JP2016131182A - 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液浸露光装置では、露光光を射出する光学部材が変動すると、露光不良が発生する為、露光不良の発生を抑制することが可能な露光装置技術を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光ＥＬが射出される投影光学系射出面３２と、露光光ＥＬが通過する液浸空間ＬＳを形成すると共に、少なくとも一部が可動部材４２である液浸部材４Ａと、可動部材４２の移動に起因した液浸空間ＬＳの少なくとも一部における液体ＬＱの圧力の変動を抑制する抑制システム４３２と、抑制システムを制御するコントローラーとを備える。
【選択図】図１２

Description

本発明は、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法の技術分野に関する。

フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置として、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して投影される露光光を用いて基板を露光する液浸露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

米国特許第７，８６４，２９２号

液浸露光装置では、露光光を射出する光学部材が変動すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。

本発明は、露光不良の発生を抑制することが可能な露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法を提供することを課題とする。

第１の露光装置は、露光光が射出される光学部材と、前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、前記可動部材の移動に起因した前記液浸空間の少なくとも一部における液体の圧力の変動を抑制する抑制システムと、前記抑制システムを制御するコントローラーとを備える。

第２の露光装置は、露光光が射出される光学部材と、前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、前記液浸空間の少なくとも一部に対して液体供給を行う第１供給部と、前記可動部材の移動条件に基づいて、前記第１供給部からの液体供給量を制御するコントローラーとを備える。

第３の露光装置は、露光光が射出される光学部材と、前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、前記液浸空間の少なくとも一部から液体回収を行う第１回収部と、前記可動部材の移動条件に基づいて、前記第１回収部による液体回収量を制御するコントローラーとを備える。

第４の露光装置は、露光光が射出される光学部材と、前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、前記可動部材の移動条件に基づいて、前記液浸空間を規定する規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させるコントローラーとを備える。

第５の露光装置は、露光光が射出される光学部材と、前記露光光が透過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、コントローラーとを備え、前記液浸部材は、移動可能な第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下側に配置される移動可能な、前記可動部材としての第２部材とを備えており、前記コントローラーは、前記第２部材の移動条件に基づいて、前記第１部材を移動させる。

第１の露光方法は、少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、前記移動部材の移動に起因した前記液浸空間の少なくとも一部における液体の圧力の変動を抑制する抑制システムを制御することとを備える。

第２の露光方法は、少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、前記液浸空間の少なくとも一部に対して液体供給を行うことと、前記可動部材の移動条件に基づいて液体供給量を制御することとを備える。

第３の露光方法は、少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、前記液浸空間の少なくとも一部から液体回収を行うことと、前記可動部材の移動条件に基づいて液体回収量を制御することとを備える。

第４の露光方法は、少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、前記可動部材の移動条件に基づいて、前記液浸空間を規定する規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させることとを備える。

第５の露光方法は、移動可能な第１部材と少なくとも一部が前記第１部材の下側に配置される移動可能な可動部材である第２部材とを備える液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、前記第２部材の移動条件に基づいて、前記第１部材を移動させることとを備える。

第１のデバイス製造方法は、上述した第１の露光装置から第５の露光装置のうちのいずれか一つを用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第２のデバイス製造方法は、上述した第１の露光方法から第５の露光方法のうちのいずれか一つを用いて基板を露光することと、露光された前記基板を現像することとを備える。

第１実施形態の露光装置の構成の一例を示す概略構成図である。 第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。 第１実施形態の液浸部材を斜め下側（−Ｚ軸方向側）から観察した分解斜視図である。 第１実施形態の液浸部材を斜め上側（＋Ｚ軸方向側）から観察した分解斜視図である。 第２部材の移動態様の第１の具体例を示す断面図である。 第２部材の移動態様の第２の具体例を示す断面図である。 基板ステージに保持されている基板の一例を示す平面図である。 第２部材の移動態様を示す平面図である。 移動軌跡の一具体例を示す平面図である。 図９に示す態様で基板が移動した場合の第２部材の移動態様を示す平面図である。 図９に示す態様で基板が移動した場合の第２部材の移動態様を示す平面図である。 液体供給部による液体の供給動作の第１の具体例を示す断面図である。 液体供給部による液体の供給動作の第２の具体例を示す断面図である。 流体回収部による液体の回収動作の第１の具体例を示す断面図である。 流体回収部による液体の回収動作の第２の具体例を示す断面図である。 第２実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。 第１部材の移動態様の具体例を示す断面図である。 第３実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。 挿脱部材の挿脱態様の第１の具体例を示す断面図である。 挿脱部材の挿脱態様の第２の具体例を示す断面図である。 基板ステージの一例を示す平面図である。 デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。
（１）第１実施形態
はじめに、図１から図１５を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１について説明する
（１−１）第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成
はじめに、図１を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例について説明する。図１は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例を示す概略構成図である。

図１に示すように、露光装置ＥＸ１は、マスクステージ１と、照明系２と、投影光学系３と、液浸部材４Ａと、基板ステージ５と、計測ステージ６と、計測システム７と、チャンバ装置８と、制御装置９とを備えている。

マスクステージ１は、マスク１１を保持可能である。マスクステージ１は、保持したマスク１１をリリース可能である。

マスクステージ１は、マスク１１を保持した状態で、照明系２から射出される露光光ＥＬが照射される領域（つまり、後述の照明領域ＩＲ）を含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。

例えば、マスクステージ１は、平面モータを含む駆動システム１２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム１２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。但し、駆動システム１２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、マスクステージ１は、駆動システム１２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。

マスク１１は、基板ステージ５１が保持する後述の基板５１に投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスク１１は、例えば、ガラス板等の透明板と、当該透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたデバイスパターンとを含む透過型マスクであってもよい。但し、マスク１１は、いわゆる反射型マスクであってもよい。

照明系２は、照明領域ＩＲに対して、露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系２から射出される露光光ＥＬが照射される領域を含む。照明系２は、照明領域ＩＲに配置された少なくとも一部のマスク１１に対して、露光光ＥＬを照射する。照明系２は、照明領域ＩＲ上で露光光ＥＬが均一な照度分布を有するように、露光光ＥＬを照射していてもよい。

露光光ＥＬは、例えば、水銀ランプから射出される輝線（例えば、ｇ線、ｈ線、ｉ線等）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光であってもよい。露光光ＥＬは、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）やＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）であってもよい。

