以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。
以下の説明では、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸から定義されるXYZ直交座標系を用いて、露光装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、X軸方向及びY軸方向の夫々が水平方向(つまり、水平面内の所定方向)であり、Z軸方向が鉛直方向(つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向)であるものとする。また、X軸、Y軸及びZ軸周りの回転方向(言い換えれば、傾斜方向)を、夫々、θX方向、θY方向及びθZ方向と称する。
(1)第1実施形態
はじめに、図1から図17を参照しながら、第1実施形態の露光装置EX1について説明する。
(1−1)第1実施形態の露光装置EX1の構成
まず、図1を参照しながら、第1実施形態の露光装置EX1の構成の一例について説明する。図1は、第1実施形態の露光装置EX1の構成の一例を示す構成図である。
図1に示すように、露光装置EX1は、マスクステージ1と、照明系2と、投影光学系3と、液浸部材4Aと、基板ステージ5と、計測ステージ6と、計測システム7と、チャンバ装置8と、制御装置9とを備えている。
マスクステージ1は、マスク11を保持可能である。マスクステージ1は、保持したマスク11をリリース可能である。
マスク11は、基板ステージ5が保持する基板51に投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスク11は、例えば、ガラス板等の透明板と、当該透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたデバイスパターンとを含む透過型マスクであってもよい。但し、マスク11は、いわゆる反射型マスクであってもよい。
マスクステージ1は、マスク11を保持した状態で、照明系2から射出される露光光ELが照射される領域(つまり、後述の照明領域IR)を含む平面(例えば、XY平面)に沿って移動可能である。
例えば、マスクステージ1は、平面モータを含む駆動システム12の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム12の一例は、例えば、米国特許第6,452,292号に開示されている。但し、駆動システム12は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ(例えば、リニアモータ)を含んでいてもよい。第1実施形態では、マスクステージ1は、駆動システム12の動作により、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向、並びに、θX方向、θY方向及びθZ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「マスクステージ1の所定方向に沿った移動」は、「マスクステージ1の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿ったマスクステージ1の移動」の両方又は一方を含む。
照明系2は、露光光ELを射出する。照明系2からの露光光ELは照明領域IRに照射される。照明系2からの露光光ELは、照明領域IRに配置されたマスク11の一部に照射される。
露光光ELは、例えば、水銀ランプから射出される輝線(例えば、g線、h線若しくはi線等)又はKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光:Deep Ultra Violet光)であってもよい。露光光ELは、例えば、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)又はF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光:Vacuum Ultra Violet光)であってもよい。
投影光学系3は、マスク11からの露光光EL(つまり、マスク11に形成されたデバイスパターンの像)を、基板51に対して投影する。具体的には、投影光学系3は、投影領域PRに露光光ELを投影する。投影光学系3は、デバイスパターンの像を、投影領域PRに配置された基板51の一部(例えば、後述するショット領域Sの少なくとも一部)に投影する。
第1実施形態では、投影光学系3は、縮小系である。例えば、投影光学系の投影倍率は、1/4であってもよいし、1/5であってもよいし、1/8であってもよいし、又は、その他の値であってもよい。但し、投影光学系3は、等倍系又は拡大系であってもよい。
投影光学系3は、反射光学素子を含まない屈折系であってもよい。投影光学系3は、屈折光学素子を含まない反射系であってもよい。投影光学系3は、反射光学素子及び屈折光学素子の双方を含む反射屈折系であってもよい。投影光学系3は、デバイスパターンの像を、倒立像として投影してもよい。投影光学系3は、デバイスパターンの像を、正立像として投影してもよい。
投影光学系3は、露光光ELが射出される射出面32を含む終端光学素子31を備えている。射出面32は、投影光学系3の像面に向けて露光光ELを射出する。終端光学素子31は、投影光学系3が含む複数の光学素子のうち、投影光学系3の像面に最も近い光学素子である。
終端光学素子31の光軸AXは、Z軸に平行である。この場合、終端光学素子31の光軸AXに平行な方向に着目すると、投影光学素子31の入射面から射出面32に向かう方向が、−Z軸方向であり、且つ、射出面32から終端光学素子31の入射面に向かう方向が+Z軸方向である。但し、終端光学素子31の光軸AXは、Z軸に平行でなくてもよい。
尚、投影光学系3の光軸の少なくとも一部は、終端光学素子31の光軸AXと一致しており且つZ軸に平行であってもよい。この場合、Z軸方向に着目すると、投影光学系3から当該投影光学系3の像面に向かう方向が、−Z軸方向であり、且つ、投影光学系3から当該投影光学系3の物体面に向かう方向が、+Z軸方向である。
また、上述した投影領域PRの中心は、光軸AXと一致していてもよいし、一致していなくてもよい。また、投影領域PRは、光軸AX上に位置していなくともよい。
射出面32は、−Z軸方向を向いている。従って、射出面32から射出される露光光ELは、−Z軸方向に向かって進行する。射出面32は、XY平面(つまり、水平面)に平行な平面である。但し、射出面32の少なくとも一部は、XY平面に対して傾斜していてもよい。射出面32の少なくとも一部は、曲面(例えば、凹面又は凸面)であってもよい。
終端光学素子31は、−Z軸方向を向いている射出面32に加えて、当該射出面32の周囲に配置されている外面33を含んでいる。露光光ELは、射出面32から射出される一方で、外面33からは射出されなくてもよい。外面33は、+Z軸方向側に向かうにつれて徐々に光軸AXから遠ざかる形状(つまり、光軸AXに対して傾斜する形状)を有している。但し、外面33の少なくとも一部は、その他の形状を有していてもよい。
投影光学系3は、基準フレーム37によって支持されている。基準フレーム37は、当該基準フレーム37の下側(つまり、−Z軸方向側)に配置されている装置フレーム38に支持されている。基準フレーム37と装置フレーム38との間には、防振装置39が配置されている。防振装置39は、装置フレーム38から基準フレーム37への振動の伝達を抑制する。防振装置39は、例えば、バネ装置を含んでいてもよい。バネ装置の一例として、金属又はゴム等の弾性部材を含むバネ、又は、空気等の気体を含むバネ(いわゆる、エアマウント)が例示される。
液浸部材4Aは、液浸空間LSを形成する。液浸空間LSは、例えば純水である液体LQで満たされた空間(言い換えれば、部分又は領域)を意味する。尚、液浸部材4Aの詳細な構成については、図2から図3等を参照しながら後に詳述する。
基板ステージ5は、基板51をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面52とを備えている。上面52は、基板51の上面と平行な平面である。上面52は、基板51の上面と同一平面内に配置されている。但し、上面52の少なくとも一部は、基板51の上面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでいてもよい。上面52の少なくとも一部は、基板51の上面と同一平面内に配置されていなくてもよい。尚、基板ステージ5の一例は、例えば、米国特許出願公開第2007/0177125号及び米国特許出願公開第2008/0049209号に開示されている。
基板ステージ5は、基板51を保持した状態で、投影領域PRを含む平面(例えば、XY平面)に沿って移動可能である。基板ステージ5は、ベース部材81のガイド面811上を移動可能である。尚、ガイド面811と投影領域PRを含む平面(例えば、XY平面)とは、実質的に平行であってもよい。
例えば、基板ステージ5は、平面モータを含む駆動システム82の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム82の一例は、例えば、米国特許第6,452,292号に開示されている。駆動システム82が含む平面モータは、基板ステージ5に配置された可動子825と、ベース部材81に配置された固定子828とを含んでいてもよい。但し、駆動システム82は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ(例えば、リニアモータ)を含んでいてもよい。第1実施形態では、基板ステージ5は、駆動システム82の動作により、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向、並びに、θX方向、θY方向及びθZ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「基板ステージ5の所定方向に沿った移動」は、「基板ステージ5の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った基板ステージ5の移動」の両方又は一方を含む。
基板51は、デバイスを製造するための基板である。基板51は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材(例えば、フォトレジスト)の膜である。尚、基板51は、感光膜に加えて、他の膜(例えば、基板51の表面での露光光ELの意図せぬ反射を防止する反射防止膜及び基板51の表面を保護する保護膜の両方又は一方等)を含んでいてもよい。
計測ステージ6は、基板51を保持しない一方で、露光光ELを計測する計測部材(言い換えれば、計測器)61を保持可能である。つまり、第1実施形態の露光装置EX1は、基板ステージ5と計測ステージ6とを備える露光装置である。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第6,897,963号及び欧州特許出願公開第1713113号に開示されている。
計測ステージ6は、計測部材61を保持した状態で、投影領域PRを含む平面(例えば、XY平面)に沿って移動可能である。計測ステージ6は、基板ステージ5と同様に、ベース部材81のガイド面811上を移動可能である。
例えば、計測ステージ6は、基板ステージ5と同様に、平面モータを含む駆動システム82の動作により移動してもよい。駆動システム82が含む平面モータは、計測ステージ6に配置された可動子826と、ベース部材81に配置された固定子828とを含んでいてもよい。但し、駆動システム82は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ(例えば、リニアモータ)を含んでいてもよい。第1実施形態では、計測ステージ6は、駆動システム82の動作により、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向、並びに、θX方向、θY方向及びθZ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。尚、「計測ステージ6の所定方向に沿った移動」は、「計測ステージ6の所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った計測ステージ6の移動」の両方又は一方を含む。
計測システム7は、基板ステージ5及び計測ステージ6の位置を計測する。基板ステージ5及び計測ステージ6の位置を計測するために、計測システム7は、干渉計システムを含んでいてもよい。干渉計システムは、基板ステージ5に配置されている計測ミラー及び計測ステージ6に配置されている計測ミラーの夫々に計測光を照射すると共に、当該計測光の反射光を検出することで基板ステージ5及び計測ステージ6の位置を計測してもよい。但し、計測システム7は、干渉計システムに加えて又は代えて、基板ステージ5及び計測ステージ6の位置を計測するエンコーダシステムを含んでいてもよい。尚、エンコーダシステムの一例は、例えば、米国特許出願公開第2007/0288121号に開示されている。
チャンバ装置8は、空間CSの環境(例えば、温度、湿度、圧力及びクリーン度のうちの少なくとも一つ)を調整する。空間CSには、少なくとも、終端光学素子31、液浸部材4、基板ステージ5及び計測ステージ6が配置されている。但し、マスクステージ1及び照明系2のうちの少なくとも一部が空間CSに配置されていてもよい。
制御装置9は、露光装置EX1全体の動作を制御する。制御装置9は、露光装置EX1全体の動作を制御するコントローラー91と、コントローラー91に接続され且つ露光装置EX1の動作に用いられる各種情報を記憶するメモリ92とを含んでいる。
コントローラー91は、露光装置EX1が露光光ELを用いて基板51を露光する際には、計測システム7の計測結果に基づいて、基板ステージ5の位置を制御する。つまり、コントローラー91は、基板ステージ5を移動させるように、駆動システム82を制御する。コントローラー91は、露光装置EX1が露光光ELを用いて基板51を露光する際に、マスクステージ1の位置を制御する。つまり、コントローラー91は、マスクステージ1を移動させるように、駆動システム12を制御する。コントローラー91は、露光装置EX1が計測ステージ6を用いて露光光ELを計測する際には、計測システム7の計測結果に基づいて、計測ステージ6の位置を制御する。つまり、コントローラー91は、計測ステージ6を移動させるように、駆動システム82を制御する。
コントローラー91は、後に詳述するように、液浸部材4Aの少なくとも一部の部材(例えば、図2を参照しながら詳述する第2部材42)の位置を制御する。尚、液浸部材4Aの少なくとも一部の部材の移動態様については、図5及び図6を参照しながら後に詳述する。
(1−2)第1実施形態の液浸部材4A
続いて、図2から図4を参照して、第1実施形態の液浸部材4Aについて説明する。
(1−2−1)第1実施形態の液浸部材4Aの構成
はじめに、図2から図3を参照して、第1実施形態の液浸部材4Aの構成について説明する。図2は、第1実施形態の液浸部材4Aの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。図3は、第1実施形態の液浸部材4Aを下側(−Z軸方向側)から観察した平面図と第1実施形態の液浸部材4Aの断面図(XZ平面に平行な断面図)とを関連付けて示す説明図である。
以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側(上方側)”は、+Z軸方向側を意味するものとする。“下側(下方側)”は、−Z軸方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸AXの放射方向における内側であって、光軸AXに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸AXの放射方向における外側であって、光軸AXから遠ざかる側を意味するものとする。
図2に示すように、液浸部材4Aは、射出面32及び液浸部材4Aの下側で移動可能な物体の少なくとも一部の上に液浸空間LSを形成する。従って、物体は、液浸空間LSに面しつつ、射出面32及び液浸部材4Aの両方と対向可能である。
物体は、基板ステージ5であってもよい。この場合、液浸部材4Aは、基板ステージ5の少なくとも一部の上に液浸空間LSを形成する。物体は、基板ステージ5が保持する基板51であってもよい。この場合、液浸部材4Aは、基板51の少なくとも一部の上に液浸空間LSを形成する。物体は、計測ステージ6又は計測ステージ6が保持する計測部材61であってもよい。この場合、液浸部材4Aは、計測ステージ6の少なくとも一部の上又は計測部材61の少なくとも一部の上に液浸空間LSを形成する。
液浸部材4Aは、2つの異なる物体に跨る液浸空間LSを形成してもよい。例えば、液浸部材4Aは、上面52と基板51とに跨る液浸空間LSを形成してもよい。例えば、液浸部材4Aは、基板ステージ5と計測ステージ6とに跨る液浸空間LSを形成してもよい。
尚、以下の説明では、説明の簡略化の観点から、物体が基板51であるものとして説明を進める。
液浸部材4Aは、露光光ELの光路ATが液体LQで満たされるように、液浸空間LSを形成する。例えば、液浸部材4Aは、光路ATのうち射出面32と基板51との間の光路ATLが液体LQで満たされるように、液浸空間LSを形成してもよい。液浸部材4Aは、投影領域PRを含む基板51の上面の少なくとも一部の領域が液体LQで覆われるように、液浸空間LSを形成してもよい。射出面32からの露光光ELは、液体LQを介して基板51に投影される。つまり、第1実施形態の露光装置EX1は、液体LQを介して投影される露光光ELを用いて基板51を露光する液浸露光装置である。
液浸部材4Aは、液浸空間LSの一部を、終端光学素子31と基板51との間の空間に形成する。液浸部材4Aは、液浸空間LSの少なくとも一部を、液浸部材4Aと基板51との間の空間に形成する。
このような液浸空間LSを形成するために、図2及び図3に示すように、液浸部材4Aは、第1部材41Aと、第2部材42Aとを備えている。以下、第1部材41A及び第2部材42Aについて、順に説明する。
はじめに、第1部材41Aについて説明する。
第1部材41Aは、光路ATの周囲に配置されている。第1部材41Aは、光路ATを取り囲むことが可能な形状を有している。ここで言う「光路AT」は、上述した光路ATL及び終端光学素子31内の露光光ELの光路ATOの両方又は一方を含んでいてもよい。図3に示す例では、第1部材41Aは、光路ATを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。光路ATを取り囲むことが可能な形状の他の一例として、例えば、枠状の形状(例えば、非円形若しくは多角形又は楕円等の枠を形成する形状)が例示される。
第1部材41Aは、第1部材41Aと終端光学素子31との間に間隙(具体的には、空間SP2)が形成されるように配置されている。第1部材41Aは、終端光学素子31と接触しないように配置されている。
第1部材41Aは、終端光学素子31の周囲に配置されている。第1部材41は、終端光学素子31を取り囲むことが可能な形状を有している。この場合、第1部材41Aは、終端光学素子31を保護する保護部材として機能してもよい。例えば、第1部材41Aは、第2部材42Aと終端光学素子31との接触を防止する保護部材として機能してもよい。
第1部材41Aの一部(例えば、後述する上面414の一部及び内側面415)は、射出面32の下側に配置されている。但し、第1部材41Aは、射出面32の下側に配置されていなくてもよい。第1部材41Aの一部(例えば、後述する下面413の一部)は、基板51の一部に対向している。
第1部材41Aは、第2部材42Aよりも基板51から離れた位置に配置されている。このため、第1部材41Aの一部は、第2部材42Aの上側に配置されている。つまり、第1部材41Aの一部と基板51との間には、第2部材42Aの少なくとも一部が配置されている。
第1部材41Aは、実質的に移動しない。つまり、第1部材41Aは、実質的に固定されている。例えば、第1部材41Aは、不図示の支持部材を介して装置フレーム38に固定されていてもよい。尚、投影光学系3及び終端光学素子31の両方又は一方もまた、実質的に移動しない(つまり、実質的に固定されている)。
第1部材41は、内側面411と、外側面412と、下面413と、上面414と、内側面415とを備えている。
また、第1部材41Aは、射出面32からの露光光ELが通過可能な開口416を備える。開口416は、内側面415の下側端部で規定される。開口416(内側面415の下側端部)の周囲には、下面413が配置されている。内側面415の下側端部は、下面413の内側端部と一致している。開口416の中心は、光軸AXに一致している。XY平面に沿った開口416の径及び面積は、射出面32の径及び面積よりも小さい。XY平面上における開口416の形状は、例えば矩形の形状である(図3参照)。
内側面415は、内側を向いている平面である。内側面415は、光軸AXに平行である。内側面415は、光路ATの外側に配置されている。内側面415の上側端部の周囲に上面414が配置されている。内側面415の上側端部は、上面414の内側端部と一致している。内側面415は、上面414の内側端部と下面413の内側端部とを繋ぐ(言い換えれば、連結する又は結ぶ)。
上面414は、上側を向いている平面である。上面414は、XY平面に平行である。上面414は、下面413に平行である。上面414は、下面413よりも上側に配置されている。上面414は、射出面32よりも下側に配置されている。上面414の一部は、射出面32に対向する。
