WO2013099959A1

WO2013099959A1 - 露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体

Info

Publication number: WO2013099959A1
Application number: PCT/JP2012/083678
Authority: WO
Inventors: 恩田　稔; 真路佐藤; 長坂　博之; 康文西井
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2011-12-28
Filing date: 2012-12-26
Publication date: 2013-07-04

Abstract

　露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面からの露光光の光路を含む光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成する第２部材と、を備え、第１液浸空間が形成されている状態で、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化する。

Description

露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体

　本発明は、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
　本願は、２０１１年１２月２８日の米国仮出願６１／５８０，８４６に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。

米国特許出願公開第２００９／００４６２６１号

　液浸露光装置において、例えば液体が所定の空間から流出すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

　本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。

　本発明の第１の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面からの露光光の光路を含む光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成する第２部材と、を備え、第１液浸空間が形成されている状態で、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化する露光装置が提供される。

　本発明の第２の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面からの露光光の光路を含む光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成する第２部材と、を備え、物体の移動中に、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化する露光装置が提供される。

　本発明の第３の態様に従えば、第１、第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

　本発明の第４の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面からの露光光の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１液浸空間が形成されている状態で、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を含む露光方法が提供される。

　本発明の第５の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面の下の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、物体の移動条件に基づいて、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を含む露光方法が提供される。

　本発明の第６の態様に従えば、第４、第５の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

　本発明の第７の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面からの露光光の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１液浸空間が形成されている状態で、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させるプログラムが提供される。

　本発明の第８の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面からの露光光の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、物体の移動条件に基づいて、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させるプログラムが提供される。

　本発明の第９の態様に従えば、第７、第８の態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。

　本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。

第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。第１実施形態に係る基板ステージ及び計測ステージの一例を示す図である。第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す断面図である。第１実施形態に係る液浸部材を下側から見た図である。第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す断面図である。第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す断面図である。第１実施形態に係る液浸部材を説明するための模式図である。第１実施形態に係る基板ステージの一例を示す図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。基板ステージの一例を示す図である。液浸部材の一例を示す図である。液浸部材の一例を示す図である。液浸部材の一例を示す図である。液浸部材の一例を示す図である。液浸部材の一例を示す図である。第２実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第２実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第２実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第２実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第２実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す断面図である。第３実施形態に係る液浸部材を下側から見た図である。第３実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。第３実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。液浸部材の一例を示す図である。基板ステージの一例を示す図である。デバイス製造方法の一例を示すフローチャートである。

　以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

＜第１実施形態＞
　第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１（第１液浸空間）が形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。

　また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。

　図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、マスクステージ１、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液浸空間ＬＳ１を形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。

　また、露光装置ＥＸは、少なくとも投影光学系ＰＬを支持するボディ（フレーム）８と、露光光ＥＬが進行する空間の環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９とを備えている。

　マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。

　基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。

　照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。

　マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材１０のガイド面１０Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１０ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

　マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、駆動システム１１は、マスクステージ１に配置された可動子１Ｃと、ベース部材１０に配置された固定子１０Ｍとを有する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、ガイド面１０Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１１が、リニアモータを含んでもよい。

　投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。

　投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、－Ｚ軸方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、－Ｚ軸方向を向いている射出面１２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面１２から射出される露光光ＥＬは、－Ｚ軸方向に進行する。

　基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。

　基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１５が、リニアモータを含んでもよい。

　図２は、基板ステージ２及び計測ステージ３の一例を示す平面図である。図１及び図２に示すように、基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部１６と、第１保持部１６に保持される基板Ｐの周囲の少なくとも一部に配置されるように包囲部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部１７とを有する。第１保持部１６及び第２保持部１７は、例えばピンチャック機構を含む。包囲部材Ｔは、第１保持部１６に保持される基板Ｐの周囲に配置されるカバー部材Ｔ１と、カバー部材Ｔ１の周囲に配置されるスケール部材Ｔ２とを含む。なお、カバー部材Ｔ１が、基板Ｐの周囲の一部のみに配置されてもよい。スケール部材Ｔ２が、カバー部材Ｔ１の周囲の一部のみに配置されてもよい。

　計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、マスクステージ１の計測ミラーに計測光を照射して、そのマスクステージ１の位置を計測するユニットと、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットとを含む。

　また、計測システム４は、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含む。エンコーダシステムは、計測光を射出する照射装置及び計測光を受光する受光装置を有し、スケール部材Ｔ２が有する格子（スケール、格子線）に照射装置からの計測光を照射し、その格子を介した計測光を受光装置で受光して、その格子の位置を計測する複数のエンコーダヘッド１８と、それらエンコーダヘッド１８を保持する保持部材１９とを有する。

　なお、計測システム４は、干渉計システム及びエンコーダシステムのどちらか一方だけを含んでもよい。計測システム４が干渉計システムだけを含む場合には、基板ステージ２のスケール部材Ｔ２を省略できる。また、エンコーダヘッドが基板ステージ２に配置され、基板ステージ２の上方にスケール部材Ｔ２が固定されるエンコーダシステムでもよい。

　基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、マスクステージ１（マスクＭ）、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。

　次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。図３は、本実施形態に係る液浸部材５の一例を示すＹＺ平面と平行な側断面図、図４は、液浸部材５を下側（－Ｚ軸側）から見た図、図５は、図３の一部を拡大した図である。

　本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、下面２３を有する第１部材２１と、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置され、下面２４を有する第２部材２２とを備えている。

　下面２３は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体が対向可能である。下面２４は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体が対向可能である。

　射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体は、射出面１２と対向可能な物体を含み、投影領域ＰＲに配置可能な物体を含む。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２の包囲部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部１６）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳ１が形成される。

　以下の説明においては、射出面１２と対向する物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、射出面１２と対向可能な物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。また、基板ステージ２の包囲部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように液浸空間ＬＳ１が形成される場合もあるし、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように液浸空間ＬＳ１が形成される場合もある。

　第１部材２１は、射出面１２側の光路Ｋを含む空間ＳＰＫ及び下面２３側の空間ＳＰ１の少なくとも一部に、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。すなわち、第１部材２１は、射出面１２からの露光光ＥＬの光路Ｋを含む空間ＳＰＫ、及び下面２３の下の空間ＳＰ１の少なくとも一部に、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。第２部材２２は、下面２４側の空間ＳＰ２の少なくとも一部に、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２（第２液浸空間）を形成する。すなわち、第２部材２２は、下面２４の下の空間ＳＰ２の少なくとも一部に、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２（第２液浸空間）を形成する。液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１から離れている。

　本実施形態において、第２部材２２は、液浸空間ＬＳ１から離れて、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２を形成する。第２部材２２は、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体（基板Ｐ等）の上面と接触する第１状態、及び液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触しない第２状態の一方から他方へ変化させることができる。第２状態は、第２部材２２と物体との間に液体ＬＱが存在しない状態を含む。また、本実施形態において、第２部材２２は、移動可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳ２が形成されている状態で移動可能である。

　本実施形態において、空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐの上面との間の空間を含む。空間ＳＰ１は、下面２３と基板Ｐの上面との間の空間を含む。空間ＳＰ２は、下面２４と基板Ｐの上面との間の空間を含む。

　本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される。また、第１部材２１の一部は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。

　本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３の周囲に配置される。また、本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。

　なお、第１部材２１は、環状の部材でなくてもよい。例えば第１部材２１が終端光学素子１３及び光路Ｋの周囲の一部に配置されていてもよい。また、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、第１部材２１が、射出面１２と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子１３の周囲に配置されていなくてもよい。また、第１部材２１が、射出面１２と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面１２と物体との間の光路Ｋの周囲に配置されていなくてもよい。

　終端光学素子１３は、基板Ｐと間で液体ＬＱを保持可能である。基板Ｐが対向する射出面１２は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。また、第１部材２１は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。基板Ｐが対向する下面２３は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳ１は、終端光学素子１３及び第１部材２１と基板Ｐとの間に保持される液体ＬＱによって形成される。一方側の射出面１２及び下面２３と、他方側の基板Ｐの上面との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。

　第１部材２１は、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、空間ＳＰＫに液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。本実施形態において、第１部材２１は、空間ＳＰ１の少なくとも一部に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。

　例えば基板Ｐの露光において、第１部材２１は、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１を形成する。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳ１が形成される。

　本実施形態において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１の少なくとも一部は、下面２３と基板Ｐの上面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。液浸空間ＬＳ１の外側（界面ＬＧ１の外側）は、気体空間である。

　本実施形態において、第１部材２１は、射出面１２が面する孔（開口）２０を有する。射出面１２から射出された露光光ＥＬは、開口２０を通過して基板Ｐに照射可能である。

　第２部材２２は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置される。第１部材２１と第２部材２２とは、異なる部材である。第２部材２２は、第１部材２１から離れている。第２部材２２は、第１部材２１の周囲の一部に配置される。

　第２部材２２は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。基板Ｐが対向する下面２４は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳ２は、第２部材２２と基板Ｐとの間に保持される液体ＬＱによって形成される。一方側の下面２４と、他方側の基板Ｐの上面との間に液体ＬＱが保持されることによって、液浸空間ＬＳ１の周囲の一部に液浸空間ＬＳ２が形成される。

　本実施形態において、第２部材２２は、第１部材２１の周囲の空間において２つ配置されている。本実施形態において、第２部材２２は、Ｙ軸方向に関して第１部材２１の一側（＋Ｙ軸側）及び他側（－Ｙ軸側）に配置される。なお、第２部材２２が、第１部材２１の一側（＋Ｙ軸側）のみに配置されてもよいし、他側（－Ｙ軸側）のみに配置されてもよい。

