WO2013100114A1

WO2013100114A1 - 露光装置、露光方法、デバイス製造方法、液体回収方法、プログラム、及び記録媒体

Info

Publication number: WO2013100114A1
Application number: PCT/JP2012/084004
Authority: WO
Inventors: 真路佐藤
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2011-12-28
Filing date: 2012-12-27
Publication date: 2013-07-04

Abstract

　露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向する第１下面を有し、射出面の下に液体の液浸空間を形成する液浸部材と、物体が対向する第２下面を有し、物体上の液体を回収可能であり、液浸部材の周囲の少なくとも一部において物体に追従するように移動する第１回収部材と、を備える露光装置が提供される。

Description

露光装置、露光方法、デバイス製造方法、液体回収方法、プログラム、及び記録媒体

　本発明は、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、液体回収方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
　本願は、２０１１年１２月２８日の米国仮出願６１／５８０，８２０号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば特許文献１に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許出願公開第２００９／００４６２６１号

　液浸露光装置において、例えば液体が所定の空間から流出すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

　本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、液体回収方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

　本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向する第１下面を有し、射出面の下に液体の液浸空間を形成する液浸部材と、物体が対向する第２下面を有し、物体上の液体を回収可能であり、液浸部材の周囲の少なくとも一部において物体に追従するように移動する第１回収部材と、を備える露光装置が提供される。

　本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向する第１下面を有し、射出面の下に液体の液浸空間を形成する液浸部材と、物体が対向する第２下面を有し、物体上の液体を回収可能であり、液浸部材の周囲の少なくとも一部において物体との相対速度が、小さくなるように移動する第１回収部材と、を備える露光装置が提供される。

　本発明の第３の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面の下に液体の液浸空間を形成する液浸部材と、物体が対向する第２下面を有し、物体上の液体を回収可能であり、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材と、物体が対向する第２下面を有し、物体上の液体を回収可能であり、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材と、を備える露光装置が提供される。

　本発明の第４の態様に従えば、第１～第３のいずれか一つの露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

　本発明の第５の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を含む露光方法が提供される。

　本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を含む露光方法が提供される。

　本発明の第７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、第２回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、を含む露光方法が提供される。

　本発明の第８の態様に従えば、第５～第７のいずれか一つの露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

　本発明の第９の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成し、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を含む液体回収方法が提供される。

　本発明の第１０の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成し、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を含む液体回収方法が提供される。

　本発明の第１１の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成し、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、第２回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、を含む液体回収方法が提供される。

　本発明の第１２の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

　本発明の第１３の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を実行させるプログラムが提供される。

　本発明の第１４の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面の下に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、第１回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、第２回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、を実行させるプログラムが提供される。

　本発明の第１５の態様に従えば、第１２～第１４のいずれか一つのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

　本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。第１実施形態に係る液浸部材及び回収部材の一例を示す図である。第１実施形態に係る液浸部材及び回収部材を下側から見た図である。図２の一部を拡大した図である。第１実施形態に係る回収部材の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第２実施形態に係る液浸部材及び回収部材の一例を示す図である。第２実施形態に係る液浸部材及び回収部材の一例を示す図である。露光装置の一例を示す図である。デバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。

　以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、そのＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
　第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

　また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージ２と計測ステージ３とを備えた露光装置である。

　図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、マスクステージ１、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置５と、制御装置５に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置６とを備えている。

　また、露光装置ＥＸは、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する液浸部材７と、液浸部材７の周囲の少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な回収部材８とを備えている。回収部材８は、移動可能である。本実施形態において、回収部材８は、第１回収部材８１と、第２回収部材８２とを含む。

　また、露光装置ＥＸは、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材７、回収部材８、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される内部空間９Ｓを形成するチャンバ装置９を備えている。チャンバ装置９は、内部空間９Ｓの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度）を制御する環境制御装置を有する。

　マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

　基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

　照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

　マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材１０のガイド面１０Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１０ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

　マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、駆動システム１１は、マスクステージ１に配置された可動子１Ｃと、ベース部材１０に配置された固定子１０Ｍとを有する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、ガイド面１０Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１１が、リニアモータを含んでもよい。

　投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸（終端光学素子１３の光軸）は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。

　投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子１３が、射出面１２を有する。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、－Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、－Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面１２から射出される露光光ＥＬは、－Ｚ方向に進行する。

　基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材Ｃ（計測器）を搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

　基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１５が、リニアモータを含んでもよい。

　本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部１６と、第１保持部１６の周囲の少なくとも一部に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部１７とを有する。第１保持部１６に保持された基板Ｐの上面の周囲に、第２保持部１７に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｓが配置される。

　第１保持部１６に保持された基板Ｐの上面は、射出面１２と対向可能である。第２保持部１７に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｓは、射出面１２と対向可能である。計測ステージ３の上面３Ｓは、射出面１２と対向可能である。計測ステージ３の上面３Ｓは、計測部材Ｃの上面を含む。

　基板Ｐの上面（表面）は、実質的に平坦である。上面２Ｓは、実質的に平坦である。第１保持部１６は、基板Ｐの上面とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐの下面（裏面）を保持する。第２保持部１７は、上面２ＳとＸＹ平面とが実質的に平行となるように、カバー部材Ｔの下面（裏面）を保持する。

　本実施形態において、第１保持部１６に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部１７に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｓとは、実質的に同一平面内に配置される（面一である）。

　なお、基板Ｐの上面と上面２Ｓとが同一平面内に配置されてなくてもよいし、基板Ｐの上面の少なくとも一部及び上面２Ｓの少なくとも一部の一方又は両方がＸＹ平面と非平行でもよい。

　なお、例えば上面２Ｓの少なくとも一部が平坦でなくてもよい。例えば、上面２Ｓの少なくとも一部が曲面を含んでもよい。

　以下の説明において、第２保持部１７に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｓを適宜、基板ステージ２の上面２Ｓ、と称する。

　なお、本実施形態において、カバー部材Ｔは、基板ステージ２からリリース可能であるが、リリース可能でなくてもよい。その場合、第２保持部１７は省略可能である。

　計測システム４は、例えば干渉計システムを含む。なお、計測システム４が、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているような、基板ステージ２が有するスケール部材を用いてその基板ステージ２の位置を計測するエンコーダシステムを含んでもよい。

　次に、液浸部材７及び回収部材８について説明する。図２は、本実施形態に係る液浸部材７及び回収部材８の一例を示す断面図、図３は、液浸部材７及び回収部材８を下側（－Ｚ側）から見た図、図４は、図２の一部を拡大した図である。

　液浸部材７は、射出面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材７は、射出面１２の下に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材７は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。

　液浸部材７は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、液浸部材７は、環状の部材である。本実施形態において、液浸部材７の一部は、終端光学素子１３の周囲に配置され、液浸部材７の一部は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。

　液浸部材７は、少なくとも一部が－Ｚ方向を向く下面７Ｕ（第１下面）を有する。回収部材８は、少なくとも一部が－Ｚ方向を向く下面８Ｕ（第２下面）を有する。本実施形態において、下面８Ｕは、第１回収部材８１の下面８１Ｕ、及び第２回収部材８２の下面８２Ｕを含む。

　射出面１２及び下面７Ｕは、対向する物体との間で液体ＬＱを保持することができる。液浸部材７は、射出面１２とその物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、その物体との間で液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する。

　本実施形態において、液浸空間ＬＳは、射出面１２及び下面７Ｕの少なくとも一部と、対向する物体との間に保持された液体ＬＱによって形成される。すなわち、液浸空間ＬＳは、射出面１２側の光路空間ＳＰＫ、及び下面７Ｕ側の第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に形成される。液浸空間ＬＳは、光路空間ＳＰＫ、及び下面７Ｕの下の第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に形成される。

　光路空間ＳＰＫは、射出面１２と、射出面１２と対向する物体との間の空間を含む。また、光路空間ＳＰＫは、射出面１２と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋを含む。第１空間ＳＰ１は、下面７Ｕと、対向する物体との間の空間を含む。液浸空間ＬＳは、光路空間ＳＰＫが液体ＬＱで満たされるように形成される。

　射出面１２と対向する位置に配置される物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体を含む。射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動する物体は、下面７Ｕと対向可能である。その物体は、下面８Ｕ（８１Ｕ、８２Ｕ）と対向可能である。その物体は、射出面１２側、下面７Ｕ側、及び下面８Ｕ側において移動可能である。その物体は、射出面１２の下、下面７Ｕの下、及び下面８Ｕの下で移動可能である。その物体は、終端光学素子１３、液浸部材７、及び回収部材８に対して移動可能である。

