。
経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ２は、曲線を含む。経路Ｔｐ４は、曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが−Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが実質的に−Ｘ軸方向に移動する経路である。
液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作は、スキャン移動動作を含む。また、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。
基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する動作は、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作は、ステップ移動動作を含む。
基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ２、Ｔｐ３、Ｔｐ４を順次移動するとき、図２４（Ｂ）に示すように、第２部材２２は、経路Ｔｎ１、Ｔｎ２、Ｔｎ３、Ｔｎ４を順次移動する。経路Ｔｎ１は、位置ｅ１から位置ｅ２までの経路である。経路Ｔｎ２は、位置ｅ２から位置ｅ３までの経路である。経路Ｔｎ３は、位置ｅ３から位置ｅ４までの経路である。経路Ｔｎ４は、位置ｅ４から位置ｅ１までの経路である。経路Ｔｎ１は、直線を含む。経路Ｔｎ２は、曲線を含む。経路Ｔｎ３は、直線を含む。経路Ｔｎ４は、曲線を含む。経路Ｔｎ１と経路Ｔｎ３とは交差する。経路Ｔｎ１及び経路Ｔｎ３は、Ｘ軸及びＹ軸の両方と傾斜する。
すなわち、本実施形態においては、第２部材２２は、アラビア数字の「８」の字を描くようにＸＹ平面内を移動する。
経路Ｔｎ１において、第２部材２２は、＋Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向に移動する。すなわち、基板Ｐのスキャン移動期間において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して、基板Ｐのステップ移動期間における基板Ｐの移動方向とは逆の方向に移動する。
経路Ｔｎ２において、第２部材２２は、実質的に−Ｘ軸方向に移動する。すなわち、基板Ｐのステップ移動期間において、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動期間における基板Ｐの移動方向と実質的に同じ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐとの相対速度（相対加速度）が小さくなるように移動する。
経路Ｔｎ３において、第２部材２２は、＋Ｘ軸方向に移動しつつ−Ｙ軸方向に移動する。すなわち、基板Ｐのスキャン移動期間において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して、基板Ｐのステップ移動期間における基板Ｐの移動方向とは逆の方向に移動する。
経路Ｔｎ４において、第２部材２２は、実質的に−Ｘ軸方向に移動する。すなわち、基板Ｐのステップ移動期間において、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動期間における基板Ｐの移動方向と実質的に同じ方向に移動する。第２部材２２は、基板Ｐとの相対速度（相対加速度）が小さくなるように移動する。
本実施形態においても、液体ＬＱが流出すること、液体ＬＱに気泡が発生することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
なお、上述の第１〜第１０実施形態において、第１液体回収部５１から実質的に気体Ｇが回収され、液体ＬＱの回収が抑制されてもよい。例えば、第１液体回収部５１の第１液体回収口５１Ｍの内面を、液体ＬＱに対して撥液性の膜で形成することにより、第１液体回収口５１からの液体ＬＱの回収が抑制される。
なお、上述の各実施形態において、第１気体供給部６１から気体Ｇが能動的に供給されなくてもよい。換言すれば、第１気体供給部６１が気体供給装置に接続されなくてもよい。例えば、第１気体供給部６１が雰囲気に開放（例えば大気開放）されてもよい。第１気体供給部６１が雰囲気に開放（大気開放）された状態で、第１液体回収部５１からの回収動作(吸引動作)が行われることにより、第１気体供給部６１から第２空間ＳＰ２に受動的に気体Ｇが流入する。これにより、第１液体回収部５１の回収動作に伴う第２空間ＳＰ２の圧力低下が抑制される。
なお、上述の各実施形態において、例えば第１液体供給部４１から供給される液体ＬＱと、第２液体供給部４２から供給される液体ＬＱとが異なってもよい。第１液体供給部４１から供給される液体ＬＱと、第３液体供給部４３から供給される液体ＬＱとが異なってもよい。第２液体供給部４２から供給される液体ＬＱと、第３液体供給部４３から供給される液体ＬＱとが異なってもよい。液体ＬＱが異なるとは、液体ＬＱの種類（物性）が異なること、液体ＬＱの種類が同じで温度及びクリーン度の少なくとも一方が異なることを含む。
なお、上述の各実施形態において、液浸部材５に第１液体回収部５１及び第１液体供給部４１が設けられ、第２、第３液体回収部５２、５３、第２、第３液体供給部４２、４３、及び第１、第２気体供給部６１、６２の少なくとも一部が省略されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、液浸部材５に第１液体回収部５１及び第２液体供給部４２が設けられ、第２、第３液体回収部５２、５３、第１、第３液体供給部４１、４３、及び第１、第２気体供給部６１、６２の少なくとも一部が省略されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、液浸部材５に第１液体回収部５１及び第３液体供給部４３が設けられ、第２、第３液体回収部５２、５３、第１、第２液体供給部４１、４２、及び第１、第２気体供給部６１、６２の少なくとも一部が省略されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、液浸部材５に第１液体回収部５１及び第１気体供給部６１が設けられ、第２、第３液体回収部５２、５３、第１、第２、第３液体供給部４１、４２、４３、及び第２気体供給部６２の少なくとも一部が省略されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、液浸部材５に第１液体回収部５１及び第２液体回収部５２が設けられ、第３液体回収部５３、第１、第２、第３液体供給部４１、４２、４３、及び第１、第２気体供給部６１、６２の少なくとも一部が省略されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、寸法Ｈｂの第２間隙部分はなくてもよい。
なお、上述の各実施形態において、第１部材２１は、第２部分２１２を有しなくてもよい。第１部材２１は、上板部２１４を有しなくてもよい。
なお、上述の各実施形態において、第４空間ＳＰ４に面するように、第１部材２１と第２部材２２の少なくとも一方に、第４空間ＳＰ４に液体を供給する液体供給部を設けてもよい。
また、上述の各実施形態において、第２部材（２２など）の気体供給部（６１など）からの気体Ｇによりガスシールが形成されなくてもよい。すなわち、気体供給部（６１など）からの気体供給が、液体ＬＱの流出を防止する機能を有していなくてもよい。
また、上述の各実施形態において、第２部材（２２など）の気体供給部（６１など）から供給される気体は、液浸部材（５など）の周囲の気体と同じであってもよいし、異なっていてもよい。例えば、気体供給部（６１など）から二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）を供給してもよい。
＜第１１実施形態＞
第１１実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図２５は、本実施形態に係る液浸部材５Ｋの一例を示す図である。図２６は、本実施形態に係る液浸部材５Ｋ（第２部材２２Ｋ）を下方から見た図である。液浸部材５Ｋは、終端光学素子１３の下方で移動可能な基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。液浸部材５Ｋは、露光光ＥＬの光路Ｋ（ＫＬ）の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１Ｋと、少なくとも一部が第１部材２１Ｋの下方において基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される第２部材２２Ｋとを有する。第２部材２２Ｋは、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。第２部材２２Ｋは、第１部材２１Ｋに対して移動可能である。