　本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。なお、液浸空間の大きさとは、液浸空間を形成する液体の体積を含む。また、液浸空間の大きさとは、液浸空間を形成する液体の重量を含む。また、液浸空間の大きさとは、例えば基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）における液浸空間の面積を含む。また、液浸空間の大きさとは、例えば基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）における所定方向（例えばＸ軸方向、又はＹ軸方向）に関する液浸空間の寸法を含む。本実施形態においては、基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）において、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。

　本実施形態において、下面２３の少なくとも一部は、ＸＹ平面とほぼ平行である。また、本実施形態において、下面２４の少なくとも一部は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、下面２３の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。下面２４の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。

　本実施形態において、Ｚ軸方向に関する下面２３の位置（高さ）と下面２４の位置（高さ）とは、異なる。例えば図５に示すように、下面２４が下面２３よりも低い位置に配置されている。すなわち、下面２３と物体の表面との距離が、下面２４と物体の表面との距離よりも大きい。なお、下面２４が下面２３よりも高い位置に配置されてもよい。すなわち、下面２３と物体の表面との距離が、下面２４と物体の表面との距離よりも小さくてもよい。なお、下面２３の高さと下面２４の高さとが、ほぼ等しくてもよい。すなわち、下面２３と物体の表面との距離と、下面２４と物体の表面との距離とが、ほぼ等しくてもよい。

　本実施形態においては、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行なＸＹ平面内において、下面２３の外形は、ほぼ四角形である。なお、図４等に示すように、本実施形態においては、外形が四角形である下面２３の角（頂点）は、丸みを帯びている。本実施形態において、下面２３の角は、光路Ｋに対して＋Ｙ軸側、－Ｙ軸側、＋Ｘ軸側、及び－Ｘ軸側のそれぞれに配置される。

　本実施形態においては、ＸＹ平面内において、下面２４の外形は、実質的に円形である。

本実施形態において、第１部材２１及び第２部材２２は、支持装置２５を介して、ボディ（あるいはフレーム）８に支持される。ボディ８の位置は、実質的に固定されている。支持装置２５は、物体（基板Ｐ等）の上方で、第１部材２１及び第２部材２２を支持する。

　本実施形態において、支持装置２５は、第１部材２１及び第２部材２２が接続される支持部材２６と、支持部材２６とボディ８とを連結する連結部材２７とを含む。本実施形態において、支持部材２６及び連結部材２７の位置は、実質的に固定されている。換言すれば、支持部材２６及び連結部材２７とボディ８との相対位置は、変化しない。

　本実施形態において、支持装置２５は、第１部材２１と支持部材２６とを接続する第１支持機構２８と、第２部材２２と支持部材２６とを接続する第２支持機構２９とを含む。

　本実施形態において、第１支持機構２８は、支持部材２６に対する第１部材２１の位置が変化しないように、第１部材２１を支持する。すなわち、本実施形態において、第１部材２１の位置は、変化しない。

　なお、第１部材２１は、終端光学素子１３の光軸と平行な方向（Ｚ軸方向）、終端光学素子１３の光軸と平行な軸周りの方向（θＺ方向）、終端光学素子１３の光軸に垂直な方向（Ｘ軸方向とＹ軸方向の少なくとも一方）、及び終端光学素子１３の光軸に垂直な軸周りの方向（θＸ方向、θＹ方向の少なくとも一方）のうちの、少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。例えば、第１部材２１が、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能でもよい。また、第１部材２１は、第１支持機構２８によって、能動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第１支持機構２８が、第１部材２１を移動可能なアクチュエータを含む駆動システムを備えてもよい。また、第１部材２１は、第１支持機構２８によって、受動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第１支持機構２８が、ばね部材、ベローズ部材等を含む弾性機構を備えてもよい。

　第２支持機構２９は、第２部材２２を移動可能に支持する。第２支持機構２９は、支持部材２６に対する第２部材２２の位置が変化するように、第２部材２２を支持する。すなわち、本実施形態において、第２部材２２の位置は、変化可能である。換言すれば、第２部材２２と支持部材２６との相対位置は、変化可能である。すなわち、本実施形態において、第２支持機構２９は、終端光学素子１３および第１部材２１に対して第２部材２２を可動に支持する。

　第２部材２２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向の少なくとも一つの方向に移動可能である。

　第２部材２２は、例えばＸＹ平面と平行に移動可能でもよい。また、第２部材２２は、下面２４と対向する基板Ｐ（物体）の上面と実質的に平行に移動可能でもよい。例えば、基板Ｐ等の物体の上面がＸＹ平面と平行な場合、第２部材２２は、ＸＹ平面と平行に移動可能でもよい。また、物体の上面がＸＹ平面に対して傾斜している場合、第２部材２２は、その物体の上面と平行に移動可能でもよい。

　また、本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸に垂直な面と実質的に平行に移動可能でもよい。例えば、終端光学素子１３の光軸がＺ軸と平行な場合、第２部材２２は、光軸に垂直なＸＹ平面と実質的に平行に移動可能でもよい。

　また、本実施形態において、第２部材２２は、下面２４が対向する物体の上面に接近するように、又は物体の上面から離れるように移動可能でもよい。

　また、本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸と実質的に平行に移動可能でもよい。例えば、終端光学素子１３の光軸がＺ軸と平行な場合、第２部材２２は、Ｚ軸と実質的に平行に移動可能でもよい。

　また、本実施形態において、第２部材２２は、下面２４が対向する物体の上面に対して傾斜可能でもよい。また、第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸と垂直な面に対して傾斜可能でもよい。

　本実施形態において、第２部材２２は、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の３つの方向に移動可能である。なお、第２部材２２がＺ軸方向に動かなくてもよいし、Ｘ軸方向とＹ軸方向のどちらか一方に動かなくてもよいし、第２部材２２が可動でなくてもよい。

　本実施形態において、第２部材２２は、第２支持機構２９によって、能動的に移動可能に支持されている。本実施形態において、第２支持機構２９は、第２部材２２を移動可能なアクチュエータを含む駆動システム３０を備えている。駆動システム３０は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の３つの方向に移動可能である。なお、駆動システム３０が、第２部材２２の移動に伴う反動（反力）を相殺するカウンターマスを含んでもよいし、反動（反力）を露光装置ＥＸが設置されている床に逃がすようにしてもよい。

　本実施形態において、第１部材２１は、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３１、３２と、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３３とを備えている。

　供給口３１は、光路Ｋに面するように配置される。供給口３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３１は、液体供給装置からの液体ＬＱを射出面１２側（空間ＳＰＫ）に供給する。

　供給口３２は、下面２３が対向する物体と対向するように配置される。供給口３２は、第１部材２１の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３２は、液体供給装置からの液体ＬＱを下面２３側（空間ＳＰ１）に供給する。なお、供給口３２を設けなくてもよい。

　回収口３３は、下面２３が対向する物体と対向するように配置される。回収口３３は、第１部材２１の内部に形成された回収流路を介して、液体ＬＱを回収（吸引）可能な液体回収装置と接続される。回収口３３は、空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収（吸引）する。

　本実施形態において、第１部材２１は、多孔部材３４を備える。多孔部材３４は、空間ＳＰ１に面するように配置される。多孔部材３４は、液体ＬＱが流通可能な複数の孔(openingsあるいはpores)を有する。多孔部材３４は、例えばメッシュフィルタを含む。メッシュフィルタは、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材である。

　本実施形態において、多孔部材３４は、プレート状の部材である。多孔部材３４は、空間ＳＰ１に面する下面３４Ｂと、第１部材２１に形成された回収流路に面する上面３４Ａと、上面３４Ａと下面３４Ｂとを結ぶように形成された複数の孔とを有する。本実施形態において、回収口３３は、多孔部材３４の孔を含む。多孔部材３４の孔（回収口３３）を介して回収された液体ＬＱは、回収流路を流れる。

　本実施形態においては、多孔部材３４を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材３４の孔を通過して回収流路に流入し、気体は通過しないように、多孔部材３４の下面３４Ｂ側の圧力（空間ＳＰ１の圧力）と上面３４Ａ側の圧力（回収流路の圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号等に開示されている。

　なお、多孔部材３４を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。また、多孔部材２３を設けなくてもよい。

　本実施形態においては、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３３からの液体ＬＱの回収が行われることによって、一方側の終端光学素子１３及び第１部材２１と、他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳ１が形成される。また、本実施形態においては、供給口３１からの液体ＬＱの供給と、回収口３３からの液体ＬＱの回収と、供給口３２からの液体ＬＱの供給とが並行して行われる。本実施形態において、液浸空間ＬＳ１は、供給口３１から供給された液体ＬＱによって形成される。また、本実施形態において、液浸空間ＬＳ１は、供給口３２から供給された液体ＬＱによって形成される。

　本実施形態において、第１部材２１の下面２３は、開口２０の周囲に配置され、液体ＬＱを回収しない下面２３Ｂと、下面２３Ｂの周囲に配置され、液体ＬＱを回収可能な多孔部材３４の下面３４Ｂとを含む。液体ＬＱは、下面２３Ｂを通過することができない。下面２３Ｂは、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。

　本実施形態において、第２部材２２は、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３５と、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３６とを備えている。