投影光学系３は、マスク１１を通過した露光光ＥＬ（つまり、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像）を、基板５１に対して投影する。具体的には、投影光学系３は、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを投影する。投影領域ＰＲは、投影光学系３から射出される露光光ＥＬが投影される領域を含む。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、投影領域ＰＲに配置された少なくとも一部の基板５１（例えば、後述するショット領域Ｓの少なくとも一部）に対して、所定の投影倍率で投影する。

第１実施形態では、投影光学系３は、縮小系である。但し、投影光学系３は、等倍系又は拡大系であってもよい。第１実施形態では、投影光学系３の投影倍率は、例えば、１／４である。但し、投影光学系の投影倍率は、１／４以外の任意の値（例えば、１／５や、１／８等）であってもよい。

投影光学系３は、反射光学素子を含まない屈折系であってもよい。投影光学系３は、屈折光学素子を含まない反射系であってもよい。投影光学系３は、反射光学素子及び屈折光学素子の双方を含む反射屈折系であってもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、倒立像として投影してもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、正立像として投影してもよい。

投影光学系３の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。この場合、投影光学系３の光軸ＡＸと平行な方向に着目すると、投影光学系３から当該投影光学系３の像面に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、投影光学系３から当該投影光学系３の物体面に向かう方向が、＋Ｚ軸方向である。但し、投影光学系３の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行でなくてもよい。

投影光学系３は、露光光ＥＬが射出される射出面３２を含む終端光学素子３１を備えている。射出面３２は、投影光学系３の像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子３１は、投影光学系３が含む複数の光学素子のうち、投影光学系３の像面に最も近い光学素子である。

終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。この場合、終端光学素子３１の光軸ＡＸと平行な方向に着目すると、投影光学素子３１の入射面から射出面３２に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、射出面３２から終端光学素子３１の入射面に向かう方向が＋Ｚ軸方向である。但し、終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行でなくてもよい。

射出面３２は、−Ｚ軸方向を向いている。従って、射出面３２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に向かって進行する。射出面３２は、ＸＹ平面（つまり、水平面）と平行である。但し、射出面３２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。尚、射出面３２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。射出面３２は、曲面を含んでいてもよい。

終端光学素子３１は、−Ｚ軸方向を向いている射出面３２に加えて、当該射出面３２の周囲に配置されている外面３３を含んでいてもよい。露光光ＥＬは、射出面３２から射出される一方で、外面３３からは射出されなくてもよい。言い換えれば、露光光ＥＬは、射出面３２を通過する一方で、外面３３を通過しなくてもよい。尚、外面３３は、＋Ｚ軸方向側に向かうにつれて徐々に光軸ＡＸから遠ざかる形状（つまり、光軸ＡＸに対して傾斜する形状）を有していてもよい。

投影光学系３は、基準フレーム３７によって支持されている。基準フレーム３７は、当該基準フレーム３７の下側（つまり、−Ｚ軸方向側）に配置されている装置フレーム３８に支持されている。基準フレーム３７と装置フレーム３８との間には、防振装置３９が配置されている。防振装置３９は、装置フレーム３８から基準フレーム３７への振動の伝達を抑制する。防振装置３９は、例えば、バネ装置を含んでいてもよい。このようなバネ装置の一例として、金属やゴム等の弾性部材を含むバネや、空気等の気体を含むバネ（いわゆる、エアマウント）があげられる。

尚、基準フレーム３７は、投影光学系３に加えて、例えば、後述する計測システム７を支持していてもよい。基準フレーム３７は、投影光学系３に加えて、任意の検出システム（例えば、基板５１のアライメントマークを検出する検出システムや、基板５１等の物体の表面の位置を検出する検出システム等）を支持していてもよい。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間（言い換えれば、部分又は領域）を意味する。液体ＬＱは、例えば水（例えば、純水）である。

液浸部材４Ａは、終端光学素子３１の少なくとも一部と基板５１の少なくとも一部との間が液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材４Ａは、露光光ＥＬの光路ＡＴ（特に、射出面３２から射出される露光光ＥＬの射出面３２と基板５１との間の光路ＡＴＬ）が液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。その結果、射出面３２から射出される露光光ＥＬは、液体ＬＱを介して基板５１に投影される。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する液浸露光装置である。

尚、液浸部材４Ａの詳細な構成については、図２から図４等を参照しながら後に詳述する。

基板ステージ５は、基板５１を保持可能である。基板ステージ５は、保持した基板５１をリリース可能である。

例えば、基板ステージ５は、基板５１をリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され且つカバー部材５２をリリース可能に保持する第２保持部とを備えていてもよい。尚、第１保持部及び第２保持部を備える基板ステージ５の一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号や、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号に開示されている。第１保持部は、基板５１の上面（つまり、＋Ｚ軸方向側の表面）とＸＹ平面とが平行となるように、基板５１を保持してもよい。第１保持部に保持された基板５１の上面と、第２保持部に保持されたカバー部材５２の上面とは、同一平面内に配置されてもよい。但し、第１保持部に保持された基板５１の上面と、第２保持部に保持されたカバー部材５２の上面とは、同一平面内に配置されていなくてもよい。第１保持部に保持された基板５１の上面に対して、第２保持部に保持されたカバー部材５２の上面が傾斜していてもよい。カバー部材５２の上面が曲面を含んでいてもよい。

基板ステージ５は、基板５１を保持した状態で、射出面３２から射出される露光光ＥＬが投影される領域（つまり、投影領域ＰＲ）を含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。基板ステージ５は、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。尚、ガイド面８１１と投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）とは、実質的に平行であってもよい。

例えば、基板ステージ５は、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム８２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。駆動システム８２が含む平面モータは、基板ステージ５に配置された可動子８２５と、ベース部材８１に配置された固定子８２１とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、基板ステージ５は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。

基板５１は、デバイスを製造するための基板である。基板５１は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材（例えば、フォトレジスト）の膜である。尚、基板５１は、感光膜に加えて、他の膜（例えば、基板５１の表面での露光光ＥＬの意図せぬ反射を防止する反射防止膜や、基板５１の表面を保護する保護膜（トップコート膜）等）を含んでいてもよい。