　その物体は、射出面１２、下面７Ｕ、及び下面８Ｕの少なくとも一部と対向可能な上面（表面）を有する。その物体の上面は、射出面１２及び下面７Ｕの少なくとも一部との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。一方側の射出面１２及び下面７Ｕと、他方側の物体の上面（表面）との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１３と物体との間の露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。

　射出面１２と対向する位置は、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。また、射出面１２と対向する位置は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲを含む。本実施形態において、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動する物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。基板ステージ２（第１保持部１６）に保持されている基板Ｐの上面は、射出面１２、下面７Ｕ、及び下面８Ｕ（８１Ｕ、８２Ｕ）と対向可能である。上面２Ｓは、射出面１２、下面７Ｕ、及び下面８Ｕ（８１Ｕ、８２Ｕ）と対向可能である。上面３Ｓは、射出面１２、下面７Ｕ、及び下面８Ｕ（８１Ｕ、８２Ｕ）と対向可能である。

　なお、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３のうちの複数が射出面１２と対向していてもよいし、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３のうちの複数が下面７Ｕと対向していてもよい。

　また、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動する物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つに限られない。

　基板Ｐの露光処理を行うとき、制御装置５は、終端光学素子１３及び液浸部材７と基板Ｐとを対向させ、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材７は、露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。本実施形態においては、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧの少なくとも一部は、液浸部材７の下面７Ｕと基板Ｐの表面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。制御装置５は、基板Ｐを露光するために、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出し、マスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２からの露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

　なお、図２及び図４は、射出面１２と対向する位置に基板Ｐが配置されている状態を示す。図２及び図４において、液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３及び液浸部材７と、基板Ｐとの間に形成されている。以下の説明においては、射出面１２と対向する位置に配置される物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板Ｐのみならず、基板ステージ２、及び計測ステージ３等でもよい。

　図２及び図４に示すように、液浸部材７は、少なくとも一部が射出面１２と対向する対向部７１と、少なくとも一部が終端光学素子１３の周囲に配置される本体部７２とを含む。対向部７１は、射出面１２と対向する位置に孔（開口）７Ｋを有する。射出面１２から射出された露光光ＥＬは、開口７Ｋを通過して、基板Ｐに照射可能である。

　液浸部材７は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと対向する内側面７Ｆを有する。側面１３Ｆは、射出面１２の周囲に配置される。側面１３Ｆから露光光ＥＬは射出されない。側面１３Ｆは、終端光学素子１３の光軸に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。内側面７Ｆは、対向部７１の上面と結ばれる第１領域Ａ１と、第１領域Ａ１の上方に配置される第２領域Ａ２と、第２領域Ａ２の上方に配置される第３領域Ａ３とを含む。本実施形態において、第１領域Ａ１及び第３領域Ａ３は、側面１３Ｆとほぼ平行である。第２領域Ａ２は、側面１３Ｆと非平行である。第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間に角部が形成される。第２領域Ａ２と第３領域Ａ３との間に角部が形成される。

　また、液浸部材７は、液体ＬＱを供給可能な供給口１８と、液体ＬＱを回収可能な回収口１９（第１回収口）とを有する。供給口１８は、例えば基板Ｐの露光において液体ＬＱを供給する。回収口１９は、例えば基板Ｐの露光において液体ＬＱを回収する。

　供給口１８は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの近傍において、その光路Ｋに面するように配置されている。供給口１８は、射出面１２側に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、供給口１８は、対向部７１の上面と射出面１２との間の空間に液体ＬＱを供給する。供給口１８から供給された液体ＬＱは、対向部７１の上面と射出面１２との間の空間を流れた後、開口７Ｋを介して、基板Ｐ（物体）上に供給される。

　供給口１８は、流路１８Ｒを介して、液体供給装置１８Ｓと接続されている。液体供給装置１８Ｓは、清浄で温度調整された液体ＬＱを送出可能である。流路１８Ｒの少なくとも一部は、液浸部材７の内部に形成されている。液体供給装置１８Ｓから送出された液体ＬＱは、流路１８Ｒを介して供給口１８に供給される。少なくとも基板Ｐの露光において、供給口１８は、液体ＬＱを供給する。

　回収口１９は、液浸部材７の下面７Ｕと対向する基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。回収口１９は、露光光ＥＬが通過する開口７Ｋの下端の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態においては、回収口１９は、対向部７１の下面の周囲の少なくとも一部に配置される。回収口１９は、基板Ｐの上面と対向する液浸部材７の所定位置に配置されている。少なくとも基板Ｐの露光において、回収口１９に基板Ｐが対向する。基板Ｐの露光において、回収口１９は、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収する。

　本実施形態において、液浸部材７は、基板Ｐ（物体）に面する開口７Ｐを有する。本実施形態において、液浸部材７は、開口７Ｐに配置された多孔部材２０を有する。本実施形態において、多孔部材２０は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。多孔部材２０は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２０Ｂと、下面２０Ｂの反対方向を向く上面２０Ａと、上面２０Ａと下面２０Ｂとを結ぶ複数の孔とを有する。なお、開口７Ｐに、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタが配置されてもよい。

　本実施形態において、回収口１９は、多孔部材２０の孔を含む。基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材２０の孔（回収口１９）を介して回収される。回収口１９は、流路１９Ｒを介して、液体回収装置１９Ｃと接続される。液体回収装置１９Ｃは、回収口１９を真空システムに接続可能であり、回収口１９を介して液体ＬＱを吸引可能である。流路１９Ｒの少なくとも一部は、液浸部材７の内部に形成される。回収口１９から回収された液体ＬＱは、流路１９Ｒを介して、液体回収装置１９Ｃに回収される。

　本実施形態において、液浸部材７の下面７Ｕは、開口７Ｋの周囲に配置され、液体ＬＱを回収（吸引）しない下面７１Ｂと、下面７１Ｂの周囲の少なくとも一部に配置され、液体ＬＱを回収可能な下面２０Ｂとを含む。回収口１９の少なくとも一部は、下面７Ｕ（２０Ｂ）に配置される。下面７１Ｂの周囲の少なくとも一部に、開口７Ｐ（多孔部材２０）が配置される。本実施形態において、下面７１Ｂは、開口７Ｋの周囲に配置され、基板Ｐの上面（ＸＹ平面）と実質的に平行な第１平坦領域Ａ４と、第１平坦領域Ａ４の周囲に配置され、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する傾斜領域Ａ５と、傾斜領域Ａ５と下面２０Ｂとの間に配置され、基板Ｐの上面（ＸＹ平面）と実質的に平行な第２平坦領域Ａ６とを含む。第１平坦領域Ａ４と傾斜領域Ａ５との間に角部が形成される。傾斜領域Ａ５と第２平坦領域Ａ６との間に角部が形成される。第１平坦領域Ａ４、傾斜領域Ａ５、第２平坦領域Ａ６、及び下面２０Ｂのうち、第１平坦領域Ａ４が基板Ｐの上面に最も近い、すなわち、第１平坦領域Ａ４が最も低い。

　下面７Ｕは、第１空間ＳＰ１に面する。回収口１９は、下面２０Ｂに接触した液体ＬＱの少なくとも一部を回収（吸引）可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口１９を介して、回収流路１９Ｒに流入可能である。

　なお、下面７Ｕに段差がなくてもよい。すなわち、傾斜領域Ａ５を設けずに、第１平坦領域Ａ４、第２平坦領域Ａ６、下面２０Ｂが同一面上に形成されていてもよい。

　なお、多孔部材２０が配置されなくてもよい。例えば、開口７Ｐの配置、形状などを回収口１９として使用できるように最適化して、開口７Ｐから液体ＬＱが回収されてもよい。

　本実施形態においては、供給口１８からの液体ＬＱの供給の少なくとも一部と並行して、回収口１９からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液浸空間ＬＳが形成される。

　なお、本実施形態においては、液浸部材７が、終端光学素子１３及び光路Ｋの周囲に配置されることとするが、液浸部材７が、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子１３の周囲に配置されなくてもよい。なお、液浸部材７が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、光路Ｋの周囲に配置されなくてもよい。なお、液浸部材７は、環状でなくてもよい。例えば、液浸部材７が、終端光学素子１３の周囲の一部に配置されてもよいし、光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。

　なお、液浸部材７として、例えば米国特許出願公開第２００７／０１３２９７６号明細書、欧州特許出願公開第１７６８１７０号明細書に開示されているような液浸部材（ノズル部材）を用いることができる。