　本実施形態において、供給口３５は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能である。供給口３５は、空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面２４の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、供給口３５は、空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給可能である。

　本実施形態において、回収口３６は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能である。回収口３６は、空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面２４の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、回収口３６は、空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収可能である。また、回収口３６は、空間ＳＰ２の気体を回収可能である。本実施形態において、回収口３６は、液体ＬＱを、気体とともに回収する。

　本実施形態において、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１の外側に配置される。本実施形態において、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１と供給口３５との間に配置される。

　本実施形態において、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１に対して供給口３５の外側に配置される。本実施形態においては、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口３６の少なくとも一部は、供給口３５の外側に配置される。

　本実施形態においては、回収口３６は、供給口３５を囲むように配置される。

　なお、回収口３６は、供給口３５の周囲に複数配置されてもよい。すなわち、複数の回収口３６が、供給口３５の周囲において離散的に配置されてもよい。

　供給口３５は、第２部材２２の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３５は、液体供給装置からの液体ＬＱを、空間ＳＰ２に供給する。

　空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）の少なくとも一部は、回収口３６から回収される。また、第２部材２２の回収口３６は、第１部材２１と物体との間の空間ＳＰ１からの液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ１から離れた液体ＬＱ）を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに回収可能である。

　回収口３６は、第２部材２２の内部に形成された回収流路を介して、液体ＬＱを回収（吸引）可能な液体回収装置と接続される。また、回収口３６は、空間ＳＰ２の気体も回収可能である。

　供給口３５から液体ＬＱが供給されることによって、一方側の第２部材２２と、他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳ２が形成される。すなわち、本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、供給口３５から供給された液体ＬＱによって形成される。本実施形態においては、供給口３５からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３６からの液体ＬＱの回収が行われることによって、液浸空間ＬＳ２が形成される。

　なお、図６に示すように、第１部材２１の外側のエッジに、液体ＬＱを回収（吸引）可能な回収口（吸引口）５００が配置されてもよい。第１部材２１の外側のエッジは、露光光ＥＬの光路に対して回収口３６（多孔部材３４）の外側の領域（部位）を含む。図６において、吸引口５００は、露光光ＥＬの光路に対して回収口３６（多孔部材３４）の外側に配置される。本実施形態において、第１部材２１の外側のエッジは、多孔部材（ポーラス部材）５０１によって形成されている。また、第１部材２１の側面（外側面）も、多孔部材５０１によって形成される。回収口５００は、多孔部材５０１の孔を含む。回収口５００は、真空システムに接続される。第１部材２１の外側のエッジ（多孔部材５０１）に接触した液体ＬＱは、その多孔部材５０１の孔（回収口５００）を介して回収される。なお、第１部材２１の外側のエッジは、多孔部材５０１によって形成されなくてもよい。第１部材２１の外側のエッジに回収口５００が配置されることによって、露光光ＥＬの光路に対して多孔部材３４の外側に流れた液体ＬＱを、回収口５００から回収することができる。

　なお、回収口５００は、真空システムに接続されなくてもよい。第１部材２１の外側のエッジが多孔部材５０１によって形成されることによって、露光光ＥＬの光路に対して多孔部材３４の外側に流れた液体ＬＱは、多孔部材５０１によって吸収される。

　第１部材２１の外側のエッジに回収口５００（多孔部材５０１）を配置することによって、その第１部材２１の外側のエッジと物体（基板Ｐなど）との間に液体ＬＱが留まる現象（所謂、ブリッジ現象）の発生が抑制される。また、第１部材２１の側面（外側面）からも液体ＬＱを回収（吸引、吸収）することができる。

　また、図６に示すように、第２部材２２の内側のエッジに、液体ＬＱを回収（吸引）可能な回収口（吸引口）６００を設けてもよいし、第２部材２２の内側のエッジを、多孔部材６０１によって形成してもよい。また、図６に示すように、第２部材２２の外側のエッジに、液体ＬＱを回収（吸引）可能な回収口（吸引口）７００を設けてもよいし、第２部材２２の外側のエッジを、多孔部材７０１によって形成してもよい。第２部材２２の内側面は、多孔部材６０１によって形成される。第２部材２２の外側面は、多孔部材７０１によって形成される。これにより、第２部材２２の内側のエッジと物体（基板Ｐなど）との間、あるいは第２部材２２の外側のエッジと物体（基板Ｐなど）との間に液体ＬＱが留まる現象（所謂、ブリッジ現象）の発生が抑制される。また、第２部材２２の側面（内側面、外側面）からも液体ＬＱを回収（吸引、吸収）することができる。

　図７は、第１部材２１、第２部材２２、液浸空間ＬＳ１の一部、及び液浸空間ＬＳ２を下方から見た模式図である。

　本実施形態において、第１部材２１の＋Ｙ軸側の第２部材２２と－Ｙ軸側の第２部材２２とは、実質的に同じ構造である。以下の説明においては、主に、第１部材２１の＋Ｙ軸側の第２部材２２、及び液浸空間ＬＳ２について説明する。

　本実施形態において、液浸部材５は、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、光路Ｋの周囲の一部の空間である誘導空間Ａに誘導する誘導部４０を備えている。液浸空間ＬＳ２は、誘導空間Ａに隣接して形成される。

　本実施形態において、誘導空間Ａは、第１部材２１の下面２３と下面２３と対向する物体（基板Ｐなど）の上面との間の空間ＳＰ１のうちの一部の空間（部分）を含む。本実施形態において、誘導空間Ａは、第１部材２１の周縁部（下面２３の周縁部）の一部と基板Ｐとの間の空間を含む。

　本実施形態において、誘導空間Ａは、液浸空間ＬＳ２と光路Ｋとの間に規定される。本実施形態において、第２部材２２の少なくとも一部が誘導空間Ａに隣接して配置される。第２部材２２は、光路Ｋに対して誘導空間Ａの外側において、誘導空間Ａに隣接するように、誘導空間Ａの近傍に配置される。誘導空間Ａは、例えば光路Ｋと液浸空間ＬＳ２（第２部材２２）とを結ぶ仮想線を含むように形成される。

　なお、誘導空間Ａが、下面２３の周縁部の一部と基板Ｐ（物体）との間の空間でなくてもよい。例えば、誘導空間Ａが、下面２３の周縁部の内側の領域の一部と基板Ｐ（物体）との間の空間でもよい。例えば、誘導空間Ａが、下面２３の中央部の一部と基板Ｐ（物体）との間の空間でもよい。また、誘導空間Ａが、下面２３と基板Ｐ（物体）との間の空間ＳＰ１の外側の空間を含んでもよい。例えば、誘導空間Ａが、第２部材２２の下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間ＳＰ２の少なくとも一部を含んでもよい。また、誘導空間Ａが、第１部材２１の外側面と第２部材２２の内側面との間隙の下方の空間を含んでもよい。

　本実施形態において、誘導部４０の少なくとも一部は、第１部材２１に配置される。本実施形態において、誘導部４０の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向可能な第１部材２１の下面２３に配置される。誘導部４０は、下面２３と基板Ｐ（物体）との間の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、誘導空間Ａに誘導することができる。

　本実施形態において、誘導部４０は、例えば第１部材２１のエッジを含む。第１部材２１のエッジは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、誘導空間Ａに誘導可能である。

　液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１部材２１のエッジに誘導されて、誘導空間Ａに向かって流れる。

　また、本実施形態において、誘導部４０は、例えば多孔部材３４の下面３４Ｂの少なくとも一部を含む。下面３４Ｂは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、誘導空間Ａに誘導可能である。

　液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、多孔部材３４の下面３４Ｂに誘導されて、誘導空間Ａに向かって流れる。

　また、本実施形態において、誘導部４０は、例えば下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界を含む。本実施形態において、下面３４Ｂの状態（表面状態）と、下面２３Ｂの状態（表面状態）とは異なる。下面３４Ｂは、多孔部材３４の孔の下端の周囲に配置される。下面３４Ｂは、凹凸を有する。なお、液体ＬＱに対する接触角が、下面３４Ｂと下面２３Ｂとで異なってもよい。

　下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界は、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、誘導空間Ａに誘導可能である。なお、下面３４Ｂと下面２３Ｂの高さが異なっていてもよい。すなわち、下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界が段差を含んでもよい。

　液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界に誘導されて、誘導空間Ａに向かって流れる。

　本実施形態において、下面２３のエッジの少なくとも一部は、誘導空間Ａに向かって線状に延びる。

　また、本実施形態において、多孔部材３４の下面３４Ｂの少なくとも一部は、誘導空間Ａに向かって帯状に延びる。

　また、本実施形態において、下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界の少なくとも一部は、誘導空間Ａに向かって線状に延びる。

　本実施形態において、下面２３のエッジの一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、空間ＳＰ２を通る軸Ｊの＋Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。また、下面２３のエッジの一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、空間ＳＰ２を通る軸Ｊの－Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。

　軸Ｊとは、空間ＳＰ２を通る仮想軸（仮想線）を含む。空間ＳＰ２を通る軸Ｊは、液浸空間ＬＳ２を通る。軸Ｊは、ＸＹ平面内において、光路Ｋと空間ＳＰ２（液浸空間ＬＳ２）とを結ぶ。軸Ｊは、例えば光路Ｋと、Ｘ軸方向に関する空間ＳＰ２（液浸空間ＬＳ２）の中心とを結ぶ。本実施形態において、軸Ｊは、開口２０の中心を通り、Ｙ軸とほぼ平行である。