計測ステージ６は、基板５１を保持しない一方で、露光光ＥＬを計測する計測部材（言い換えれば、計測器）６１を保持可能である。つまり、第１実施形態の露光装置ＥＸ１は、基板ステージ５と計測ステージ６とを備える露光装置である。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，８９７，９６３号及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号に開示されている。

計測ステージ６は、計測部材６１を保持した状態で、射出面３２から射出される露光光ＥＬが投影される領域（つまり、投影領域ＰＲ）を含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。

例えば、計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。駆動システム８２が含む平面モータは、計測ステージ６に配置された可動子８２６と、ベース部材８１に配置された固定子８２１とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。第１実施形態では、計測ステージ６は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。

計測システム７は、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測する。基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するために、計測システム７は、干渉計システムを含んでいてもよい。干渉計システムは、基板ステージ５に配置されている計測ミラー及び計測ステージ６に配置されている計測ミラーの夫々に計測光を照射すると共に、当該計測光の反射光を検出することで基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測してもよい。但し、計測システム７は、干渉計システムに加えて又は代えて、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するエンコーダシステムを含んでいてもよい。尚、エンコーダシステムの一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されている。

チャンバ装置８は、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（例えば、温度、湿度、圧力及びクリーン度のうちの少なくとも一つ）を調整する。空間ＣＳには、少なくとも、投影光学系３、液浸部材４、基板ステージ５及び計測ステージ６が配置されている。但し、マスクステージ１及び照明系２のうちの少なくとも一部が空間ＣＳに配置されていてもよい。

制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御する。制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御するコントローラー９１と、コントローラー９１に接続され且つ露光装置ＥＸ１の動作に用いられる各種情報を記憶するメモリ９２とを含んでいる。

コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、基板ステージ５（或いは、基板５１）の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、基板ステージ５（或いは、基板５１）を移動させるように、駆動システム８２を制御する。コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する際に、基板ステージ５（或いは、基板５１）の位置の制御に同期して、マスクステージ１（或いは、マスク１１）の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、基板ステージ５（或いは、基板５１）に同期してマスクステージ１（或いは、マスク１１）移動させるように、駆動システム１２を制御する。

コントローラー９１は、露光装置ＥＸ１が計測ステージ６を用いて露光光ＥＬを計測する際には、計測システム７の計測結果に基づいて、計測ステージ６（或いは、計測部材６１）の位置を制御する。つまり、コントローラー９１は、計測ステージ６（或いは、計測部材６１）を移動させるように、駆動システム８２を制御する。

コントローラー９１は、後に詳述するように、基板ステージ５（或いは、基板５１）の移動（つまり、位置の制御）に同期して、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材（例えば、図２を参照しながら後述する第２部材４２）を移動させるように、液浸部材４Ａの位置を制御する。尚、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材の移動態様については、図５及び図６を参照しながら後に詳述する。

コントローラー９１は、後に詳述するように、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給の態様及び液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収の態様のうちの少なくとも一方を制御する。但し、液浸部材４Ａの少なくとも一部の部材の移動条件に基づいた液体ＬＱの供給動作及び液体ＬＱの回収動作については、図１２から図１５を参照しながら後に詳述する。
（１−２）第１実施形態の液浸部材４Ａ
続いて、図２から図６を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａについて説明する。
（１−２−１）第１実施形態の液浸部材４Ａの構成
はじめに、図２から図４を参照して、第１実施形態の液浸部材４Ａの構成について説明する。図２は、第１実施形態の液浸部材４Ａの断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。図３は、第１実施形態の液浸部材４Ａを斜め下側（−Ｚ軸方向側）から観察した分解斜視図である。図４は、第１実施形態の液浸部材４Ａを斜め上側（＋Ｚ軸方向側）から観察した分解斜視図である。

尚、以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側”は、＋Ｚ軸方向側を意味するものとする。“下側”は、−Ｚ軸方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸ＡＸの放射方向における内側であって、光軸ＡＸに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸ＡＸの放射方向における外側であって、光軸ＡＸから遠ざかる側を意味するものとする。

図２に示すように、液浸部材４Ａは、終端光学素子３１の下側で移動可能な物体上に液浸空間ＬＳを形成する。

終端光学素子３１の下側で移動可能な物体は、射出面３２及び液浸部材４Ａと対向可能である。終端光学素子３１の下側で移動可能な物体は、投影領域ＰＲに配置可能である。終端光学素子３１の下側で移動可能な物体は、液浸部材４Ａの下側で、ＸＹ平面内を移動可能である。

尚、このような物体は、基板ステージ５の少なくとも一部（例えば、基板ステージ５が保持するカバー部材５２）であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板ステージ５の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。或いは、物体は、基板ステージ５が保持する基板５１であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、基板５１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。或いは、物体は、計測ステージ６の少なくとも一部（例えば、計測ステージ６が保持する計測部材６１）であってもよい。この場合、液浸部材４Ａは、計測ステージ６の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。

但し、液浸部材４Ａは、２つの異なる物体に跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、カバー部材５２と基板５１とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４Ａは、基板ステージ５と計測ステージ６とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。

尚、以下の説明では、説明の簡略化の観点から、物体が基板５１であるものとして説明を進める。

液浸部材４Ａは、射出面３２と基板５１との間の露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。基板５１に露光光ＥＬが投影されている場合には、液浸部材４Ａは、投影領域ＰＲを含む基板５１の上面の少なくとも一部の領域が液体ＬＱで覆われるように、液浸空間ＬＳを形成してもよい。

液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの少なくとも一部を、終端光学素子１３と基板５１との間の空間に形成してもよい。液浸部材４Ａは、液浸空間ＬＳの少なくとも一部を、液浸部材４Ａと基板５１との間の空間に形成してもよい。

このような液浸空間ＬＳを形成するために、図２から図４に示すように、液浸部材４Ａは、第１部材４１と、第２部材４２とを備えている。以下、第１部材４１及び第２部材４２について、順に説明する。

はじめに、第１部材４１について説明する。

第１部材４１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置されている。このため、図３及び図４に示すように、第１部材４１は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むことが可能な環状の形状を有している。但し、第１部材４１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の一部に配置されていてもよい。第１部材４１は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むことが可能な環状の形状を有していなくてもよい。