内側面411は、内側を向いている平面である。内側面411は、上面414の外側端部から上側に向かって延びる。内側面411の下側端部は、上面414の外側端部と一致している。内側面411の一部は、空間SP2を介して外面33に対向する。内側面4121の一部は、外面33に平行である。内側面4121の一部は、XY平面に対して傾斜している。内側面411の一部は、XY平面に平行である。内側面411は、上面414の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる第1面と、当該第1面の上側端部から外側に向かってXY平面に平行に延びる第2面と、当該第2面の外側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる第3面とを含む。
下面413は、下側を向いている平面である。下面413は、XY平面に平行である。下面413は、内側面411、外側面412、上面414及び内側面415よりも下側に配置されている。下面413の一部は、間隙(具体的には、空間SP1)を介して基板51と対向する。下面413の一部は、間隙(具体的には、空間SP3)を介して第2部材42Aと対向している。下面413は、射出面32よりも下側に配置されている。下面413は、液体LQに対して親液性を有している。例えば、液浸空間LSに面する可能性がある下面413の少なくとも一部は、液体LQに対して親液性を有していてもよい。
外側面412は、外側を向いている平面である。外側面412は、光軸AXに平行(つまり、XY平面に垂直)である。外側面412は、内側面411、下面413、上面414及び内側面415よりも外側に配置されている。外側面412は、下面413の外側端部から上側に向かって延びる。従って、外側面412の下側端部は、下面413の外側端部と一致している。
続いて、第2部材42Aについて説明する。
第2部材42Aは、光路ATの周囲に配置されている。第2部材42Aは、光路ATを取り囲むことが可能な形状を有している。図3に示す例では、第2部材42Aは、光路ATを取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状を有している。
第2部材42Aは、第1部材41Aよりも基板51に近い位置に配置されている。言い換えれば、第2部材42Aの少なくとも一部は、第1部材41Aの下側に配置されている。第2部材42Aの一部(例えば、後述する下面422)は、基板51に対向する。第2部材42Aは、射出面32の下側には配置されていない。第2部材42Aは、第1部材41Aと接触しないように配置されている。つまり、第2部材42Aは、第2部材42Aと第1部材41Aとの間に間隙が形成されるように配置されている。
第2部材42Aは、可動部材である。例えば、第2部材42Aは、コントローラー91によって制御される駆動装置451の動作によって移動可能であってもよい。駆動装置451は、支持部材453を介して装置フレーム38に固定されていてもよい。但し、支持部材453が設けられていなくてもよい。駆動装置451は、例えばモータ等を含んでいてもよい。例えば、駆動装置451の可動子(不図示)を支持部材452に接続し、固定子を装置フレーム38に接続してもよい。駆動装置451による第2部材42Aの移動に伴って発生する反力の少なくとも一部は、装置フレーム38に伝達させてもよい。第2部材42Aの移動に伴う反力により装置フレーム38が振動しても、防振装置39により、投影光学系3は、その影響を実質的に受けない。尚、駆動装置451が、第2部材42Aの移動に伴う反力の少なくとも一部をキャンセルする機構を有していてもよい。例えば、基板ステージ5の駆動システム82などに搭載されているカウンターマス方式の反力キャンセル機構と同様の機構を駆動装置451に適用することができる。
駆動装置451は、一端が第2部材42Aに連結され且つ他端が駆動装置451に連結されている支持部材452を移動させ、支持部材452の移動に伴って、支持部材452に連結されている第2部材42Aが移動してもよい。
第2部材42Aは、X軸方向及びY軸方向の夫々に沿って移動する。つまり、第2部材42Aは、光軸AXに垂直な方向(つまり、XY平面内の任意の方向)に沿って移動する。尚、「第2部材42Aの所定方向に沿った移動」は、「第2部材42Aの所定方向のみに沿った移動」及び「所定方向に沿った方向成分を含む任意の方向に沿った第2部材42Aの移動」の両方又は一方を含む。
第2部材42Aは、光路ATの外側で移動可能である。第2部材42Aが移動した場合であっても第2部材42Aが光路ATの外側に位置するような第2部材42Aの移動可能範囲が設定されてもよい。
第2部材42Aは、実質的に固定されている終端光学素子31に対して移動可能であってもよい。第2部材42Aの移動に伴い、終端光学素子31と第2部材42Aとの間の相対位置が変化する。
第2部材42Aは、第1部材41Aに対して、相対的に移動する。第2部材42Aの移動に伴い、第1部材41Aと第2部材42Aとの間の相対位置が変化する。
第2部材42Aの一部は、第1部材41の下側において移動可能である。第2部材42Aは、基板51の上側において移動可能である。
第2部材42Aは、液浸空間LSが形成されている状態で移動してもよい。例えば、第2部材42Aは、射出面32と基板51との間が液体LQで満たされている状態で移動してもよい。但し、第2部材42Aは、液浸空間LSが形成されていない状態で移動してもよい。
第2部材42Aは、上面421と、下面422と、内側面423と、内側面424とを備えている。
上面421は、上側を向いている平面である。上面421は、XY平面に平行である。上面421の一部は、間隙(具体的には、空間SP3)を介して下面413に対向する。上面421は、第1部材41A及び射出面32の両方又は一方よりも下側に配置されている。上面421は、光軸AXに平行な方向に沿って射出面32に対向していない。尚、上面421が射出面32と対向するように、第2部材42Aが移動可能であってよい。
上面421の少なくとも一部は、液体LQに対して撥液性を有している。上面421が撥液性を有するために、例えば、上面421の少なくとも一部は、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含んでいてもよい。このような樹脂の一例として、例えば、PFA(tetra fluoro ethylen−perfluoro alkylvinyl ether copolymer)やPTFE(Poly Tetra Fluoro Ethylene)があげられる。
下面422は、下側を向いている平面である。下面422は、XY平面に平行である。下面422は、上面421に平行である。下面422は、間隙(具体的には、空間SP1)を介して基板51と対向する。下面422は、上面421、内側面423及び内側面424よりも下側に配置されている。下面422は、第1部材41A及び射出面32の両方又は一方よりも下側に配置されている。下面422の基板51からの高さは、下面413の基板51からの高さよりも小さい。下面422は、液体LQに対して親液性を有している。
内側面423は、内側を向いている平面である。内側面423は、光軸AXに平行である。内側面423は、間隙を介して外側面412に対向する。内側面423は、上面421、下面422及び内側面424よりも外側に配置されている。内側面423は、上面421の外側端部から上側に向かって延びる。従って、内側面423の下側端部は、上面421の外側端部と一致している。
内側面424は、内側を向いている平面である。内側面424は、光軸AXに平行である。内側面424は、上面421、下面422及び内側面423よりも内側に配置されている。内側面424は、上面421の内側端部から下側に向かって延びる。従って、内側面424の上側端部は、上面421の内側端部と一致している。内側面424は、下面422の内側端部から上側に向かって延びる。従って、内側面424の下側端部は、下面422の内側端部と一致している。
内側面424は、内側面415よりも外側に配置されている。つまり、内側面424は、下面413の下側に配置されている一方で、射出面32の下側には配置されていない。第2部材42Aは、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても内側面424が内側面415よりも外側に配置され続けるように移動する。但し、第2部材42Aは、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合に内側面424の少なくとも一部が内側面415よりも外側に配置されない期間が発生するように移動してもよい。即ち、第2部材42Aの一部が光路AT内に位置するように、第2部材42Aが移動可能であってもよい。
第2部材42Aは、更に、射出面32からの露光光ELが通過可能な開口426を備えている。開口426は、内側面424の下側端部で規定される。開口426の下側端部の周囲には、下面422が配置されている。つまり、XY平面に沿った開口426の径及び面積は、開口416のそれよりも大きい。XY平面上における開口426の形状は、例えば円形の形状である(図3参照)。開口426は、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても開口416が開口426よりも内側に配置される状態を実現可能なサイズを有している。
液浸部材4Aは、更に、液体供給口431と、流体回収口441と、流体回収口442とを備えている。以下、液体供給口431と、流体回収口441と、流体回収口442とについて、順に説明する。
まず、液体供給口431について説明する。
液体供給口431は、液浸空間LSを形成するための液体LQを、液浸空間LSに対して供給する。液体供給口431は、下面413に形成されている液体供給口431aと、内側面411に形成された液体供給口431bを含む。液体供給口431aは、空間SP1に面するように形成され、液体供給口431bは、空間SP2に面するように形成されている。
尚、図2に示すように、第1部材41Aの内部に形成された供給流路を途中で分岐して、液体供給口431aと液体供給口431bとに液体LQを供給している。しかしながら、第1部材41Aの内部に形成された供給流路を途中で分岐することなく、液体供給口431aに液体LQを供給する供給流路と、液体供給口431bに液体LQを供給する供給流路とを別々に第1部材41Aの内部に設けてもよい。
液体供給口431a及び431bは、終端光学素子31の周囲(言い換えれば、光路ATの周囲)に断続的に分布するように形成されている。例えば、図3に示すように、液体供給口431aは、下面413上で定義される仮想的な円(例えば、光軸AXを中心とする仮想的な円)に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。例えば、液体供給口431bが、XY平面に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。
液体供給口431aは、開口426の中心が光軸AXに一致している状態において、下面413に形成された液体供給口431aのすべてが、開口426の内側に配置されるように、下面413に形成されている。開口426の中心が光軸AXに一致している状態において、液体供給口431aは、XY平面に平行な方向に沿って内側面424(開口426)に沿う又は隣接するように形成されている。
液体供給口431a及び431bからの液体LQの供給は、コントローラー91の制御の下で行われる。クリーンで温度調整された液体LQが、液体供給口431a及び431bから供給される。液体供給口431bから供給された液体LQは、空間SP2に供給される。液体供給口431a及び431bの供給された液体LQの少なくとも一部は、空間SP1に供給される。液体供給口431a及び431b供給された液体LQの少なくとも一部は、光路ATLを含む光路空間SPKに供給され、光路ATLが液体LQで満たされる。
液体供給口431a及び431bから空間SP1に対して供給された液体LQの少なくとも一部は、下面413と上面421との間の空間SP3に供給されてもよい。
続いて、流体回収口441について説明する。
流体回収口441は、液浸空間LS(特に、空間SP1)から液体LQを回収する。流体回収口441は、下面422の外側に形成されている。流体回収口441は、下面422の周囲に形成されている。流体回収口441は、空間SP1に面するように形成されている。流体回収口441は、空間SP1を介して基板51に対向するように形成されている。
流体回収口441は、終端光学素子31の周囲(言い換えれば、光路ATの周囲)に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口441は、下面422上で定義される仮想的な円(例えば、開口426の中心周りの仮想的な円)に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。
流体回収口441には、メッシュプレート等の多孔部材4411が配置されている。多孔部材4411は、基板51の上面に対向する下面と、流体回収路に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。液体回収口441は、多孔部材4411を介して、液浸空間LS(特に、空間SP1)から液体LQを回収する。尚、多孔部材4411の複数の孔の一つを流体回収口441と称してもよい。
流体回収口441からは、コントローラー91の制御の下で、流体回収口441に配置された多孔部材4411を介して液体LQが回収される。例えば、コントローラー91の制御の下で、多孔部材4411の上面側の圧力と多孔部材4411の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口441から液体LQが回収されてもよい。
続いて、流体回収口442について説明する。
流体回収口442は、液浸空間LS(特に、空間SP3)から液体LQを回収する。流体回収口442は、下面413の外側に形成されている。流体回収口442は、空間SP3に面するように形成されている。流体回収口442は、空間SP3を介して上面421に対向するように形成されている。流体回収口442は、液体供給口431よりも外側に形成されている。
第2部材42Aは、空間SP3に流体回収口442が面し続けるように移動する。第2部材42Aは、上面421に流体回収口442が対向し続けるように移動する。
流体回収口442は、終端光学素子31の周囲(言い換えれば、露光光ELの光路ATの周囲)に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口442は、下面413上で定義される仮想的な円(例えば、光軸AXを中心とする仮想的な円)に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。
流体回収口442には、メッシュプレート等の多孔部材4421が配置されている。尚、多孔部材4421の複数の孔の一つを流体回収口442と称してもよい。尚、流体回収口442に配置される多孔部材4421は、流体回収口441に配置される多孔部材4411と同様であってもよい。従って、説明の簡略化のために、多孔部材4421の詳細な説明を省略する。
流体回収口442からは、コントローラー91の制御の下で、流体回収口442に配置された多孔部材4421を介して液体LQが回収される。例えば、コントローラー91の制御の下で、多孔部材4421の上面側の圧力と多孔部材4421の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口442から液体LQが回収されてもよい。
以上説明した第1実施形態の液浸部材4Aでは、第2部材42Aの移動に伴って、第2部材42Aの一部は、液浸空間LSの液体LQ内を移動する。その結果、第2部材42Aの移動は、液浸空間LS内の液体LQの圧力の変動を引き起こし得る。このような液浸空間LS内の液体LQの圧力の変動は、終端光学素子31の変動を引き起こし得る。しかしながら、第1実施形態では、開口426が開口416より大きく且つ第2部材42Aが終端光学素子31に対向していないため、第2部材42の移動による液浸空間LS内の液体LQの圧力の変動が、終端光学素子31に伝達されにくくなる。その結果、終端光学素子31の変動が好適に抑制される。
尚、第1実施形態の液浸部材4Aでは、液浸空間LS内の液体LQの界面LGの一部は、第2部材42Aと基板51との間に形成される。以下、第2部材42Aと基板51との間に形成される界面LGを、適宜“界面LG1と称する”。
また、液浸空間LS内の液体LQの界面LGの一部は、終端光学素子31と第1部材41Aとの間に形成される。以下、終端光学素子31と第1部材41Aとの間に形成される界面LGを、適宜“界面LG2と称する”。
また、液浸空間LS内の液体LQの界面LGの一部は、第1部材41Aと第2部材42Aとの間に形成される。以下、第1部材41Aと第2部材42Aとの間に形成される界面LGを、適宜“界面LG3と称する”。空間SP3の液体LQは、流体回収口442から回収されるため、界面LG3は、界面LG3は、液体回収口442よりも外側の空間(例えば、外側面412と内側面423との間の空間)に移動することが抑制される。従って、外側面412と内側面423との間の空間には、液体LQが殆ど又は全く存在しない。その結果、外側面412と内側面423との間の空間は、空間CSの一部に相当する気体空間となる。このため、第2部材42Aは、相対的に円滑に移動することができる。
第1実施形態では、上述したように、第1部材41Aの下面422に液体供給口431aが形成されているため、開口426の内側の領域への界面LG1の移動が抑制される。従って、光路ATにおける気体部分の形成が防止され、光路ATを液体LQで満たし続けることができる。
以下、開口426の内側の領域への界面LG1の移動の抑制について、図4を参照しながら説明する。図4は、液浸部材4Aを下側(−Z軸方向側)から観察した平面図上で、第2部材42Aが+Y軸方向に向かって移動する場合の界面LG1の状態の一例を示す説明図である。
図4(a)に示すように、開口426の中心が開口416の中心(つまり、光軸AX)に一致している状態を、液浸部材4Aの初期状態として例示する。初期状態にある液浸部材4Aでは、開口426と一点鎖線で示す界面LG1との間の距離が相対的に大きい。
図4(a)に示す状態に対して、図4(b)に示す状態では、開口416の+Y軸方向側において、界面LG1の一部と開口426のとの間の距離が相対的に小さくなる(図4(b)中の点線の楕円で囲まれた箇所参照)。仮に、界面LG1の少なくとも一部が開口426の内側に移動してしまうと、空間SP2及び空間SP3並びに光路空間SPKのうちの少なくとも一つに対する気泡の混入が発生するおそれがある。
しかるに、図4(b)に示すように、第1実施形態では、第2部材42Aが移動した場合であっても、液体供給口431aは、空間SP1に対して液体LQを供給することで、界面LG1の少なくとも一部を外側へと押し広げることができる。その結果、第2部材42Aが移動した場合であっても、界面LG1と開口426との間の距離が相対的に大きくなる。または、液体供給口431aが空間SP1に対して液体LQを供給することで、開口426の内側の領域への界面LG1の移動が抑制される。このため、上述した空間SP2及び空間SP3並びに光路空間SPKのうちの少なくとも一つへの気泡の混入の発生が抑制され、光路ATを液体LQで満たし続けることが可能となる。
尚、開口426の内側の領域への界面LG1の移動の抑制は、液体供給口431aの少なくとも一部が空間SP1に液体LQを供給する(つまり、空間SP1に面する)ことによって実現されることは上述したとおりである。このことを考慮すれば、液体供給口431aは、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても液体供給口431aの全てが空間SP1に面する状態を実現可能な位置に形成されてもよい。例えば、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで、いずれの方向に移動した場合であっても、液体供給口431aの全てが開口426の内側に位置するように、内側面415(開口416)に沿う又は隣接するように下面413に液体供給口431aが形成されてもよい。
尚、図2及び図3を用いて説明した液浸部材4Aは一例である。従って、液浸部材4Aの構成が図2及び図3を用いた構成に限定されることはない。以下、液浸部材4Aの一部の構成の改変の例について説明する。
第1部材41Aは、光路AT及び終端光学素子31の両方又は一方を取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第1部材41Aは、光路AT及び終端光学素子31の両方又は一方の周囲の一部に配置されている一方で、光路AT及び終端光学素子31の両方又は一方の周囲の他の一部に配置されていない形状(例えば、一部が開放された開ループ状の形状)を有していてもよい。
第1部材41Aは、上述した支持部材に加えて、当該支持部材と装置フレーム38との間に配置される防振装置を介して、装置フレーム38に支持されていてもよい。この場合、防振装置は、上述した防振装置39と同様に、バネ装置を含んでいてもよい。
第1部材41Aの少なくとも一部は、コントローラー91によって制御される駆動装置(例えば、アクチュエータ)の動作によって移動可能な可動部材であってもよい。駆動装置は、第1部材41Aを支持する支持部材を移動させることで、第1部材41Aの少なくとも一部を移動させてもよい。駆動装置は、第1部材41Aを支持する支持部材と装置フレーム38との間に配置されていてもよい。また、第1部材41Aを支持する支持部材と装置フレーム38との間に防振装置が配置されると共に、当該防振装置に駆動機構が搭載されてもよい。
