JP2007142428A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影系PLと基板との間に液体を供給する液体供給システムには、液体を封じ込めるためのバリア部材12が設けられているが、当該バリア部材12を投影系PLに相対的にかつ基板から独立に移動し得るような大きさに形成することにより、当該バリア部材12と基板との間の相対速度を低減し、これにより投影系PLに対する基板の速度を増加させることができる。
【選択図】図7
Description
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、を備え、
前記液体供給システムの少なくとも一部は、前記投影系及び基板に独立して前記投影系及び基板に対して基板上面に実質的に平行な少なくとも1つの方向に移動可能である露光装置が提供される。
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系を取り巻き、前記投影系と基板との間の空間を含む容積に液体を少なくとも部分的に保持するバリア部材を備える液体供給システムと、を備え、
前記バリア部材は、基板上面に実質的に平行な面内で第1の方向に基板に独立して移動可能であり、
前記バリア部材は、露光装置のスリット長さに等しい距離を前記第1の方向に少なくとも移動可能であるような大きさ及び形状とされている露光装置が提供される。
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
使用時には液体中において前記投影系の周囲に位置しており、前記液体供給システムから液体を通じての前記投影系への力の伝達を少なくとも低減する力分離部材と、を備える露光装置が提供される。
液体供給システムの一部と基板との間にシールを形成する液体供給システムを用いて投影系と基板との間に液体を供給し、
パターンが付与された放射ビームを基板に投影する投影系を使用し、
前記投影系の下方で基板を移動し、
基板の移動中に、基板と液体供給システムの一部との相対速度を低減させるような速度及び方向に液体供給システムの当該一部を移動するデバイス製造方法が提供される。
Claims (31)
- 投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、を備え、
前記液体供給システムの少なくとも一部は、前記投影系及び基板に独立して前記投影系及び基板に対して基板上面に実質的に平行な少なくとも1つの方向に移動可能であることを特徴とする露光装置。 - 前記液体供給システムの前記少なくとも一部を前記少なくとも1つの方向に移動させるアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 使用時に液体の境界が、基板と前記液体供給システムの前記少なくとも一部との間にあることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記境界はメニスカスであることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムは、前記空間に少なくとも部分的に液体を保持するよう前記液体供給システムと基板との間をシールするガスナイフを含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムは、基板上面よりも設計上小さい基板上の領域に液体を供給することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 使用時における前記液体供給システムの前記少なくとも一部の前記少なくとも1つの方向への移動は、前記液体供給システムの前記少なくとも一部により液体が供給される容積を前記少なくとも1つの方向に実質的に移動させるものであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 基板を保持し、前記液体供給システムの前記少なくとも一部の移動から独立して前記投影系に対して基板を移動する基板テーブルをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 結像中における投影系に対する基板移動の一局面において、前記投影系と基板との間を実質的に完全に液体で満たしつつ、前記液体供給システムの前記少なくとも一部と基板との間の相対速度を低減すべく前記液体供給システムの前記少なくとも一部が移動されるように前記液体供給システムの前記少なくとも一部の移動を制御する位置制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記位置制御部は、前記投影系下方での走査方向への基板の走査中に走査方向成分のほうが前記走査方向に実質的に直交する方向の成分よりも大きいように前記液体供給システムの前記少なくとも一部の移動を制御して、前記投影系の一方の側部の位置から前記走査方向に実質的に直交する方向において前記投影系の他方の側部に向かう位置へと前記液体供給システムの前記少なくとも一部を走査中に移動させることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記位置制御部は、前記投影系下方でのステップ方向への基板のステップ動作中に、前記液体供給システムの前記少なくとも一部の前記ステップ方向への移動を制御することを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部は前記液体供給システムと基板との間に非接触シールを形成することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部は、前記空間を取り巻いており、かつ露光装置の光軸から半径方向外側に向けて前記空間から液体が漏れ出すのに対して物理的な障壁を形成するバリア部材を含み、使用時に前記非接触シールが前記バリア部材と基板との間に形成されることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 使用時に前記非接触シールが液体のメニスカス力に少なくとも部分的に依存することを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部を前記少なくとも1つの方向に実質的に直交する第2の方向に移動させる第1のアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部を前記少なくとも1つの方向に移動させる第2のアクチュエータをさらに備え、前記第2のアクチュエータのストロークは前記第1のアクチュエータのストロークの少なくとも1.5倍であることを特徴とする請求項15に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部はプレートを含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの前記少なくとも一部は前記液体供給システムの液体供給部を含むことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体供給システムの一部から液体を通じての前記投影系への力の伝達を少なくとも低減するために、前記投影系の周囲に、使用時には液体中において、位置する力分離部材をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記力分離部材は、使用時において前記投影系から動的に分離されていることを特徴とする請求項19に記載の露光装置。
- 前記力分離部材は、前記投影系が取り付けられているフレームに取り付けられているか、または基板を支持するよう構成されているフレームに取り付けられていることを特徴とする請求項19に記載の露光装置。
- 投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系を取り巻き、前記投影系と基板との間の空間を含む容積に液体を少なくとも部分的に保持するバリア部材を備える液体供給システムと、を備え、
前記バリア部材は、基板上面に実質的に平行な面内で第1の方向に基板に独立して移動可能であり、
前記バリア部材は、露光装置のスリット長さに等しい距離を前記第1の方向に少なくとも移動可能であるような大きさ及び形状とされていることを特徴とする露光装置。 - 前記バリア部材は、基板上面に実質的に平行な面内で前記第1の方向に実質的に直交する第2の方向に露光装置の前記スリット長さに等しい距離を少なくとも移動可能であるような大きさ及び形状とされていることを特徴とする請求項22に記載の露光装置。
- 前記バリア部材は、前記第1の方向に前記第2の方向よりも長い距離を移動可能であるような大きさ及び形状とされていることを特徴とする請求項22に記載の露光装置。
- 前記バリア部材は、露光装置の最大走査距離の少なくとも20%の距離を前記第1の方向に移動可能であるような大きさ及び形状とされていることを特徴とする請求項22に記載の露光装置。
- 前記バリア部材は、露光装置のスリット幅の少なくとも20%の距離を前記第2の方向に移動可能であるような大きさ及び形状とされていることを特徴とする請求項22に記載の露光装置。
- 投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
使用時には液体中において前記投影系の周囲に位置しており、前記液体供給システムから液体を通じての前記投影系への力の伝達を少なくとも低減する力分離部材と、を備えることを特徴とする露光装置。 - 基板を支持するベースフレームをさらに備え、前記力分離部材は前記ベースフレームに取り付けられていることを特徴とする請求項27に記載の露光装置。
- 液体供給システムの一部と基板との間にシールを形成する液体供給システムを用いて投影系と基板との間に液体を供給し、
パターンが付与された放射ビームを基板に投影する投影系を使用し、
前記投影系の下方で基板を移動し、
基板の移動中に、基板と液体供給システムの一部との相対速度を低減させるような速度及び方向に液体供給システムの当該一部を移動することを特徴とするデバイス製造方法。 - 基板の走査方向への走査移動中に、走査方向成分のほうが前記走査方向に実質的に直交する方向の成分よりも大きいように前記一部を移動させて、前記一部が前記投影系の一方の側部の位置から前記走査方向に実質的に直交する方向において前記投影系の他方の側部に向かう位置へと走査中に移動させることを特徴とする請求項29に記載のデバイス製造方法。
- 前記投影系下方での前記基板のステップ方向へのステップ動作中に、前記一部を前記ステップ方向に移動させることを特徴とする請求項29に記載のデバイス製造方法。
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