　回収部材８は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収可能（除去可能）である。回収部材８は、液浸部材７の周囲の少なくとも一部に配置される。回収部材８は、第１回収部材８１及び第２回収部材８２を含む。本実施形態において、第１回収部材８１は、液浸部材７の＋Ｘ側に配置される。第２回収部材８２は、液浸部材７の－Ｘ側に配置される。

　本実施形態においては、第１回収部材８１と第２回収部材８２とは、ほぼ同様の構造である。以下、第１回収部材８１について主に説明し、第２回収部材８２についての説明は簡略若しくは省略する。

　第１回収部材８１は、液体ＬＱを回収可能な回収口２１（第２回収口）を有する。回収口２１は、第１回収部材８１の液体回収部の少なくとも一部である。回収口２１は、対向する物体上の液体ＬＱを回収可能である。

　回収口２１は、回収部材８の下面８Ｕと対向する基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。回収部材８の回収口２１は、液浸部材７の回収口１９の周囲の少なくとも一部に配置される。回収口２１は、基板Ｐの上面と対向する回収部材８の所定位置に配置されている。基板Ｐの露光の少なくとも一部の期間において、回収口２１に基板Ｐ（物体）が対向し、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収可能である。

　本実施形態において、回収部材８は、－Ｚ方向を向く（下向きの）開口８Ｐを有し、物体（基板Ｐ）の表面は、開口８Ｐに面する。本実施形態において、回収部材８は、開口８Ｐに配置された多孔部材２２を有する。本実施形態において、多孔部材２２は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。多孔部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２２Ｂと、下面２２Ｂの反対方向を向く上面２２Ａと、上面２２Ａと下面２２Ｂとを結ぶ複数の孔とを有する。なお、開口８Ｐに、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタが配置されてもよい。なお、図３に示すように、開口８Ｐの形状は矩形であるが、楕円形など、他の形状であってもよい。また、図３に示すように、開口８ＰのＹ方向の長さは、液浸部材７のＹ方向の長さよりも短いが、同じ長さでもよいし、長くてもよい。

　本実施形態において、回収口２１は、多孔部材２２の孔を含む。基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材２２の孔（回収口２１）を介して回収される。回収口２１は、流路２１Ｒを介して、液体回収装置２１Ｃと接続される。液体回収装置２１Ｃは、回収口２１を真空システムに接続可能であり、回収口２１を介して液体ＬＱを吸引可能である。流路２１Ｒの少なくとも一部は、回収部材８の内部に形成される。回収口２１から回収された液体ＬＱは、流路２１Ｒを介して、液体回収装置２１Ｃに回収される。

　本実施形態において、下面２２Ｂは、基板Ｐの上面（ＸＹ平面）と実質的に平行な平坦領域Ａ７と、露光光ＥＬの光路Ｋに対して平坦領域Ａ７の内側に配置され、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜する傾斜領域Ａ８とを含む。平坦領域Ａ７、及び傾斜領域Ａ８のうち、平坦領域Ａ７が基板Ｐの上面に最も近い。本実施形態において、回収部材８の下面８Ｕは、多孔部材２２の下面２２Ｂを含む。回収口２１の少なくとも一部は、下面８Ｕ（下面２２Ｂ）に配置される。

　下面８Ｕは、第２空間ＳＰ２に面する。回収口２１は、下面２２Ｂに接触した液体ＬＱの少なくとも一部を回収（吸引）可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口２１を介して、回収流路２１Ｒに流入可能である。

　なお、下面２２Ｂに傾斜領域Ａ８を設けなくてもよい。すなわち、下面２２Ｂが一つ面で形成されていてもよい。この場合、下面２２Ｂは、ＸＹ平面と平行であってもよいし、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。

　なお、多孔部材２２が配置されなくてもよい。例えば、開口８Ｐの配置、形状などを回収口２１として使用できるように最適化して、開口８Ｐから液体ＬＱが回収されてもよい。

　本実施形態において、下面８Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との距離Ｇ２は、下面７Ｕと基板Ｐ（物体）の上面との距離Ｇ１よりも小さい。換言すれば、下面８Ｕ（回収口２１）は、下面７Ｕ（回収口１９）よりも、基板Ｐ（物体）に近い位置に配置される。すなわち、下面８Ｕは、下面７Ｕよりも低い位置に配置される。なお、後述するように、回収部材８がＺ軸方向に移動可能な場合には、回収口２１からの液体回収動作を行うときに、下面８Ｕを、下面７Ｕよりも低い位置に配置してもよい。なお、下面７Ｕと下面８Ｕを同じ高さに配置してもよい。

　本実施形態において、第１平坦領域Ａ４と基板Ｐの上面との距離は、例えば０．５～１．０ｍｍ程度である。下面２０Ｂと基板Ｐの上面との距離は、例えば２．０ｍｍ程度である。平坦領域Ａ７と基板Ｐの上面との距離は、例えば０．１～０．３ｍｍ程度である。

　第１回収部材８１は、液浸部材７の周囲の少なくとも一部において移動可能である。露光装置ＥＸは、第１回収部材８１を移動可能な駆動システム２３を有する。駆動システム２３は、例えば第１回収部材８１を支持する支持部材と、その支持部材を移動するアクチュエータとを含む。アクチュエータは、例えば電磁力（ローレンツ力）によって作動するモータを含む。例えば、アクチュエータは、リニアモータ及びボイスコイルモータ等を含む。なお、駆動システム２３が、第１回収部材８１の移動に伴う反動（反力）を相殺するカウンターマスを含んでもよいし、反動（反力）を露光装置ＥＸが設置されている床に逃がすようにしてもよい。

　第１回収部材８１は、下面８１Ｕが対向する基板Ｐの上面（ＸＹ平面）と実質的に平行に移動可能である。また、第１回収部材８１は、下面８１Ｕが対向する基板Ｐの上面に接近するように、又は基板Ｐの上面から離れるように、Ｚ軸と平行に移動可能である。また、第１回収部材８１は、下面８１Ｕが対向する基板Ｐの上面（ＸＹ平面）に対して傾斜可能である。また、第１回収部材８１は、Ｚ軸と平行な軸周りに回転可能である。すなわち、本実施形態において、第１回収部材８１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、第１回収部材８１は、θＸ、θＹ、及びθＺ方向のうちの少なくとも一つの方向に動かなくてもよい。また、第１回収部材８１は、Ｚ軸方向に動かなくてもよい。また、第１回収部材８１は、Ｘ軸とＹ軸のどちらか一方に動くだけでもよい。

　本実施形態において、第１回収部材８１は、液浸部材７の周囲の少なくとも一部において、対向する物体（基板Ｐなど）に追従するように移動する。第１回収部材８１は、ＸＹ平面内において移動する物体（基板Ｐなど）に追従するように、ＸＹ平面内において移動可能である。

　また、本実施形態において、第１回収部材８１は、対向する物体（基板Ｐなど）との相対移動が小さくなるように移動する。第１回収部材８１は、対向する物体（基板Ｐなど）との相対移動が、液浸部材７と物体（基板Ｐなど）との相対移動よりも小さくなるように移動する。第１回収部材８１は、ＸＹ平面内において移動する物体（基板Ｐなど）との相対移動が、液浸部材７と基板Ｐとの相対移動よりも小さくなるように移動可能である。

　相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように移動する。また、例えば、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対加速度が小さくなるように移動する。

　図５は、第１回収部材８１の動作の一例を示す図である。終端光学素子１３の位置は、実質的に固定されている。本実施形態において、液浸部材７の位置は、実質的に固定されている。換言すれば、終端光学素子１３に対する液浸部材７の相対位置は、実質的に変化しない。一方、第１回収部材８１の位置は、変化する。換言すれば、終端光学素子１３に対する第１回収部材８１の相対位置は、変化する。

　例えば図５に示すように、基板Ｐ（基板ステージ２）が＋Ｘ方向に移動すると、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、＋Ｘ方向に移動する。また、基板Ｐが速度Ｖｐｘで移動したとき、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対速度が、小さくなるように移動する。また、基板Ｐが加速度Ａｐｘで移動したとき、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対加速度が、小さくなるように移動する。