第１部材２１Ｋは、第２部材２２Ｋよりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２Ｋの少なくとも一部は、第１部材２１Ｋと基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２Ｋの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。なお、第２部材２２Ｋは、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置されなくてもよい。
第１部材２１Ｋは、−Ｚ軸方向を向く下面２３Ｋと、下面２３Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された流体回収部２４Ｋとを有する。第２部材２２Ｋは、＋Ｚ軸方向を向く上面２５Ｋと、−Ｚ軸方向を向く下面２６Ｋと、下面２６Ｋの周囲の少なくとも一部に配置された流体回収部２７Ｋとを有する。流体回収部２４Ｋは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。流体回収部２７Ｋは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３の側面１３１と対向する内側面２８Ｋと、露光光ＥＬの光路Ｋ（ＫＬ）に対して外側を向く外側面２９Ｋとを有する。第２部材２２Ｋは、外側面２９Ｋと間隙を介して対向する内側面３０Ｋを有する。
第１部材２１Ｋの内側面２８Ｋは、終端光学素子１３の側面１３１と間隙を介して対向する。
第２部材２２Ｋは、下面２３Ｋに対向可能である。第２部材２２Ｋは、流体回収部２４Ｋに対向可能である。第２部材２２Ｋの上面２５Ｋの少なくとも一部は、下面２３Ｋと間隙を介して対向する。上面２５Ｋの少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５Ｋが射出面１２と対向しなくてもよい。
基板Ｐ（物体）は、下面２６Ｋに対向可能である。基板Ｐ（物体）は、流体回収部２７Ｋの少なくとも一部に対向可能である。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、下面２６Ｋと間隙を介して対向する。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。
Ｚ軸方向において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法は、基板Ｐの上面と下面２６Ｋとの間隙の寸法よりも大きい。なお、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と下面２６Ｋとの間隙の寸法と実質的に等しくてもよい。なお、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と下面２６Ｋとの間隙の寸法よりも小さくてもよい。
下面２３Ｋと上面２５Ｋとの間に空間ＳＰ５が形成される。下面２６Ｋと基板Ｐ（物体）の上面との間に空間ＳＰ６が形成される。側面１３１と内側面２８Ｋとの間に空間ＳＰ７が形成される。
終端光学素子１３の側面１３１は、射出面１２の周囲に配置される。側面１３１は、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、側面１３１を通過しない。
第１部材２１Ｋの下面２３Ｋは、液体ＬＱを回収しない。下面２３Ｋは、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第１部材２１Ｋの下面２３Ｋは、第２部材２２Ｋとの間で液体ＬＱを保持可能である。
第２部材２２Ｋの上面２５Ｋは、液体ＬＱを回収しない。上面２５Ｋは、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２Ｋの上面２５Ｋは、第１部材２１Ｋとの間で液体ＬＱを保持可能である。
第２部材２２Ｋの下面２６Ｋは、液体ＬＱを回収しない。下面２６Ｋは、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２Ｋの下面２６Ｋは、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
内側面２８Ｋ、外側面２９Ｋ、及び内側面３０Ｋは、液体ＬＱを回収しない。内側面２８Ｋ、外側面２９Ｋ、及び内側面３０Ｋは、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。
本実施形態において、下面２３Ｋは、ＸＹ平面と実質的に平行である。上面２５Ｋも、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２６Ｋも、ＸＹ平面と実質的に平行である。すなわち、下面２３Ｋと上面２５Ｋとは、実質的に平行である。上面２５Ｋと下面２６Ｋとは、実質的に平行である。
なお、下面２３Ｋが、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２３Ｋは、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
なお、上面２５Ｋが、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。上面２５Ｋは、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
なお、下面２６Ｋが、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２６Ｋは、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
なお、下面２３Ｋと上面２５Ｋとは、平行でもよいし、非平行でもよい。上面２５Ｋと下面２６Ｋとは、平行でもよいし、非平行でもよい。下面２３Ｋと下面２６Ｋとは、平行でもよいし、非平行でもよい。
第１部材２１Ｋは、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３４Ｋを有する。第２部材２２は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３５Ｋを有する。開口３４Ｋの内側に終端光学素子１３の少なくとも一部が配置される。開口３４Ｋの下端の周囲に下面２３Ｋが配置される。開口３５Ｋの上端の周囲に上面２５Ｋが配置される。開口３５Ｋの下端の周囲に下面２６が配置される。
ＸＹ平面内における開口３４Ｋの寸法は、開口３５Ｋの寸法よりも大きい。Ｘ軸方向に関して、開口３４Ｋの寸法は、開口３５Ｋの寸法よりも大きい。Ｙ軸方向に関して、開口３４Ｋの寸法は、開口３５Ｋの寸法よりも大きい。本実施形態において、射出面１２の直下に第１部材２１Ｋは配置されない。第１部材２１Ｋの開口３４Ｋは、射出面１２の周囲に配置される。開口３４Ｋは、射出面１２より大きい。終端光学素子１３の側面１３１と第１部材２１Ｋとの間に形成された間隙の下端は、第２部材２２Ｋの上面２５Ｋに面する。第２部材２２Ｋの開口３５Ｋは、射出面１２と対向するように配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５Ｋの形状は、長方形状である。開口３５Ｋは、Ｘ軸方向に長い。なお、開口３５Ｋの形状は、Ｘ軸方向に長い楕円形でもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形でもよい。
なお、開口３４Ｋの寸法が開口３５Ｋの寸法よりも小さくてもよい。なお、開口３４Ｋの寸法が開口３５Ｋの寸法と実質的に等しくてもよい。
第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１Ｋは、環状の部材である。第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３に接触しないように配置される。第１部材２１Ｋと終端光学素子１３との間に間隙が形成される。第１部材２１Ｋは、射出面１２と対向しない。なお、第１部材２１Ｋの一部が、射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１Ｋの一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。なお、第１部材２１Ｋは環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。
第２部材２２Ｋは、光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２Ｋは、環状の部材である。第２部材２２Ｋは、第１部材２１Ｋに接触しないように配置される。第２部材２２Ｋと第１部材２１Ｋとの間に間隙が形成される。
第２部材２２Ｋは、第１部材２１Ｋに対して移動可能である。第２部材２２Ｋは、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２Ｋと第１部材２１Ｋとの相対位置は、変化する。第２部材２２Ｋと終端光学素子１３との相対位置は、変化する。
第２部材２２Ｋは、終端光学素子１３の光軸と垂直なＸＹ平面内を移動可能である。第２部材２２Ｋは、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。本実施形態において、第２部材２２Ｋは、少なくともＸ軸方向に移動可能である。なお、第２部材２２Ｋが、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。