　本実施形態において、下面３４Ｂの一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、軸Ｊの＋Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。下面３４Ｂの一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、軸Ｊの－Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。

　本実施形態において、下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界の一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、軸Ｊの＋Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。また、下面３４Ｂと下面２３Ｂとの境界の一部分は、基板Ｐ（物体）の上面とほぼ平行な面内（ＸＹ平面内）において、軸Ｊの－Ｘ軸側から誘導空間Ａに向かって延びるように配置される。

　本実施形態において、軸Ｊは、供給口３５を通る。また、本実施形態において、軸Ｊは、回収口３６を通る。

　本実施形態において、第２部材２２は、誘導部４０を経て空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの少なくとも一部を、液浸空間ＬＳ２で捕捉する。

　なお、誘導部４０は、第１部材２１に配置されていなくてもよい。例えば、誘導部４０が、第１部材２１の外側に配置され、液浸空間ＬＳ１の少なくとも一部に気体を供給する給気部を含んでもよい。給気部から供給された気体によって、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、誘導空間Ａに誘導される。

　次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。

　露光前の基板Ｐを第１保持部１６に搬入（ロード）するために、制御装置６は、基板ステージ２を、液浸部材５から離れた基板交換位置に移動する。なお、例えば露光後の基板Ｐが第１保持部１６に保持されている場合、その露光後の基板Ｐが第１保持部１６から搬出（アンロード）する処理が行われた後、露光前の基板Ｐを第１保持部１６に搬入（ロード）する処理が行われる。

　基板交換位置は、基板Ｐの交換処理が実行可能な位置である。基板Ｐの交換処理は、搬送装置を用いて、第１保持部１６に保持された露光後の基板Ｐを第１保持部１６から搬出（アンロード）する処理、及び第１保持部１６に露光前の基板Ｐを搬入（ロード）する処理の少なくとも一方を含む。制御装置６は、液浸部材５から離れた基板交換位置に基板ステージ２を移動して、基板Ｐの交換処理を行う。

　基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が、終端光学素子１３の射出面１２及び液浸部材５の下面２３、２４と対向するように配置される。射出面１２及び下面２３、２４と対向するように計測ステージ３が配置された状態で、射出面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１が形成される。供給口３１，３２からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３３からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液浸空間ＬＳ１が形成される。

　また、制御装置６は、第２部材２２で、液浸空間ＬＳ１の周囲の一部に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２を形成する。制御装置６は、供給口３５からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３６からの液体ＬＱの回収を行って、液浸空間ＬＳ２を形成する。

　また、基板ステージ２が液浸部材５から離れた期間の少なくとも一部において、必要に応じて、計測ステージ３に搭載されている計測部材（計測器）Ｃを用いる計測処理が行われる。計測部材（計測器）Ｃを用いる計測処理を行うとき、制御装置６は、終端光学素子１３と計測部材Ｃとの間の光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１を形成する。制御装置６は、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して計測部材Ｃに露光光ＥＬを照射して、計測部材Ｃを用いる計測処理を行う。その計測処理の結果は、基板Ｐの露光処理に反映される。

　露光前の基板Ｐが第１保持部１６にロードされ、計測部材（計測器）Ｃを用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、射出面１２及び下面２３，２４と対向する位置から計測ステージ３を退かし、射出面１２及び下面２３、２４と対向する位置に基板Ｐを保持した基板ステージ２を移動する。本実施形態においては、例えば米国特許出願公開第２００６／００２３１８６号、及び米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号等に開示されているように、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５（第１部材２１）と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１が形成され続けるように、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方とを対向させつつ、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３をＸＹ平面内において移動させる。なお、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５（第２部材２２）と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２が形成され続けるように、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方とを対向させつつ、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２及び計測ステージ３をＸＹ平面内において移動させてもよい。これにより、液体ＬＱの漏出が抑制されつつ、液浸空間ＬＳ１が、終端光学素子１３及び液浸部材５と計測ステージ３との間に形成される状態から、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２との間に形成される状態へ変化する。また、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１が、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２との間に形成される状態から、終端光学素子１３及び液浸部材５と計測ステージ３との間に形成される状態へ変化させることもできる。

　以下の説明において、基板ステージ２の上面と計測ステージ３の上面とを接近又は接触させた状態で、終端光学素子１３及び液浸部材５に対して、基板ステージ２と計測ステージ３とをＸＹ平面内において同期移動させる動作を適宜、スクラム移動動作、と称する。

　スクラム移動動作により、基板Ｐを保持した基板ステージ２が、終端光学素子１３の射出面１２及び液浸部材５の下面２３、２４と対向するように配置される。制御装置６は、射出面１２及び下面２３、２４と対向するように基板Ｐ（基板ステージ２）が配置された状態で、射出面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。供給口３１，３２からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３３からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路空間ＳＰＫ及び第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液浸空間ＬＳ１が形成される。また、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１の周囲の少なくとも一部に液浸空間ＬＳ２を形成する。供給口３５からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３６からの液体ＬＱの回収が行われることによって、第２空間ＳＰ２の少なくとも一部に液浸空間ＬＳ２が形成される。

　制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。

　本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。

　図８は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置されている。制御装置６は、第１保持部１６に保持されている基板Ｐの複数のショット領域Ｓを液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで順次露光する。

　例えば基板Ｐの第１ショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、基板Ｐ（第１ショット領域Ｓ）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとを介して第１ショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１ショット領域Ｓに投影され、その第１ショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。第１ショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次の第２ショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＸ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、第２ショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、第２ショット領域Ｓ２の露光を開始する。

　制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域を順次露光する。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向の等速移動である。またステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向の加減速移動、及びＸ軸方向の加減速移動を含む。

　以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光後、次のショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓが順次露光される。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向の等速移動である。またステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向の加減速移動、及びＸ軸方向の加減速移動を含む。

　本実施形態においては、スキャン移動動作中においても、液浸空間ＬＳ１の周囲の一部に液浸空間ＬＳ２が形成され続ける。また、本実施形態においては、ステップ移動動作中においても、液浸空間ＬＳ１の周囲の一部に液浸空間ＬＳ２が形成され続ける。

　なお、以下の説明においては、スキャン移動動作及びステップ移動動作において、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が基板Ｐ上に形成されることとするが、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２の少なくとも一部が基板ステージ２（包囲部材Ｔ）上に形成される可能性がある。

　制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。制御装置６は、その記憶装置７に記憶されている露光条件に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、基板Ｐ（物体）の移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及び光路Ｋ（液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２）に対するＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。

　本実施形態において、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図８中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して基板Ｐの複数のショット領域Ｓを露光光ＥＬで順次露光する。

　以下、上述の処理が繰り返され、複数の基板Ｐが順次露光される。

　上述のように、本実施形態においては、液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの少なくとも一部を誘導空間Ａに誘導する誘導部４０が設けられている。したがって、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で基板Ｐ等の物体が軸Ｊと平行なＹ軸方向に関して移動する場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、誘導空間Ａに誘導される。

　例えば図７に示したように、物体が＋Ｙ軸方向へ移動する場合、その物体の移動により、液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１において流動する。＋Ｙ軸方向への物体の移動により流動する液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの少なくとも一部は、誘導部４０によって、例えば矢印Ｒ１、Ｒ２で示す方向に流動し、液浸空間ＬＳ２に隣接する誘導空間Ａに誘導される。

　なお、誘導部４０は、物体が＋Ｙ軸方向とは異なる方向へ移動した場合でも、液体ＬＱを誘導空間Ａに誘導可能である。すなわち、物体が＋Ｙ軸方向の成分を含む方向に移動する場合において、誘導部４０は、液体ＬＱを誘導空間Ａに誘導することができる。例えば、物体が＋Ｙ軸方向へ移動しつつ＋Ｘ軸方向へ移動する場合、誘導部４０は、液体ＬＱを誘導空間Ａに誘導することができる。また、物体が＋Ｙ軸方向へ移動しつつ－Ｘ軸方向へ移動する場合、誘導部４０は、液体ＬＱを誘導空間Ａに誘導することができる。このように、誘導部４０は、＋Ｙ軸方向への移動を含む物体の移動により流動する液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの少なくとも一部を、誘導空間Ａに誘導することができる。

　同様に、物体が－Ｙ軸方向に移動する場合、あるいは－Ｙ軸方向の成分を含む方向に移動する場合、誘導部４０は、液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの少なくとも一部を、第１部材２１の－Ｙ軸側の液浸空間ＬＳ２に隣接する誘導空間Ａに誘導することができる。

　露光装置ＥＸの所定動作において、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で物体が所定の移動条件で移動した場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１の外側に流出してしまう可能性がある。

　例えば、露光装置ＥＸのスクラム移動動作において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１の外側に流出してしまう可能性がある。

　また、例えば、露光装置ＥＸのスキャン移動動作において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１の外側に流出してしまう可能性がある。

　また、露光装置ＥＸのステップ移動動作において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１の外側に流出してしまう可能性がある。

　例えば、スクラム移動動作、スキャン移動動作、及びステップ移動動作の少なくとも一つの所定動作において、物体が、第１部材２１と物体との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を維持可能な所定の許容条件を満たさない条件の下でＹ軸方向に移動する可能性がある。

　例えば、所定動作において、物体が、第１部材２１と物体との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を維持可能な所定の許容距離よりも長い距離をＹ軸方向に移動する可能性がある。