　なお、図５は、基板ＰがＸ軸方向（＋Ｘ方向）に移動する場合を示す。基板Ｐが－Ｘ方向に移動する場合、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、－Ｘ方向に移動することができる。また、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する場合、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、＋Ｙ方向に移動することができる。また、基板Ｐが－Ｙ方向に移動する場合、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、－Ｙ方向に移動することができる。また、基板ＰがＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向と交差する方向に移動する場合、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、Ｘ軸及びＹ軸方向と交差する方向にＸＹ平面内を移動することができる。

　なお、第１回収部材８１は、物体（基板Ｐなど）と同一方向に移動しなくてもよい。例えば基板Ｐが＋Ｘ方向へ移動する場合、第１回収部材８１は、＋Ｘ方向へ移動しつつ＋Ｙ方向へ移動してもよいし、＋Ｘ方向へ移動しつつ－Ｙ方向へ移動してもよい。すなわち、例えば基板Ｐが＋Ｘ方向へ移動する場合、第１回収部材８１は、＋Ｘ方向の成分を含む方向へ移動してもよい。こうすることによっても、第１回収部材８１と基板Ｐとの相対移動（相対速度、相対加速度）は小さくなる。

　また、基板ＰがＸＹ平面内を速度Ｖｐで移動したとき、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対速度が、液浸部材７と基板Ｐとの相対速度よりも小さくなるように、ＸＹ平面内を移動することができる。また、基板ＰがＸＹ平面内を加速度Ａｐで移動したとき、第１回収部材８１は、基板Ｐとの相対加速度が、液浸部材７と基板Ｐとの相対加速度よりも小さくなるように、ＸＹ平面内を移動することができる。

　上述のように、基板Ｐ（基板ステージ２）は、駆動システム１５によって移動する。第１回収部材８１は、駆動システム２３によって移動する。本実施形態において、制御装置５は、駆動システム１５の制御情報に基づいて、駆動システム２３を制御する。駆動システム１５の制御情報は、基板Ｐ（基板ステージ２）の移動速度、加速度、移動距離、及び移動方向の少なくとも一つを含む。

　本実施形態において、制御装置５は、第１回収部材８１が基板Ｐ（基板ステージ２）に追従するように、駆動システム１５の制御情報に基づいて駆動システム２３を制御する。

　また、制御装置５は、第１回収部材８１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対速度が、小さくなるように、駆動システム１５の制御情報に基づいて駆動システム２３を制御してもよい。

　また、制御装置５は、第１回収部材８１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対加速度が、小さくなるように、駆動システム１５の制御情報に基づいて駆動システム２３を制御してもよい。

　なお、制御装置５は、計測システム４の計測結果に基づいて、駆動システム２３を制御してもよい。計測システム４の計測結果から、基板Ｐ（基板ステージ２）の位置、移動速度、加速度、及び移動方向の少なくとも一つを取得可能である。

　例えば、制御装置５は、計測システム４を用いて基板Ｐ（基板ステージ２）の位置、移動速度、加速度、及び移動方向の少なくとも一つを取得し、その結果に基づいて、第１回収部材８１が基板Ｐ（基板ステージ２）に追従するように、駆動システム２３を制御してもよい。

　また、制御装置５は、計測システム４の計測結果に基づいて、第１回収部材８１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対速度が、小さくなるように、駆動システム２３を制御してもよい。

　また、制御装置５は、計測システム４の計測結果に基づいて、第１回収部材８１と基板Ｐ（基板ステージ２）との相対加速度が、小さくなるように、駆動システム２３を制御してもよい。

　本実施形態において、第１回収部材８１は、下面８１Ｕが面する基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱを回収する。図５に示すように、基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱは、液体ＬＱの滴を含む。

　本実施形態においては、第１回収部材８１が基板Ｐに追従するように移動するため、基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱは、第１回収部材８１によって円滑に回収される。例えば図５に示すように、液浸空間ＬＳから分離した液体ＬＱの滴は、基板Ｐの上面に付着し、基板Ｐ上に残留する可能性がある。第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように移動するため、その基板Ｐの上面に付着する液体ＬＱの滴を回収口２１から円滑に回収することができる。すなわち、第１回収部材８１は、基板Ｐの上面に付着した液体ＬＱの滴に追従するように移動するため、その液体ＬＱの滴が基板Ｐ上で薄膜化することを抑えつつ、その液体ＬＱの滴を基板Ｐの上面から円滑に回収（除去）することができる。

　また、第１回収部材８１と基板Ｐとの相対速度（相対加速度）が小さくなるように、第１回収部材８１が移動することにより、基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱ（液体ＬＱの滴）は、第１回収部材８１によって円滑に回収される。

　第１回収部材８１は、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱを回収することができる。第１回収部材８１が基板Ｐに追従するように移動することによって、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱは、第１回収部材８１から円滑に回収される。また、第１回収部材８１と基板Ｐとの相対速度（相対加速度）が小さくなるように、第１回収部材８１が移動することによっても、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱは、第１回収部材８１から円滑に回収される。

　以上、第１回収部材８１について説明した。第２回収部材８２も、液浸部材７の周囲の少なくとも一部において移動可能である。第２回収部材８２は、駆動システム２４により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。第２回収部材８２は、基板Ｐ（基板ステージ２）に追従するように、ＸＹ平面内を移動可能である。また、第２回収部材８２は、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動が、小さくなるように、ＸＹ平面内を移動可能である。なお、第２回収部材８２は、θＸ、θＹ、及びθＺ方向のうちの少なくとも一つの方向に動かなくてもよい。また、第２回収部材８２は、Ｚ軸方向に動かなくてもよい。また、第２回収部材８２は、Ｘ軸とＹ軸のどちらか一方に動くだけでもよい。

　本実施形態において、第１回収部材８１と第２回収部材８２とは、別々に移動可能である。制御装置５は、駆動システム２３、２４を制御して、第１回収部材８１と第２回収部材８２とを別々に移動可能である。すなわち、第１回収部材８１及び第２回収部材８２は、同時に異なる方向に移動可能であり、あるいは、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の一方を停止し、他方だけを動かすことも可能である。

　本実施形態において、第１回収部材８１は、液浸部材７の＋Ｘ側において移動する。第２回収部材８２は、液浸部材７の－Ｘ側において移動する。

　次に、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例について説明する。

　露光前の基板Ｐを第１保持部１６に搬入（ロード）するために、制御装置５は、基板ステージ２を、液浸部材７から離れた基板交換位置に移動する。なお、例えば露光後の基板Ｐが第１保持部１６に保持されている場合、その露光後の基板Ｐが第１保持部１６から搬出（アンロード）する処理が行われた後、露光前の基板Ｐを第１保持部１６に搬入（ロード）する処理が行われる。

　基板交換位置は、基板Ｐの交換処理が実行可能な位置である。基板Ｐの交換処理は、搬送装置を用いて、第１保持部１６に保持された露光後の基板Ｐを第１保持部１６から搬出（アンロード）する処理、及び第１保持部１６に露光前の基板Ｐを搬入（ロード）する処理の少なくとも一方を含む。制御装置５は、液浸部材７から離れた基板交換位置に基板ステージ２を移動して、基板Ｐの交換処理を行う。

　基板ステージ２が液浸部材７から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が、終端光学素子１３の射出面１２及び液浸部材７の下面７Ｕと対向するように配置される。射出面１２及び下面７Ｕと対向するように計測ステージ３が配置された状態で、射出面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳが形成されている。供給口１８からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口１９からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液浸空間ＬＳが形成される。

　また、基板ステージ２が液浸部材７から離れた期間の少なくとも一部において、必要に応じて、計測ステージ３に搭載されている計測部材（計測器）Ｃを用いる計測処理が行われる。計測部材（計測器）Ｃを用いる計測処理を行うとき、制御装置５は、終端光学素子１３と計測部材Ｃとの間の光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。制御装置５は、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して計測部材Ｃに露光光ＥＬを照射して、計測部材Ｃを用いる計測処理を行う。その計測処理の結果は、基板Ｐの露光処理に反映される。

　露光前の基板Ｐが第１保持部１６にロードされた後、制御装置５は、射出面１２及び下面７Ｕと対向する位置から計測ステージ３を退かし、射出面１２及び下面７Ｕと対向する位置に基板Ｐを保持した基板ステージ２を移動する。本実施形態においては、例えば米国特許出願公開第２００６／００２３１８６号、及び米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号等に開示されているように、制御装置５は、終端光学素子１３及び液浸部材７と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳが形成され続けるように、基板ステージ２の上面２Ｓと計測ステージ３の上面３Ｓとを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材７と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方とを対向させつつ、終端光学素子１３及び液浸部材７に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３をＸＹ平面内において移動させる。これにより、液体ＬＱの漏出が抑制されつつ、液浸空間ＬＳが、終端光学素子１３及び液浸部材７と計測ステージ３との間に形成される状態から、終端光学素子１３及び液浸部材７と基板ステージ２との間に形成される状態へ変化する。また、制御装置５は、液浸空間ＬＳが、終端光学素子１３及び液浸部材７と基板ステージ２との間に形成される状態から、終端光学素子１３及び液浸部材７と計測ステージ３との間に形成される状態へ変化させることもできる。