本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１Ｋも、実質的に移動しない。
第２部材２２Ｋは、第１部材２１Ｋの少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２Ｋは、第１部材２１Ｋと基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
第２部材２２ＫがＸＹ平面内において移動することにより、第１部材２１Ｋの外側面２９Ｋと第２部材２２Ｋの内側面３０Ｋとの間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２ＫがＸＹ平面内において移動することによって、外側面２９Ｋと内側面３０Ｋとの間の空間の大きさが変化する。例えば、第２部材２２Ｋが−Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９Ｋと内側面３０Ｋとの間隙の寸法が小さくなる（外側面２９Ｋと内側面３０Ｋとの間の空間が小さくなる）。第２部材２２Ｋが＋Ｘ軸方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９Ｋと内側面３０Ｋとの間隙の寸法が大きくなる（外側面２９Ｋと内側面３０Ｋとの間の空間が大きくなる）。
本実施形態においては、第１部材２１Ｋ（外側面２９Ｋ）と第２部材２２Ｋ（内側面３０Ｋ）とが接触しないように、第２部材２２Ｋの移動可能範囲（可動範囲）が定められる。
液浸部材５Ｋは、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給部３１Ｋを有する。液体供給部３１Ｋは、第１部材２１Ｋに配置される。
なお、液体供給部３１Ｋは、第１部材２１Ｋ及び第２部材２２Ｋの両方に配置されてもよい。なお、液体供給部３１Ｋは、第１部材２１Ｋに配置され、第２部材２２Ｋに配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１Ｋは、第２部材２２Ｋに配置され、第１部材２１Ｋに配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１Ｋは、第１部材２１Ｋ及び第２部材２２Ｋとは異なる部材に配置されてもよい。
液体供給部３１Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して流体回収部２４Ｋ及び流体回収部２７Ｋの内側に配置される。本実施形態において、液体供給部３１Ｋは、第１部材２１Ｋの内側面２８Ｋに配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部３１Ｋは、側面１３１に対向するように配置される。液体供給部３１Ｋは、側面１３１と内側面２８Ｋとの間の空間ＳＰ７に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、液体供給部３１Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。
なお、液体供給部３１Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子１３）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部３１Ｋは、一つでもよい。なお、液体供給部３１Ｋのかわりに、あるいは液体供給部３１Ｋに加えて、液体ＬＱを供給可能な液体供給部が下面２３Ｋに設けられてもよい。
本実施形態において、液体供給部（液体供給口）３１Ｋは、第１部材２１Ｋの内部に形成された供給流路３１ＲＫを介して、液体供給装置３１ＳＫと接続される。液体供給装置３１ＳＫは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部３１Ｋに供給可能である。液体供給部３１Ｋは、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置３１ＳＫからの液体ＬＱを供給する。
下面２３Ｋの内側のエッジと上面２５Ｋとの間に、開口４０Ｋが形成される。射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫと、下面２３Ｋと上面２５Ｋとの間の空間ＳＰ５とは、開口４０Ｋを介して結ばれる。本実施形態において、光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２５Ｋとの間の空間を含む。開口４０Ｋは、光路Ｋに面するように配置される。側面１３１と内側面２８Ｋとの間の空間ＳＰ７と、空間ＳＰ５とは、開口４０Ｋを介して結ばれる。
液体供給部３１Ｋからの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０Ｋを介して、下面２３Ｋと上面２５Ｋとの間の空間ＳＰ５に供給される。液浸空間ＬＳを形成するために液体供給部３１Ｋから供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４Ｋ及び開口３５Ｋを介して、射出面１２と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。液体供給部３１Ｋからの液体ＬＱの少なくとも一部は、下面２６Ｋと基板Ｐ（物体）の上面との間の空間ＳＰ６に供給される。
流体回収部２４Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２３Ｋの外側に配置される。流体回収部２４Ｋは、下面２３Ｋの周囲に配置される。流体回収部２４Ｋは、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、流体回収部２４Ｋは、下面２３Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２４Ｋは、下面２３Ｋの周囲において複数配置されてもよい。流体回収部２４Ｋは、空間ＳＰ５に面するように配置される。流体回収部２４Ｋは、空間ＳＰ５から液体ＬＱを回収する。
流体回収部２７Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２６Ｋの外側に配置される。流体回収部２７Ｋは、下面２６Ｋの周囲に配置される。流体回収部２７Ｋは、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、流体回収部２７Ｋは、下面２６Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。例えば、流体回収部２７Ｋは、下面２６Ｋの周囲において複数配置されてもよい。流体回収部２７Ｋは、空間ＳＰ６に面するように配置される。流体回収部２７Ｋは、空間ＳＰ６から液体ＬＱを回収する。
流体回収部２７Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１Ｋの外側に配置される。流体回収部２７Ｋは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して空間ＳＰ５の外側に配置される。
本実施形態においては、上面２５Ｋ側の空間ＳＰ５及び下面２６Ｋ側の空間ＳＰ６の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。空間ＳＰ５と空間ＳＰ６とは、第２部材２２Ｋによって仕切られている。空間ＳＰ５の液体ＬＱは、開口３５Ｋを介して空間ＳＰ６に移動できる。空間ＳＰ５の液体ＬＱは、開口３５Ｋを介さずに空間ＳＰ６に移動できない。光路Ｋに対して開口３５Ｋよりも外側の空間ＳＰ５に存在する液体ＬＱは、空間ＳＰ６に移動できない。空間ＳＰ６の液体ＬＱは、開口３５Ｋを介して空間ＳＰ５に移動できる。空間ＳＰ６の液体ＬＱは、開口３５Ｋを介さずに空間ＳＰ５に移動できない。光路Ｋに対して開口３５Ｋよりも外側の空間ＳＰ６に存在する液体ＬＱは、空間ＳＰ５に移動できない。すなわち、本実施形態において、液浸部材５Ｋは、開口３５Ｋ以外に、空間ＳＰ５と空間ＳＰ６とを流体的に接続する流路を有しない。
本実施形態において、流体回収部２７Ｋは、空間ＳＰ６から液体ＬＱを回収し、空間ＳＰ５の液体ＬＱを回収しない。流体回収部２４Ｋは、空間ＳＰ５から液体ＬＱを回収し、空間ＳＰ６の液体ＬＱを回収しない。
また、光路Ｋに対して空間ＳＰ５の外側（外側面２９Ｋの外側）に移動した液体ＬＱは、内側面３０Ｋによって、基板Ｐ上（空間ＳＰ５）に移動することが抑制される。
流体回収部２４Ｋは、第１部材２１Ｋの下面２３Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。流体回収部２４Ｋは、上面２５Ｋに対向するように配置される。流体回収部２４Ｋは、第１部材２１Ｋの内部に形成された回収流路（空間）２４ＲＫを介して、液体回収装置２４ＣＫと接続される。液体回収装置２４ＣＫは、流体回収部２４Ｋと真空システム（不図示）とを接続可能である。流体回収部２４Ｋは、空間ＳＰ５から液体Ｌを回収可能である。空間ＳＰ５の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２４Ｋを介して回収流路２４ＲＫに流入可能である。