内側面411の全体が、外面33に平行な平面であってもよい。内側面411の全体が、外面33に対して傾斜していてもよい。内側面411の全体が、XY平面に傾斜していてもよい。内側面411の少なくとも一部は、曲面であってもよい。
外側面412の一部は、内側面411、下面413、上面414及び内側面415の少なくとも一つよりも内側に配置されていてもよい。外側面412の少なくとも一部は、光軸AXに対して傾斜していてもよい。外側面412の少なくとも一部は、曲面であってもよい。
下面413の一部は、内側面411、外側面412、上面414及び内側面415の少なくとも一つよりも上側に配置されていてもよい。下面413の少なくとも一部は、射出面32よりも上側に配置されていてもよい。下面413の少なくとも一部は、XY平面に対して傾斜していてもよい。下面413の少なくとも一部は曲面であってもよい。下面413の少なくとも一部は、液体LQに対して撥液性を有していてもよい。
上面414の一部は、下面413よりも下側に配置されていてもよい。上面414の一部は、内側面411よりも外側に配置されていてもよい。上面414の少なくとも一部は、射出面32よりも上側に配置されていてもよい。上面414は、光軸AXに平行な方向に沿って射出面32に対向していなくてもよい。上面414の少なくとも一部は、射出面32の下側に配置されていなくてもよい。上面414の少なくとも一部は、XY平面に対して傾斜していてもよい。上面414の少なくとも一部は、下面413に対して傾斜していてもよい。上面414の少なくとも一部は曲面であってもよい。
内側面415の一部は、内側面411、外側面412、下面413及び上面414の少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。内側面415の少なくとも一部は、光軸AXに対して傾斜していてもよい。例えば、内側面415は、下面413の内側端部から上面414の内側端部に向かって、上側に且つ外側に延びる傾斜面であってもよい。内側面415の少なくとも一部は曲面であってもよい。
開口416の中心は、光軸AXに一致していなくてもよい。XY平面における開口416の径及び面積の少なくとも一方は、射出面32のそれよりも大きくてもよいし同一であってもよい。
XY平面上における開口416の形状は、矩形の形状とは異なる任意の形状(例えば、多角形、円形、楕円形、又は、露光光ELの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状)であってもよい。XY平面上における第1部材41Aの各面(例えば、内側面411、外側面412、下面413、上面414及び内側面415)又は当該各面の各端部(例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部)の形状もまた、矩形の形状又は矩形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。
第2部材42Aは、光路ATを取り囲むことが可能な形状を有していなくてもよい。例えば、第2部材42Aは、光路ATの周囲の一部に配置されている一方で、光路ATの周囲の他の一部に配置されていない形状(例えば、一部が開放された開ループ状の形状)を有していてもよい。
第2部材42Aは、X軸方向及びY軸方向の夫々に沿って移動することに加えて又は代えて、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向、並びに、θX方向、θY方向及びθZ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。
上面421の少なくとも一部は、第1部材41A及び射出面32の両方又は一方よりも上側に配置されていてもよい。上面421の少なくとも一部は、光軸AXに平行な方向に沿って射出面32に対向していてもよい。上面421の少なくとも一部は、XY平面に対して傾斜していてもよい。上面421の少なくとも一部は、曲面であってもよい。上面421の少なくとも一部は、液体LQに対して親液性を有していてもよい。
下面422の一部は、上面421、内側面423及び内側面424の少なくとも一つよりも上側に配置されていてもよい。下面422の少なくとも一部は、第1部材41A及び射出面32の両方又は一方よりも上側に配置されていてもよい。下面422の少なくとも一部の基板51からの高さは、下面413の基板51からの高さと同じであってもよい。下面422の少なくとも一部の基板51からの高さは、下面413の基板51からの高さよりも小さくてもよい。下面422の少なくとも一部は、XY平面に対して傾斜していてもよい。下面422の少なくとも一部は、上面421に対して傾斜していてもよい。下面422の少なくとも一部は、曲面であってもよい。下面422の少なくとも一部は、液体LQに対して撥液性を有していてもよい。
上面421と下面413との間の空間SP3のZ軸方向の大きさ(つまり、Z軸方向に沿った上面421と下面413との間の距離)は、射出面32からの露光光ELの光路ATLを含む光路空間SPKのZ軸方向の大きさ(つまり、Z軸方向に沿った射出面32と基板51の上面との間の距離)以下であってもよい。下面422と基板51との間の空間SP1のZ軸方向の大きさは、光路空間SPKのZ軸方向の大きさよりも小さくてもよい。但し、下面422と基板51との間の空間SP1のZ軸方向の大きさは、光路空間SPKのZ軸方向の大きさ以上であってもよい。更に、下面422と基板51との間の空間SP1のZ軸方向の大きさは、空間SP3のZ軸方向の大きさよりも大きい。但し、下面422と基板51との間の空間SP1のZ軸方向の大きさは、空間SP3のZ軸方向の大きさ以下であってもよい。
内側面423の一部は、上面421、下面422及び内側面424の少なくとも一つよりも内側に配置されていてもよい。内側面423の少なくとも一部は、光軸AXに対して傾斜していてもよい。内側面423の少なくとも一部は、曲面であってもよい。
内側面424の一部は、上面421、下面422及び内側面423の少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。内側面424の少なくとも一部は、光軸AXに対して傾斜していてもよい。例えば、内側面424は、下面422の内側端部から上面421の内側端部に向かって、上側に且つ外側に延びる傾斜面であってもよい。内側面424の少なくとも一部は、曲面であってもよい。
XY平面における開口426の径及び面積の少なくとも一方は、開口416のそれよりも小さくてもよいし同一であってもよい。
XY平面上における開口426の形状は、円形の形状とは異なる任意の形状(例えば、多角形、楕円形、又は、露光光ELの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状)であってもよい。XY平面上における第2部材42Aの各面(例えば、上面421、下面422、内側面423及び内側面424)又は当該各面の各端部(例えば、外側端部及び内側端部、並びに、上側端部及び下側端部)の形状もまた、円形の形状又は円形の形状とは異なる任意の形状であってもよい。
開口426は、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合であっても、開口426が開口416よりも外側に配置される状態を実現可能なサイズを有していなくてもよい。例えば、開口416と開口426は、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合に、開口426を規定する内側面424の下側端部の一部が、開口416を規定する内側面415の下側端部よりも内側に配置される状態を実現可能なサイズを有していてもよい。例えば、開口426は、第2部材42Aが移動可能範囲の限界まで移動した場合に、第2部材42Aの一部が光路AT上に配置される状態を実現可能なサイズを有していてもよい。
液体供給口431bは、光路空間SPKに面するように形成されていてもよい。液体供給口431bは、内側面411に加えて又は代えて、液浸空間LSに面する可能性がある第1部材41Aの任意の面に形成されていてもよい。
第1部材41Aに加えて又は代えて、液浸空間LSに面する可能性がある第2部材42Aの任意の面に液体LQを供給する液体供給口が形成されていてもよい。そのような液体供給口を、例えば、上面421と下面422のいずれか一方または両方に設けてもよい。
液体供給口431a及び431bの両方又は一方は、終端光学素子31の周囲に連続的に分布するように形成されていてもよい。液体供給口431a及び431bの両方又は一方は、単一の液体供給口であってもよい。
開口426の中心が光軸AXに一致している状態において、液体供給口431aの少なくとも一部は、内側面424(開口426)よりも外側の領域に形成されていてもよい。例えば、液体供給口431aの少なくとも一部は、内側面424(開口426)の位置とは関係がない又は関係が薄い任意の位置に形成されていてもよい。
多孔部材4411の下面の少なくとも一部は、下面422よりも上側に配置されていてもよい。多孔部材4411の下面の少なくとも一部は、下面422よりも下側に配置されていてもよい。多孔部材4411の下面の少なくとも一部は、下面422と同じ高さに配置されていてもよい。
多孔部材4411の下面は、下面422に平行であってもよい。但し、多孔部材4411の下面の少なくとも一部は、下面422に対して傾斜していてもよい。例えば、多孔部材4411の下面は、内側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる傾斜面であってもよい。多孔部材4411の下面は、平面であってもよい。但し、多孔部材4411の下面の少なくとも一部は、曲面であってもよい。
第2部材42Aは、空間SP3に流体回収口442が面しない期間が発生するように移動してもよい。第2部材42Aは、上面421に流体回収口442が対向しない期間が発生するように移動してもよい。
流体回収口441には、多孔部材4411が配置されていなくてもよい。流体回収口442には、多孔部材4421が配置されていなくてもよい。
流体回収口441及び流体回収口442の両方又は一方は、終端光学素子31の周囲に断続的に分布するように形成されていてもよい。例えば、流体回収口441は、下面422上で定義される仮想的な円(例えば、光軸AXを中心とする仮想的な円)に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。例えば、流体回収口442は、下面413上で定義される仮想的な円(例えば、開口426の中心周りの仮想的な円)に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。複数の流体回収口441に代えて、単一の流体回収口441が形成されていてもよい。複数の流体回収口442に代えて、単一の流体回収口442が形成されていてもよい。
流体回収口441及び流体回収口442の両方又は一方からは、液体LQが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。多孔部材が配置された流体回収口を介して液体を回収する一方で気体を回収しない技術の一例は、例えば、米国特許第7,292,313号に開示されている。但し、流体回収口441及び流体回収口442の両方又は一方からは、液体LQ及び気体の双方が回収されてもよい。
液体供給口431a及び431bの両方若しくは一方からの液体LQの供給と流体回収口441及び流体回収口442の両方若しくは一方からの液体LQの回収とが並行して行われてもよい。但し、液体供給口431a及び431bの両方若しくは一方からの液体LQの供給と流体回収口441からの液体LQの回収と流体回収口442からの液体LQの回収との全てが並行して行われなくてもよい。
第2部材42Aは、液体供給口431a及び431bの両方若しくは一方から液体LQが供給されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、液体供給口431a及び431bの両方若しくは一方から液体LQが供給されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、流体回収口441から液体LQが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第2部材42Aは、流体回収口441から液体LQが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、流体回収口442から液体LQが回収されている期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第2部材42Aは、流体回収口442から液体LQが回収されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。
第2部材42Aの下面422は、液体LQを回収しない。従って、下面422は、基板51との間に液体LQを保持する。第2部材42Aの上面421、内側面423及び内側面424もまた、液体LQを回収しない。
第1部材41Aの下面413は、液体LQを回収しない。従って、下面413は、上面421及び基板51との間で液体LQを保持する。第1部材41Aの内側面411、外側面412、上面414及び内側面415もまた、液体LQを回収しない。
(1−2−2)第2部材42Aの移動動作の具体例
続いて、図5及び図6を参照して、第2部材42Aの移動動作の具体例について説明する。図5は、第2部材42Aの移動動作の第1の具体例を示す断面図である。図6は、第2部材42Aの移動動作の第2の具体例を示す断面図である。尚、図5及び図6では、図面の簡略化のために、図2に示した液浸部材4Aの構成要件のうちの一部が省略されている。
第1実施形態では、第2部材42Aは、基板51の移動態様に基づいて移動する。言い換えれば、第2部材42Aは、基板51の移動態様(例えば、移動方向、移動速度、加速度及び移動距離のうちの少なくとも一つ)に基づいて定まる移動態様で移動する。但し、第2部材42Aは、基板51の移動と独立して移動してもよい。
例えば、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第2部材42Aは、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。
例えば、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第2部材42Aは、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度の絶対値が小さくなるように移動してもよい。
第2部材42Aは、コントローラー91によって制御される駆動装置451の動作によって移動することは上述したとおりである。従って、以下に説明する第2部材42Aの移動は、コントローラー91の制御によって実現される。
第2部材42Aが移動しない場合における第2部材42Aに対する基板51の相対速度は、実質的には、第1部材41Aに対する基板51の相対速度と一致する。従って、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対速度の絶対値が、第1部材41Aに対する基板51の相対速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。相対加速度についても同様に、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度の絶対値が、第1部材41Aに対する基板51の相対加速度の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。
第2部材42Aに対する基板51の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするために、第2部材42Aは、基板51が移動する方向と同一の方向に向かって移動してもよい。
例えば、図5に示すように、基板51が+X軸方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、+X軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板51のX軸方向に沿った移動速度が+V51であり、第2部材42AのX軸方向に沿った移動速度が+V42であるとする。第2部材42Aが移動しない場合の第2部材42Aに対する基板51の相対速度の絶対値は、|V51|である。一方で、第2部材42Aが移動する場合の第2部材42Aに対する基板51の相対速度は、|V51−V42|(<|V51|)である。従って、第2部材42Aが移動する場合には、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対速度が小さくなる。尚、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度についても、第2部材42Aに対する基板51の相対速度と同様である。
例えば、図6に示すように、基板51Aが−X軸方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、−X軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板51のX軸方向に沿った移動速度が−V51であり、第2部材42AのX軸方向に沿った移動速度が−V42であるとする。第2部材42が移動しない場合の第2部材42に対する基板51の相対速度の絶対値は、|−V51|である。一方で、第2部材42Aが移動する場合の第2部材42に対する基板51の相対速度は、|−V51+V42|(<|−V51|)である。従って、第2部材42Aが移動する場合には、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対速度が小さくなる。尚、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度についても、第2部材42Aに対する基板51の相対速度と同様である。
基板51が+Y軸方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、+Y軸方向に向かって移動してもよい。基板51が−Y軸方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、−Y軸方向に向かって移動してもよい。基板51がXY平面内の所定方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、当該所定方向に向かって移動してもよい。
第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対速度のうち基板51の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第2部材42Aは、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対速度のうち基板51の移動方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。
第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度のうち基板51の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。第2部材42Aは、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、第2部材42Aに対する基板51の相対加速度のうち基板51の移動方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。
第2部材42Aは、基板51が移動する方向と同一の方向に向かって移動しつつも、基板51が移動する方向と交差する又は直交する方向に向かって更に移動してもよい。つまり、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくする際には、基板51が移動する方向の成分を含むXY平面内の任意の方向へ移動してもよい。例えば、基板51が+X軸方向に向かって移動する場合には、第2部材42Aは、+X軸方向に向かって移動しつつ、+Y軸方向又は−Y軸方向に向かって移動してもよい。
以上説明したように、第1実施形態では、第2部材42Aは、第2部材42Aに対する基板51の相対速度及び相対加速度の両方又は一方の絶対値を小さくするように移動可能である。従って、液浸空間LSが形成されている状態で基板51が相対的に高速度で移動しても、液浸空間LSを形成する液体LQの一部が基板51上で分離すると共に、当該分離した液体LQ(滴など)が基板51上に残留してしまうことが抑制される。また、液浸空間LSが形成されている状態で基板51が相対的に高速度で移動しても、液浸空間LSに気泡が発生することが抑制される。従って、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
(1−3)露光装置EX1による基板51の露光方法
続いて、図7から図12を参照して、露光装置EX1による基板51の露光方法について説明する。
露光装置EX1が基板51を露光する露光処理に先立って、まずは、コントローラー91は、液浸部材4Aから離れた基板交換位置に基板ステージ5が移動するように駆動システム82を制御する。その後、コントローラー91は、基板交換位置に位置している基板ステージ5に、露光前の基板51を搬入する(つまり、搬入するように、不図示の基板搬入装置を制御する)。