尚、ここで言う「露光光ＥＬの光路ＡＴ」は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含んでいてもよい。従って、第１部材４１は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの周囲に配置されていてもよい。更に、ここで言う「露光光ＥＬの光路ＡＴ」は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬに加えて又は代えて、終端光学素子３１内の露光光ＥＬの光路ＡＴＯ（つまり、終端光学素子３１を進行する露光光ＥＬの光路ＡＴＯ）を含んでいてもよい。従って、第１部材４１は、終端光学素子３１の周囲に配置されていてもよい。

第１部材４１は、第２部材４２よりも基板５１から離れた位置に配置されている。このため、第１部材４１の少なくとも一部は、第２部材４２の上側に配置されていてもよい。従って、第１部材４１の少なくとも一部と基板５１との間には、第２部材４２の少なくとも一部が配置されていてもよい。

第１部材４１の少なくとも一部は、終端光学素子３１の下側に配置されている。言い換えれば、終端光学素子３１の少なくとも一部は、第１部材の上側に配置されている。但し、第１部材４１は、終端光学素子３１の下側に配置されていなくてもよい。言い換えれば、終端光学素子３１は、第１部材の上側に配置されていなくてもよい。

第１実施形態では、第１部材４１は、実質的に移動しない。つまり、第１部材４１は、実質的に固定されている。例えば、第１部材４１は、不図示の支持部材を介して装置フレーム３８に固定されていてもよい。尚、終端光学素子３１（或いは、投影光学系３）もまた、実質的に移動しない。つまり、終端光学素子３１（或いは、投影光学系３）もまた、実質的に固定されている。

第１部材４１は、終端光学素子３１と接触しないように配置されている。つまり、第１部材４１は、第１部材４１と終端光学素子３１との間に間隙（具体的には、空間ＳＰ３）が形成されるように配置されている。

第１部材４１の少なくとも一部は、終端光学素子３１を保護するように、終端光学素子３１の周囲に配置されていてもよい。この場合、第１部材４１は、終端光学素子３１を保護する保護部材として機能してもよい。例えば、第１部材４１は、第２部材４２と終端光学素子３１との接触を防止する保護部材として機能してもよい。

第１部材４１は、内側面４１１と、外側面４１２と、下面４１３とを備えている。

内側面４１１は、第１部材４１の外縁を形成する面のうち、空間ＳＰ３を介して終端光学素子３１の外面３３に対向する面である。内側面４１１が外面３３を取り囲んでいることを考慮すれば、内側面４１１は、終端光学素子３１を保護する保護部材として機能してもよい。

内側面４１１の下側の端部は、下面４１３の内側の外縁を規定していてもよい。従って、内側面４１１は、下面４１３よりも上側に配置されていてもよい。

内側面４１１の少なくとも一部は、上側に向かうにつれて外側に広がる形状を有している。つまり、内側面４１１の少なくとも一部は、ＸＹ平面（つまり、水平面であって、実質的には、下面４１３と同一）に対して傾斜している。但し、内側面４１１は、上側に向かうにつれて外側に広がる形状を有していなくてもよい。つまり、内側面４１１は、ＸＹ平面に対して傾斜している部分を含んでいなくともよい。

内側面４１１の少なくとも一部は、終端光学素子３１の外面３３に平行であってもよい。但し、内側面４１１は、終端光学素子３１の外面３３に平行な部分を含んでいなくてもよい。

内側面４１１の少なくとも一部は、ＸＹ平面に平行である。但し、内側面４１１は、ＸＹ平面に平行な部分を含んでいなくてもよい。

外側面４１２は、第１部材４１の外縁を形成する面のうち、外側を向いている面である。外側面４１２の下側の端部は、下面４１３の外側の外縁を規定していてもよい。外側面４１２は、光軸ＡＸに平行（つまり、ＸＹ平面に垂直）であってもよい。但し、外側面４１２は、光軸ＡＸに平行でなくてもよい。

下面４１３は、第１部材４１の外縁を形成する面のうち、下側を向いている面である。下面４１１は、間隙（具体的には、空間ＳＰ１）を介して第２部材４２と対向している。下面４１３は、ＸＹ平面に平行（つまり、光軸ＡＸに垂直）であってもよい。但し、下面４１３は、ＸＹ平面に平行でなくてもよい。下面４１３の少なくとも一部は平面であってもよい。下面４１３の少なくとも一部は曲面であってもよい。

下面４１３は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。但し、下面４１３は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

第１部材４１は、更に、射出面３２から射出された露光光ＥＬが通過可能であって且つ内側面４１１によって外縁が規定される開口４１５を備えている。開口４１５の下側の端部の周囲には、下面４１３が配置されている。開口４１５の内側に、終端光学素子３１の少なくとも一部が配置されてもよい。

開口４１５の径（例えば、水平面であるＸＹ平面に沿った径）は、射出面３２の径よりも大きい。例えば、開口４１５のＸ軸方向に沿った径は、射出面３２のＸ軸方向に沿った径よりも大きくてもよい。例えば、開口４１５のＹ軸方向に沿った径は、射出面３２のＹ軸方向に沿った径よりも大きくてもよい。但し、開口４１５の径は、射出面３２の径よりも小さくてもよいし同一であってもよい。例えば、開口４１５のＸ軸方向に沿った径は、射出面３２のＸ軸方向に沿った径よりも小さくてもよいし同一であってもよい。例えば、開口４１５のＹ軸方向に沿った径は、射出面３２のＹ軸方向に沿った径よりも小さくてもよいし同一であってもよい。

ＸＹ平面上における開口４１５の形状は、例えば六角形の形状であってもよい（図３及び図４参照）。但し、ＸＹ平面上における開口４１５の形状は、その他の形状（例えば、多角形や、円形や、楕円形や、その他の露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。

開口４１５の中心は、光軸ＡＸに一致している。但し、開口４１５の中心は、光軸ＡＸに一致していなくてもよい。

続いて、第２部材４２について説明する。

第２部材４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に配置されている。このため、図３及び図４に示すように、第２部材４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むことが可能な環状の形状を有している。但し、第２部材４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲の一部に配置されていてもよい。第２部材４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むことが可能な環状の形状を有していなくてもよい。

尚、図２に示す例では、第２部材４２は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの周囲に配置されている。しかしながら、第２部材４２は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの周囲に加えて、終端光学素子３１内の露光光ＥＬの光路ＡＴＯの周囲（言い換えれば、終端光学素子３１の周囲）に配置されていてもよい。