本実施形態において、流体回収部２４Ｋは、多孔部材を含み、流体回収口は、多孔部材の孔を含む。本実施形態において、多孔部材は、メッシュプレートを含む。流体回収部２４Ｋは、多孔部材の孔を介して液体ＬＱを回収する。流体回収部２４Ｋ（多孔部材の孔）から回収された空間ＳＰ５の液体ＬＱは、回収流路２４ＲＫに流入し、その回収流路２４ＲＫを流れて、液体回収装置２４ＣＫに回収される。
流体回収部２７Ｋは、第２部材２２Ｋの下面２６Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。流体回収部２７Ｋは、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置される。流体回収部２７Ｋは、第２部材２２Ｋの内部に形成された回収流路（空間）２７ＲＫを介して、液体回収装置２７ＣＫと接続される。液体回収装置２７ＣＫは、流体回収部２７Ｋと真空システム（不図示）とを接続可能である。流体回収部２７Ｋは、空間ＳＰ６の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。空間ＳＰ６の液体ＬＱの少なくとも一部は、流体回収部２７Ｋを介して回収流路２７ＲＫに流入可能である。したがって、流体回収部２７Ｋを、液体回収部２７Ｋと呼んでもよい。
本実施形態において、流体回収部２７Ｋは、多孔部材を含み、流体回収口は、多孔部材の孔を含む。本実施形態において、多孔部材は、メッシュプレートを含む。液体回収部２７Ｋは、多孔部材の孔を介して流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収する。流体回収部２７Ｋ（多孔部材の孔）から回収された空間ＳＰ６の液体ＬＱは、回収流路２７ＲＫに流入し、その回収流路２７ＫＲを流れて、液体回収装置２７ＣＫに回収される。
回収流路２７ＲＫは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して内側面３０Ｋの外側に配置される。回収流路２７ＲＫは、液体回収部２７Ｋの上方に配置される。第２部材２２Ｋが移動することにより、第２部材２２Ｋの流体回収部２７Ｋ及び回収流路２７ＲＫが、第１部材２１Ｋの外側面２９Ｋの外側で移動する。
流体回収部２７Ｋを介して液体ＬＱとともに気体が回収される。なお、第２部材２２Ｋに多孔部材が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに空間ＳＰ６の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。
本実施形態においては、液体供給部３１Ｋからの液体ＬＱの供給動作と並行して、流体回収部２７Ｋからの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５Ｋと、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
また、本実施形態においては、液体供給部３１Ｋからの液体ＬＱの供給動作、及び流体回収部２７Ｋからの流体の回収動作と並行して、流体回収部２４Ｋからの流体の回収動作が実行される。
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ５が、第１部材２１Ｋと第２部材２２Ｋとの間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ６が、第２部材２２Ｋと基板Ｐ（物体）との間に形成される。液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧ７が、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。
本実施形態において、第２部材２２Ｋは、液浸空間ＬＳの周囲の少なくとも一部に気体Ｇを供給する気体供給部６１Ｋを有する。基板Ｐ（物体）は、気体供給部６１Ｋと対向可能である。気体供給部６１Ｋは、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。気体供給部６１Ｋは、光路Ｋ（開口３５の中心）に対して流体回収部２７Ｋの外側に配置される。気体供給部６１Ｋは、流体回収部２７Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。流体回収部２７Ｋは、第２部材２２Ｋに複数設けられ、気体Ｇを供給可能な開口（気体供給口）を含む。図２６に示すように、本実施形態において、気体供給部６１Ｋは、光路Ｋ（開口３５Ｋの中心）に対して流体回収部２７Ｋの外側で、光路Ｋ（開口３５Ｋの中心）を囲むように複数配置される。
気体供給部６１Ｋは、第２部材２２Ｋの内部に形成された供給流路（空間）６１ＲＫを介して、気体供給装置６１ＳＫと接続される。気体供給装置６１ＳＫは、クリーンで温度調整された気体Ｇを送出可能である。また、気体供給装置６１ＳＫは、供給する気体Ｇの湿度を調整可能な湿度調整装置を含み、加湿された気体Ｇを供給可能である。気体供給装置６１ＳＫから送出された気体Ｇは、供給流路６１ＲＫを介して、気体供給部６１Ｋに供給される。気体供給部６１Ｋは、気体供給装置６１ＳＫからの気体Ｇを、液浸空間ＬＳの周囲の少なくとも一部に供給する。本実施形態において、気体供給部６１Ｋは、液体ＬＱの界面ＬＧ６の周囲の少なくとも一部に気体Ｇを供給する。
次に、本実施形態に係る液浸部材５Ｋの動作の一例について説明する。上述の実施形態と同様、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動される。第２部材２２及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動される期間の少なくとも一部において、気体供給部６１Ｋから気体Ｇが供給される。
気体供給部６１Ｋは、液浸空間ＬＳが形成されている状態において、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出が抑制されるように、気体Ｇを供給する。
図２７は、気体供給部６１Ｋの気体供給動作の一例を示す模式図である。図２７は、第２部材２２Ｋを下面側から見た図である。本実施形態においては、第２部材２２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づいて、気体供給部６１Ｋからの気体供給条件が定められる。
例えば基板Ｐが静止している状態で、第２部材２２Ｋが−Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向に移動する場合、図２７（Ａ）に示すように、ＸＹ平面内において、液浸空間ＬＳは、第２部材２２Ｋの中心に対して＋Ｘ側及び−Ｙ側に移動する。つまり、液体ＬＱの界面ＬＧ６が第２部材２２Ｋの＋Ｘ側及び−Ｙ側のエッジに近づくように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとが相対移動する。換言すれば、液体ＬＱが第２部材２２Ｋの＋Ｘ側及び−Ｙ側のエッジから流出するように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとが相対移動する。また、例えば第２部材２２が静止している状態で、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ軸方向に移動しつつ−Ｙ軸方向に移動する場合においても、図２７（Ａ）に示すように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとの相対位置が変化する。
また、例えば基板Ｐが静止している状態で、第２部材２２Ｋが＋Ｘ軸方向に移動しつつ−Ｙ軸方向に移動する場合、図２７（Ｂ）に示すように、ＸＹ平面内において、液浸空間ＬＳは、第２部材２２Ｋの中心に対して−Ｘ側及び＋Ｙ側に移動する。つまり、液体ＬＱの界面ＬＧ６が第２部材２２Ｋの−Ｘ側及び＋Ｙ側のエッジに近づくように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとが相対移動する。換言すれば、液体ＬＱが第２部材２２Ｋの−Ｘ側及び＋Ｙ側のエッジから流出するように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとが相対移動する。また、例えば第２部材２２が静止している状態で、基板Ｐ（物体）が−Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向に移動する場合においても、図２７（Ｂ）に示すように、第２部材２２Ｋと液浸空間ＬＳとの相対位置が変化する。
すなわち、ＸＹ平面内における第２部材２２Ｋの移動方向に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置及び流出方向の少なくとも一方が変化する。また、ＸＹ平面内における基板Ｐ（物体）の移動方向に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置及び流出方向の少なくとも一方が変化する。