　以下の説明において、基板ステージ２の上面２Ｓと計測ステージ３の上面３Ｓとを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材７に対して、基板ステージ２と計測ステージ３とをＸＹ平面内において同期移動させる動作を適宜、スクラム移動動作、と称する。

　スクラム移動動作により、基板Ｐを保持した基板ステージ２が、終端光学素子１３の射出面１２及び液浸部材７の下面７Ｕと対向するように配置される。制御装置５は、射出面１２及び下面７Ｕと対向するように基板Ｐ（基板ステージ２）が配置された状態で、射出面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。供給口１８からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口１９からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液浸空間ＬＳが形成される。

　制御装置５は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置５は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

　本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置５は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

　図６は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓ１～Ｓ２６がマトリクス状に複数配置されている。制御装置５は、第１保持部１６に保持されている基板Ｐの複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６を液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで順次露光する。

　例えば基板Ｐの第１ショット領域Ｓ１を露光するために、制御装置５は、基板Ｐ（第１ショット領域Ｓ１）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して第１ショット領域Ｓ１に露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１ショット領域Ｓ１に投影され、その第１ショット領域Ｓ１が射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。第１ショット領域Ｓ１の露光が終了した後、制御装置５は、次の第２ショット領域Ｓ２の露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＸ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、第２ショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動する。その後、制御装置５は、第２ショット領域Ｓ２の露光を開始する。

　制御装置５は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向と交差する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域を順次露光する。

　以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向（第１方向）に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光後、次のショット領域を露光するために、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６が順次露光される。

　なお、以下の説明においては、スキャン移動動作及びステップ移動動作において、液浸空間ＬＳが基板Ｐ上に形成されることとするが、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される可能性がある。

　制御装置５は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６の露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６の露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置６に記憶されている。制御装置５は、その記憶装置６に記憶されている露光条件に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６を順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

　本実施形態において、制御装置５は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図６中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して基板Ｐの複数のショット領域Ｓ１～Ｓ２６を露光光ＥＬで順次露光する。

　以下、上述の処理が繰り返され、複数の基板Ｐが順次露光される。

　図６に示すように、スキャン移動動作において、基板Ｐ（基板ステージ２）は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、スキャン方向であるＹ軸方向（＋Ｙ方向及び－Ｙ方向の少なくとも一方）へ移動する。ステップ移動動作において、基板Ｐ（基板ステージ２）は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、ＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向へ移動する。Ｙ軸と交差する方向への移動とは、Ｘ軸方向の成分を含む方向への移動を含む。Ｘ軸方向の成分を含む方向への移動とは、＋Ｘ方向への移動、－Ｘ方向への移動、＋Ｘ方向且つ＋Ｙ方向への移動、＋Ｘ方向且つ－Ｙ方向への移動、－Ｘ方向且つ＋Ｙ方向への移動、－Ｘ方向且つ－Ｙ方向への移動の少なくとも一つを含む。

　本実施形態においては、スキャン移動動作において、基板ＰはＹ軸方向に関して距離Ｌｙ移動する。ステップ移動動作において、基板ＰはＸ軸方向に関して距離Ｌｘ移動する。距離Ｌｘは、距離Ｌｙよりも短い。

　本実施形態において、第１回収部材８１は、Ｘ軸方向に関して液浸部材７の一側（＋Ｘ側）に配置され、第２回収部材８２は、Ｘ軸方向に関して液浸部材７の他側（－Ｘ側）に配置される。

　本実施形態において、回収部材８は、ステップ移動動作が行われる期間の少なくとも一部において移動する。ステップ移動動作が行われる期間の少なくとも一部において、回収部材８は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＸＹ平面内においてＸ軸、Ｙ軸方向とは異なる方向に移動する。換言すれば、回収部材８は、Ｙ軸方向、Ｘ軸方向の成分を含む方向に移動する。上述のように、回収部材８は、基板Ｐに追従するように、移動する。また、回収部材８は、基板Ｐとの相対速度が、液浸部材７と基板Ｐとの相対速度よりも小さくなるように移動する。

　以下、図６～図１３を参照して、回収部材８の動作の一例について説明する。図７Ａ、７Ｂ～図１３は、液浸部材７、回収部材８、及び基板Ｐ（ショット領域）を模式的に示す。以下の説明においては、一例として、ショット領域Ｓ８～Ｓ１２が順次露光されるときの回収部材８の動作について説明する。

　図６に示すように、ショット領域Ｓ８～Ｓ１０が、Ｘ軸方向に配置される。ショット領域Ｓ１１、Ｓ１２が、Ｘ軸方向に配置される。ショット領域Ｓ１１、Ｓ１２は、ショット領域Ｓ８～Ｓ１０の－Ｙ側に配置される。ショット領域Ｓ８～Ｓ１０のうち、ショット領域Ｓ８が最も＋Ｘ側に配置され、ショット領域Ｓ１０が最も－Ｘ側に配置される。ショット領域Ｓ１１、Ｓ１２のうち、ショット領域Ｓ１１がショット領域Ｓ１２の－Ｘ側に配置される。ショット領域Ｓ１０、Ｓ１１が、Ｙ軸方向に配置される。ショット領域Ｓ９、Ｓ１２が、Ｙ軸方向に配置される。

　例えば、ショット領域Ｓ８～Ｓ１０を順次露光する場合、ショット領域Ｓ８の露光後、基板Ｐが＋Ｘ方向にステップ移動し、その後、ショット領域Ｓ９が露光される。すなわち、ショット領域Ｓ８の露光後、ショット領域Ｓ９を露光開始位置に配置するために、基板Ｐは、実質的に＋Ｘ方向にステップ移動する。また、ショット領域Ｓ９の露光後、ショット領域Ｓ１０を露光開始位置に配置するために、基板Ｐは、実質的に＋Ｘ方向にステップ移動する。

　また、ショット領域Ｓ１０の露光後、ショット領域Ｓ１１を露光開始位置に配置するために、基板Ｐは、実質的に＋Ｙ方向にステップ移動する。

　また、ショット領域Ｓ１１の露光後、ショット領域Ｓ１２を露光開始位置に配置するために、基板Ｐは、実質的に－Ｘ方向にステップ移動する。

　本実施形態においては、基板Ｐが実質的に＋Ｘ方向にステップ移動する場合、第１、第２回収部材８１、８２のうち、液浸部材７の＋Ｘ側に配置されている第１回収部材８１が移動する。基板Ｐが実質的に＋Ｘ方向にステップ移動する場合に、第２回収部材８２は停止していてもよいし、移動していてもよい。また第２回収部材８２は、液体回収動作を行っていてもよいし、液体回収動作を行わなくてもよい。また、基板Ｐが実質的に－Ｘ方向にステップ移動する場合、第１、第２回収部材８１、８２のうち、液浸部材７の－Ｘ側に配置されている第２回収部材８２が移動する。基板Ｐが実質的に－Ｘ方向にステップ移動する場合に、第１回収部材８１は停止していてもよいし、移動していてもよい。また第１回収部材８１は、液体回収動作を行っていてもよいし、液体回収動作を行わなくてもよい。

　本実施形態において、制御装置５は、少なくともステップ移動動作において、回収部材８の回収口２１からの回収（吸引）動作を行う。これにより、ステップ移動動作において第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱ、あるいは基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱ（液体ＬＱの滴）が回収部材８から回収される。

　なお、制御装置５は、スキャン移動動作及びステップ移動動作の両方において、回収部材８(８１，８２)の回収口２１からの回収（吸引）動作を行ってもよい。これにより、スキャン移動動作において第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱ、あるいは基板Ｐの上面に存在する液体ＬＱ（液体ＬＱの滴）が回収部材８(８１，８２)から回収される。