　また、所定動作において、物体が、第１部材２１と物体との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を維持可能な所定の許容速度よりも速い速度でＹ軸方向に移動する可能性がある。

　図９は、基板Ｐ等の物体が、第１部材２１と物体との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を維持可能な所定の許容条件を満たさない条件の下でＹ軸方向に移動している状態の一例を模式的に示す図である。

図９に示すように、例えば物体が許容条件を満たさない条件の下でＹ軸方向に移動した場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。

　本実施形態においては、物体が＋Ｙ軸方向に移動した場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱは、誘導部４０によって誘導空間Ａに誘導される。したがって、物体が許容条件を満たさない条件の下で＋Ｙ軸方向に移動した場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱは、誘導空間Ａに集められた後、その誘導空間Ａから空間ＳＰ１の外側に流出する可能性が高い。すなわち、空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、誘導空間Ａを経て、空間ＳＰ１から流出する可能性が高い。換言すれば、物体が＋Ｙ軸方向に移動した場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱは、誘導空間Ａに集められた後、誘導空間Ａの＋Ｙ軸側に流出する可能性が高い。

　本実施形態においては、誘導空間Ａに隣接するように、第２部材２２によって液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２が形成される。本実施形態においては、第２部材２２は、露光装置ＥＸの所定動作において物体が移動するＹ軸方向に関して第１部材２１に隣接して配置されている。

　本実施形態における制御装置６は、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態において、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触する第１状態にする。例えば、制御装置６は、物体の移動条件などに基づいて、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を第１状態にする。また、制御装置６は、基板Ｐ等の物体が移動中に、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を第１状態にする。

　例えば図９に示すように、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、物体が＋Ｙ軸方向に移動中、制御装置６は、少なくとも第１部材２１に対して＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触する第１状態にする。制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、第１部材２１に対して＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２を第１状態にする。液浸空間ＬＳ２は、誘導空間Ａの＋Ｙ軸側において、誘導空間Ａに隣接するように形成される。

　誘導空間Ａを経て空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２に向かって移動する。これにより、空間ＳＰ１の外側に流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２によって捕捉され、空間ＳＰ２の外側への流出が抑制される。

　すなわち、本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、回収口３３で回収しきれずに、空間ＳＰ１から漏洩した液体ＬＱの流出を止める。例えば、空間ＳＰ１の外側に流出した液体ＬＱは、空間ＳＰ２において液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱと一体となる。また、空間ＳＰ１の外側に流出した液体ＬＱは、例えば第１部材２１と供給口３５との間の回収口３６から回収される。回収口３６は、空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱを、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに回収する。

　本実施形態においては、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。そのため、物体が、空間ＳＰ１に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を維持可能な所定の許容条件を満たさない条件の下でＹ軸方向に移動した場合でも、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが空間ＳＰ２から流出することが抑制される。

　また、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態において、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触しない、あるいは第２部材２２と物体との間に液体ＬＱが存在しない第２状態にする。例えば、制御装置６は、物体の移動条件などに基づいて、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を第２状態にする。また、制御装置６は、基板Ｐ等の物体が移動中に、複数の第２部材２２のうち、少なくとも一つの第２部材２２を、第２状態にする。

　例えば図１０に示すように、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、物体が＋Ｙ軸方向に移動中、制御装置６は、少なくとも第１部材２１に対して－Ｙ軸側に配置されている第２部材２２を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触しない、あるいは第２部材２２と物体との間に液体ＬＱが存在しない第２状態にする。換言すれば、制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉に寄与しない第２部材２２を、第２状態にする。

　また、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で物体が－Ｙ軸方向に移動する場合、制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、第１部材２１に対して－Ｙ軸側に配置されている第２部材２２について、第２状態から第１状態に変化させる。また、制御装置６は、第１部材２１に対して＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２について、第１状態から第２状態に変化させる。

　図９及び図１０で説明したように、制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉に寄与する第２部材２２を第１状態にし、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉に寄与しない第２部材２２を第２状態にする。

　制御装置６は、例えば供給口３５からの液体ＬＱの供給量を調整することによって、第１状態及び第２状態の一方から他方へ変化させることができる。また、制御装置６は、回収口３６からの液体ＬＱの回収量（回収圧力）を調整することによって、第１状態及び第２状態の一方から他方へ変化させることができる。例えば、第１部材２１に対して＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２を第１状態から第２状態へ変化させるために、制御装置６は、その第２部材２２に配置されている供給口３５からの液体ＬＱの供給量を低減したり、供給口３５からの液体ＬＱの供給を停止したりしてもよい。また、その第２部材２２を第１状態から第２状態へ変化させるために、制御装置６は、その第２部材２２に配置されている回収口３６からの液体ＬＱの回収量を増大させてもよい。また、その第２部材２２を第２状態から第１状態へ変化させるために、制御装置６は、その第２部材２２に配置されている供給口３５からの液体ＬＱの供給量を増大させてもよい。また、その第２部材２２を第２状態から第１状態へ変化させるために、制御装置６は、その第２部材２２に配置されている回収口３６からの液体ＬＱの回収量を低減させてもよい。第１部材２１に対して－Ｙ軸側に配置されている第２部材２２をも同様である。

　また、本実施形態においては、第２部材２２は、Ｚ軸方向に可動なので、第１状態における第２部材２２の下面２４と物体の上面との間隙を、第２状態における第２部材２２の下面２４と物体の上面との間隙よりも小さくしてもよい。制御装置６は、駆動システム３０を制御して、第２部材２２を終端光学素子１３の光軸と平行な方向に移動して、第２部材２２の下面２４と物体の上面との間隙を変化させることによって、第１状態及び第２状態の一方から他方へ変化させることができる。例えば、第１状態から第２状態から変化させるために、図１１に示すように、制御装置６は、第２部材２２を＋Ｚ軸方向に移動して、第２部材２２の下面２４と物体の上面との間隙を大きくしてもよい。また、第２状態から第１状態から変化させるために、制御装置６は、第２部材２２を－Ｚ軸方向に移動して、第２部材２２の下面２４と物体の上面との間隙を小さくしてもよい。

　上述したように、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さいため、物体が移動しても、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが空間ＳＰ２から流出することが抑制される。本実施形態によれば、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉に寄与しない第２部材２２を、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触しない、あるいは第２部材２２と物体との間に液体ＬＱが存在しない第２状態にすることによって、その第２部材２２と物体との間の空間ＳＰ２からの液体ＬＱの流出がより一層抑制される。

　なお、第１状態の第２部材２２は、第１部材２１の周囲の少なくとも一部において、対向する物体（基板Ｐ等）に追従するように移動してもよい。また、第２部材２２は、対向する物体（基板Ｐ等）との相対移動が小さくなるように移動してもよい。相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、物体（基板Ｐ等）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。また、例えば、第２部材２２は、物体（基板Ｐ等）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。

　なお、例えば図１２に示すように、制御装置６は、物体の所定部位が下面２４に対向するとき、下面２４の直下を所定部位が通過するときの少なくとも一方において、第１状態から第２状態へ変化させてもよい。制御装置６は、その物体の所定部位が、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱと接触しないように、第１状態から第２状態へ変化させてもよい。

　所定部位は、例えば物体の間隙Ｇを含む。物体の間隙Ｇは、例えば図８に示したように、第１保持部１６に保持された基板Ｐと、その基板Ｐの周囲の少なくとも一部に配置されるカバー部材Ｔ１との間の間隙Ｇ１、カバー部材Ｔ１と、そのカバー部材Ｔ１の周囲の少なくとも一部に配置されるスケール部材Ｔ２との間の間隙Ｇ２、及び、スクラム移動動作における基板ステージ２と、その基板ステージ２に接近するように配置される計測ステージ３との間の間隙、の少なくとも一つを含む。

　なお、所定部位が、例えばスケール部材Ｔでもよい。また、例えば図１３に示すように、基板ステージ２Ｐが、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬを計測するセンサ４９を有する場合、所定部位が、センサ４９を含んでもよい。

　物体の所定部位が下面２４に対向するとき、及び/又は所定部位が下面２４の直下を通過するときに、第１状態から第２状態へ変化させることによって、その所定部位に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱが空間ＳＰ２から流出したりすることが抑制される。

　なお、液浸空間ＬＳ２が所定部位上に形成される回数が減るように、第２部材２２を第１状態から第２状態に変化させるだけでもよい。例えば、第１部材２１の＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２の直下を間隙Ｇ１があるタイミングで通過するときは、その第２部材２２を第１状態から第２状態に変化させて、第１部材２１の＋Ｙ軸側に配置されている第２部材２２の直下を間隙Ｇ１が別のタイミングで通過するときは、その第２部材２２を第１状態から第２状態に変化させなくてもよい。

　なお、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉の寄与に基づいて第２部材２２を第１状態と第２状態の一方から他方へ変化させることと、所定部位上に液浸空間ＬＳ２が形成されないように第２部材２２を第１状態から第２状態へ変化させることとの両方を行ってもよいが、どちらか一方を行うだけでもよい。

　なお、＋Ｙ軸側に配置された第２部材２２と－Ｙ軸側に配置された第２部材２２との両方が第１状態となっていてもよいし、その両方が第２状態なっていてもよい。例えば、＋Ｙ軸側に配置された第２部材２２と－Ｙ軸側に配置された第２部材２２との両方を第１状態にしておき、所定部位上に液浸空間ＬＳ２が形成される可能性がある場合だけ、第２部材２２の少なくとも一方を第１状態から第２状態へ変化させてもよい。