液浸部材4Aから離れた基板交換位置に基板ステージ5が位置している間に、コントローラー91は、終端光学素子31及び液浸部材4AとZ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ6が移動するように、駆動システム82を制御する。尚、終端光学素子31及び液浸部材4AとZ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ6が配置されている期間において、計測ステージ6が保持する計測部材61によって、液体LQを介して露光光ELを受光する計測が行われてもよい。
露光前の基板51を基板ステージ5が保持した後、コントローラー91は、終端光学素子31及び液浸部材4AとZ軸方向に沿って対向する位置に、露光前の基板51が搬入された基板ステージ5を移動させる。
尚、上述の動作が行われている間も、基板ステージ5又は計測ステージ6と終端光学素子31との間に液浸空間LSが形成され続ける。
次に、コントローラー91は、基板51に対する露光処理を開始する。具体的には、コントローラー91の制御の下で、照明系2がマスク11に対して露光光ELを照射する。マスク11からの露光光ELは、投影光学系3及び液浸空間LSを介して、基板51に投影される。その結果、基板51には、マスク11に形成されたデバイスパターンの像が投影され、基板51が露光される。
第1実施形態では、露光装置EX1は、露光時にマスク11及び基板51の両方を所定の走査方向(スキャン方向)に沿って移動させる走査型露光装置(いわゆる、スキャニングステッパ)である。第1実施形態では、マスク11の走査方向及び基板51の走査方向が、共にY軸方向であるものとする。従って、コントローラー91は、露光光ELが投影される投影領域PRに対して基板51をY軸方向に沿って移動させる。コントローラー91は、露光光ELが照射される照明領域IRに対してマスク11をY軸方向に沿って移動させる。
ここで、図7を参照しながら、基板51の移動の態様について説明する。図7は、基板ステージ5に保持されている基板51の一例を示す平面図である。
例えば、ある一つのショット領域S1に対する露光処理を行う際には、当該ショット領域S1の上側に液浸空間LSが形成されている状態で、コントローラー91は、露光光ELが投影される投影領域PRに対して基板51をY軸方向に沿って移動させる。更に、コントローラー91は、露光光ELが照射される照明領域IRに対してマスク11をY軸方向に沿って移動させる。基板51及びマスク11の移動と並行して、照明系2は、マスク11に対して露光光ELを照射する。その結果、ショット領域S1は、投影光学系3及び液浸空間LSを介して投影される露光光ELによって露光される。
ショット領域S1が露光終了位置に到達すると、ショット領域S1に対する露光処理が終了する。ショット領域S1に対する露光処理が終了した後には、次のショット領域S2(例えば、+X軸方向側においてショット領域S1と隣接するショット領域S2)に対する露光処理を開始するために、次のショット領域S2を露光開始位置に移動させる動作が行われる。具体的には、液浸空間LSが形成されている状態で、コントローラー91は、Y軸方向に交わる方向(例えば、X軸方向、又は、X軸方向及びY軸方向の夫々に対して傾斜する方向)に沿って基板51を移動する。次のショット領域S2を露光開始位置に移動させる動作が行われている間は、照明系2は、マスク11に対して露光光ELを照射しない。次のショット領域S2が露光開始位置に到達すると、ショット領域S1に対する露光光ELの露光処理と同様の態様で、ショット領域S2に対する露光光ELの露光処理が開始する。以降、同様の動作が、基板51上の複数のショット領域を対象として行われる。
以下の説明では、ショット領域Sに対する露光処理を行うために、投影領域PRに対してショット領域SがY軸方向に沿って移動するように基板51をY軸方向に沿って移動させる動作を、適宜“スキャン移動動作”と称する。スキャン移動動作は、ショット領域Sが露光開始位置に位置している状態からショット領域Sが露光終了位置に位置している状態になるまで、基板51をY軸方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。スキャン移動動作は、主として、基板51をY軸方向に沿って等速移動させる動作を含んでいる。但し、スキャン移動動作は、基板51をY軸方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、スキャン移動動作が行われている間は、照明系2は、マスク11に対して露光光ELを照射する。スキャン移動動作が行われている間は、液浸空間LSが形成されている又は形成され続けていてもよい。
一方で、あるショット領域Sに対する露光処理が終了した後に次のショット領域Sに対する露光処理を開始するために、次のショット領域Sが露光開始位置に移動するように基板51をY軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を、適宜“ステップ移動動作”と称する。ステップ移動動作は、ショット領域Sが露光終了位置に位置している状態から次のショット領域Sが露光開始位置に位置している状態になるまで、基板51をY軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。ステップ移動動作は、主として、基板51をY軸方向に交わる方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいる。例えば、ステップ移動動作は、基板51をX軸方向に沿って加減速移動させる動作及び基板51をY軸方向に沿って加減速移動させる動作の両方又は一方を含んでいてもよい。但し、ステップ移動動作は、基板51をY軸方向に交わる方向に沿って等速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、ステップ移動動作が行われている間は、照明系2は、マスク11に対して露光光ELを照射しない。ステップ移動動作が行われている間は、液浸空間LSが形成されている又は形成され続けていてもよい。
尚、露光開始位置は、あるショット領域SのY軸方向に沿った一方の端部(例えば、投影領域PRの移動方向に沿った後方側の端部)を投影領域RPの前側端部が通過する時点での当該あるショット領域Sの位置(言い換えれば、基板51の位置)を含んでいてもよい。露光終了位置は、あるショット領域SのY軸方向に沿った他方の端部(例えば、投影領域PRの移動方向に沿った前方側の端部)を投影領域RPの後側端部が通過する時点での当該あるショット領域Sの位置(言い換えれば、基板51の位置)を含んでいてもよい。
また、以下の説明では、あるショット領域Sに対する露光処理を行うためにスキャン移動動作が行われる期間を、適宜“スキャン移動期間”と称する。一方で、あるショット領域Sに対する露光処理が終了してから次のショット領域Sに対する露光処理を開始するためにステップ移動動作が行われる期間を、適宜“ステップ移動期間”と称する。
コントローラー91は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを交互に繰り返し行う。その結果、基板51上の複数のショット領域Sに対する露光処理が順次行われる。
複数のショット領域Sに対する露光処理を行う際に、コントローラー91は、複数のショット領域Sの露光条件に基づいて、基板51を移動させてもよい。例えば、コントローラー91は、複数のショット領域Sの露光条件に基づいて、基板51の移動条件(例えば、移動速度、加速度、移動距離、移動方向及びXY平面内での移動軌跡のうちの少なくとも一つ)を調整してもよい。例えば、図7に示すように、コントローラー91は、露光条件に基づいて、投影領域PRが基板51に対して移動軌跡Srに沿って相対的に移動するように、基板51を移動させてもよい。
複数のショット領域Sの露光条件は、例えば、露光レシピと称される露光制御情報に規定されている。露光制御情報は、例えばメモリ92に記憶されている。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Sの配列情報(例えば、複数のショット領域Sの夫々の位置)を含んでいてもよい。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Sのサイズ(例えば、複数のショット領域SのY軸方向の長さ)を含んでいてもよい。
図6に示すように、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間LSの少なくとも一部が上面52上に形成されてもよい。スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間LSの少なくとも一部が基板51と上面52とに跨るように形成されてもよい。計測ステージ6が基板ステージ5に隣接又は接触した状態で基板51に対する露光処理が行われる場合には、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間LSの少なくとも一部が基板ステージ5と計測ステージ6とに跨るように形成されてもよい。
第2部材42Aは、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、照明系2が露光光ELを照射していない(つまり、終端光学素子31から露光光ELが射出されていない)期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、基板51がX軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第2部材42Aは、ステップ移動期間中に移動しなくてもよい。第2部材42Aは、照明系2が露光光ELを照射していない期間中に移動しなくてもよい。第2部材42Aは、基板51がX軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。
第2部材42Aは、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、照明系2が露光光ELを照射している(つまり、終端光学素子31から露光光ELが射出されている)期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。第2部材42Aは、基板51がY軸方向に沿って移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。但し、第2部材42Aは、スキャン移動期間中に移動しなくてもよい。第2部材42Aは、照明系2が露光光ELを照射している期間中に移動しなくてもよい。第2部材42Aは、基板51がY軸方向に沿って移動する期間中に移動しなくてもよい。
このような第2部材42Aの移動動作を踏まえた上で、図8から図12を参照して、基板51の具体的な移動動作の一例と第2部材42Aの具体的な移動動作の一例との関係について説明する。図8は、投影領域PRの移動軌跡Sr及び第2部材42Aの移動軌跡Sr’の一具体例を示す平面図である。図9から図11は、夫々、図8に示す態様で基板51及び第2部材42Aが移動した場合の第2部材42Aの移動動作を示す平面図である。図12は、図8に示す態様で基板51及び第2部材42Aが移動した場合の基板51及び第2部材42Aの夫々の移動速度を示すグラフである。
図8(a)に示すように、X軸方向に沿って隣接する2つのショット領域S(つまり、ショット領域Sa及びショット領域Sb)に対する露光処理を行う場合を例にあげる。この場合、コントローラー91は、実線で示す移動軌跡Srに沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動するように、基板51を移動させる。
具体的には、コントローラー91は、ショット領域Sa上の+Y軸方向側の端部位置d1からショット領域Sa上の−Y軸方向側の端部位置d2に至る経路Tp1に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動するように、基板51を移動させる。つまり、経路Tp1に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する場合には、コントローラー91は、基板51をY軸方向に沿って(例えば、+Y軸方向に向かって)移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Tp1に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する間に、ショット領域Saが露光される。
その後、コントローラー91は、ショット領域Sa上の端部位置d2からショット領域Sb上の−Y軸方向側の端部位置d3に至る経路Tp2に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動するように、基板51を移動させる。つまり、経路Tp2に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する場合には、コントローラー91は、基板51をY軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。経路Tp2に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する間は、基板51が露光されることはない。例えば、図8(a)中の端部位置d2から中間位置d2.5に投影領域PRが移動する期間は、コントローラー91は、基板51を、−X軸方向に向かって移動させると共に、+Y軸方向に向かって移動させる。また、図8(a)中の中間位置d2.5から端部位置d3に投影領域PRが移動する期間は、コントローラー91は、基板51を、−X軸方向に向かって移動させると共に、−Y軸方向に向かって移動させる。
その後、コントローラー91は、ショット領域Sb上の端部位置d3からショット領域Sb上の+Y軸方向側の端部位置d4に至る経路Tp3に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動するように、基板51を移動させる。つまり、経路Tp3に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する場合には、コントローラー91は、基板51をY軸方向に沿って(例えば、−Y軸方向に向かって)移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Tp3に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する間に、ショット領域Sbが露光される。
その後、コントローラー91は、ショット領域Sb上の端部位置d4からショット領域Sc上の+Y軸方向側の端部位置d5に至る経路Tp4に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動するように、基板51を移動させる。つまり、経路Tp4に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する場合には、コントローラー91は、基板51をY軸方向に交わる方向に沿って移動させるステップ移動動作を行う。従って、経路Tp4に沿って投影領域PRが基板51に対して相対的に移動する間は、基板51が露光されることはない。例えば、図8(a)中の端部位置d4から中間位置d4.5に投影領域PRが移動する期間は、コントローラー91は、基板51を、−X軸方向に向かって移動させると共に、−Y軸方向に向かって移動させる。また、図8(a)中の中間位置d4.5から端部位置d5に投影領域PRが移動する期間は、コントローラー91は、基板51を、−X軸方向に向かって移動させると共に、+Y軸方向に向かって移動させる。
投影領域PRがショット領域Sc上の端部位置d5に位置した後には、投影領域PRが端部位置d1から端部位置d5に到達するまでに行われる動作と同様の動作が繰り返される。
図8(a)に示す態様で基板51が経路Tp1、経路Tp2、経路Tp3及び経路Tp4を順次移動する場合において、第2部材42Aは、図8(b)に示すように、経路Tp1’、経路Tp2’、経路Tp3’及び経路Tp4’を順次移動する。以下、経路Tp1’、経路Tp2’、経路Tp3’及び経路Tp4’について順に説明する。
まず、投影領域PRが経路Tp1に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第2部材42Aは、位置d1’から位置d2’に向かう経路Tp1’に沿って移動する。
位置d1’は、端部位置d1に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心(例えば、開口426の中心)の相対的な位置を示す。例えば、位置d1’は、図9(a)に示すように、投影領域PRから−X軸方向及び−Y軸方向にシフトした位置である。
位置d2’は、端部位置d2に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d2’は、図9(c)に示すように、投影領域PRから+X軸方向及び+Y軸方向にシフトした位置である。
経路Tp1’は、位置d1’から位置d1.5’に向かう経路Tp1_1’を含んでいる。経路Tp1_1’は、+X軸方向に向かう成分を含む一方で、Y軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Tp1_1’は、ステップ移動動作中における基板51の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。
経路Tp1’は、更に、位置d1.5’から位置d2’に向かう経路Tp1_2’を含んでいる。経路Tp1_2’は、+X軸方向に向かう成分及び+Y軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Tp1_2’は、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板51の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。
位置d1.5’が経路Tp1_2’の始点であり、位置d1.5’は、位置d1’と位置d2’との間の位置であって、且つ、スキャン移動期間中に第2部材42AがY軸方向に沿って移動し始める時点での投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置である。
このように、投影領域PRが経路Tp1に沿って移動する場合には、第2部材42Aは、まずは、経路Tp1_1’に沿って移動する。例えば、図9(a)に示すように、第2部材42Aは、まずは、Y軸方向に沿って移動することなく、+X軸方向に向かって移動する。経路Tp1_1’に沿って移動した後には、第2部材42Aは、経路Tp1_2’に沿って移動する。例えば、図9(b)に示すように、第2部材42Aは、+X軸方向及び+Y軸方向の夫々に向かって移動する。つまり、第2部材42Aは、+X軸方向に向かう成分及び+Y軸方向に向かう成分が合成されることで得られる方向に向かって移動する。尚、図9から図11では、基板51の移動方向が点線の矢印で示されている一方で、第2部材42Aの移動方向が実線の矢印で示されている。尚、図9から図11では、X軸方向に向かう成分およびY軸方向に向かう成分を含む基板51の移動は、X軸及びY軸に対して45度傾斜した方向を向く点線の矢印で示し、X軸方向に向かう成分およびY軸方向に向かう成分を含む第2部材42Aの移動は、X軸及びY軸に対して45度傾斜した方向を向く実線の矢印で示されている。
以上説明したスキャン移動期間中の第2部材42Aの移動に着目すると、第2部材42Aは、スキャン移動期間が開始してから第1所定時間が経過した後に、Y軸方向に沿って移動し始める。第2部材42Aは、スキャン移動期間のうちの後半の期間中に、Y軸方向に沿って移動する。第2部材42Aは、スキャン移動期間が開始してから第1所定時間が経過する前は、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。第2部材42Aは、スキャン移動期間のうちの前半の期間中に、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。尚、第2部材42Aは、スキャン移動期間のうちの前半の期間中に、Y軸方向に沿って移動を開始してもよい。
尚、スキャン移動期間中に第2部材42AがY軸方向に沿って移動し始めるタイミングの具体的な例については、後に詳述するため、ここでの詳細な説明を省略する(図13等参照)。
その後、投影領域PRが経路Tp2に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第2部材42Aは、位置d2’から位置d2.5’を介して位置d3’に向かう経路Tp2’に沿って移動する。
位置d2.5’は、中間位置d2.5に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d2.5’は、図9(d)に示すように、投影領域PRから+Y軸方向にシフトした位置である。
位置d3’は、端部位置d3に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d3’は、図10(a)に示すように、投影領域PRから−X軸方向及び+Y軸方向にシフトした位置である。
経路Tp2’は、−X軸方向に向かう成分を含む一方で、Y軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Tp2’は、ステップ移動動作中における基板51の移動方向と同一の方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。