　ショット領域Ｓ８を露光するために、例えば図６に示したようにショット領域Ｓ８が露光開始位置に配置された状態から、制御装置５は、基板Ｐ（基板ステージ２）をスキャン移動動作する。本実施形態において、制御装置５は、投影領域ＰＲに対して基板Ｐ（ショット領域Ｓ８）を－Ｙ方向に移動しつつ、ショット領域Ｓ８を露光する。これにより、図６に示した状態から、図７Ａに示す状態を経て、図７Ｂに示す状態に変化する。図７Ａは、スキャン移動動作中の状態を示す。図７Ｂは、スキャン移動が終了し、ショット領域Ｓ８が露光終了位置に配置されている状態を示す。

　スキャン移動動作において、第１、第２回収部材８１、８２は、液浸部材７の周囲に配置される。図７Ａに示す状態においては、第１、第２回収部材８１、８２は、液浸部材７に近い位置に配置される。以下の説明において、図７Ａに示す第１回収部材８１の位置を適宜、基準位置Ｊｈ１、と称し、第２回収部材８２の位置を適宜、基準位置Ｊｈ２、と称する。

　本実施形態においては、第１回収部材８１は、ショット領域Ｓ８が露光終了位置に配置される直前に、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１からの移動を開始する。換言すれば、ショット領域Ｓ８を露光するためのスキャン移動動作の終了直前に、第１回収部材８１が、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から移動する。本実施形態においては、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から－Ｙ方向へ移動する。

　ショット領域Ｓ８の露光のためのスキャン移動動作の終了後、次のショット領域Ｓ９が露光開始位置に配置されるように、制御装置５は、ステップ移動動作を行う。制御装置５は、基板ＰをＸ軸方向の成分を含む方向へ移動する。制御装置５は、基板Ｐを実質的に＋Ｘ方向に移動する。これにより、図７Ｂに示す状態から、図８Ａに示す状態に変化する。図８Ａは、ショット領域Ｓ９が露光開始位置に配置される状態を示す。また、図８Ａに示すように、制御装置５は、ステップ移動動作において、基板Ｐに追従するように、第１回収部材８１を＋Ｘ方向へ移動する。図８Ａに示すように、第１回収部材８１は、液浸部材７に対して基準位置Ｊｈ１よりも遠い位置Ｊｆａまで移動する。

　なお、制御装置５は、基板Ｐを＋Ｘ方向に移動しつつ、＋Ｙ方向及び－Ｙ方向の一方又は両方に移動して、ショット領域Ｓ９を露光開始位置に配置してもよい。また、制御装置５は、第１回収部材８１を＋Ｘ方向に移動しつつ、＋Ｙ方向及び－Ｙ方向の一方又は両方に移動してもよい。

　ショット領域Ｓ９を露光するために、ショット領域Ｓ９が露光開始位置に配置された状態から、制御装置５は、基板Ｐ（基板ステージ２）をスキャン移動動作する。制御装置５は、投影領域ＰＲに対して基板Ｐ（ショット領域Ｓ９）を＋Ｙ方向に移動しつつ、ショット領域Ｓ９を露光する。これにより、図８Ａに示す状態から、図８Ｂに示す状態を経て、図９Ａに示す状態に変化する。図８Ｂは、スキャン移動動作中の状態を示す。図９Ａは、スキャン移動が終了し、ショット領域Ｓ９が露光終了位置に配置されている状態を示す。

　本実施形態においては、図８Ｂに示すように、第１回収部材８１は、スキャン移動動作の少なくとも一部において、位置Ｊｆａから基準位置Ｊｈ１まで戻る。

　図９Ａに示すように、第１回収部材８１は、ショット領域Ｓ９が露光終了位置に配置される直前に、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１からの移動を開始する。換言すれば、ショット領域Ｓ９を露光するためのスキャン移動動作の終了直前に、第１回収部材８１が、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から移動する。本実施形態においては、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から＋Ｙ方向へ移動する。

　ショット領域Ｓ９の露光のためのスキャン移動動作の終了後、次のショット領域Ｓ１０が露光開始位置に配置されるように、制御装置５は、ステップ移動動作を行う。制御装置５は、基板ＰをＸ軸方向の成分を含む方向へ移動する。制御装置５は、基板Ｐを実質的に＋Ｘ方向に移動する。これにより、図９Ａに示す状態から、図９Ｂに示す状態に変化する。図９Ｂは、ショット領域Ｓ１０が露光開始位置に配置される状態を示す。また、図９Ｂに示すように、制御装置５は、ステップ移動動作において、基板Ｐに追従するように、第１回収部材８１を＋Ｘ方向へ移動する。図９Ｂに示すように、第１回収部材８１は、液浸部材７に対して基準位置Ｊｈ１よりも遠い位置Ｊｆｂまで移動する。

　なお、制御装置５は、基板Ｐを＋Ｘ方向に移動しつつ、＋Ｙ方向及び－Ｙ方向の一方又は両方に移動して、ショット領域Ｓ１０を露光開始位置に配置してもよい。また、制御装置５は、第１回収部材８１を＋Ｘ方向に移動しつつ、＋Ｙ方向及び－Ｙ方向の一方又は両方に移動してもよい。

　ショット領域Ｓ１０を露光するために、ショット領域Ｓ１０が露光開始位置に配置された状態から、制御装置５は、基板Ｐ（基板ステージ２）をスキャン移動動作する。制御装置５は、投影領域ＰＲに対して基板Ｐ（ショット領域Ｓ１０）を－Ｙ方向に移動しつつ、ショット領域Ｓ１０を露光する。これにより、図９Ｂに示す状態から、図１０Ａに示す状態を経て、図１０Ｂに示す状態に変化する。図１０Ａは、スキャン移動動作中の状態を示す。図１０Ｂは、スキャン移動が終了し、ショット領域Ｓ１０が露光終了位置に配置されている状態を示す。

　本実施形態においては、図１０Ａに示すように、第１回収部材８１は、スキャン移動動作の少なくとも一部において、位置Ｊｆｂから基準位置Ｊｈ１まで戻る。

　図１０Ｂに示すように、第１回収部材８１は、ショット領域Ｓ１０が露光終了位置に配置される直前に、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１からの移動を開始する。換言すれば、ショット領域Ｓ１０を露光するためのスキャン移動動作の終了直前に、第１回収部材８１が、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から移動する。本実施形態においては、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、基準位置Ｊｈ１から－Ｙ方向へ移動する。

　ショット領域Ｓ１０の露光のためのスキャン移動動作の終了後、次のショット領域Ｓ１１が露光開始位置に配置されるように、制御装置５は、ステップ移動動作を行う。制御装置５は、基板ＰをＸ軸方向の成分を含む方向へ移動する。制御装置５は、基板Ｐを実質的に＋Ｘ方向に移動する。これにより、図１０Ｂに示す状態から、図１１Ａに示す状態に変化する。

　基板Ｐが＋Ｘ方向に移動されるとき、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、＋Ｘ方向に移動する。第１回収部材８１は、液浸部材７から遠い位置Ｊｆｃまで移動する。

　Ｙ軸方向に関して、ショット領域Ｓ１１の位置とショット領域Ｓ１０の位置とは、異なる。本実施形態において、ＸＹ平面内において、ショット領域Ｓ１１は、ショット領域Ｓ１０の－Ｙ側に配置される。

　制御装置５は、基板Ｐを実質的に＋Ｙ方向へ移動する。これにより、図１１Ａに示す状態から図１１Ｂに示す状態に変化する。

　基板Ｐが＋Ｙ方向に移動されるとき、第１回収部材８１は、基板Ｐに追従するように、＋Ｙ方向に移動する。第１回収部材８１は、液浸部材７から遠い位置Ｊｆｄまで移動する。また、本実施形態においては、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動されるとき、第２回収部材８２も、基板Ｐに追従するように、＋Ｙ方向に移動する。第２回収部材８２は、基準位置Ｊｈ２から＋Ｙ方向への移動を開始する。

　その後、制御装置５は、基板Ｐを実質的に－Ｘ方向に移動する。これにより、図１１Ｂに示す状態から図１２Ａに示す状態に変化する。図１２Ａは、ショット領域Ｓ１１が露光開始位置に配置される状態を示す。

　基板Ｐが－Ｘ方向に移動されるとき、第２回収部材８２は、基板Ｐに追従するように、－Ｘ方向に移動する。第２回収部材８２は、液浸部材７に対して基準位置Ｊｈ２よりも遠い位置Ｊｆｅまで移動する。また、本実施形態においては、ショット領域Ｓ１１が露光開始位置に配置されるとき、第１回収部材８１が基準位置Ｊｈ１に配置される。