　以上説明したように、本実施形態においては、液浸空間ＬＳ１の周囲の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが物体の上面と接触する第１状態、及び液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱが物体の上面と接触しない、あるいは第２部材２２と物体との間に液体ＬＱが存在しない第２状態の一方から他方へ変化させるようにしたので、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉することができる。また、空間ＳＰ２から液体ＬＱが流出することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。

　なお、上述の実施形態においては、第２部材２２が第１部材２１の＋Ｙ軸側及び－Ｙ軸側の少なくとも一方に配置されることとしたが、例えば図１４に示すように、第１部材２１の＋Ｘ軸側及び－Ｘ軸側に配置されてもよい。また、図１４に示すように、第２部材２２が第１部材２１の＋Ｘ軸側及び－Ｘ軸側に配置されている場合に、＋Ｙ軸側及び－Ｙ軸側の第２部材２２を設けなくてもよい。また、図１５に示すように、複数の第２部材２２が、第１部材２１囲むように配置されてもよい。また、制御装置６は、それら複数の第２部材２２のそれぞれを、異なるタイミングで第１状態及び第２状態の一方から他方へ変化させてもよい。例えば、第１部材２１の周囲の第１位置に配置された第２部材２２における第１状態及び第２状態の一方から他方への変化と、第１部材２１の周囲の第１位置とは異なる第２位置に配置された第２部材２２における第１状態及び第２状態の一方から他方への変化とが異なってもよい。例えば、第１位置に配置された第２部材２２において第１状態から第２状態へ変化するとき、第２位置に配置された第２部材２２において第２状態から第１状態へ変化してもよい。また、例えば、第１位置に配置された第２部材２２において第１状態から第２状態へ変化した時点から所定時間経過後、第２位置に配置された第２部材２２において第１状態から第２状態へ変化してもよい。

　また、図１５のように第１部材２１の周囲に複数の第２部材２２を配置した場合にも、すべての第２部材２２が第１状態になってもよいし、すべての第２部材２２が第２状態になってもよい。

　また、図１５に示す例では、すべての第２部材２２が第１状態のときに、各液浸空間ＬＳ２が互いに接触しないように複数の第２部材２２が配置されている。しかし、すべての第２部材２２が第１状態のときに、隣り合う２つの第２部材２２が形成する２つの液浸空間ＬＳ２が接触してもよい。この場合、すべての第２部材２２が第１状態のときに、すべての隣り合う液浸空間ＬＳ２が接触してもよいし、一部の隣り合う液浸空間ＬＳ２だけが接触してもよい。

　図１５に示す例においても、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱの捕捉に寄与しない第２部材２２を第１状態から第２状態へ変化させることと、所定部位上に液浸空間ＬＳ２が形成されないように第２部材２２を第１状態から第２状態へ変化させることの両方を行ってもよいが、どちらか一方を行うだけでもよい。

　また、図１５に示す例において、制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出する位置及び方向の少なくとも一方に関する情報に基づいて、一部の第２部材２２を第２状態から第１状態へ変化させたり、他の一部の第２部材２２を第１状態から第２状態に変化させたりすることができる。物体の移動条件などに基づく液体ＬＱの流出位置（流出方向）に関する情報は、例えば予備実験、及び／又はシミュレーションにより求めることができる。なお、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを捕捉（回収）するために最適な位置に第２部材２２をＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２を移動した後に、その第２部材２２を第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２を第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２を移動してもよい。

　また、対向する基板Ｐなどの物体上に残留している液体ＬＱの滴を回収するために、その液体ＬＱの滴が直下を通過する第２部材２２を第２状態から第１状態に変更してもよい。例えば、図１６に示すように、基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動しているときに、液浸空間ＬＳ１から分離して、基板Ｐ上に残留している液体ＬＱの滴が、第１部材２１の－Ｘ軸側に配置されている第２部材２２の直下を通過する場合に、その－Ｘ軸側に配置されている第２部材２２を第２状態から第１状態にして、第２液浸空間ＬＳ２で基板Ｐ上の液体ＬＱを捕捉（除去）するようにしてもよい。制御装置６は、基板Ｐなどの物体の移動条件などから推測される、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの位置情報に基づいて、一部の第２部材２２を第２状態から第１状態へ変化させる。物体の移動条件などに基づく物体上に残留する液体ＬＱの位置情報は、例えば予備実験又はシミュレーションにより求めることができる。この場合も、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの捕捉（除去）に最適な位置に第２部材２２をＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２を移動した後に、その第２部材２２を第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２を第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２を移動してもよい。

＜第２実施形態＞
　次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

　図１７は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄの一例を示す図、図１８は、液浸部材５Ｄを下側から見た図である。

　図１７及び図１８において、液浸部材５Ｄは、液浸空間ＬＳ１を形成するための第１部材２１Ｄと、液浸空間ＬＳ２を形成するための第２部材２２Ｄとを有する。本実施形態において、第１部材２１Ｄは、実質的に誘導部を有しない。第１部材２１Ｄは、物体（基板Ｐ等）と対向する供給口を有しないが、有してもよい。第２部材２２Ｄは、上述の実施形態で説明した第２部材２２と同様の構成である。本実施形態において、第２部材２２Ｄは、第１部材２１Ｄの周囲に複数配置される。

　以下、図１９～図２１の模式図を参照して、液浸部材５Ｄに関する動作の一例について説明する。本実施形態において、制御装置６は、複数の第２部材２２Ｄのそれぞれを、第１状態及び第２状態の一方から他方へ変化させることができる。制御装置６は、すべての第２部材２２Ｄを同時に第１状態にすることができるし、すべての第２部材２２Ｄを同時に第２状態にすることもできる。本実施形態においては、制御装置６は、液浸空間ＬＳ２による液体ＬＱの捕捉（回収）を行う必要がない場合には、すべての第２部材２２Ｄを第２状態にする。

　図１９は、物体（基板Ｐ等）が静止している状態の一例を示す。物体が静止している場合、空間ＳＰ１から液体ＬＱは流出しない。制御装置６は、複数の第２部材２２のそれぞれを第２状態にする。

　図２０は、物体が＋Ｘ軸方向に移動しつつ＋Ｙ軸方向に移動する例を示す。図２０に示すように、物体が移動することによって、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱが空間ＳＰ１において流動する。図２０に示す例において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱは、位置Ｅ１から、空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。

　制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、複数の第２部材２２Ｄのうち、所定の第２部材２２Ｄを、第２状態から第１状態へ変化させる。制御装置６は、例えば位置Ｅ１に隣接する第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態へ変化させる。これにより、位置Ｅ１から液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２に捕捉される。

　また、図２１に示すように、物体が－Ｘ軸方向に移動しつつ－Ｙ軸方向に移動する場合、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱは、位置Ｅ２から、空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。

　制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、複数の第２部材２２Ｄのうち、所定の第２部材２２Ｄを、第２状態から第１状態へ変化させる。制御装置６は、例えば位置Ｅ２に隣接する第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態へ変化させる。これにより、位置Ｅ２から液体ＬＱが流出しても、その流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２に捕捉される。

　制御装置６は、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、物体の移動条件などに基づいて、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させる。制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出する位置（Ｅ１、Ｅ２）及び方向の少なくとも一方に関する情報に基づいて、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させる。

　すなわち、制御装置６は、露光制御情報（露光レシピ）から推測される、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出する位置及び方向の少なくとも一方に関する情報に基づいて、第２状態から第１状態へ変化させる。物体の移動条件などに基づく液体ＬＱの流出位置（流出方向）に関する情報は、例えば予備実験又はシミュレーションにより求めることができる。制御装置６は、その情報に基づいて、液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、一部の第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態へ変化させることができる。なお、その情報を記憶装置７に記憶しておいてもよい。

　また、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを捕捉（回収）するために最適な位置に第２部材２２ＤをＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２Ｄを移動した後に、その第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２Ｄを移動してもよい。

　また、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１の外側で、物体の上面に存在する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。例えば図２２に示すように、液浸空間ＬＳ１から離れて、物体の上面に液体ＬＱが残留する可能性がある。例えば、液体ＬＱの滴が、物体の上面に存在（残留）する可能性がある。制御装置６は、その物体の上面に存在する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するために、複数の第２部材２２Ｄのうち、液体ＬＱ（滴）が対向する下面２４を有する第２部材２２Ｄを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。

　制御装置６は、液浸空間ＬＳ１の外側で、物体の上面に存在する液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、物体の移動条件などに基づいて、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、液浸空間ＬＳ１から離れて、物体の上面に存在する液体ＬＱの位置に関する情報に基づいて、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。

　制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、残留する液体ＬＱの位置に関する情報に基づいて、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。物体の移動条件などに基づく液体ＬＱの残留位置に関する情報は、例えば予備実験又はシミュレーションにより求めることができる制御装置６は、その情報に基づいて、液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、第２状態から第１状態へ変化させることができる。これにより、液体ＬＱの流出が抑制される。

　なお、その情報を記憶装置７に記憶してもよい。また、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの捕捉（除去）に最適な位置に第２部材２２ＤをＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２Ｄを移動した後に、その第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２Ｄを第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２Ｄを移動してもよい。

　また、一部の第２部材２２Ｄを空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱを捕捉（回収）するために第２状態から第１状態に変更し、他の一部の第２部材２２Ｄを、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱを捕捉（除去）するために第２状態から第１状態に変更するようにしてもよい。