このように、投影領域PRが経路Tp2に沿って移動する場合には、第2部材42Aは、経路Tp2’に沿って移動する。例えば、図9(c)に示すように、第2部材42Aは、Y軸方向に沿って移動することなく、−X軸方向に向かって移動する。その後、図9(d)に示すように、Y軸方向に沿った基板51の移動方向が反転した後であっても、第2部材42Aは、Y軸方向に沿って移動することなく、−X軸方向に向かって移動し続ける。
その後、投影領域PRが経路Tp3に沿って移動するスキャン移動動作が行われている場合には、第2部材42Aは、位置d3’から位置d4’に向かう経路Tp3’に沿って移動する。
位置d4’は、端部位置d4に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d4’は、図10(c)に示すように、投影領域PRから+X軸方向及び−Y軸方向にシフトした位置である。
経路Tp3’は、位置d3’から位置d3.5’に向かう経路Tp3_1’を含んでいる。経路Tp3_1’は、+X軸方向に向かう成分を含む一方で、Y軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Tp3_1’は、ステップ移動動作中における基板51の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。
経路Tp3’は、更に、位置d3.5’から位置d4’に向かう経路Tp3_2’を含んでいる。経路Tp3_2’は、+X軸方向に向かう成分及び−Y軸方向に向かう成分を含む経路である。経路Tp3_2’は、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に向かう成分、及び、ステップ移動動作中における基板51の移動方向とは逆方向に向かう成分を含む経路である。
位置d3.5’が経路Tp3_2’の始点であり、位置d3.5’は、位置d3’と位置d4’との間の位置であって、且つ、スキャン移動期間中に第2部材42AがY軸方向に沿って移動し始める時点での投影領域PRに対する第2部材42Aの相対的な位置である。
このように、投影領域PRが経路Tp3に沿って移動する場合には、第2部材42Aは、まずは、経路Tp3_1’に沿って移動する。例えば、図10(a)に示すように、第2部材42Aは、まずは、Y軸方向に沿って移動することなく、+X軸方向に向かって移動する。経路Tp3_1’に沿って移動した後には、第2部材42Aは、経路Tp3_2’に沿って移動する。例えば、図10(b)に示すように、第2部材42Aは、+X軸方向及び−Y軸方向の夫々に向かって移動する。つまり、第2部材42Aは、+X軸方向に向かう成分及び−Y軸方向に向かう成分が合成されることで得られる方向に向かって移動する。
その後、投影領域PRが経路Tp4に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、第2部材42Aは、位置d4’から位置d4.5’を介して位置d5’に向かう経路Tp2’に沿って移動する。
位置d4.5’は、中間位置d4.5に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d4.5’は、図10(d)に示すように、当領域PRから−Y軸方向にシフトした位置である。
位置d5’は、端部位置d5に投影領域PRが位置している時点での、投影領域PRに対する第2部材42Aの中心の相対的な位置を示す。例えば、位置d5’は、図11に示すように、投影領域PRから−X軸方向及び−Y軸方向にシフトした位置である。
経路Tp4’は、−X軸方向に向かう成分を含む一方で、Y軸方向に沿って移動する成分を含まない経路である。経路Tp4’は、ステップ移動動作中における基板51の移動方向と同一の方向に向かう成分を含む一方で、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に沿って移動する成分を含まない経路である。
このように、投影領域PRが経路Tp4に沿って移動する場合には、第2部材42Aは、経路Tp4’に沿って移動する。例えば、図10(c)に示すように、第2部材42Aは、Y軸方向に沿って移動することなく、−X軸方向に向かって移動する。その後、図10(d)に示すように、Y軸方向に沿った基板51の移動方向が反転した後であっても、第2部材42Aは、Y軸方向に沿って移動することなく、−X軸方向に向かって移動する。
図8(a)に示す移動軌跡Srに沿って投影領域PRが移動するように基板51が移動し且つ図8(b)に示す移動軌跡Sr’に沿って第2部材42Aが移動する場合には、基板51及び第2部材42Aの移動速度は、図12に示す態様で変化する。尚、図12の1段目のグラフが、X軸方向に沿った基板51の移動速度を示している。図12の2段目のグラフが、Y軸方向に沿った基板51の移動速度を示している。図12の3段目のグラフが、X軸方向に沿った第2部材42の移動速度を示している。図12の4段目のグラフが、Y軸方向に沿った第2部材42の移動速度を示している。
尚、図8(a)の投影領域PRの移動軌跡Srは、一例であり、適宜変更される。また図8(b)の移動軌跡Sr’も一例であり、基板51の移動態様などに応じて最適化される。
尚、スキャン移動期間の開始タイミングは、ステップ移動期間の終了タイミングに対応している。従って、第2部材42Aは、ステップ移動期間が終了してから第1所定時間が経過した後に、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、ステップ移動期間が終了してから第1所定時間が経過する前は、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。
また、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、照明系2が露光光ELを照射している(つまり、終端光学素子31から露光光ELが射出されている)。従って、第2部材42Aは、対象のショット領域(例えば、ショット領域Sa)を露光するために照明系2が露光光ELを照射し始めてから第1所定時間が経過した後に、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、対象のショット領域(例えば、ショット領域Sa)を露光するために基板51(基板ステージ5)が所定位置を通過した時点から第1所定時間が経過した後に、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、照明系2が露光光ELを照射し始めてから第1所定時間が経過する前は、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。第2部材42Aは、対象のショット領域(例えば、ショット領域Sa)を露光するために基板51(基板ステージ5)が所定位置を通過した時点から第1所定時間が経過する前は、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。
また、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、基板51は、X軸方向に沿って移動しない一方で、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中には、基板51は、X軸方向に沿って移動している。従って、第2部材42Aは、X軸方向に沿った基板51の移動が停止してから第1所定時間が経過した後に、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、X軸方向に沿った基板51の移動が停止してから第1所定時間が経過する前は、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。
尚、第2部材42AのY軸方向への移動開始を、基板51(基板ステージ5)の位置に基づいて制御してもよい。例えば、コントローラー91は、計測システム7の計測結果に基づいて、基板51(基板ステージ5)が所定位置を通過するときに、第2部材42AのY軸方向への移動を開始してもよい。例えば、投影領域PRが位置d1.5にある状態に対応する位置に基板51(基板ステージ5)が到達するときに第2部材42Aの+Y軸方向への移動を開始してもよい。
また、図8(a)に示す例では、ステップ移動期間中においても、基板51は、Y軸方向に沿って移動する。具体的には、投影領域PRが経路Tp2に沿って移動するステップ移動動作が行われている場合には、基板51は、+Y軸方向に向かう成分及び−X軸方向に向かう成分の双方を含む経路に沿って移動した後、−Y軸方向に向かう成分及び−X軸方向に向かう成分の双方を含む経路に沿って移動する。このため、第2部材42Aの経路Tp2’は、基板51の経路Tp2と同様に、+Y軸方向に向かう成分及び−X軸方向に向かう成分を含む経路、並びに、−Y軸方向に向かう成分及び−X軸方向に向かう成分を含む経路をこの順に含む経路であってもよい。経路Tp2’は、ステップ移動動作中における基板51の移動方向に向かう成分、及び、スキャン移動動作中における基板51の移動方向に沿った成分を含む経路であってもよい。ステップ移動期間中における第2部材42Aの経路Tp4’についても同様である。
また、上述の説明では、1回のスキャン移動期間において、Y軸方向に沿って第2部材42Aが移動しない期間とY軸方向に沿って第2部材42Aが移動する期間とがこの順に1回ずつ現れる例を用いて説明が進められている。しかしながら、スキャン移動期間中には、Y軸方向に沿って第2部材42Aが移動する期間とY軸方向に沿って第2部材42Aが移動しない期間とがこの順に1回ずつ現れてもよい。1回のスキャン移動期間中には、Y軸方向に沿って移動しない期間とY軸方向に沿って移動する期間とが任意の順に複数回現れてもよい。
続いて、図13を参照しながら、スキャン移動期間中に第2部材42AがY軸方向に沿って移動し始めるタイミング(以降、適宜“移動開始タイミング”と称する)について説明する。図13は、移動開始タイミングを、液浸空間LSの界面(特に、界面LG1)と流体回収口441(多孔部材4411)との位置関係に基づいて説明する平面図である。
第2部材42Aの移動開始タイミングは、界面LG1の位置に応じて決められてもよい。例えば、第2部材42Aの移動開始タイミングは、界面LG1と流体回収口441との間の位置関係に応じて決められてもよい。但し、界面LG1の位置は、基板51の移動態様(例えば、位置、移動速度、移動方向等)に影響を受け得る。従って、基板51の移動態様に応じた界面LG1の動き(界面LG1の位置変化)を予め求めておき、基板51の移動態様に応じて第2部材42Aの移動開始タイミングが決められてもよい。
以下では、界面LG1と流体回収口441との間の位置関係に応じて第2部材42Aの開始タイミングを決める例を具体的に用いて説明を進める。
例えば、第2部材42Aは、界面LG1が流体回収口441に到達した時点又は到達したと想定される時点で、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、界面LG1が流体回収口441に到達していない場合には、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。尚、ここで言う「界面LG1が流体回収口441に到達する」状態は、「界面LG1の少なくとも一部が流体回収口441の少なくとも一部に到達する」状態を意味する。以下、界面LG1が流体回収口441に到達する状態の一例について説明する。
界面LG1が流体回収口441に到達する状態は、基板51の移動方向に沿った前方側に位置する界面LG1の一部(例えば、図13(a)における界面LG1*)が、基板51の移動方向に沿った前方側に位置する流体回収口441の一部(例えば、図13(a)における流体回収口441*)に到達する状態を意味していてもよい。例えば、この図13(a)の状態は、図10(b)の状態に対応する。この場合、図13(a)に示すように、第2部材42Aは、界面LG1*が流体回収口441*に到達した時点で又は到達したと想定される時点で、Y軸方向に沿って(例えば、基板51の移動方向と同一の方向に沿って)移動し始めてもよい。図13(b)に示すように、第2部材42Aは、界面LG1*が流体回収口441*に到達していない場合又は到達していないと想定される場合には、Y軸方向に沿って移動を開始しなくてもよい。例えば、この図13(b)の状態は、図10(a)の状態に対応する。
例えば、基板51の移動方向が+Y軸方向である場合には、第2部材42Aは、+Y軸方向側に位置する界面LG1の一部が+Y軸方向側に位置する流体回収口441の一部に到達した時点で又は到達したと想定される時点で、+Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。例えば、基板51の移動方向が−Y軸方向である場合には、第2部材42Aは、−Y軸方向側に位置する界面LG1の一部が−Y軸方向側に位置する流体回収口441の一部に到達した時点又は到達したと想定される時点で、−Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。
以上説明したように、第1実施形態では、スキャン移動期間中にこのようなタイミングで第2部材42AがY軸方向に沿って移動し始めることで、界面LG1が基板51上で薄膜化し、その一部が分離して基板51上に残留することが抑制できる。
また、界面LG1が流体回収口441に到達する状態は、流体回収口441*を介して液体LQが回収される状態を意味していてもよい。この場合、流体回収口441*を介して液体LQが回収され始めた時点又は液体LQが回収され始めたと想定される時点で、第2部材42AをY軸方向に沿って移動し始めてもよい。第2部材42Aは、流体回収口441*を介して液体LQが回収されていない場合には、Y軸方向に沿って移動しなくてもよい。
また、第2部材42Aは、界面LG1が流体回収口441に到達してから又は到達した想定されてから第2所定時間が経過した時点で、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。また、第2部材42Aは、界面LG1が流体回収口441に到達するまでに要する時間が第3所定時間未満となる時点で、Y軸方向に沿って移動し始めてもよい。
また、第2部材42Aは、スキャン移動期間中にY軸方向に沿った移動を開始することに加えて又は代えて、界面LG1と流体回収口441との間の位置関係に応じて定まるタイミングで、Y軸方向に沿った移動を停止してもよい。尚、第2部材42AのY軸方向に沿った移動を停止するタイミング(以降、適宜“移動停止タイミング”と称する)は、移動開始タイミングと逆の論理で決定されてもよい。例えば、上述した説明では、移動開始タイミングの一例として、界面LG1が流体回収口441に到達したタイミングが例示されている。従って、移動停止タイミングの一例として、界面LG1が流体回収口441から離れたタイミングが用いられてもよい。移動開始タイミングのその他の例においても同様である。
また、第2部材42Aは、界面LG1と流体回収口441との間の位置関係に応じてX軸方向に沿って移動してもよい。
また、第2部材42Aは、ステップ移動期間中においても、界面LG1と流体回収口441との間の位置関係に応じて移動してもよい。例えば、第2部材42Aは、ステップ移動期間中に−X軸方向側に位置する界面LG1の一部が−X軸方向側に位置する流体回収口441の一部に到達した時点又は到達したと想定される時点で、−X軸方向に沿って移動し始めてもよい。
以上説明した移動開始タイミングは、例えば、制御部の一例であるコントローラー91によって決定されてもよい。第1実施形態では、コントローラー91は、界面LG1の少なくとも一部と流体回収口441の少なくとも一部との間の位置関係を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定する。例えば、コントローラー91は、基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の双方に基づいて、移動開始タイミングを決定する。
露光装置EX1が基板51を露光する際には、基板51は、規則的に移動する可能性がある。更に、第2部材42Aが基板51の移動態様に基づいて移動することを考慮すれば、第2部材42Aもまた、規則的に移動する可能性がある。基板51及び第2部材42Aの双方が規則的に移動する可能性があることを考慮すれば、コントローラー91は、基板51及び第2部材42Aの両方又は一方の移動態様に基づいて界面LG1の位置を推定することが可能である。
また、界面LG1が流体回収口441に到達すると、界面LG1が流体回収口441に到達する前と比較して、流体回収口441における回収態様が変化し得る。例えば、界面LG1が流体回収口441に到達すると、界面LG1が流体回収口441に到達する前と比較して、流体回収口441における回収圧及び回収量の両方又は一方が変化し得る。従って、コントローラー91は、流体回収口441における回収態様に基づいて界面LG1の位置を推定することが可能である。言い換えれば、コントローラー91は、流体回収口441における回収態様に基づいて、界面LG1の少なくとも一部と流体回収口441の少なくとも一部との間の位置関係を推定することが可能である。
従って、第1実施形態では、コントローラー91は、スキャン移動期間中に基板51の移動態様と流体回収口441における回収態様とに基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。
尚、コントローラー91は、流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づくことなく、基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。コントローラー91は、基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づくことなく、流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。
コントローラー91は、上述した基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、移動開始タイミングを決定してもよい。
コントローラー91は、界面LG1の位置をシミュレーションによって直接的に取得してもよい。この場合、コントローラー91は、例えば、上述した基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に基づいて、界面LG1の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー91は、上述した基板51の移動態様を直接的に又は間接的に示す情報並びに流体回収口441における回収態様を直接的に又は間接的に示す情報の両方又は一方に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、界面LG1の位置を直接的にシミュレートしてもよい。
界面LG1の位置をシミュレーションによって直接的に取得する場合には、コントローラー91は、取得した界面LG1の位置と流体回収口441との間の位置関係を解析することで、移動開始タイミングを決定してもよい。尚、コントローラー91は、第2部材42Aの位置に基づいて、流体回収口441の位置を比較的容易に認識することができる。
コントローラー91は、界面LG1の位置を検出するセンサを用いて、界面LG1の位置を直接的に取得してもよい。この場合も、コントローラー91は、取得した界面LG1の位置と流体回収口441との間の位置関係を解析することで、移動開始タイミングを決定してもよい。
尚、上述の説明においては、1回のスキャン移動期間に、第2部材42AがY軸方向に沿って移動する期間と第2部材42AがY軸方向に沿って移動しない期間とが含まれる例を説明した。しかしながら、1回のスキャン移動期間に、Y軸方向に沿って第2部材42Aが移動する期間が存在しなくてもよい。例えば、1回のスキャン移動期間において、基板51の移動方向に沿った前方側で界面LG1が流体回収口441に到達することが想定されない場合には、第2部材42Aは、1回のスキャン移動期間においてY軸方向に沿って移動しなくてもよい。また、1回のスキャン移動期間に、第2部材42AがY軸方向に沿って移動し続けてもよい。例えば、1回のスキャン移動期間の開始直後に、基板51の移動方向に沿った前方側で界面LG1が流体回収口441に到達することが想定される場合には、1回のスキャン移動期間の開始と同時に第2部材42AがY軸方向に沿って移動し続けてもよい。
尚、基板51の全てのショット領域のスキャン移動期間のそれぞれで、第2部材42Aの移動を同様に制御しなくてもよい。例えば、ある一つのショット領域のスキャン移動期間においては、上述したように、第2部材42AがY軸方向に沿って移動する期間と第2部材42AがY軸方向に沿って移動しない期間を含むように、第2部材42Aの移動を制御し、他の一つショット領域のスキャン移動期間においては、第2部材42AがY軸方向に沿って移動しなくてもよい。
(1−4)第2部材42Aの移動動作の変形例
続いて、図14から図17を参照して、第2部材42Aの移動動作の変形例について説明する。
第2部材42Aは、基板ステージ5若しくは計測ステージ6上又は基板ステージ5と計測ステージ6との間に位置する所定部55と界面LG1の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、移動する。以下、図14を参照しながら、基板ステージ5若しくは計測ステージ6上又は基板ステージ5と計測ステージ6との間に位置する所定部55の一例について説明する。図14は、基板ステージ5及び計測ステージ6の上面を示す平面図である。