　ショット領域Ｓ１１を露光するために、ショット領域Ｓ１１が露光開始位置に配置された状態から、制御装置５は、基板Ｐ（基板ステージ２）をスキャン移動動作する。制御装置５は、投影領域ＰＲに対して基板Ｐ（ショット領域Ｓ１１）を－Ｙ方向に移動しつつ、ショット領域Ｓ１１を露光する。これにより、図１２Ａに示す状態から、図１２Ｂに示す状態に変化する。図１２Ｂは、スキャン移動が終了し、ショット領域Ｓ１１が露光終了位置に配置されている状態を示す。

　本実施形態においては、第２回収部材８２は、スキャン移動動作の少なくとも一部において、位置Ｊｆｅから基準位置Ｊｈ２まで戻る。また、第２回収部材８２は、スキャン移動動作の少なくとも一部において、基板Ｐに追従するように、－Ｙ方向へ移動する。

　ショット領域Ｓ１１の露光のためのスキャン移動動作の終了後、次のショット領域Ｓ１２が露光開始位置に配置されるように、制御装置５は、ステップ移動動作を行う。制御装置５は、基板ＰをＸ軸方向の成分を含む方向へ移動する。制御装置５は、基板Ｐを実質的に－Ｘ方向に移動する。これにより、図１２Ｂに示す状態から、図１３に示す状態に変化する。

　以下、同様の処理が繰り返される。

　なお、上述の実施形態においては、ショット領域Ｓ８～Ｓ１２を露光するとき、基板Ｐに追従するように、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の少なくとも一方が移動することとしたが、同期するように移動してもよいし、あるいは、基板Ｐの移動経路は既知なので、基板Ｐとの相対速度と相対加速度の少なくとも一方を小さくしたい方向に、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の少なくとも一方を予め動かしておいてもよい。また、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の少なくとも一方は、基板Ｐに追従しなくてもよい。

　また、上述の実施形態において、第１回収部材８１と基板Ｐとの相対移動（相対速度、相対加速度）が、液浸部材７と基板Ｐとの相対移動よりも小さくなるように、第１回収部材８１が移動してもよい。また、上述の実施形態において、第２回収部材８２と基板Ｐとの相対移動（相対速度、相対加速度）が、液浸部材７と基板Ｐとの相対移動よりも小さくなるように、第２回収部材８２が移動してもよい。

　上述の実施形態においては、ショット領域Ｓ８～Ｓ１０を順次露光するとき、第１回収部材８１が移動し、第２回収部材８２は移動せずに、基準位置Ｊｈ２に配置されることとしたが、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の両方が移動してもよい。

　上述の実施形態においては、ショット領域Ｓ１１、Ｓ１２を順次露光するとき、第２回収部材８１が移動し、第１回収部材８１は移動せずに、基準位置Ｊｈ１に配置されることとしたが、第１回収部材８１及び第２回収部材８２の両方が移動してもよい。

　以上説明したように、本実施形態によれば、液浸部材７の周囲の少なくとも一部において移動する回収部材８を設けたので、液浸空間ＬＳから分離して、第１空間ＳＰ１から飛び出した液体ＬＱが回収部材８で回収されるので、基板Ｐ等の物体上に液体ＬＱが残留することを抑制できる。

　なお、基板（Ｐ）のスキャン移動動作及びステップ移動動作に合わせて、回収部材８（８１，８２）を移動させなくてもよい。例えば、液体ＬＱの滴が存在（残留）する可能性が高い物体（例えば基板Ｐ）上の領域（位置）が推測できる場合には、その領域が回収部材８の直下を移動しているときに、その領域と回収部材８との相対移動が小さくなるように、回収部材８を移動しながら、その領域から残留している液体ＬＱを回収部材８で回収するようにしてもよい。

＜第２実施形態＞
　次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

　図１４は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。露光装置ＥＸは、液浸部材７Ｂと、回収部材８Ｂとを有する。回収部材８Ｂは、駆動システム３０の作動により移動可能である。

　本実施形態において、液浸空間ＬＳは、射出面１２側の光路空間ＳＰＫ、液浸部材７Ｂの下面７Ｕｂ側の第１空間ＳＰ１、及び回収部材８Ｂの下面８Ｕｂ側の第２空間ＳＰ２の少なくとも一部に形成される。

　本実施形態において、液浸部材７Ｂは、液体ＬＱを供給する供給口１８Ｂを有する。本実施形態において、液浸部材７Ｂは、物体（基板Ｐなど）と対向する下面に回収口を有しない。なお、液浸部材７Ｂが下面以外の面に回収口を有してもよい。回収部材８Ｂは、液体ＬＱを回収する回収口２１を有する。

　本実施形態においては、供給口１８Ｂからの液体ＬＱの供給の少なくとも一部と並行して、回収口２１からの液体の回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ、第１空間ＳＰ１、及び第２空間ＳＰ２の少なくとも一部に液浸空間ＬＳが形成される。

　本実施形態においても、回収部材８Ｂは、基板Ｐに追従するように移動することができる。また、回収部材８Ｂは、回収部材８Ｂと基板Ｐ（物体）との相対移動が、液浸部材７Ｂと基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動することができる。

　なお、上述の各実施形態においては、回収部材８（８Ｂ）の回収口２１が、多孔部材の孔を含むこととしたが、例えば図１５に示す回収部材８Ｃのように、回収口２１Ｃが多孔部材の孔でなくてもよい。

　なお、上述の各実施形態においては、回収部材８（８Ｂ）が、基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において移動し、基板Ｐ上から液体ＬＱを回収する場合を例にして説明したが、カバー部材Ｔの上面２Ｓから液体ＬＱを回収してもよい。またスキャン移動動作及びステップ移動動作を行っていない期間の少なくとも一部において、カバー部材Ｔの上面２Ｓから液体ＬＱを回収してもよい。また、回収部材８は、例えば計測ステージ３上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、計測ステージ３に追従するように移動して、上面３Ｓなどから液体ＬＱを回収してもよい。また、回収部材８は、回収部材８と計測ステージ３と相対移動が小さくなるように移動してもよい。

　また、回収部材８が、スクラム移動動作において移動して、回収部材８で、カバー部材Ｔの上面２Ｓ，計測ステージ３の上面３Ｓなどから液体ＬＱを回収してもよい。

　なお、上述の実施形態において、回収部材８は、基板Ｐ等の物体に追従することなく移動してもよいし、回収部材８の移動によって、回収部材８と物体との相対移動小さくならなくてもよい。例えば、液体ＬＱの滴が存在（残留）する可能性が高い物体上の領域（位置）が推測できる場合、制御装置５は、その液体ＬＱを回収するために回収部材８を移動してもよい。例えば、基板ステージ２が静止しているときに、カバー部材Ｔの上面２Ｓ上に残留している液体ＬＱを回収するために、回収部材８を移動してもよい。

　なお、上述の実施形態において、回収部材８が、例えば液浸部材７の＋Ｙ側、及び－Ｙ側の少なくとも一方に配置されてもよい。また、回収部材８が、液浸部材７の周囲の少なくとも一部において、１つだけ配置されてもよいし、３つ以上配置されてもよい。また、回収部材８が、液浸部材７を囲む環状の部材でもよい。

　なお、上述の実施形態において、物体上に残留する液体ＬＱを検出するセンサを設け、そのセンサの検出結果に基づいて、その液体ＬＱが回収されるように回収部材８を移動してもよい。

　なお、上述の実施形態において、液浸部材７が移動可能でもよい。例えば、液浸部材７が、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向のうちのひとつの方向に移動可能でもよい。

　なお、上述したように、制御装置５は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置５は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置６は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ－ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置６には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

　なお、制御装置５に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

　記憶装置６に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）５が読み取り可能である。記憶装置６には、制御装置５に、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する露光装置ＥＸの制御を実行させるプログラムが記録されている。

　記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面側に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板に追従するように移動する第１回収部材を移動しながら、その第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を実行させてもよい。

　記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面側に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において基板との相対速度が小さくなるように第１回収部材を移動しながら、その第１回収部材で、基板上の液体を回収することと、を実行させてもよい。

　記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、露光光が射出される光学部材の射出面及び光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、射出面側に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出された露光光で基板を露光することと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において第１回収部材を移動しながら、その第１回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、基板が対向する第２下面を有し、液浸部材の周囲の少なくとも一部において第２回収部材を移動しながら、その第２回収部材で、基板上の液体を回収する動作を行うことと、を実行させてもよい。

　記憶装置６に記憶されているプログラムが制御装置５に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材７等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。

　なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出側（像面側）の光路が液体ＬＱで満たされているが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているように、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系ＰＬを採用することができる。

　なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱとして水を用いているが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）などの膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。

　なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

　露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

　さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

　また、例えば米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。

　また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図１６に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２Ａ、２Ｂを備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

　なお、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

　露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

　なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。

　上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射することができる。

　また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。

　上述の実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

　半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

　なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

　２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…制御装置、６…記憶装置、７…液浸部材、７Ｕ…下面、８…回収部材、８Ｕ…下面、１２…射出面、１３…終端光学素子、１８…供給口、１９…回収口、２１…回収口、２２…多孔部材、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板、ＳＰＫ…光路空間、ＳＰ１…第１空間、ＳＰ２…第２空間

Claims

　液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
　前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
　前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向する第１下面を有し、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成する液浸部材と、
　前記物体が対向する第２下面を有し、前記物体上の前記液体を回収可能であり、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記物体に追従するように移動する第１回収部材と、を備える露光装置。
　前記第１回収部材は、前記物体との相対速度が、前記液浸部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように移動する請求項１に記載の露光装置。
　液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
　前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
　前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向する第１下面を有し、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成する液浸部材と、
　前記物体が対向する第２下面を有し、前記物体上の前記液体を回収可能であり、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記物体との相対速度が、小さくなるように移動する第１回収部材と、を備える露光装置。
　前記第１回収部材は、前記物体との相対速度が、前記液浸部材と前記物体との相対速度よりも小さくなるように移動する請求項３記載の露光装置。
　前記第１回収部材とは別に移動可能な第２回収部材を備える請求項１～４のいずれか一項に記載の露光装置。
　液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
　前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
　前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成する液浸部材と、
前記物体が対向する第２下面を有し、前記物体上の前記液体を回収可能であり、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材と、
前記物体が対向する第２下面を有し、前記物体上の前記液体を回収可能であり、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材と、を備える露光装置。
　前記第１回収部材及び前記第２回収部材のうち一方が停止中に、他方が移動可能である請求項５又は６に記載の露光装置。
　前記第１回収部材及び前記第２回収部材のうち一方が移動中に、前記一方が移動する方向とは異なる方向に他方が移動可能である請求項５～７のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記液浸空間が形成された状態で、前記物体は、所定面内の第１方向に関して第１距離だけ移動する第１移動動作と、前記第１方向と交差する第２方向に関して前記第１距離よりも短い第２距離だけ移動する第２移動動作とを行い、
　前記第１回収部材及び前記第２回収部材は、前記第２方向に関して前記液浸部材の一側及び他側のそれぞれに配置される請求項５～８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材及び前記第２回収部材は、前記第２方向に関して前記液浸部材の一側及び他側のそれぞれにおいて移動する請求項９に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記液浸部材の周囲の第１位置から移動を開始し、前記液浸部材に対して前記第１位置よりも遠い第２位置まで移動する請求項１～８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記第２位置に配置された後、前記第２位置から前記第１位置へ戻る請求項１１に記載の露光装置。
　前記液浸空間が形成された状態で、前記物体は、前記所定面内の第１方向に関して第１距離だけ移動する第１移動動作と、前記第１方向と交差する第２方向に関して前記第１距離よりも短い第２距離だけ移動する第２移動動作とを行い、
前記第１回収部材は、前記第２移動動作が行われる期間の少なくとも一部において、前記第１位置から前記第２位置まで移動し、前記第１移動動作が行われる期間の少なくとも一部において、前記第２位置から前記第１位置へ戻る請求項１２に記載の露光装置。
　前記物体は、ショット領域が複数配置された前記基板を含み、
前記基板上の各ショット領域は、前記基板がスキャン方向に移動しながら露光され、
前記第１方向は、前記スキャン方向である請求項９、１０又は１３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記物体は、ショット領域が複数配置された前記基板を含み、
前記基板上に前記液浸空間が形成された状態で、前記射出面からの前記露光光が照射可能な位置に対して第１ショット領域をスキャン方向に移動するスキャン移動動作と、前記第１ショット領域の露光後、次の第２ショット領域が露光開始位置に配置されるように前記基板を移動するステップ移動動作とを繰り返しながら、前記基板の複数のショット領域が順次露光され、
前記第１回収部材は、前記ステップ移動動作が行われる期間の少なくとも一部において移動する請求項１～１３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記ステップ移動動作が行われる期間の少なくとも一部において、前記第１回収部材は、前記スキャン方向、及び前記スキャン方向に垂直な方向の少なくとも一つの方向に移動する請求項１２に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記第２下面が対向する前記物体の上面と実質的に平行に移動可能である請求項１～１６のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記光学部材の光軸に垂直な面と実質的に平行に移動可能である請求項１～１７のいずれか一項記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記第２下面が対向する前記物体の上面に接近するように、又は前記物体の上面から離れるように移動可能である請求項１～１７のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記光学部材の光軸と実質的に平行に移動可能である請求項１～１８のいずれか一項記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記第２下面が対向する前記物体の上面に対して傾斜可能である請求項１～２０のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面に対して傾斜可能である請求項１～２１のいずれか一項に記載の露光装置。
　少なくとも前記第１回収部材の移動中に、前記第１回収部材の前記第２下面と前記物体の上面との距離は、前記第１下面と前記物体の上面との距離よりも小さい請求項１～２２のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、前記物体上の前記液体を回収する液体回収部を有し、
前記液体回収部の少なくとも一部は、前記第２下面に配置される請求項１～２３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１回収部材は、多孔部材を含み、前記多孔部材の孔を介して前記液体を回収する請求項１～２４のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２下面は、前記多孔部材の下面を含む請求項２５に記載の露光装置。
　前記液浸空間は、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に形成され、
　前記第１回収部材は、前記第１空間から流出した前記液体を回収する請求項１～２６のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記液浸空間は、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に形成され、
　前記第１回収部材は、前記液浸空間から離れ、前記第２下面が面する前記物体の上面に存在する前記液体を回収する請求項１～２７のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記物体の上面に存在する前記液体は、前記液体の滴を含む請求項２８に記載の露光装置。　
　前記液浸部材は、前記液体を供給する供給口と、前記液体を回収する第１回収口と、を有し、
　前記供給口からの前記液体の供給の少なくとも一部と並行して、前記第１回収口からの前記液体の回収が行われることによって、前記液浸空間が形成される請求項１～２９のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記液浸空間は、前記射出面からの露光光の光路空間、前記第１下面の下の第１空間、及び前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に形成される請求項１～２７のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記液浸部材は、前記液体を供給する供給口を有し、
　前記第１回収部材は、前記液体を回収する第２回収口を有し、
　前記供給口からの前記液体の供給の少なくとも一部と並行して、前記第２回収口からの前記液体の回収が行われることによって、前記光路空間、前記第１空間、及び前記第２空間の少なくとも一部に前記液浸空間が形成される請求項３１に記載の露光装置。
　前記基板を保持して移動する基板ステージを備え、
　前記物体は、前記基板ステージの少なくとも一部、及び前記基板ステージに保持された前記基板のうち少なくとも一方を含む請求項１～３２のいずれか一項に記載の露光装置。
　請求項１～３３のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
　液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
　前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を含む露光方法。
　液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
　前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を含む露光方法。
　液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
　前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、該第２回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、を含む露光方法。
　前記第１回収部材の移動中に、前記第２回収部材も移動する請求項３７に記載の露光方法。
　前記第１回収部材と前記第２回収部材のうち一方が停止中に、他方が移動可能である請求項３７又は３８に記載の露光方法。
　請求項３５～３９のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
　露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、前記射出面の下に液体の液浸空間を形成し、前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を含む液体回収方法。
　露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、前記射出面の下に液体の液浸空間を形成し、前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を含む液体回収方法。
　露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように基板が配置された状態で、前記射出面の下に液体の液浸空間を形成し、前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光する露光装置における液体回収方法であって、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、
　前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、該第２回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、を含む液体回収方法。
　コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板に追従するように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を実行させるプログラム。
　コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において前記基板との相対速度が小さくなるように移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収することと、を実行させるプログラム。
　コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される光学部材の射出面及び前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材の第１下面と対向するように前記基板が配置された状態で、前記射出面の下に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出された前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第１回収部材を移動しながら、該第１回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、
前記基板が対向する第２下面を有し、前記液浸部材の周囲の少なくとも一部において移動可能な第２回収部材を移動しながら、該第２回収部材で、前記基板上の前記液体を回収する動作を行うことと、を実行させるプログラム。
　請求項４４～４６のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。