また、ＸＹ平面内における第２部材２２Ｋの移動軌跡に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置及び流出方向の少なくとも一方が変化する。また、ＸＹ平面内における基板Ｐ（物体）の移動軌跡に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置及び流出方向の少なくとも一方が変化する。
また、ＸＹ平面内における第２部材２２Ｋの移動速度又は加速度に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つが変化する。また、ＸＹ平面内における基板Ｐ（物体）の移動速度又は加速度に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一方が変化する。
すなわち、第２部材２２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つが決定される。第２部材２２Ｋの移動条件は、第２部材２２Ｋの移動速度、加速度、移動方向、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。基板Ｐ（物体）の移動条件は、基板Ｐ（物体）の移動速度、加速度、移動方向、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む。
そのため、制御装置６は、第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つを推測（推定）することができる。
第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件は、露光レシピ（露光制御情報）によって規定される。すなわち、第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件は、既知の情報である。したがって、制御装置６は、既知の情報である第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づいて、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つを推測（推定）することができる。
第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づく液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つは、例えばシミュレーションを用いて求めることができるし、実験によって求めることもできる。すなわち、第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方と、液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つとの関係は、シミュレーション又は実験によって事前に求めることができる。その情報は記憶装置７に記憶される。制御装置６は、記憶装置７の情報と、露光レシピで定められる第２部材２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方とに基づいて、空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つを求める（推測する）ことができる。
制御装置６は、第２部材２２の移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方から推測される、液浸部材５Ｋと基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ６からの液体ＬＱの流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つに関する情報に基づいて、気体供給部６１Ｋの気体供給条件を定める。
例えば、図２７（Ａ）に示すように、液体ＬＱが第２部材２２Ｋの＋Ｘ側及び−Ｙ側のエッジから流出するように第２部材２２Ｋ及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動する場合、制御装置６は、その液体ＬＱの流出が抑制されるように、複数の気体供給部６１Ｋそれぞれの気体供給条件を定める。図２７（Ａ）に示す例では、複数の気体供給部６１Ｋのうち、第２部材２２Ｋの＋Ｘ側及び−Ｙ側のエッジに配置されている気体供給部６１Ｋから気体Ｇを供給する。また、図２７（Ｂ）に示すように、液体ＬＱが第２部材２２Ｋの−Ｘ側及び＋Ｙ側のエッジから流出するように第２部材２２Ｋ及び基板Ｐ（物体）の一方又は両方が移動する場合、制御装置６は、その液体ＬＱの流出が抑制されるように、複数の気体供給部６１Ｋのうち、第２部材２２Ｋの−Ｘ側及び＋Ｙ側のエッジに配置されている気体供給部６１Ｋから気体Ｇを供給する。
なお、制御装置６は、液体ＬＱの流出が抑制されるように、気体供給部６１Ｋの気体供給条件として、気体供給部６１Ｋからの供給方向、供給範囲、供給する気体Ｇの流速、及び気体供給の有無の少なくとも一つを定めてもよい。
なお、液浸部材５Ｋ（第２部材２２Ｋ）とは別の部材に、気体供給部６１Ｋが設けられた気体供給部材を配置してもよい。その気体供給部材は、第２部材２２Ｋと接触しないように、第２部材２２Ｋの移動条件に基づいて、移動してもよい。制御装置６は、第２部材２２Ｋの移動条件及び基板Ｐ（物体）の移動条件の一方又は両方に基づいて、液体ＬＱの流出が抑制されるように、気体供給部６１Ｋ（気体供給部材）の位置を定めてもよい。
以上説明したように、本実施形態においても、液体ＬＱの流出を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、本実施形態において、図２８に示すように、下面２６Ｋと流体回収部２７Ｋとが同一平面内に配置されてもよい。
なお、上述の第１１実施形態において、図２９に示すように、第１部材２１Ｋの少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１Ｋの一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。
図２９に示す例において、第１部材２１Ｋは、開口３４Ｋの周囲に配置された上面４４Ｋを有する。開口３４Ｋの上端の周囲に上面４４Ｋが配置される。また、図２９に示す例では、第２部材２２Ｋの上面２５Ｋの一部も、射出面１２と対向する。
なお、上述の各実施形態において、図２９に示すように、空間ＳＰ５に面するように液体供給部（液体供給口）３１００が設けられてもよい。図２９に示す例において、液体供給部３１００は、空間ＳＰ５に面するように第１部材２１Ｋの下面２３Ｋに配置される。なお、液体供給部３１００は、空間ＳＰ５に面するように第２部材２２Ｋの上面２５Ｋに配置されてもよい。
液体供給部３１００から液体ＬＱが供給されることにより、例えば空間ＳＰ７に面する液体供給部３１Ｋから供給された液体ＬＱが空間ＳＰ５に流入しなくても、空間ＳＰ５が液体ＬＱで満たされる。
なお、上述の第１１実施形態において、第２部材２２Ｋが、射出面１２と対向しなくてもよい。すなわち、第２部材２２Ｋが、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されなくてもよい。例えば、図３０に示すように、第１部材２１Ｋの下面２３Ｋが、射出面１２よりも＋Ｚ側に配置されてもよい。なお、Ｚ軸方向に関する第１部材２１Ｋの下面２３Ｋの位置（高さ）と射出面１２の位置（高さ）とが実質的に等しくてもよい。第１部材２１Ｋの下面２３Ｋが、射出面１２よりも−Ｚ側に配置されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材（２２など）の下面との間隙の寸法と実質的に等しくてもよい。
なお、上述の各実施形態において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と第２部材（２２など）の下面との間隙の寸法よりも小さくてもよい。
なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）と終端光学素子１３との間の空間から液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方を吸引する吸引口を第１部材２１に設けてもよい。
なお、上述の各実施形態において、第１部材（２１など）は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。
なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部、及び第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され基板の表面と対向可能な第１液体供給部が第１部分に設けられた第１部材と、基板の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して第１液体回収部の外側に配置され物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び光学部材の光軸に対する放射方向に関して光路と第１液体回収部との間に配置され物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、第１部材に配置され、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、露光光が通過可能な第１開口部が第１部分に設けられた第１部材と、物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、光路に対して第１部分の外側で第１部材に対して移動可能な第２部材と、物体上から第１部材と第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備え、第１部材と第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、光学部材の光軸に対して第１間隙部分の外側に配置され、第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、第２液体回収部は、第１間隙部分から液体を回収可能な液浸部材を用いて、基板の表面上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が第１部材の下方において物体と対向可能に配置され、第１部材に対して可動な第２部材と、を有する第１液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、気体供給部から液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給することと、を実行させてもよい。
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされている。しかし、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととした。しかし、基板Ｐは、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとした。しかし、露光装置ＥＸは、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図３１に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いた。しかし、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、４１…第１液体供給部、４２…第２液体供給部、４３…第３液体供給部、５１…第１液体回収部、５２…第２液体回収部、５３…第３液体回収部、６１…第１気体供給部、６２…第２気体供給部、２１１…第１部分、２１２…第２部分、ＡＸ…光軸、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｇ…気体、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。

Claims (81)

  1. 液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部、及び前記第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され前記物体の表面と対向可能な第１液体供給部が前記第１部分に設けられた第１部材と、
    前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材。
  2. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記第１液体回収部の外側に配置され前記物体の表面と対向可能な第１気体供給部をさらに有する
    請求項１に記載の液浸部材。
  3. 液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、
    前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記第１液体回収部の外側に配置され前記物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材。
  4. 前記第１気体供給部は、前記液浸空間の外側で、前記気体を供給する
    請求項２又は３に記載の液浸部材。
  5. 前記第１気体供給部は、加湿された気体を供給する
    請求項２〜４のいずれか一項に記載の液浸部材。
  6. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記光路と前記第１液体回収部との間に配置され前記物体の表面と対向可能な第２液体供給部をさらに有する
    請求項１〜５のいずれか一項に記載の液浸部材。
  7. 液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、
    前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記光路と前記第１液体回収部との間に配置され前記物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材。
  8. 前記第１液体回収部は、前記第２液体供給部からの前記液体の少なくとも一部を回収可能である
    請求項６又は７に記載の液浸部材。
  9. 前記液浸空間の液体の界面が前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記第２液体供給部と前記第１液体回収部との間に維持される
    請求項６〜８のいずれか一項に記載の液浸部材。
  10. 前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部をさらに有する
    請求項１〜９のいずれか一項に記載の液浸部材。
  11. 前記第２液体回収部は、前記第１部材に配置される
    請求項１０に記載の液浸部材。
  12. 液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、
    前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記第１部材に配置され、前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材。
  13. 前記第１部材は、前記第１部分の上方に配置される第２部分をさらに含み、
    前記第２液体回収部は、前記第２部分に配置される
    請求項１１又は１２に記載の液浸部材。
  14. 前記第１部材と前記第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、前記光学部材の光軸に対して前記第１間隙部分の外側に形成され、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、
    前記第２液体回収部は、前記第１間隙部分から液体を回収可能である
    請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
  15. 液浸露光装置で用いられ、露光光を射出する光学部材の射出面と対向する物体の表面上に液浸空間を形成可能な液浸部材であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、
    前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、
    前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能である第２液体回収部と、を備え、
    前記第１部材と前記第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、前記光学部材の光軸に対して前記第１間隙部分の外側に配置され、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、
    前記第２液体回収部は、前記第１間隙部分から液体を回収可能である液浸部材。
  16. 前記第２部材は、所定面内を移動可能であり、
    前記第２間隙部分を規定する前記第１部材の第１対向面と前記第２部材の第２対向面とは、前記所定面と実質的に平行である
    請求項１４又は１５に記載の液浸部材。
  17. 前記第２液体回収部は、前記第１部材に配置される
    請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の液浸部材。
  18. 前記第１部材と前記第２部材との間隙の一端は、前記物体の表面と対向するように配置され、
    前記第１部材と前記第２部材との間隙の前記一端から、前記物体上の液体が前記間隙に流入可能である
    請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
  19. 前記第１部材と前記第２部材との間隙は、前記間隙の他端を介して外部空間に通ずる
    請求項１８に記載の液浸部材。
  20. 前記第１部材と前記第２部材との間隙の他端は、前記物体の表面と対向しないように配置される