第２部材４２は、第１部材４１よりも基板５１に近い位置に配置されている。言い換えれば、第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１の下側に配置されている。従って、第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１の少なくとも一部と基板５１との間に配置されている。

第２部材４２の少なくとも一部は、終端光学素子１３の少なくとも一部と基板５１との間に配置されている。但し、第２部材４２は、終端光学素子１３の少なくとも一部と基板５１との間に配置されていなくてもよい。

第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１よりも外側に配置されている。但し、第２部材４２は、第１部材４１よりも外側に配置されていなくてもよい。

第２部材４２は、終端光学素子３１及び第１部材４１の夫々と接触しないように配置されている。つまり、第２部材４２は、第２部材４２と終端光学素子３１及び第１部材４１の夫々との間に間隙が形成されるように配置されている。

第２部材４２は、上面４２１と、下面４２２と、内側面４２３とを備えている。

上面４２１は、第２部材４２の外縁を形成する面のうち、上側を向いている面である。上面４２１の外側の外縁は、内側面４２３の下側の端部によって規定されていてもよい。

上面４２１は、ＸＹ平面と平行（つまり、光軸ＡＸに垂直）な平面である。但し、上面４２１の少なくとも一部は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。上面４２１の少なくとも一部は曲面であってもよい。

上面４２１は、第１部材４１及び射出面３２よりも下側に配置されている。上面４２１の少なくとも一部は、間隙（具体的には、空間ＳＰ１）を介して第１部材４１の下面４１３と対向している。上面４２１の少なくとも一部は、間隙を介して終端光学素子３１と対向していてもよい。但し、上面４２１は、終端光学素子３１と対向していなくてもよい。

尚、第２部材４２の上面４２１と第１部材４１の下面４１３との間の空間ＳＰ１の高さ（つまり、Ｚ軸方向に沿った長さ）は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫの高さ（つまり、射出面３２と基板５１の上面との間の長さ）よりも小さくてもよい。

上面４２１は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。例えば、液体ＬＱに対する上面４２１の接触角は、９０°よりも大きい。液体ＬＱに対する上面４２１の接触角は、１００°よりも大きくてもよい。液体ＬＱに対する上面４２１の接触角は、１１０°よりも大きくてもよい。液体ＬＱに対する上面４２１の接触角は、１２０°よりも大きくてもよい。その結果、上面４２１と下面４１３との間に形成される空間ＳＰ１における気体部分の生成や気泡の侵入が抑制される。但し、上面４２１は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。

上面４２１が撥液性を有するために、例えば、上面４２１の表面は、フッ素を含む樹脂の膜に覆われていてもよい。このような樹脂の一例として、例えば、ＰＦＡ（ｔｅｔｒａ ｆｌｕｏｒｏ ｅｔｈｙｌｅｎ−ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ ａｌｋｙｌｖｉｎｙｌ ｅｔｈｅｒ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）やＰＴＦＥ（Ｐｏｌｙ Ｔｅｔｒａ Ｆｌｕｏｒｏ Ｅｔｈｙｌｅｎｅ）があげられる。

下面４２２は、第２部材４２の外縁を形成する面のうち、下側を向いている面である。下面４２２は、ＸＹ平面と平行（つまり、光軸ＡＸに垂直）である。但し、下面４２２は、ＸＹ平面と平行でなくてもよい。下面４２２は平面である。但し、下面４２２の少なくとも一部は曲面であってもよい。

下面４２２は、第１部材４１及び射出面３２並びに上面４２１よりも下側に配置されている。

下面４２２は、間隙（具体的には、空間ＳＰ２）を介して基板５１と対向している。空間ＳＰ２の高さは、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫの高さ（つまり、射出面３２と基板５１の上面との間の長さ）よりも小さい。更に、空間ＳＰ２の高さは、空間ＳＰ１の高さよりも大きい。但し、空間ＳＰ２の高さは、空間ＳＰ１の高さ以下であってもよい。

下面４２２は、液体ＬＱに対して親液性を有している。例えば、液体ＬＱに対する下面４２２の接触角は、９０°よりも小さい。液体ＬＱに対する下面４２２の接触角は、８００°よりも小さくてもよい。液体ＬＱに対する下面４２２の接触角は、７０°よりも小さくてもよい。但し、下面４２２は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。

内側面４２３は、第２部材４２の外縁を形成する面のうち、間隙を介して第１部材４１の外側面４１２の少なくとも一部に対向する面である。内側面４２３の下側の端部は、上面４２１の外側の外縁を規定していてもよい。内側面４２３の少なくとも一部（例えば、相対的に下側の部分）は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの周囲に配置されていてもよい。内側面４２３の少なくとも一部（例えば、相対的に上側の部分）は、第１部材４１の周囲に配置されていてもよい。

内側面４２３は、光軸ＡＸに平行（つまり、ＸＹ平面に垂直）であってもよい。但し、内側面４２３は、光軸ＡＸに平行（つまり、ＸＹ平面に垂直）でなくてもよい。

第２部材４２は、射出面３２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口４２５を備えている。開口４２５の上側の端部の周囲には、上面４２１が配置されている。開口４２５の下側の端部の周囲には、下面４２２が配置されている。

開口４２５の外縁を規定する第２部材の内側面４２４は、上側に向かうにつれて外側に広がる形状を有していてもよい。つまり、開口４２５の外縁を規定する第２部材４２の内側面４２４は、ＸＹ平面（つまり、水平面であって、実質的には、上面４２１及び下面４２２と同一）に対して傾斜していてもよい。但し、開口４２５の外縁を規定する第２部材の内側面４２４は、上側に向かうにつれて外側に広がる形状を有していなくてもよい。

開口４２５の径（つまり、水平面であるＸＹ平面に沿った径）は、開口４１５の径よりも小さい。例えば、開口４２５のＸ軸方向に沿った径は、開口４１５のＸ軸方向に沿った径よりも小さくてもよい。例えば、開口４２５のＹ軸方向に沿った径は、開口４１５のＹ軸方向に沿った径よりも小さくてもよい。但し、開口４２５の径は、開口４１５の径よりも大きくてもよいし同一であってもよい。例えば、開口４２５のＸ軸方向に沿った径は、開口４１５のＸ軸方向に沿った径よりも大きくてもよいし同一であってもよい。例えば、開口４２５のＹ軸方向に沿った径は、開口４１５のＹ軸方向に沿った径よりも大きくてもよいし同一であってもよい。