図14に示すように、基板ステージ5は、基板51をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面52とを備えている。
所定部55は、上面52の少なくとも一部に配置される撥水膜除去部55aを含んでいてもよい。
撥水膜除去部55aは、上面52のうち撥水膜が除去された部分を意味する。撥水膜除去部55aは、上面52のうち撥水膜を形成しない部分を意味してもよい。上面52のうち撥水膜除去部55aが配置されていない部分(撥水膜除去部55aの周辺部分)は、フッ素樹脂材料や、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料や、アクリル系樹脂材料や、シリコン系樹脂材料を含む撥水膜の表面を含んでいてもよい。上面52には、単一の撥水膜除去部55aが配置されていてもよい。上面52には、複数の撥水膜除去部55aが配置されていてもよい。撥水膜除去部55aは、上面52上に配置されることに加えて又は代えて、基板51上に配置されていてもよい。撥水膜除去部55aは、基板ステージ5上に配置されることに加えて又は代えて、計測ステージ6上に配置されていてもよい。
撥水膜除去部55aは、センサの光入射部でもよい。例えば、このセンサの光入射部(撥水膜除去部55a)に、投影光学系3からの露光光ELが、計測光として、液体LQを介して入射する。
所定部55は、計測ステージ6に保持されている計測部材61の少なくとも一部を含んでいてもよい。
所定部55は、上面52の凸部55cを含んでいてもよい。尚、凸部55cは、上面52の一部を構成する若しくは上面52と一体化されている凸部であってもよい。凸部55cは、上面52とは別個独立の又は上面52から分離可能な凸部であってもよい。所定部55は、基板ステージ5の上面52の凸部55cに加えて又は代えて、計測ステージ6の上面の凸部であってもよい。
所定部55は、計測ステージ6の上面の凹部55eを含んでいてもよい。尚、凹部55eは、計測ステージ6の一部を構成する若しくは計測ステージ6と一体化されている凹部であってもよい。凹部55eは、計測ステージ6とは別個独立の又は計測ステージ6から分離可能な凹部であってもよい。所定部55は、計測ステージ6の上面の凹部55eに加えて又は代えて、基板ステージ5の上面52の凹部であってもよい。
所定部55は、基板51と上面52との間の間隙55fを含んでいてもよい。所定部55は、基板ステージ5と計測ステージ6との間の間隙55gを含んでいてもよい。
間隙55f及び間隙55gの両方又は一方は、XY平面に平行な方向に沿った間隙である。間隙55f及び間隙55gの両方又は一方は、液浸空間LS内の液体LQの少なくとも一部が進入し得る間隙であってもよい。間隙55f及び間隙55gの両方又は一方は、当該間隙の全体に液体LQが進入し得る間隙であってもよい。間隙55f及び間隙55gの両方又は一方は、当該間隙の一部に液体LQが進入し得る間隙であってもよい。
また、図面の簡略化のために図14には図示しないものの、所定部55は、上述した間隙55f及び間隙55gに加えて又は代えて、異なる任意の構造物の間の間隙を含んでいてもよい。所定部55は、上述した間隙55f及び間隙55gに加えて又は代えて、互いに隣接し合う任意の構造物の間の間隙を含んでいてもよい。
上記のような所定部55上に液浸空間LSが形成されると、例えば、所定部55及び所定部55の周辺部の少なくとも一方に、液体LQの滴、膜などが残留する可能性がある。また、上記のような所定部55上に液浸空間LSが形成されると、例えば、液浸空間LSを形成する液体LQ中に気泡が発生する可能性がある。
第1実施形態では、所定部55に起因する液体LQの残留と気泡の発生の一方、または両方を抑制するように第2部材42Aを移動させてもよい。
第2部材42Aは、このような所定部55と前方界面LG1との間の位置関係及び所定部55と後方界面LG1との間の位置関係の両方又は一方に基づいて、移動する。ここで、「前方界面LG1」とは、所定部55又は基板ステージ5若しくは計測ステージ6に対する液浸空間LSの相対的な移動方向に沿った前方側に位置する界面LG1の少なくとも一部を意味する。「後方界面LG1」とは、所定部55又は基板ステージ5若しくは計測ステージ6に対する液浸空間LSの相対的な移動方向に沿った後方側に位置する界面LG1の少なくとも一部を意味する。また、説明の便宜上、以下では、「前方界面LG1及び後方界面LG1の両方又は一方」を意味する文言として、「前後界面LG1」という文言を適宜使用する。尚、所定部55に対する液浸空間LSの相対的な移動方向は、液浸空間LS又は液浸部材4A若しくは第2部材42Aに対する所定部55又は基板ステージ5若しくは計測ステージ6の相対的な移動方向とは逆の方向と実質的には同義である。また、所定部55に対する液浸空間LSの相対的な移動方向は、基板ステージ5又は計測ステージ6に対する液浸部材4A又は第2部材42Aの相対的な移動方向と実質的には同義である。
尚、第2部材42Aは、所定部55と当該所定部55に対する液浸空間LSの相対的な移動方向に沿った前方側及び後方側とは異なる側(例えば、側方側)に位置する界面LG1の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、移動してもよい。
また、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係は、基板ステージ5又は計測ステージ6の移動態様に依存して変動し得る。従って、第2部材42Aは、基板ステージ5又は計測ステージ6の移動態様に基づいて移動してもよい。第2部材42Aは、液浸空間LS又は液浸部材4A若しくは第2部材42Aに対する所定部55又は基板ステージ5若しくは計測ステージ6の相対的の移動態様に基づいて移動してもよい。
以下、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係に基づく第2部材42Aの移動動作の変形例として、第1変形例及び第2変形例を用いて更に詳細に説明を進める。
第1変形例では、所定部55に対する後方界面LG1の相対速度が小さくなるように移動する。具体的には、第2部材42Aは、所定部55の上側を後方界面LG1が通過する期間に移動する。例えば、所定部55上を後方界面LG1が通過する期間に、所定部55の移動方向と同じ方向に第2部材42Aが移動する。これにより、第2部材42Aを、所定部55の移動方向と同じ方向に移動しない場合に比べて、所定部55に対する後方界面LG1の相対速度を小さくすることができる。
ここで、図15を参照しながら、所定部55に対する後方界面LG1の相対速度が小さくなるように第2部材42Aが移動する理由について説明する。図15は、所定部55と後方界面LG1との位置関係を示す平面図である。尚、図15では、所定部55が撥水膜除去部55aである例を用いて説明を進める。但し、所定部55が撥水膜除去部55aでない場合であっても、同様である。
図15(a)に示すように、撥水膜除去部55aが液浸空間LSによって覆われている状況下で、第2部材42Aに対して基板ステージ5が相対的に+Y軸方向に向かって移動しているものとする。つまり、第2部材42Aに対して撥水膜除去部55aが相対的に+Y軸方向に向かって移動しているものとする。この場合、液浸空間LSは、撥水膜除去部55aに対して相対的に−Y軸方向に向かって移動することになる。
その後、ある瞬間において、撥水膜除去部55aの上側を後方界面LG1が通過する。この場合、図15(b)に示すように、液浸空間LSを構成する液体LQの一部が、撥水膜除去部55aによって、撥水膜除去部55aに対する液浸空間LSの相対的な移動方向とは逆側の方向に向かって引っ張られる。
図15(b)に示す状況下での撥水膜除去部55aに対する後方界面LG1の相対速度が相対的に大きいと、図15(c)に示すように、液浸空間LSを構成する液体LQの一部は、撥水膜除去部55aによって、分断される可能性がある。その結果、図15(c)に示すように、液浸空間LSを構成する液体LQの一部が、基板ステージ5上に残水LQ’として残留してしまうおそれがある。
そこで、第1変形例では、撥水膜除去部55aに対する後方界面LG1の相対速度が小さくなるように第2部材42Aが移動する。このため、第2部材42Aが移動しない場合と比較して、液浸空間LSを構成する液体LQの一部が、撥水膜除去部55aによって、分断されにくくなる。その結果、液浸空間LSを構成する液体LQの一部が、基板ステージ5上に残水LQ’として残留してしまうことが抑制される。
尚、後方界面LG1の位置は、後方流体回収口441の移動態様に依存して変動し得る。従って、第2部材42Aは、所定部55に対する後方界面LG1の相対速度が小さくなるように移動することに加えて又は代えて、所定部55に対する後方流体回収口441の相対速度が小さくなるように移動してもよい。
第2部材42Aは、所定部55に対する前方界面LG1の相対速度が小さくなるように、移動してもよい。第2部材42Aは、所定部55に対する前方界面LG1及び後方界面LG1とは異なるその他の界面LG1(例えば、所定部55に対する液浸空間LSの相対的な移動方向に沿った前方側及び後方側とは異なる側(例えば、側方側)に位置する界面LG1)の相対速度が小さくなるように、移動してもよい。
続いて、第2変形例では、第2部材42Aは、所定部55に起因した残水LQ’の発生を回避するように、移動する。具体的には、第2部材42Aは、所定部55に起因した残水LQ’の発生を回避するように、移動態様を変える。ここで、図16を参照しながら、所定部55に起因した残水LQ’の一例について説明する。尚、図16では、所定部55が間隙55fである例を用いて説明を進める。但し、図16は簡略図であるため、間隙55fは、円弧状でなく、X軸方向に直線状に延びている。尚、所定部55が間隙55fでない場合においても同様である。
図16(a)に示すように、間隙55fが液浸空間LSによって覆われていない状況下で、基板ステージ5に対して液浸空間LSが+Y軸方向に向かって移動している状況を想定する。つまり、間隙55fに対して液浸空間LSが+Y軸方向に向かって移動している状況を想定する。このような状況は、例えば、第2部材42Aに対して基板ステージ5が−Y軸方向に向かって移動している場合に生じ得る。また、図16(a)に示す状況では、前後界面LG1のうちの前方界面LG1は、間隙55fよりも−Y軸方向側に位置するものとする。
図16(a)に示す状態において、第2部材42Aに対して基板ステージ5が−Y軸方向に向かって更に移動すると、図16(b)に示すように、あるタイミングで、間隙55fの上側に前方界面LG1が位置することになる。
ここで、間隙55fの上側に前方界面LG1が位置するタイミングで、第2部材42Aに対する基板ステージ5の相対的な移動方向が、−Y軸方向から+Y軸方向に切り替わるとする。この場合、図16(c)に示すように、前方界面LG1を構成していた液体LQの少なくとも一部が、間隙55fによって、第2部材42Aに対する基板ステージ5の移動方向に向かって(つまり、基板ステージ5に対する液浸空間LSの移動方向とは逆側の方向に向かって)引っ張られるおそれがある。
その後、第2部材42Aに対して基板ステージ5が+Y軸方向に向かって更に移動すると、図16(d)に示すように、液浸空間LSを構成する液体LQの一部は、間隙55fによって、分断されてしまいかねない。その結果、図16(d)に示すように、液浸空間LSを構成する液体LQの一部が、基板ステージ5上に残水LQ’として残留してしまうおそれがある。
間隙55fを含む所定部55に起因した残水の発生を回避するために、第2部材42Aは、液浸空間LSに対する所定部55の相対的な移動方向(つまり、基板ステージ5及び計測ステージ6の両方又は一方の相対的な移動方向)が反転する第1のタイミングと、所定部55の上側に前後界面LG1が位置する第2のタイミングとが一致しないように移動してもよい。つまり、第2部材42Aは、第1のタイミングと第2のタイミングとの一致を回避するように移動してもよい。
尚、所定部55の上側に前後界面LG1が位置する第2のタイミングは、所定部55の上側に前後流体回収口441の両方又は一方が位置するタイミングであってもよい。
このような第1のタイミングと第2のタイミングとの一致を回避する第2部材42Aの移動動作の一例について、図17を参照しながら、更に詳細に説明する。図17は、第1のタイミングと第2のタイミングとの一致を回避する第2部材42Aの移動動作の一例を、液浸空間LSの界面LG1と共に示す平面図である。尚、図17においてもまた、図16と同様に、所定部55が間隙55fである例を用いて説明を進める。また、図17も簡略図であるため、間隙55fは、円弧状でなく、X軸方向に直線状に延びている。また、所定部55が間隙55fでない場合においても同様である。
図17(a)に示すように、第2部材42Aに対して(つまり、液浸空間LSに対して)基板ステージ5が−Y軸方向に向かって移動しているものとする。更に、第2部材42Aが移動しなければ、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングと、間隙55fの上側に前後界面LG1(図17(a)から図17(c)に示す例では、前方界面LG1)が位置する第2のタイミングとが一致するものとする。
図17(a)に示す状況下において、第1のタイミングと第2のタイミングとの一致を回避するために、図17(b)に示すように、第2部材42Aは、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する前に、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向とは逆の方向(図17(b)に示す例では、+Y軸方向)に向かって移動する。つまり、第2部材42Aは、間隙55fの上側に前後界面LG1が位置する前に、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動する。具体的には、例えば、第2部材42Aは、間隙55fと前後界面LG1との間の位置関係が所定関係となった時点で、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動してもよい。例えば、第2部材42Aは、間隙55fと前後界面LG1との間の距離が第2所定距離以下となる時点で、第2部材42Aに対する所定部55の相対的な移動方向とは逆の方向に向かって移動してもよい。
図17(a)及び図17(b)は、説明の簡略化のために、第2部材42Aが移動していない状況下で第2部材42Aが移動しなければ第1のタイミングと第2のタイミングとが一致する場合における第2部材42Aの移動動作を説明している。一方で、第2部材42Aが移動している状況下で、第1タイミングと第2タイミングとが一致しないように第2部材42Aの移動態様を変えてもよい。
第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向とは逆の方向に向かって第2部材42Aが移動すると、図17(b)に示すように、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングにおいて、間隙55fの上側に前後界面LG1が位置することはなくなる。例えば、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングにおいて、間隙55fよりも一方側(第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向とは逆の方向側であって、図17(b)に示す例では+Y軸方向に向かう側に相当する外側)に前後界面LG1が位置することになる。
一方で、図17(a)に示す状況下において、第1のタイミングと第2のタイミングとの一致を回避するために、図17(c)に示すように、第2部材42Aは、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する前に、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向と同一の方向(図17(c)に示す例では、−Y軸方向)に向かって移動する。つまり、第2部材42Aは、間隙55fの上側に前後界面LG1が位置する前に、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動する。具体的には、例えば、第2部材42Aは、間隙55fと前後界面LG1との間の位置関係が所定関係となった時点で、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動してもよい。例えば、第2部材42Aは、間隙55fと前後界面LG1との間の距離が第3所定距離以下となる時点で、第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向と同一の方向に向かって移動してもよい。
図17(a)及び図17(c)は、説明の簡略化のために、第2部材42Aが移動していない状況下で第2部材42Aが移動しなければ第1のタイミングと第2のタイミングとが一致する場合における第2部材42Aの移動動作を説明している。一方で、第2部材42Aが移動している状況下で、第1タイミングと第2タイミングとが一致しないように第2部材42Aの移動態様を変えてもよい。
第2部材42Aに対する間隙55fの相対的な移動方向と同一の方向に向かって第2部材42Aが移動すると、図17(c)に示すように、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングにおいて、間隙55fの上側に前後界面LG1が位置することはなくなる。例えば、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングにおいて、間隙55fよりも他方側(第2部材42Aに対する基板ステージ5の相対的な移動方向と同一の方向側であって、図17(c)に示す例では−Y軸方向に向かう側に相当する内側)に前後界面LG1が位置することになる。
図17(b)及び図17(c)に示すように第2部材42Aが移動することで、液浸空間LS(前後界面LG1)の位置を変えることができる。図17(b)及び図17(c)に示すように第2部材42Aを移動することで、例えば、液浸空間LSに対する間隙55fの相対的な移動方向が反転する第1のタイミングと、間隙55fの上側に前後界面LG1が位置する第2のタイミングとの一致が回避される。従って、間隙55fに起因した残水の発生が回避される。
以上説明した第2部材42Aの移動動作は、制御部の一例であるコントローラー91によって制御される。従って、コントローラー91は、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係を直接的に又は間接的に示す情報に基づいて、第2部材42Aの移動態様を制御する。
ここで、上述したように、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係は、基板ステージ5又は計測ステージ6の移動態様に依存して変動し得る。このため、コントローラー91は、基板ステージ5又は計測ステージ6の移動態様に基づいて、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係を推定することが可能である。
同様に、上述したように、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係は、前後流体回収口441の移動態様に依存して変動し得る。このため、コントローラー91は、前後流体回収口441の移動態様に基づいて、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係を推定することが可能である。
従って、コントローラー91は、基板ステージ5若しくは計測ステージ6の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報及び前後流体回収口441の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報の両方又は一方に基づいて、第2部材42Aの移動態様を制御する。その結果、コントローラー91は、所定部55と前後界面LG1との間の位置関係に基づいて第2部材42Aを好適に移動させることができる。
尚、コントローラー91は、上述した基板ステージ5若しくは計測ステージ6の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報及び前後流体回収口441の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に加えて又は代えて、その他の情報に基づいて、第2部材42Aの移動態様を制御してもよい。
コントローラー91は、界面LG1の位置をシミュレーションによって直接的に取得してもよい。この場合、コントローラー91は、例えば、前後流体回収口441の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に基づいて、界面LG1の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー91は、例えば、基板ステージ5又は計測ステージ6の移動態様を直接的に若しくは間接的に示す情報に基づいて、界面LG1の位置を直接的にシミュレートしてもよい。コントローラー91は、例えば、その他の情報に基づいて、界面LG1の位置を直接的にシミュレートしてもよい。