　また、図２３に示すように、空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱを検出する検出装置５０を設けてもよい。検出装置５０は、第１部材２１Ｄの周囲に配置される複数の検出部５１を有する。検出部５１のそれぞれが、基板Ｐなどの物体上に向けて検出光を射出する射出部と、その物体で反射した検出光を受光する受光部を備え、受光部での受光量の変化に基づいて、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出したかどうか検出できる。制御装置６は、検出装置５０（複数の検出部５１）の検出結果に基づいて、空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出する位置及び方向の少なくとも一方に関する情報を取得可能である。この場合も、必要に応じて第２部材２２ＤをＸＹ面内で移動してもよい。

　制御装置６は、検出装置５０の検出結果に基づいて、空間ＳＰ１から流出する液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させる。これにより、基板Ｐなどの物体上に液体ＬＱが残留するのが抑制される。

　また、図２２に示したように、液浸空間ＬＳ１から離れて、物体の上面に存在（残留）する液体ＬＱを検出することができるように、検出装置５０を配置してもよい。この場合も、制御装置６は、検出装置５０の検出結果に基づいて、液浸空間ＬＳ１から離れて物体の上面に存在（残留）する液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。

　また、基板Ｐの露光後に、基板Ｐと包囲部材Ｔの少なくとも一方に残留している液体ＬＱの位置を検出できるように、検出装置５０を配置してもよい。

　例えば、基板Ｐの露光に先立って、基板Ｐに対する露光動作と同じ条件で、ダミー基板に対する露光動作を実行した後に、そのダミー基板上に残留している液体ＬＱの位置を検出装置５０を使って検出して、その結果に基づいて、その後に行われる基板Ｐに対する露光動作中の第２部材２２Ｄの第１状態と第２状態の一方から他方への変化を制御してもよい。

　あるいは、物体の移動条件などに基づいて空間ＳＰ１から液体ＬＱが流出する位置及び方向の少なくとも一方を推測し、その推測に基づいて決定された制御情報にしたがって複数の第２部材２２Ｄを第１状態と第２状態の一方から他方へ変化させながら、基板Ｐの液浸露光動作を実行した後に、その基板Ｐ上に残留している液体ＬＱの位置を検出装置５０を使って検出し、その検出結果に基づいて、その後に同条件で行われる別の基板Ｐに対する露光動作中に複数の第２部材２２Ｄの第１状態と第２状態の一方から他方へ変化を制御してもよい。この場合、検出装置５０の検出結果に基づき、推測に基づいて決定された第２部材２２Ｄの制御情報を修正（更新）してもよい。

　なお、検出方式は、上述の方式に限られない。例えば、検出装置５０は、カメラ（撮像素子）であってもよい。また、検出方式は光学式でなくてもよい。

　なお、図１８に示す例では、すべての第２部材２２Ｄが第１状態のときに、各液浸空間ＬＳ２が互いに接触しないように複数の第２部材２２Ｄが配置されているが、すべての第２部材２２が第１状態のときに、隣り合う２つの第２部材２２Ｄが形成する２つの液浸空間ＬＳ２が接触してもよい。この場合、すべての第２部材２２Ｄが第１状態のときに、すべての隣り合う液浸空間ＬＳ２が接触してもよいし、一部の隣り合う液浸空間ＬＳ２が接触してもよい。

　なお、制御装置６は、空間ＳＰ２から流出した液体ＬＱ、あるいは液浸空間ＬＳ２から離れて物体上に残留した液体ＬＱを、液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、複数の第２部材２２Ｄの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。

＜第３実施形態＞
　次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

　図２４は、本実施形態に係る液浸部材５Ｅの一例を示す図である。図２５は、液浸部材５Ｅを下側から見た図である。

　図２４及び図２５において、液浸部材５Ｅは、液浸空間ＬＳ１を形成するための第１部材２１Ｅと、液浸空間ＬＳ２を形成するための第２部材２２Ｅとを有する。本実施形態においても、第１部材２１Ｅは、実質的に誘導部を有しない。第１部材２１Ｅは、物体（基板Ｐ等）と対向する供給口を有しないが、有してもよい。第２部材２２Ｅは、上述の実施形態で説明した第２部材２２と同様の構成である。本実施形態において、第２部材２２Ｅは、第１部材２１Ｅの＋Ｘ軸側及び－Ｘ軸側に一つずつ配置される。

　本実施形態においては、空間ＳＰ１からの液体ＬＱの流出を、ある程度許容し、対向する基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するために、第２部材２２Ｅの少なくとも一方を、第２状態から第１状態へ変化させる。

　制御装置６は、液浸空間ＬＳ１の外側で、物体の上面に存在する液体ＬＱを液浸空間ＬＳ２で捕捉するように、複数の第２部材２２Ｅの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させる。制御装置６は、液浸空間ＬＳ１の外側で、物体の上面に存在する液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、物体の移動条件などに基づいて、複数の第２部材２２Ｅの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、液浸空間ＬＳ１から離れて、物体の上面に存在する液体ＬＱの位置に関する情報に基づいて、複数の第２部材２２Ｅの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。なお、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの捕捉（除去）に最適な位置に第２部材２２ＥをＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２Ｅを移動した後に、その第２部材２２Ｅを第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２Ｅを第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２を移動してもよい。

　制御装置６は、物体の移動条件などから推測される、残留する液体ＬＱの位置に関する情報に基づいて、複数の第２部材２２Ｅの少なくとも一つを、第２状態から第１状態へ変化させてもよい。物体の移動条件などに基づく液体ＬＱの残留位置に関する情報は、例えば予備実験又はシミュレーションにより求めることができる。制御装置６は、その情報に基づいて、液体ＬＱが液浸空間ＬＳ２で捕捉されるように、第２状態から第１状態へ変化させることができる。これにより、液体ＬＱの流出が抑制される。また、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの捕捉（除去）に最適な位置に第２部材２２ＥをＸＹ平面内で移動してもよい。この場合、第２部材２２Ｅを移動した後に、その第２部材２２Ｅを第２状態から第１状態にしてもよいし、その第２部材２２Ｅを第２状態から第１状態にした後に、第２部材２２Ｅを移動してもよい。

　図２６及び図２７は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例を示す。図２６及び図２７は、基板Ｐのショット領域Ｓａを露光した後、ショット領域Ｓｂを露光するときの第１部材２１Ｅに対する基板Ｐ（基板ステージ２）の位置の一例を模式的に示す図である。図２６に示すように、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介してショット領域Ｓａを露光する場合、投影領域ＰＲ及び液浸空間ＬＳ１に対して基板Ｐが－Ｙ軸方向に移動する。図２６の例において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱと接触した基板Ｐの上面のうち、領域Ｗは、ショット領域Ｓａの露光開始前に、液浸空間ＬＳ１が間隙Ｇ１上に形成されるため、液浸空間ＬＳ１から離れた液体ＬＱ（滴）が残留する可能性が高い領域である。

　図２７に示すように、ショット領域Ｓｂを露光する場合、投影領域ＰＲ及び液浸空間ＬＳ１に対して基板Ｐが＋Ｙ軸方向に移動する。その場合、領域Ｗのうち、一部の領域Ｗｒは、ショット領域Ｓｂの露光前のステッピング移動動作中、露光中（スキャン移動動作中）、及び露光後のステッピング移動動作中の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱと再度接触することとなる。すなわち、基板Ｐの上面には、液浸空間ＬＳ１が接触した後、その液浸空間ＬＳ１と再度接触する領域Ｗｒと、接触しない領域Ｗとが形成される。

　領域Ｗｒは、液体ＬＱ（滴）が残留する可能性が低い領域である。すなわち、第１回目の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとの接触により領域Ｗに液体ＬＱが残留したとしても、再度液浸空間ＬＳ１が接触することによって、その残留する液体ＬＱ（滴）は、第２回目に接触する液浸空間ＬＳ１によって捕捉される。

　液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱと１回だけ接触する領域Ｗは、液体ＬＱ（滴）が残留する可能性が高い領域であり、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱと２回接触する領域Ｗｒは、液体ＬＱ（滴）が残留する可能性が低い領域とも言える。

　本実施形態において、制御装置６は、複数の第２部材２２Ｅのうち、下面２４が領域Ｗと対向する第２部材２２Ｅを、液浸空間ＬＳ２が領域Ｗに接触するように、第２状態から第１状態へ変化させる。これにより、領域Ｗに残留する液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２によって捕捉され、基板Ｐ（物体）上から除去される。領域Ｗの位置は、上述のように、露光制御情報（基板Ｐの移動条件など）から推測可能である。制御装置６は、基板Ｐの露光が完了する前での間に、液体ＬＱが残留している可能性が高いと推測された領域Ｗの全域が液浸空間ＬＳ２と接触するようい第２部材２２Ｅを移動する。

　本実施形態においても、上述した検出装置５０を用いて基板Ｐなどの物体上に存在する液体ＬＱの位置を検出して、その結果に基づいて、第２部材２２Ｅの少なくとも一方を第２状態から第１状態に変更してもよい。

　また、本実施形態においても、基板Ｐの露光後に、基板Ｐと包囲部材Ｔの少なくとも一方に残留している液体ＬＱの位置を検出できるように、検出装置５０を配置してもよい。

　例えば、基板Ｐの露光に先立って、基板Ｐに対する露光動作と同じ条件で、ダミー基板に対する露光動作を実行した後に、そのダミー基板上に残留している液体ＬＱの位置を検出装置５０を使って検出して、その結果に基づいて、その後に行われる基板Ｐに対する露光動作中の第２部材２２Ｅの第１状態と第２状態の一方から他方への変化を制御してもよい。