水平面であるＸＹ平面上における開口４２５の形状は、例えば長方形の形状であってもよい（図３及び図４参照）。この場合、開口４２５の外縁を規定する内側面４２４は、Ｘ軸方向に沿って対向すると共にＹ軸方向に沿って延伸する２つの内側面４２４Ｘと、Ｙ軸方向に沿って対向すると共にＸ軸方向に沿って延伸する２つの内側面４２４Ｙとを含んでいてもよい。但し、ＸＹ平面上における開口４２５の形状は、その他の形状（例えば、第１部材４１の開口４１５と同様の六角形や、多角形や、円形や、楕円形や、その他の露光光ＥＬの円滑な通過を妨げることが殆ど又は全くない任意の形状）であってもよい。

第２部材４２は、移動可能な可動部材である。

具体的には、第２部材４２は、コントローラー９１の制御を受ける駆動装置４５１の動作によって移動可能である。駆動装置４５１は、支持部材４５３を介して装置フレーム３８に固定されている。駆動装置４５１は、例えばモータ等を含んでいてもよい。駆動装置４５１は、一端が第２部材４２に連結され且つ他端が駆動装置４５１に連結されている支持部材４５２を移動させる。その結果、支持部材４５２の移動に伴って、支持部材４５２に連結されている第２部材４２が移動する。

第２部材４２は、終端光学素子３１の光軸ＡＸと垂直な方向（つまり、ＸＹ平面内の任意の方向）に沿って移動してもよい。つまり、第２部材４２は、ＸＹ平面に沿って移動してもよい。尚、以下の説明では、説明の簡略化のために、第２部材４２は、Ｘ軸方向に沿って移動するものとする。但し、第２部材４２は、Ｘ軸方向に沿って移動することに加えて又は代えて、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。

第２部材４２は、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動可能であってもよい。第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１の下側において移動可能であってもよい。第２部材４２の少なくとも一部は、終端光学素子３１の下側において移動可能であってもよい。第２部材４２の少なくとも一部は、第１部材４１と基板５１との間において移動可能であってもよい。

第２部材４２は、実質的に固定されている第１部材４１に対して、移動可能であってもよい。その結果、第２部材４２の移動に伴い、第１部材４１と第２部材４２との間の相対位置が変化する。このとき、第２部材４２は、第１部材４１と第２部材４２とが接触しないように移動する。例えば、第２部材４２は、第１部材４１が備える外側面４１２と第２部材４２の内側面４２３とが接触しないように移動してもよい。このため、第１部材４１と第２部材４２とが接触しないような第２部材４２の移動可能範囲が設定されてもよい。

第２部材４２は、実質的に固定されている終端光学素子３１に対して移動可能であってもよい。その結果、第２部材４２の移動に伴い、終端光学素子３１と第２部材４２との間の相対位置が変化する。このとき、第２部材４２は、終端光学素子３１と第２部材４２とが接触しないように移動する。このため、終端光学素子３１と第２部材４２とが接触しないような第２部材４２の移動可能範囲が設定されてもよい。

第２部材４２は、第２部材４２が移動した場合であっても開口４２５の外縁が射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの外側に位置するように、移動する。つまり、第２部材４２は、第２部材４２が移動した場合であっても開口４２５の外縁を規定する内側面４２４が光路ＡＴＬの外側に位置するように、移動する。このため、第２部材４２が移動した場合であっても開口４２５の外縁が光路ＡＴＬの外側に位置するような第２部材４２の移動可能範囲が設定されてもよい。

第２部材４２は、射出面３２から露光光ＥＬが射出される期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。但し、第２部材４２は、射出面３２から露光光ＥＬが射出されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。

第２部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動してもよい。例えば、第２部材４２は、射出面３２の少なくとも一部と基板５１の少なくとも一部との間が液体ＬＱで満たされている状態で移動してもよい。但し、第２部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されていない状態で移動してもよい。

第２部材４２は、基板５１が移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。但し、第２部材４２は、基板５１が移動していない期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。

液浸部材４Ａは、更に、液体供給部４３１と、流体回収部４４１と、流体回収部４４２とを備えている。以下、液体供給部４３１と、流体回収部４４１と、流体回収部４４２とについて、順に説明する。

まず、液体供給部４３１について説明する。

液体供給部４３１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを、液浸空間ＬＳに対して供給する。

液体供給部４３１は、液体供給口４３１１と、液体供給路４３１２と、液体供給装置４３１３とを含んでいる。

液体供給口４３１１は、第１部材４１の内側面４１１に配置されている。言い換えれば、液体供給口４３１１は、第１部材４１の内側面４１１と終端光学素子３１の外面３３との間に形成される空間ＳＰ３に面するように配置されている。言い換えれば、液体供給口４３１１は、終端光学素子３１の外面３３に対向するように配置されている。但し、液体供給口４３１１は、内側面４１１に加えて又は代えて、第１部材４１の下面４１３に配置されてもよい。液体供給口４３１１は、第１部材４１に加えて又は代えて、第２部材４２に配置されていてもよい。液体供給口４３１１は、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる他の部材に配置されていてもよい。

液体供給口４３１１は、流体回収部４４１が備える後述の流体回収口４４１１及び流体回収部４４２が備える後述の流体回収口４３２１よりも内側に配置されている。但し、液体供給口４３１１は、流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一方よりも内側に配置されていなくてもよい。

液体供給口４３１１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲）に断続的に分布するように配置されている。例えば、液体供給口４３１１は、内側面４１１のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの箇所に配置されていてもよい。例えば、第２部材４２がＸ軸方向に沿って移動する場合には、液体供給口４３１１は、Ｘ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されていてもよい（図４参照）。但し、液体供給口４３１１は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように配置されていてもよい。言い換えれば、液体供給口４３１１は、終端光学素子３１を取り囲むように（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように）配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の液体供給口４３１１が配置されていてもよいし、複数の液体供給口４３１１が配置されていてもよい。

液体供給路４３１２は、液体供給口４３１１と液体供給装置４３１３とを連結する管路である。液体供給路４３１２は、液体供給口４３１１が配置されている部材（図２に示す例では、第１部材４１）の内部に形成される。