界面LG1の位置をシミュレーションによって直接的に取得する場合には、コントローラー91は、取得した界面LG1の位置と所定部55との間の位置関係を解析することで、第2部材42Aの移動態様を制御してもよい。尚、コントローラー91は、基板ステージ5又は計測ステージ6の位置に基づいて、所定部55の位置を比較的容易に取得することができる。
コントローラー91は、界面LG1の位置を検出するセンサを用いて、界面LG1の位置を直接的に取得してもよい。この場合も、コントローラー91は、取得した界面LG1の位置と所定部55との間の位置関係を解析することで、第2部材42Aの移動態様を制御してもよい。
(2)液浸部材4の各種実施形態
上述した説明では、第1実施形態の液浸部材4Aを備える露光装置EX1を用いて説明が進められている。しかしながら、露光装置EX1は、液浸部材4Aに代えて、第1部材41と第1部材41に対して移動可能な第2部材42とを備える任意の液浸部材4を備えていてもよい。このような任意の液浸部材4が備える第2部材42は、第1実施形態の液浸部材4Aが備える第2部材42Aと同様の態様で移動してもよい。任意の液浸部材4が備える第2部材42が、第1実施形態の液浸部材4Aが備える第2部材42Aと同様の態様で移動する場合であっても、上述した各種効果が相応に享受される。
以下、任意の液浸部材4の一例として、第2実施形態の液浸部材4B、第3実施形態の液浸部材4C、第4実施形態の液浸部材4D、第5実施形態の液浸部材4E及び第6実施形態の液浸部材4Fの夫々について、順に簡単に説明する。尚、第1実施形態の液浸部材4Aが備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。
(2−1)第2実施形態の液浸部材4B
図18を参照しながら、第2実施形態の液浸部材4Bについて説明する。図18は、第2実施形態の液浸部材4Bの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。
図18に示すように、第2実施形態では、第2部材42Bの内側面424の少なくとも一部は、第1部材41Bの内側面415よりも内側に配置されている。第2部材42Bの開口426の径は、第1部材41Bの開口416の径よりも小さい。
第2実施形態の液浸部材4Bを備える露光装置においても、上述した液浸部材4Aを備える露光装置EX1が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体LQが界面LG1よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。
(2−2)第3実施形態の液浸部材4C
図19を参照しながら、第3実施形態の液浸部材4Cについて説明する。図19は、第3実施形態の液浸部材4Cの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。
図19に示すように、第3実施形態では、第2部材42Cは、第1部材41Cと第2部材42Cとの間の空間SP3の少なくとも一部に液体LQが進入することを抑制する抑制部461Cを備えている。抑制部461Cは、第1部材41Cと第2部材42Cとの間の空間SP3のうち抑制部461Cよりも外側の空間に液体が進入することを抑制する。
抑制部461Cは、空間SP3に面する第2部材42Cの面に配置されていてもよい。例えば、抑制部461Cは、第2部材42Cの上面421の少なくとも一部に形成されていてもよい。但し、抑制部461Cは、空間SP3に面する第1部材41Cの面に配置されていてもよい。
抑制部461Cは、第1部材41Cと第2部材42Cとの間の空間SP3の少なくとも一部に気体を供給する給気口を含んでいてもよい。給気口は、当該給気口よりも外側へ液体LQが飛び出すことを防ぐエアカーテンを形成するための気体を供給してもよい。尚、抑制部461Cが給気口を備えている場合には、抑制部461Cは更に、給気口から供給される気体を回収する排気口を備えていてもよい。
抑制部461Cは、吸気口及び排気口の両方又は一方を備えることに加えて又は代えて、空間SP3への液体LQの進入を抑制することが可能な任意の構成要件を含んでいてもよい。例えば、抑制部461Cは、下面413の少なくとも一部及び上面421の少なくとも一部の両方又は一方となり得る撥水膜を含んでいてもよい。
第1部材41C及び第2部材42Cの両方又は一方が抑制部461Cを備えている場合には、第1部材41Cは、流体回収口442を備えていなくてもよい。但し、第1部材41Cは、流体回収口442を備えていてもよい。
第2部材42Cを移動させるための構成要素(例えば、駆動装置451、支持部材452及び支持部材453)の少なくとも一部は、Z軸方向に沿って第1部材41Cを貫通する貫通孔を介して第2部材42Cに連結されている。この場合、貫通孔の少なくとも一部には、液体LQが進入してもよいし、進入しなくてもよい。
第3実施形態の液浸部材4Cを備える露光装置においても、上述した液浸部材4Aを備える露光装置EX1が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体LQが界面LG1よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。
(2−3)第4実施形態の液浸部材4D
図20を参照しながら、第4実施形態の液浸部材4Dについて説明する。図20は、第4実施形態の液浸部材4Dの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。
図20に示すように、第4実施形態では、液浸部材4Dは、流体回収口442が、上面421に加えて、基板51にも対向している。更に、流体回収口442の少なくとも一部は、第2部材42Dの外側端部よりも外側に配置されている。従って、流体回収口442は、空間SP3から液体LQを回収すると共に、空間SP1からも液体LQを回収する。この場合、第2部材42Dは、流体回収口441を備えていなくてもよい。
第2部材42Dを移動させるための構成要素(例えば、駆動装置451、支持部材452及び支持部材453)の少なくとも一部は、Z軸方向に沿って第1部材41Dを貫通する貫通孔を介して第2部材42Dに連結されている。この場合、貫通孔の少なくとも一部には、液体LQが進入してもよいし、進入しなくてもよい。
第4実施形態の液浸部材4Dを備える露光装置においても、上述した液浸部材4Aを備える露光装置EX1が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体LQが界面LG1よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。
(2−4)第5実施形態の液浸部材4E
図21を参照しながら、第5実施形態の液浸部材4Eについて説明する。図21は、第5実施形態の液浸部材4Eの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。
図21に示すように、第5実施形態では、第1部材41Eは、空間SP3に面する流体回収口442に加えて、空間SP2に面する流体回収口443Eを備えている。尚、流体回収口443Eは、空間SP2に面するように内側面411に形成されているという点を少なくとも除いては、流体回収口442と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、流体回収口443Eの詳細な説明を省略する。
第2部材42Eは、空間SP1に面する液体供給口432Eを備えている。尚、液体供給口432Eは、下面422に形成されているという点を少なくとも除いては、液体供給口431と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、液体供給口432Eの詳細な説明を省略する。
第5実施形態の液浸部材4Eを備える露光装置においても、上述した液浸部材4Aを備える露光装置EX1が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体LQが界面LG1よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。
(2−5)第6実施形態の液浸部材4F
図22を参照しながら、第6実施形態の液浸部材4Fについて説明する。図22は、第6実施形態の液浸部材4Fの断面図(XZ平面に平行な断面図)である。
図22に示すように、第6実施形態では、第1部材41Fの下面413が空間SP1を介して基板51に対向している。加えて、第1部材41Fの一部が第2部材42Fの下面422の一部の下側に配置されている。具体的には、第1部材41Fのうち下面413が形成する板状部分417Fの一部は、下面422の一部である内側下面4222Fの下側に配置されている。尚、下面422の他の一部である外側下面4221Fは、下面413と同一平面上であって且つ内側下面4222F及び下面413の外側に配置されている。
第2部材42Fは、液体供給口432Fを更に備えている。尚、液体供給口432Fは、下面422(外側下面4221F)に形成されているという点を少なくとも除いては、液体供給口431と同様の特徴を有していてもよい。従って、説明の簡略化のため、液体供給口432Fの詳細な説明を省略する。
流体回収口442は、下面413に代えて、内側下面4222Fに形成されている。
第6実施形態の液浸部材4fを備える露光装置においても、上述した液浸部材4Aを備える露光装置EX1が享受することができる各種効果が好適に享受される。例えば、液体LQが界面LG1よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。
尚、上述した第1実施形態から第6実施形態において、コントローラー91は、CPU等を含むコンピュータシステムを含んでいてもよい。コントローラー91は、コンピュータシステムと外部装置との間の通信させるためのインタフェースを含んでいてもよい。コントローラー91には、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、例えば、キーボード、マウス及びタッチパネル等のうちの少なくとも一つを含む入力機器等を含んでいてもよい。入力装置は、例えば、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含んでいてもよい。コントローラー91には、液晶ディスプレイ等の表示装置が接続されていてもよい。
メモリ92は、例えば、RAM(Random Access Memory)、ハードディスク及びCD−ROM等のうちの少なくとも一つを含む記憶媒体を含んでいてもよい。メモリ92には、コンピュータシステムを制御するためのOS(オペレーティングシステム)がインストールされていてもよい。メモリ92には、露光装置EX1(EX2、以下同じ)を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。メモリ92には、光路ATに満たされた液体LQを介して投影される露光光ELを用いて基板51を露光するように露光装置EX1を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。
メモリ92に記憶されているプログラムは、コントローラー91によって読み込まれ且つ実行されてもよい。その結果、液浸部材4A(4B)、基板ステージ5及び計測ステージ6等の露光装置EX1が備える各種構成要素が協働して、液浸空間LSが形成された状態で基板51を露光する露光処理等の各種処理が行われる。
上述の説明では、終端光学素子31の射出面32側(つまり、像面側)の光路ATが液体LQで満たされている投影光学系3が例示されている。しかしながら、終端光学素子31の入射側(つまり、物体面側)の光路ATが液体LQで満たされている投影光学系が用いられてもよい。終端光学素子31の入射側の光路が液体LQで満たされている投影光学系の一例は、例えば、国際公開第2004/019128号パンフレットに開示されている。
上述の説明では、液体LQが水(例えば、純水)である例が例示されている。しかしながら、液体LQは、水以外の液体であってもよい。液体LQは、露光光ELに対して透過性を有していてもよい。液体LQは、露光光ELに対して高い屈折率を有していてもよい。液体LQは、投影光学系3又は基板51の表面を形成する感光材(つまり、フォトレジスト)等に対して安定しているという特性を有してもよい。このような液体LQの一例として、例えば、フッ素系液体(例えば、ハイドロフロロエーテル(HFE)、過フッ化ポリエーテル(PFPE)又はフォンブリンオイル等)があげられる。液体LQは、様々な流体(例えば、超臨界流体)であってもよい。
上述の説明では、基板51が半導体デバイス製造用の半導体ウェハを含む例が例示されている。しかしながら、基板51は、ディスプレイデバイス用のガラス基板を含んでいてもよい。基板51は、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハを含んでいてもよい。基板51は、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版(例えば、合成石英又はシリコンウェハ)を含んでいてもよい。
上述の説明では、露光装置EX1は、マスク11と基板51とを移動させることでマスク11に形成されたデバイスパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(いわゆる、スキャニングステッパ)である例が例示されている。しかしながら、露光装置EX1は、マスク11と基板51とを静止させた状態でマスク11に形成されたデバイスパターンを一括露光すると共に、当該一括露光が終了する毎に基板51をステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(いわゆる、ステッパ)であってもよい。ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、第1マスク11と基板51とをほぼ静止させた状態で第1マスク11に形成された第1デバイスパターンの縮小像を基板51に露光した後に、第2マスク11と基板51とをほぼ静止させた状態で第2マスク11に形成された第2デバイスパターンの縮小像を、第1デバイスパターンの縮小像に重ねて基板51に露光する露光装置(いわゆる、スティッチ方式の露光装置)であってもよい。スティッチ方式の露光装置は、基板51上で2つ以上のデバイスパターンを部分的に重ねて露光すると共に、基板51を順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置であってもよい。
露光装置EX1は、投影光学系3を介して2つのマスク11のデバイスパターンを基板51上で合成すると共に、1回の走査露光によって基板51上のショット領域Sをほぼ同時に二重露光する露光装置であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第6,611,316号に開示されている。露光装置EX1は、プロキシミティ方式の露光装置であってもよい。露光装置EX1は、ミラープロジェクションアライナー等であってもよい。
露光装置EX1は、複数の基板ステージ5を備えるツインステージ型又はマルチステージの露光装置であってもよい。ツインステージ型の露光装置の一例は、例えば、米国特許第6,341,007号、米国特許第6,208,407号及び米国特許第6,262,796号に開示されている。例えば、図23に示すように、露光装置EX1が2つの基板ステージ5A及び5Bを備えている場合には、終端光学素子31の射出面32に対向するように配置される物体は、一方の基板ステージ5A、当該一方の基板ステージ5Aに保持された基板51A、他方の基板ステージ5B及び当該他方の基板ステージ5Bに保持された基板51Bのうちの少なくとも一つであってもよい。
露光装置EX1は、複数の基板ステージ5及び計測ステージ6を備えるツインステージ型又はマルチステージ型の露光装置であってもよい。
露光装置EX1は、基板51に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置であってもよい。露光装置EX1は、液晶表示素子製造用の又はディスプレイ製造用の露光装置であってもよい。露光装置EX1は、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(例えば、CCD)、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ及びマスク11(或いは、レチクル)のうちの少なくとも一つを製造するための露光装置であってもよい。
上述の説明では、マスク11が、光透過性の透明板の上に所定の遮光パターン(或いは、移動パターン又は減光パターン)を形成した透過型マスクである例が例示されている。しかしながら、マスク11は、露光すべきデバイスパターンの電子データに基づいて透過パターン、反射パターン又は発光パターンを形成する可変成形マスク(いわゆる、電子マスク、アクティブマスク又はイメージジェネレータ)であってもよい。可変成形マスクの一例は、米国特許第6,778,257号に開示されている。マスク11は、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を備えるパターン形成装置であってもよい。
上述の説明では、投影光学系3を備える露光装置EX1が例示されている。しかしながら、投影光学系3を備えていない露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成すると共に光学部材を介して投影される露光光で基板を露光する露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。
露光装置EX1は、干渉縞を基板51に形成することで基板51にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置(いわゆる、リソグラフィシステム)であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されている。
上述の露光装置EX1は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで露光装置EX1の全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置EX1の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図24に示す各ステップを経て製造されてもよい。マイクロデバイスを製造するためのステップは、マイクロデバイスの機能及び性能設計を行うステップS201、機能及び性能設計に基づいたマスク(レチクル)11を製造するステップS202、デバイスの基材である基板51を製造するステップS203、上述の実施形態に従って、マスク11のデバイスパターンからの露光光ELで基板51を露光し且つ露光された基板51を現像するステップS204、デバイス組み立て処理(ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理)を含むステップS205及び検査ステップS206を含んでいてもよい。
上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法もまた本発明の技術思想に含まれる。
上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
以上、本明細書で説明した実施形態について、以下の付記を更に記載する。
[付記1]
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体の少なくとも一部に対向し、
前記移動装置は、前記第1物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第1期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる露光装置。
[付記2]
前記可動部材は、少なくとも一部が前記第1物体の少なくとも一部に対向する下面を備え、
前記移動装置は、前記第1物体の上面の少なくとも一部が前記下面の少なくとも一部に対向しながら前記第1物体が前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する前記第1期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させる付記1に記載の露光装置。
[付記3]
前記第1物体は、前記基板を含む付記1又は2に記載の露光装置。
[付記4]
前記基板の上面の少なくとも一部は、夫々が前記露光光によって露光される複数の露光領域を備えており、
前記複数の露光領域は、前記光軸に垂直な第1方向成分を含む第1方向に向かって前記基板が移動する期間の少なくとも一部において前記露光光によって露光される第1領域を含んでおり、
前記第1期間は、前記第1領域が前記露光光によって露光される第2期間の少なくとも一部を含む付記3に記載の露光装置。
[付記5]
前記移動装置は、前記第2期間のうち前記第1領域に対する露光が開始されてから第1時間が経過した後の期間において、前記移動部材を移動させる付記4に記載の露光装置。
[付記6]
前記移動装置は、前記第1領域に対する露光が開始されてから前記第1時間が経過した後に前記移動部材の移動を開始する付記5に記載の露光装置。
[付記7]
前記移動装置は、前記第1領域に対する露光が開始されてから前記第1時間が経過するまでは前記移動部材を移動させない付記5又は6に記載の露光装置。
[付記8]
前記移動装置は、前記可動部材を、前記第1方向成分を含む第2方向に向かって移動させる付記4に記載の露光装置。