　あるいは、物体の移動条件などから、基板Ｐなどの物体上に残留する液体ＬＱの位置を推測し、その推測に基づいて決定された制御情報にしたがって第２部材２２Ｅを第１状態と第２状態の一方から他方へ変化させながら、基板Ｐの液浸露光動作を実行した後に、その基板Ｐ上に残留している液体ＬＱの位置を検出装置５０を使って検出し、その検出結果に基づいて、その後に同条件で行われる別の基板Ｐに対する露光動作中に第２部材２２Ｅの第１状態と第２状態の一方から他方へ変化を制御してもよい。この場合、検出装置５０の検出結果に基づいて、推測に基づいて決定された第２部材２２Ｅの制御情報を修正（更新）してもよい。

　なお、上述の第２、第３実施形態においても、所定部位に液浸空間ＬＳ２ができないように、少なくとも一つの第２部材（２２Ｄ，２２Ｅ）を第１状態から第２状態に変更してもよい。

　また、上述の第２、第３実施形態においても、第１状態である少なくとも一つの第２部材（２２Ｄ，２２Ｅ）を、対向する物体との相対速度が小さくなるように移動してもよい。

　なお、上述の実施形態において、図２８に示すように、第１部材２１Ｅの周囲に配置された複数の第２部材２２Ｅを一緒に支持する支持機構５２が設けられてもよい。

　なお、上述したように、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ－ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。

　なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。

　記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。

　記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面からの露光光の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１液浸空間が形成されている状態で、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させてもよい。

　また、記憶装置７に記憶されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面からの露光光の光路空間及び第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、物体の移動条件に基づいて、第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触する第１状態、及び第２液浸空間の第２液体が物体の上面と接触しない、あるいは第２部材と物体との間に第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させてもよい。

　記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。

　なお、上述の実施形態において、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱとは、同じ種類（物性）の液体でもよいし、異なる種類（物性）の液体でもよい。

　なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２からの露光光（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。

　なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。

　なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。

　なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。

　また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。

　また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。

　また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図２９に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２Ａ、２Ｂを備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。

　また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。

　露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。

　なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。

　上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。

　また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。

　上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

　半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

　なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

　２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、４０…誘導部、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ１…液浸空間、ＬＳ２…液浸空間、Ｐ…基板

Claims

　第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
　前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
　前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面からの露光光の光路を含む光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
　前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成する第２部材と、を備え、
　前記第１液浸空間が形成されている状態で、前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化する露光装置。
　前記第２部材が、前記物体の移動中に、前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項１に記載の露光装置。
　第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
　前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
　前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する位置に移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面からの露光光の光路を含む光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
　前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成する第２部材と、を備え、
　前記物体の移動中に、前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化する露光装置。
　前記物体の移動条件に基づいて、前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項２又は３に記載の露光装置。
　前記第１状態における前記第２部材の前記第２下面と前記物体の上面との間隙は、前記第２状態における前記第２部材の前記第２下面と前記物体の上面との間隙よりも小さい請求項１～４のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２部材は、前記光学部材の光軸と平行な方向に移動可能であり、
　前記第２部材の移動により、前記第２部材の前記第２下面と前記物体の上面との間隙を変化させることによって、前記第１状態と前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項５に記載の露光装置。
　前記第２部材は、前記第２液浸空間を形成するための前記第２液体を供給する供給口と、前記第２液浸空間の前記第２液体の少なくとも一部を回収する回収口と、を有する請求項１～６のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記供給口からの前記第２液体の供給量が調整されることによって、前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項７に記載の露光装置。
　前記回収口からの前記第２液体の回収量が調整されることによって、前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項７又は８に記載の露光装置。
　前記物体の所定部位が前記第２下面に対向するとき、前記第１状態から前記第２状態へ変化する請求項１～９のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記所定部位が、前記第２液浸空間の前記第２液体と接触しないように、前記第１状態から前記第２状態に変化する請求項１～１０のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記所定部位は、前記物体の間隙を含む請求項１０又は１１に記載の露光装置。
　前記所定部位は、前記物体の計測部材を含む請求項１０～１２のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記所定部位は、前記露光光を計測するセンサを含む請求項１０～１３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１空間から流出する前記第１液体を前記第２液浸空間で捕捉するように、前記第２状態から前記第１状態に変化する請求項１～１４のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１液浸空間の外側で、前記物体の上面に存在する前記第１液体を前記第２液浸空間で捕捉するように、前記第２状態から前記第１状態に変化する請求項１～１５のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記物体の上面に存在する前記第１液体は、前記第１液浸空間から離れて、前記物体の上面に残留する前記第１液体を含む請求項１６に記載の露光装置。
　前記物体の上面に存在する前記第１液体は、前記第１液体の滴を含む請求項１６又は１７に記載の露光装置。
　前記第１空間から流出した前記第１液体を検出する検出装置をさらに備え、
　前記検出装置の検出結果に基づいて、前記第２状態から前記第１状態に変化する請求項１～１８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記検出装置は、前記第１液浸空間から離れて、前記物体の上面に存在する前記第１液体を検出する請求項１９に記載の露光装置。
　前記物体の移動条件に基づいて、前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方へ変化する請求項１～２０のいずれか一項記載の露光装置。
　前記物体の移動条件から推測される、前記第１空間から前記第１液体が流出する位置及び方向の少なくとも一方に関する情報に基づいて、前記第２状態から前記第１状態に変化する請求項２１に記載の露光装置。
　前記物体の移動条件から推測される、前記第１液浸空間から離れて、前記物体の上面に存在する前記第１液体の位置に関する情報に基づいて、前記第２状態から前記第１状態へ変化する請求項２１又は２２に記載の露光装置。
　前記移動条件は、前記物体の移動速度、加速度、移動方向、及び移動軌跡の少なくとも一つを含む請求項２１～２３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記物体の上面は、前記第１液浸空間が接触した後、前記第１液浸空間と再度接触する第１領域と、接触しない第２領域とを含み、
　前記第２液浸空間が前記第２領域に接触するように前記第２状態から前記第１状態に変化する請求項２１～２４のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２部材は、移動可能である請求項１～２５のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２部材は、前記第２液浸空間が形成されている状態で移動可能である請求項１～２６のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２部材を移動する駆動システムをさらに備える請求項２６又は２７に記載の露光装置。
　前記第１液浸空間の前記第１液体の少なくとも一部を前記光路の周囲の一部の誘導空間に誘導する誘導部をさらに備え、
　前記第２部材は、前記誘導部を経て前記第１空間から流出する前記第１液体の少なくとも一部を、前記第２液浸空間で捕捉する請求項１～２８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記誘導部の少なくとも一部は、前記第１部材に配置される請求項２９に記載の露光装置。
　前記第１液浸空間が形成された状態で、前記基板上の各ショット領域は、前記光学部材の光軸に実質的に垂直な第１方向に前記基板を移動しながら露光され、
　前記第２部材は、前記第１方向に関して前記第１部材の一側及び他側の少なくとも一方に配置される請求１～３０のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１液浸空間が形成された状態で、前記基板上の各ショット領域は、前記光学部材の光軸に実質的に垂直な第１方向に前記基板を移動しながら露光され、
　前記第２部材は、前記光学部材の光軸に実質的に垂直で、前記第１方向と交差する前記第２方向に関して前記第１部材の一側及び他側の少なくとも一方に配置される請求項１～３１のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２部材は、前記第１部材の周囲に複数配置される請求項１～３２のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１部材の周囲の第１位置に配置された前記第２部材における前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方への変化と、前記第１部材の周囲の前記第１位置とは異なる第２位置に配置された前記第２部材における前記第１状態及び前記第２状態の一方から他方への変化とが異なる請求項３３に記載の露光装置。
　前記基板を保持して移動可能な基板ステージをさらに備え、
　前記物体は、前記基板ステージの少なくとも一部、及び前記基板ステージに保持された前記基板の少なくとも一方を含む請求項１～３４のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１部材は、前記光学部材の光軸と平行な方向、前記光学部材の光軸と平行な軸周りの方向、前記光学部材の光軸に垂直な方向、及び前記光学部材の光軸に垂直な軸周りの方向のうちの、少なくとも一つの方向に移動可能である請求項１～３５のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記光学部材を含む投影光学系をさらに備え、
　前記光学部材の射出面と前記基板との間の前記第１液体を介して前記基板に露光光が照射される請求項１～３６のいずれか一項記載の露光装置。
　請求項１～３７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
　第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、
　前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
　前記第１液浸空間が形成されている状態で、前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を含む露光方法。
　第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、
　前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
　前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記物体の移動条件に基づいて、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を含む露光方法。
　請求項３９又は４０に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
　コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、
　前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
　前記第１液浸空間が形成されている状態で、前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させるプログラム。
　コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
　前記露光光が射出される光学部材の射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面からの露光光の光路空間及び前記第１下面の下の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、
　前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
　前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記基板が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記物体の移動条件に基づいて、前記第２下面の下の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液浸空間の第２液体が前記物体の上面と接触する第１状態、及び前記第２液浸空間の前記第２液体が前記物体の上面と接触しない、あるいは前記第２部材と前記物体との間に前記第２液体が存在しない第２状態の、一方から他方へ変化させることと、を実行させるプログラム。
　請求項４２又は４３に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。