    請求項１８又は１９に記載の液浸部材。
  21. 前記第１部材と前記第２部材との間隙の他端は、前記間隙の前記一端よりも高い位置に配置される
    請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の液浸部材。
  22. 前記第１部材と前記第２部材との間隙の他端は、前記物体上の液体と接触しない
    請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の液浸部材。
  23. 前記第１部材と前記第２部材との間隙に面する前記第１部材の表面及び前記第２部材の表面の一方又は両方の少なくとも一部は、液体に対して撥液性である
    請求項１〜２２のいずれか一項に記載の液浸部材。
  24. 前記物体の表面と対向可能な前記第１部分の第１下面、及び前記第２部材の第２下面は、前記光学部材の光軸と垂直な平面とほぼ平行である
    請求項１〜２３のいずれか一項に記載の液浸部材。
  25. 前記物体の表面と対向可能な前記第１部分の第１下面と、前記第２部材の第２下面とは、同一平面内に配置される
    請求項１〜２４のいずれか一項に記載の液浸部材。
  26. 前記物体の表面と対向可能な前記第１部分の第１下面、及び前記第２部材の第２下面は、前記射出面よりも下方に配置される
    請求項１〜２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
  27. 前記第１部材は、前記第１部材と前記光学部材との間隙に液体を供給する第３液体供給部をさらに有する
    請求項１〜２６のいずれか一項に記載の液浸部材。
  28. 前記第３液体供給部は、前記第１部分に配置される
    請求項２７に記載の液浸部材。
  29. 前記第３液体供給部は、前記光学部材の外面と対向するように前記第１部材に配置される
    請求項２７又は２８に記載の液浸部材。
  30. 前記第１部材は、前記光学部材の外面と対向するように配置され、前記光学部材と前記第１部材との間隙から液体を回収可能である第３液体回収部をさらに有し、
    前記第３液体供給部は、前記光学部材の光軸に対して一側に配置され、
    前記第３液体回収部は、前記光学部材の光軸に対して他側に配置される
    請求項２９に記載の液浸部材。
  31. 前記第１部材は、前記第１部材と前記光学部材との間隙から液体を回収可能である第３液体回収部をさらに有する
    請求項１〜２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
  32. 前記第３液体回収部は、前記第１部分に配置される
    請求項３１に記載の液浸部材。
  33. 前記第３液体回収部は、前記光学部材の外面と対向するように配置され、前記光学部材と前記第１部材との間隙から液体を回収可能である
    請求項３１又は３２に記載の液浸部材。
  34. 前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動される
    請求項１〜３３のいずれか一項に記載の液浸部材。
  35. 前記物体の移動条件に基づいて、前記第２部材は移動される
    請求項１〜３４のいずれか一項に記載の液浸部材。
  36. 前記液浸空間が形成されている状態において、前記第２部材は移動される
    請求項１〜３５のいずれか一項に記載の液浸部材。
  37. 前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部材は移動される
    請求項１〜３６のいずれか一項に記載の液浸部材。
  38. 前記第１部材の前記第１部分は、前記第１部材の最下部を含む
    請求項１〜３７のいずれか一項に記載の液浸部材。
  39. 前記第１部材の前記第１部分は、前記第１部材の、前記物体の表面と最も接近する部位を含む
    請求項１〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
  40. 前記第１部材の前記第１部分は、前記光学部材の射出面よりも下方に配置される
    請求項１〜３９のいずれか一項に記載の液浸部材。
  41. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    請求項１〜４０のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
  42. 前記光路に対して前記第２部材の外側に配置され、前記物体の表面と対向可能な第２気体供給部を有する第３部材をさらに備える
    請求項４１に記載の露光装置。
  43. 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
    前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
    前記光学部材の下方で移動可能な物体上に前記液体の液浸空間を形成可能であり、前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方において前記物体と対向可能に配置され、前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を有する液浸部材と、
    前記液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給する気体供給部と、
    を備える露光装置。
  44. 前記液浸空間が形成されている状態で、前記第２部材及び前記物体の一方又は両方が移動され、
    前記第２部材及び前記物体の一方又は両方が移動される期間の少なくとも一部において、前記気体供給部から前記気体が供給される
    請求項４３に記載の露光装置。
  45. 前記第２部材の移動条件及び前記物体の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記気体供給部からの気体供給条件が定められる
    請求項４３又は４４に記載の露光装置。
  46. 前記第２部材の移動条件及び前記物体の移動条件の一方又は両方から推測される、前記液浸部材と前記物体との間の空間からの前記液体の流出位置、流出方向、及び流出量の少なくとも一つに関する情報に基づいて、前記気体供給部の気体供給条件が定められる
    請求項４３〜４５のいずれか一項に記載の露光装置。
  47. 前記気体供給部の気体供給条件は、前記気体供給部からの供給方向、供給範囲、供給する気体の流速、及び気体供給の有無の少なくとも一つを含む
    請求項４５又は４６に記載の露光装置。
  48. 前記第２部材の移動条件及び前記物体の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記気体供給部の位置が定められる
    請求項４３〜４７のいずれか一項に記載の露光装置。
  49. 前記第２部材の移動条件は、前記第２部材の移動速度、加速度、移動方向、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む
    請求項４３〜４８のいずれか一項に記載の露光装置。
  50. 前記物体の移動条件は、前記物体の移動速度、加速度、移動方向、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む
    請求項４３〜４９のいずれか一項に記載の露光装置。
  51. 前記気体供給部は、前記液浸部材と前記物体との間の空間からの前記液体の流出が抑制されるように、前記気体を供給する
    請求項４３〜５０のいずれか一項に記載の露光装置。
  52. 前記液浸部材に配置され、前記物体と対向可能な液体回収部をさらに有し、
    前記気体供給部は、前記光路に対して前記液体回収部の外側に配置される
    請求項４３〜５１のいずれか一項に記載の露光装置。
  53. 前記液体回収部は、前記第２部材に配置される
    請求項５２に記載の露光装置。
  54. 前記気体供給部は、前記物体と対向可能に配置される
    請求項４３〜５３のいずれか一項に記載の露光装置。
  55. 前記気体供給部は、前記液浸部材に配置される
    請求項４３〜５４のいずれか一項に記載の露光装置。
  56. 前記気体供給部は、前記第２部材に配置される
    請求項５５に記載の露光装置。
  57. 前記第２部材は、前記物体との相対速度が小さくなるように移動される
    請求項４１〜５６のいずれか一項に記載の露光装置。
  58. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対速度が、前記第１部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように移動される
    請求項４１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置。
  59. 前記第２部材は、前記物体との相対加速度が小さくなるように移動される
    請求項４１〜５８のいずれか一項に記載の露光装置。
