JP4410121B2 - 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 - Google Patents
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Description
前記インターフェイス部は、
液浸露光後の基板に対して洗浄を行う基板洗浄ユニットと、
露光装置からの基板を基板洗浄ユニットに搬送するための専用の保持体と、露光装置に基板を搬送するための専用の保持体とを備えた第1の搬送機構と、
前記基板洗浄ユニットから基板を搬出して処理ブロックへ搬送する第2の搬送機構と、を備えたことを特徴とする。
また他の発明では、前記インターフェイス部は、
液浸露光後の基板に対して洗浄を行う基板洗浄ユニットと、
露光装置からの基板を基板洗浄ユニットに搬送する保持体を備えた第1の搬送機構と、
前記基板洗浄ユニットから基板を搬出して処理ブロックへ搬送する第2の搬送機構と、
液浸露光された基板の乾燥を抑えるために第1の搬送機構に組み合わせて設けられ、基板洗浄ユニットに搬送される基板の周囲の雰囲気を加湿する湿度制御ユニットと、を備えたことを特徴とする。
レジストが塗布された基板を、前記インターフェイス部に設けられた第1の搬送機構の一の専用の保持体により露光装置に搬送する工程と、
液浸露光された後の基板を前記第1の搬送機構における前記保持体とは別の他の専用の保持体により、前記インターフェイス部に設けられた基板洗浄ユニットに搬送する工程と、
前記基板洗浄ユニットにおいて基板の洗浄を行う工程と、
前記基板洗浄ユニットから洗浄された基板を第2の搬送機構により処理ブロックに搬出する工程と、
を含むことを特徴とする。
また他の発明は、液浸露光された後の基板を前記インターフェイス部に設けられた第1の搬送機構により基板洗浄ユニットに搬送する工程と、
前記第1の搬送機構に組み合わせて設けられた湿度制御ユニットにより、基板洗浄ユニットに搬送される基板の周囲の雰囲気を加湿する工程と、
前記基板洗浄ユニットにおいて基板の洗浄を行う工程と、
前記基板洗浄ユニットから洗浄された基板を第2の搬送機構により処理ブロックに搬出する工程と、を含むことを特徴とする
なお、本明細書では基板を搬送する搬送機構において基板に接触して当該基板を保持する部分をアーム体、当該アーム体を支持して移動させる部分を搬送基体と記載し、アーム体及び搬送基体が含まれた搬送機構を搬送アームと記載する。
載置台74の周囲には、例えば3本のピン75が昇降部材75aを介して駆動機構75bにより昇降できるように設けられている。ピン75を昇降させることで、アーム体53と載置台74との間でウエハWを受け渡すことができる。また当該載置台74を囲むようにカップ体76が設けられており、カップ体76の下部はドレイン管77に連通している。このドレイン管77は前記ドレイン管67と連通しており、その端部はバルブ77aを介して例えばエジェクターポンプなどの吸引手段78に接続されている。
また搬送アーム5は、露光装置B4からのウエハWの受け取りと露光装置B4へのウエハWの受け渡しとを別々のアーム体53(54)で行っている。即ち搬送アーム5に備えられたアーム体54は既述の液浸露光を受けたウエハWの保持には関与しないため、当該搬送アーム5は処理部B2から搬送されたウエハWに対して液滴やパーティクルを付着させることなく露光装置B4に搬送することができる。従って露光装置B4におけるパーティクルの蓄積をより確実に抑えることができる。
B2 処理部
B3 インターフェイス部
B4 露光装置
3A 3B 搬送室
3C 湿度制御ユニット
33 5 7 8 搬送アーム
6 洗浄ユニット
Claims (11)
- 複数枚の基板を収納したキャリアが外部から搬入されると共に、現像処理後の基板をキャリアに収納して外部に搬出するためのキャリアステーションと、このキャリアステーションに搬入された基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニット及び露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットが設けられた処理ブロックと、レジストが塗布された基板を前記処理ブロックから受け取って、基板の表面に液層を形成して液浸露光を行う露光装置に受け渡すと共に露光された基板を前記露光装置から受け取って処理ブロックに受け渡すために設けられ、前記露光装置に接続されるインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置において、
前記インターフェイス部は、
液浸露光後の基板に対して洗浄を行う基板洗浄ユニットと、
露光装置からの基板を基板洗浄ユニットに搬送するための専用の保持体と、露光装置に基板を搬送するための専用の保持体とを備えた第1の搬送機構と、
前記基板洗浄ユニットから基板を搬出して処理ブロックへ搬送する第2の搬送機構と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 複数枚の基板を収納したキャリアが外部から搬入されると共に、現像処理後の基板をキャリアに収納して外部に搬出するためのキャリアステーションと、このキャリアステーションに搬入された基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニット及び露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットが設けられた処理ブロックと、レジストが塗布された基板を前記処理ブロックから受け取って、基板の表面に液層を形成して液浸露光を行う露光装置に受け渡すと共に露光された基板を前記露光装置から受け取って処理ブロックに受け渡すために設けられ、前記露光装置に接続されるインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置において、