液体供給装置４３１３は、コントローラー９１の制御の下で、クリーンで温度調整された液体ＬＱを、液体供給路４３１２を介して液体供給口４３１１に供給する。つまり、コントローラー９１は、液体ＬＱを供給するように液体供給装置４３１３を制御する。その結果、液体供給口４３１１から、空間ＳＰ３に対して（言い換えれば、液浸空間ＬＳの少なくとも一部に対して）、液体ＬＱが供給される。

液体供給口４３１１から空間ＳＰ３に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに供給される。その結果、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされる。

液体供給口４３１１から空間ＳＰ３に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１５を介して、第１部材４１の下面４１３と第２部材４２の上面４２１との間の空間ＳＰ１に供給される。液体供給口４３１１から空間ＳＰ３に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４２５を介して、第２部材４２の下面４２２と基板５１の上面との間の空間ＳＰ２に供給される。

続いて、流体回収部４４１について説明する。

流体回収部４４１は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。

流体回収部４４１は、流体回収口４４１１と、流体回収路４４１２と、流体回収装置４４１３とを含んでいる。

流体回収口４４１１は、第１部材４１の下面４１３に配置されている。言い換えれば、流体回収口４４１１は、第１部材４１の下面４１３と第２部材４２の上面４２１との間に形成される空間ＳＰ１に面するように配置されている。言い換えれば、流体回収口４４１１は、第２部材４２の上面４２１に対向するように配置されている。

流体回収口４４１１は、液体供給口４３１１よりも外側に配置されている。但し、流体回収口４４１１は、液体供給口４３１１よりも外側に配置されていなくてもよい。

流体回収口４４１１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に連続的に分布するように配置されている（図３参照）。言い換えれば、流体回収口４４１１は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように配置されている。但し、流体回収口４４１１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に断続的に分布するように配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の流体回収口４４１１が配置されていてもよいし、複数の流体回収口４４１１が配置されていてもよい。

流体回収口４４１１は、第１部材４１の下面４１３のうち相対的に外側の箇所に配置されている。流体回収口４４１１は、第１部材４１の外側面４１２よりも内側に配置されている。但し、流体回収口４４１１は、第１部材４１の下面４１３のうち任意の箇所に配置されていてもよい。

流体回収口４４１１には、メッシュプレート等の多孔部材４４１４が配置されていてもよい。多孔部材４４１４は、第２部材４２の上面４２１に対向する下面と、流体回収路４４１２に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。液体回収口４４１１は、多孔部材４４１４を介して、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。但し、流体回収口４４１１には、多孔部材４４１４が配置されていなくてもよい。

多孔部材４４１４の下面は、第１部材４１の下面４１３と同一平面上に配置されている。但し、多孔部材４４１４の下面は、第１部材４１の下面４１３とは異なる平面上に配置されていてもよい。多孔部材４４１４の下面は、第１部材４１の下面４１３に対して傾斜していてもよい。多孔部材４４１４の下面は、曲面を含んでいてもよい。

流体回収路４４１２は、流体回収口４４１１と流体回収装置４４１３とを連結する管路である。流体回収路４４１２は、流体回収口４４１１が配置されている部材（図２に示す例では、第１部材４１）の内部に形成される。

流体回収装置４４１３は、コントローラー９１の制御の下で、流体回収路４４１２を介して流体回収口４４１１に配置された多孔部材４４１４から液体ＬＱを回収する。つまり、コントローラー９１は、液体ＬＱを回収するように流体回収装置４４１３を制御する。例えば、コントローラー９１は、多孔部材４４１４の上面側の圧力（つまり、流体回収路４４１２における圧力）と多孔部材４４１４の下面側の圧力（つまり、液浸空間ＬＳの圧力）との差を調整するように、流体回収装置４４１３を制御してもよい。

尚、液浸空間ＬＳがチャンバ装置８によって規定される空間ＣＳ内に配置されていることを考慮すれば、液浸空間ＬＳの圧力は、コントローラー９１の制御を受けるチャンバ装置８が調整することができる。従って、コントローラー９１は、多孔部材４４１４の上面側の圧力と多孔部材４４１４の下面側の圧力との差を調整するように、流体回収装置４４１３及びチャンバ装置８を制御してもよい。

流体回収部４４１３は、コントローラー９１の制御の下で、多孔部材４４１４から液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されないように、流体回収路４４１２における圧力（つまり、多孔部材４４１４の上面側の圧力）を調整してもよい。尚、多孔部材が配置された流体回収口を介して液体を回収する一方で気体を回収しない技術の一例は、例えば、米国特許第７，２９２，３１３号に開示されている。但し、多孔部材４４１４から液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。

続いて、流体回収部４４２について説明する。

流体回収部４４２は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ２）から液体ＬＱを回収する。尚、流体回収部４４２は、第１部材４１よりも外側に配置されている。但し、流体回収部４４２は、第１部材４１よりも外側に配置されていなくてもよい。

流体回収部４４２は、流体回収口４４１２と、流体回収路４４２２と、流体回収装置４４２３とを含んでいる。

流体回収口４４２１は、第２部材４２の下面４２２に配置されている。言い換えれば、流体回収口４４２１は、第２部材４２の下面４２２と基板５１の上面との間に形成される空間ＳＰ２に面するように配置されている。言い換えれば、流体回収口４４２１は、基板５１の上面に対向するように配置されている。

流体回収口４４２１は、液体供給口４３１１よりも外側に配置されている。但し、流体回収口４４２１は、液体供給口４３１１よりも外側に配置されていなくてもよい。

流体回収口４４２１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に連続的に分布するように配置されている（図３参照）。言い換えれば、流体回収口４４２１は、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように配置されている。但し、流体回収口４４２１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に断続的に分布するように配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の流体回収口４４２１が配置されていてもよいし、複数の流体回収口４４２１が配置されていてもよい。

流体回収口４４２１は、第２部材４２の下面４２２のうち相対的に外側の箇所に配置されている。但し、流体回収口４４２１は、第２部材４２の下面４２２のうち任意の箇所に配置されていてもよい。

流体回収口４４２１には、メッシュプレート等の多孔部材４４２４が配置されていてもよい。多孔部材４４２４は、基板５１の上面に対向する下面と、流体回収路４４２２に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。液体回収口４４２１は、多孔部材４４２４を介して、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ２）から液体ＬＱを回収する。但し、流体回収口４４２１には、多孔部材４４２４が配置されていなくてもよい。