[付記9]
前記移動装置は、前記第2期間のうち前記第1領域に対する露光が開始されてから第1時間が経過した後の期間において、前記第2方向に向かって前記移動部材を移動させる付記8に記載の露光装置。
[付記10]
前記移動装置は、前記第1領域に対する露光が開始されてから前記第1時間が経過した後に前記第2方向に向かう前記移動部材の移動を開始する付記9に記載の露光装置。
[付記11]
前記移動装置は、前記第1領域に対する露光が開始されてから前記第1時間が経過するまでは、前記第2方向に向かって前記移動部材を移動させない付記9又は10に記載の露光装置。
[付記12]
前記複数の露光領域は、前記第1領域に対する露光が終了した後の期間であって、且つ、前記第1方向成分とは逆向きである前記光軸に垂直な第2方向成分を含む第3方向に向かって前記基板が移動する期間の少なくとも一部において前記露光光によって露光される第2領域を含んでおり、
前記第1期間は、前記第1領域に対する露光が終了してから前記第2領域に対する露光が開始されるまでの間の第3期間の少なくとも一部を含む付記4から11のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記13]
前記移動装置は、前記第3期間の少なくとも一部において、前記可動部材を、前記光軸、前記第1方向成分及び前記第2方向成分の夫々に垂直な第3方向成分を含む第4方向に向かって移動させる付記12に記載の露光装置。
[付記14]
前記移動装置は、前記第2期間の少なくとも一部において、前記可動部材を、前記第3方向成分とは逆向きである前記光軸に垂直な第4方向成分を含む第5方向に向かって移動させる付記13に記載の露光装置。
[付記15]
前記第1物体の移動態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する付記1から14のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記16]
前記第1物体が所定態様で移動した時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する付記15に記載の露光装置。
[付記17]
前記第1物体が所定位置に到達した時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する付記15又は16に記載の露光装置。
[付記18]
前記可動部材は第1液体回収口を備える付記1から17のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記19]
前記第1液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する付記18に記載の露光装置。
[付記20]
前記液体回収における回収量及び回収圧の両方又は一方が所定条件を満たした時点で前記可動部材の移動を開始するように前記移動タイミングを決定する付記19に記載の露光装置。
[付記21]
前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する付記18から20のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記22]
前記第1物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記界面の少なくとも一部と前記第1物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記移動タイミングを決定する付記21に記載の露光装置。
[付記23]
前記界面の少なくとも一部と前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係が所定関係になると推定される時点で前記可動部材の移動を開始するように、前記移動タイミングを決定する付記21又は22に記載の露光装置。
[付記24]
前記界面の少なくとも一部が前記第1液体回収口の少なくとも一部に到達すると推定される、前記界面の少なくとも一部が前記第1液体回収口の少なくとも一部に到達してから第2時間が経過したと推定される又は前記界面の少なくとも一部が前記第1液体回収口の少なくとも一部に到達するまでに要する時間が第3時間未満であると推定される時点で前記可動部材の移動を開始するように、前記移動タイミングを決定する付記21から23のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記25]
前記第1物体の移動態様及び前記第1液体回収口による液体回収の態様の両方又は一方に基づいて、前記界面の少なくとも一部の間の位置を推定する付記21から24のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記26]
前記第1物体の移動態様及び前記第1液体回収口による液体回収の態様の両方又は一方に基づいて、前記界面の少なくとも一部と前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係を推定する付記21から25のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記27]
前記移動装置は、前記光軸に対して前記第1液体回収口の外周端部の内側に前記液浸空間の界面が位置するように、前記可動部材を移動させる付記18から26のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記28]
前記移動装置は、前記第1物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記第1液体回収口の外周端部の内側に、前記第1物体の移動方向に沿った前方側に位置する前記界面の少なくとも一部が位置するように、前記可動部材を移動させる付記27に記載の露光装置。
[付記29]
前記移動装置は、前記可動部材を、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって移動させる付記1から28のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記30]
前記移動装置は、前記第1物体上の又は第1物体と前記光学部材の下方で移動可能な第2物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第4期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する付記1から29のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記31]
前記第4期間は、前記所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の距離が第1距離以下となる期間を含む付記30に記載の露光装置。
[付記32]
前記第4期間は、前記液浸部材の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む付記30又は31に記載の露光装置。
[付記33]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合と比較して、前記可動部材の前記第1物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から32のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記34]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記可動部材の位置を基準として、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記可動部材が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から33のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記35]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から34のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記36]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記可動部材の位置を基準として、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記可動部材が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から35のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記37]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から36のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記38]
前記可動部材は第2液体回収口を備える付記30から37のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記39]
前記第4期間は、前記所定箇所と前記第2液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる期間を含む付記38に記載の露光装置。
[付記40]
前記第4期間は、前記所定箇所と前記第2液体回収口の少なくとも一部との間の距離が第2距離以下となる期間を含む付記38又は39に記載の露光装置。
[付記41]
前記第4期間は、前記第2液体回収口の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む付記38から40のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記42]
前記第4期間は、前記第1物体の移動方向に沿った前方側又は後方側に位置する前記第2液体回収口の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む付記38から41のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記43]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記第2液体回収口の少なくとも一部の位置を基準として、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記第2液体回収口の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記38から42のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記44]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記第2液体回収口の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記38から43のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記45]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記第2液体回収口の少なくとも一部の位置を基準として、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記第2液体回収口の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記38から44のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記46]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記第2液体回収口の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記38から45のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記47]
前記第4期間は、前記所定箇所と前記液浸空間の界面の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる期間を含む付記30から46のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記48]
前記第4期間は、前記所定箇所と前記液浸空間の界面の少なくとも一部との間の距離が第3距離以下となる期間を含む付記30から47のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記49]
前記第4期間は、前記液浸空間の界面の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む付記30から48のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記50]
前記所定期間は、前記第1物体の移動方向に沿った前方側又は後方側に位置する前記液浸空間の界面の少なくとも一部が前記所定箇所の上方を通過する期間を含む付記30から49のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記51]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記界面の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から50のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記52]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向とは異なる又は逆の方向に向かって前記液浸空間の界面の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から51のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記53]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記界面の少なくとも一部が付加的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から52のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記54]
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向と同一の方向に向かって前記液浸空間の界面の少なくとも一部が相対的に移動するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から53のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記55]
前記移動装置は、前記移動態様を調整する場合には、前記移動態様を調整しないと仮定した場合の前記液浸空間の界面の少なくとも一部の位置を基準として、前記光軸に対して前記界面の少なくとも一部が内側又は外側に位置することになるように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から54のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記56]
前記移動装置は、前記光軸に対して前記界面の少なくとも一部が前記所定箇所よりも内側又は外側に位置するように、前記可動部材の移動態様を調整する付記30から55のいずれか一項に記載の露光装置。
[付記57]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材は第1液体回収口を備え、
前記第1液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する露光装置。
[付記58]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記可動部材は第1液体回収口を備え、
前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定する露光装置。
[付記59]
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体上の又は前記第1物体と前記光学部材の下方で移動可能な第2物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第4期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整する露光装置。
[付記60]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体上の又は前記第1物体と前記光学部材の下方で移動可能な第2物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第1物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させる露光装置。
[付記61]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が通過する前記液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材と、
前記可動部材を移動させる移動装置と
を備え、
前記移動装置は、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させる露光装置。
[付記62]
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材の少なくとも一部は、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体の少なくとも一部に対向し、
前記可動部材を移動させることは、前記第1物体が前記可動部材の少なくとも一部の下方で前記光学部材の光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って移動する第1期間の少なくとも一部において、前記光軸に垂直な方向成分を含む方向に沿って前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
[付記63]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材は第1液体回収口を備え、
前記露光方法は、前記第1液体回収口による液体回収の態様に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定することを備える露光方法。
[付記64]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材は第1液体回収口を備え、
前記露光方法は、前記液浸空間の界面の少なくとも一部と前記第1液体回収口の少なくとも一部との間の位置関係に基づいて、前記可動部材を移動させる移動タイミングを決定することを備える露光方法。
[付記65]
光学部材から液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体上の又は前記第1物体と前記光学部材の下方で移動可能な第2物体との間の所定箇所と前記液浸部材の少なくとも一部との間の位置関係に応じて定まる第4期間の少なくとも一部において、前記可動部材の移動態様を調整することを含む露光方法。
[付記66]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記光学部材の下方で移動可能な第1物体上の又は前記第1物体と前記光学部材の下方で移動可能な第2物体との間の所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する期間の少なくとも一部において、前記所定箇所の上方を前記液浸部材の少なくとも一部が通過する前と比較して、前記可動部材の前記第1物体に対する相対速度が小さくなるように、前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
[付記67]
液浸空間を介して照射される露光光を用いて基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が移動可能な可動部材である液浸部材を用いて、前記露光光が通過する前記液浸空間を形成することと、
前記可動部材を移動させることと
を備え、
前記可動部材を移動させることは、前記第1物体に対して、前記第1物体の移動方向と同一の又は異なる若しくは逆の方向に向かって前記可動部材が相対的に移動するように、前記可動部材を移動させることを含む露光方法。
[付記68]
付記1から61のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。
[付記69]
付記62から67のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと
を備えるデバイス製造方法。