前記インターフェイス部は、
液浸露光後の基板に対して洗浄を行う基板洗浄ユニットと、
露光装置からの基板を基板洗浄ユニットに搬送する保持体を備えた第1の搬送機構と、
前記基板洗浄ユニットから基板を搬出して処理ブロックへ搬送する第2の搬送機構と、
液浸露光された基板の乾燥を抑えるために第1の搬送機構に組み合わせて設けられ、基板洗浄ユニットに搬送される基板の周囲の雰囲気を加湿する湿度制御ユニットと、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記第2の搬送機構は、処理ブロックからの基板を第1の搬送機構に受け渡し、第1の搬送機構は当該基板を露光装置へ受け渡すことを特徴とする請求項1または2記載の塗布、現像装置。
- 前記第2の搬送機構は、基板洗浄ユニットから基板を取り出す搬送アームと、この搬送アームから基板を受け取って処理ブロックに受け渡す搬送アームと、からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記第1の搬送機構における、基板を基板洗浄ユニットに搬送する保持体を洗浄するための保持体洗浄ユニットが前記インターフェイス部に設けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記基板洗浄ユニットに前記保持体洗浄ユニットが組み合わせて設けられていることを特徴とする請求項5に記載の塗布、現像装置。
- 基板洗浄ユニット内への搬送アームの進入路に対向する位置に保持体洗浄ユニットが設けられていることを特徴とする請求項6記載の塗布、現像装置。
- 複数枚の基板を収納したキャリアが外部から搬入されると共に、現像処理後の基板をキャリアに収納して外部に搬出するためのキャリアステーションと、このキャリアステーションに搬入された基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニット及び露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットが設けられた処理ブロックと、レジストが塗布された基板を前記処理ブロックから受け取って、基板の表面に液層を形成して液浸露光を行う露光装置に受け渡すと共に露光された基板を前記露光装置から受け取って処理ブロックに受け渡すために設けられ、前記露光装置に接続されるインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置を用い、
レジストが塗布された基板を、前記インターフェイス部に設けられた第1の搬送機構の一の専用の保持体により露光装置に搬送する工程と、
液浸露光された後の基板を前記第1の搬送機構における前記保持体とは別の他の専用の保持体により、前記インターフェイス部に設けられた基板洗浄ユニットに搬送する工程と、
前記基板洗浄ユニットにおいて基板の洗浄を行う工程と、
前記基板洗浄ユニットから洗浄された基板を第2の搬送機構により処理ブロックに搬出する工程と、
を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 複数枚の基板を収納したキャリアが外部から搬入されると共に、現像処理後の基板をキャリアに収納して外部に搬出するためのキャリアステーションと、このキャリアステーションに搬入された基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニット及び露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットが設けられた処理ブロックと、レジストが塗布された基板を前記処理ブロックから受け取って、基板の表面に液層を形成して液浸露光を行う露光装置に受け渡すと共に露光された基板を前記露光装置から受け取って処理ブロックに受け渡すために設けられ、前記露光装置に接続されるインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置を用い、
液浸露光された後の基板を前記インターフェイス部に設けられた第1の搬送機構により基板洗浄ユニットに搬送する工程と、
前記第1の搬送機構に組み合わせて設けられた湿度制御ユニットにより、基板洗浄ユニットに搬送される基板の周囲の雰囲気を加湿する工程と、
前記基板洗浄ユニットにおいて基板の洗浄を行う工程と、
前記基板洗浄ユニットから洗浄された基板を第2の搬送機構により処理ブロックに搬出する工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 前記第1の搬送機構における、基板を基板洗浄ユニットに搬送する保持体を保持体洗浄ユニットにより洗浄する工程を含むことを特徴とする請求項8または9記載の塗布、現像方法。
- 基板洗浄ユニット内への搬送アームの進入路に対向する位置に保持体洗浄ユニットが設けられていることを特徴とする請求項10記載の塗布、現像方法。
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