  60. 前記第２部材は、前記第２部材と前記物体との相対加速度が、前記第１部材と前記物体との相対加速度よりも小さくなるように移動される
    請求項４１〜５９のいずれか一項に記載の露光装置。
  61. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
    前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第１軸と実質的に平行な第１方向への移動を含み、
    前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第１軸と直交する第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
    前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向に移動される
    請求項４１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置。
  62. 前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない
    請求項６１に記載の露光装置。
  63. 前記基板は、前記第２経路を移動された後に、第３経路を移動され、
    前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
    前記可動部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動される
    請求項６１又は６２に記載の露光装置。
  64. 前記物体は、前記基板を含み、
    前記液浸空間が形成された状態で、前記基板がスキャン方向にスキャン移動しながら前記基板の第１ショット領域が露光された後、第２ショット領域が露光開始位置に配置されるように前記基板がステップ方向にステップ移動し、
    前記基板のステップ移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に同方向に移動される
    請求項４１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置。
  65. 前記基板のスキャン移動の少なくとも一部において、前記第２部材は、前記ステップ方向と実質的に逆方向に移動される
    請求項６４に記載の露光装置。
  66. 前記物体は、前記基板を保持して移動可能な基板ステージを含む
    請求項４１〜６５のいずれか一項に記載の露光装置。
  67. 請求項４１〜６６のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
  68. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部、及び前記第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され前記基板の表面と対向可能な第１液体供給部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記基板の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
  69. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記第１液体回収部の外側に配置され前記物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
  70. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記光路と前記第１液体回収部との間に配置され前記物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
  71. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材に配置され、前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
  72. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、前記光学部材の光軸に対して前記第１間隙部分の外側に配置され、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、前記第２液体回収部は、前記第１間隙部分から液体を回収可能な液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
  73. 露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方において前記物体と対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有する第１液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    気体供給部から前記液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給することと、を含む露光方法。
  74. 請求項６８〜７３のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
  75. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部、及び前記第１開口部の周囲の少なくとも一部に配置され前記基板の表面と対向可能な第１液体供給部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記基板の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
  76. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記第１液体回収部の外側に配置され前記物体の表面と対向可能な第１気体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
  77. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部、及び前記光学部材の光軸に対する放射方向に関して前記光路と前記第１液体回収部との間に配置され前記物体の表面と対向可能な第２液体供給部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
  78. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記第１部材に配置され、前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能な第２液体回収部と、を備える液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
  79. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲に配置される第１部分を含み、前記露光光が通過可能な第１開口部が前記第１部分に設けられた第１部材と、前記物体の表面と対向可能な第１液体回収部を有し、前記光路に対して前記第１部分の外側で前記第１部材に対して移動可能な第２部材と、前記物体上から前記第１部材と前記第２部材との間隙に流入した液体の少なくとも一部を回収可能である第２液体回収部と、を備え、前記第１部材と前記第２部材との間隙は、第１寸法の第１間隙部分と、前記光学部材の光軸に対して前記第１間隙部分の外側に配置され、前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２間隙部分と、を含み、前記第２液体回収部は、前記第１間隙部分から液体を回収可能である液浸部材を用いて、前記基板の表面上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
  80. コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
    前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下方において前記物体と対向可能に配置され、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を有する第１液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
    前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、
    気体供給部から前記液浸空間の周囲の少なくとも一部に気体を供給することと、を実行させるプログラム。
  81. 請求項７５〜８０のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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