多孔部材４４２４の下面は、第２部材４２の下面４２２よりも上側に配置されている。但し、多孔部材４４２４の下面は、第２部材４２の下面４２２よりも上側に配置されていなくてもよい。多孔部材４４２４の下面は、第２部材４２の下面４２２に対して傾斜していてもよい。多孔部材４４２４の下面は、曲面を含んでいてもよい。

流体回収路４４２２は、流体回収口４４２１と流体回収装置４４２３とを連結する管路である。流体回収路４４２２は、流体回収口４４２１が配置されている部材（図２に示す例では、第２部材４２）の内部に形成される。

流体回収装置４４２３は、コントローラー９１の制御の下で、流体回収路４４２２を介して流体回収口４４２１に配置された多孔部材４４２４から液体ＬＱを回収する。つまり、コントローラー９１は、液体ＬＱを回収するように流体回収装置４４２３を制御する。例えば、コントローラー９１は、多孔部材４４２４の上面側の圧力（つまり、流体回収路４４２２における圧力）と多孔部材４４２４の下面側の圧力（つまり、液浸空間ＬＳの圧力）との差を調整するように、流体回収装置４４２３を制御してもよい。例えば、コントローラー９１は、多孔部材４４２４の上面側の圧力と多孔部材４４２４の下面側の圧力との差を調整するように、チャンバ装置８を制御してもよい。

流体回収部４４２３は、コントローラー９１の制御の下で、多孔部材４４２４から液体ＬＱ及び気体の双方が回収されるように、流体回収路４４１２における圧力（つまり、多孔部材の上面側の圧力）を調整してもよい。但し、多孔部材４４２４から液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。

第１実施形態では、コントローラー９１は、液体供給部４３１による液体ＬＱの供給動作と流体回収部４４１による液体ＬＱの回収動作及び流体回収部４４２による液体ＬＱの回収動作とが並行して行われるように、液体供給部４３１並びに流体回収部４４１及び流体回収部４４２を制御する。その結果、終端光学素子３１と液浸部材４Ａと基板５１との間に、液浸空間ＬＳが形成される。

但し、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給部４３１による液体ＬＱの供給動作並びに流体回収部４４１による液体ＬＱの回収動作及び流体回収部４４２による液体ＬＱの回収動作の全てが並行して行われなくてもよい。例えば、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給部４３１による液体ＬＱの供給動作並びに流体回収部４４１による液体ＬＱの回収動作及び流体回収部４４２による液体ＬＱの回収のうちの一つ又は二つが行われてもよい。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材４１と第２部材４２との間に形成される。以下、第１部材４１と第２部材４２との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ１と称する”。例えば、界面ＬＧ１は、流体回収口４４１１の下面（つまり、多孔部材４４１４の下面）と第２部材４２の上面４２１との間に形成される。このように界面ＬＧ１が形成されるため、空間ＳＰ１内の液体ＬＱが液体回収口４４１１よりも外側の空間（例えば、第１部材４１の外側面４１２と第２部材の内側面４２３との間の空間）に移動することが抑制される。従って、外側面４１２と内側面４２３との間の空間には、液体ＬＱが殆ど又は全く存在しない。その結果、外側面４１２と内側面４２３との間の空間は、空間ＣＳの一部に相当する気体空間となる。このため、第２部材４２は、相対的に円滑に移動することができる。

尚、仮に空間ＳＰ１内の液体ＬＱが液体回収口４４１１よりも外側の空間に移動してしまったとしても、内側面４２３の存在により、当該液体ＬＱが空間ＳＰ２（言い換えれば、基板５１上）に移動することが抑制される。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材４２と基板５１との間に形成される。以下、第２部材４２と基板５１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ２と称する”。例えば、界面ＬＧ２は、流体回収口４４２１の下面（つまり、多孔部材４４２４の下面）と基板５１の上面との間に形成される。このように界面ＬＧ２が形成されるため、空間ＳＰ２内の液体ＬＱが液体回収口４４２１よりも外側の空間に移動することが抑制される。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子３１と第１部材４１との間に形成される。以下、終端光学素子３１と第１部材４１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ３と称する”。このように界面ＬＧ３が形成されるため、空間ＳＰ３内の液体ＬＱが第１部材４１よりも上側の空間に移動することが抑制される。

尚、第１部材４１の下面４１３は、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４１３は、第２部材４２の上面４２１との間に液体ＬＱを保持する。第１部材４１の内側面４１１及び外側面４１３もまた、液体ＬＱを回収しない。

第２部材４２の上面４２１は、液体ＬＱを回収しない。従って、第上面４２１は、第１部材４１の下面４１３との間で液体ＬＱを保持する。第２部材４２の下面４２２もまた、液体ＬＱを回収しない。従って、下面４２２は、基板５１の上面との間で液体ＬＱを保持する。第２部材４２の内側面４２３及び内側面４２４もまた、液体ＬＱを回収しない。

液浸部材４Ａは、上述した液体供給部４３１並びに液体回収部４４１及び液体回収部４４２に加えて、液体供給部４３２と、液体回収部４４３とを更に備えている。以下、液体供給部４３２と、液体回収部４４３とについて、順に説明する。

まず、液体供給部４３２について説明する。

液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給する。

液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。尚、液体ＬＱの供給態様の調整の一例として、液体ＬＱの供給のＯＮ（つまり、供給する状態）／ＯＦＦ（つまり、供給しない状態）の切り替えや、液体ＬＱの供給量（例えば、単位時間当たりの供給量や、総供給量）の調整や、供給する液体ＬＱの特性（例えば、温度等）の調整等が一例としてあげられる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動につながり得る。従って、液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。

液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。

尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、例えば、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して変動し得る。つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力は、例えば、第２部材４２の移動に起因して変動し得る。このため、液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して、局所的に変動し得る。従って、液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。

尚、液体供給部４３２が液体ＬＱを供給する動作の詳細については、図１２から図１３等を参照しながら後に詳述する。

液体供給部４３２は、液体供給口４３２１と、液体供給路４３２２と、液体供給装置４３２３とを含んでいる。

液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１に配置されている。液体供給口４３２１は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに面するように配置されている。但し、液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１と終端光学素子３１の外面３３との間に形成される空間ＳＰ３に面するように配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、内側面４１１に加えて又は代えて、第１部材４１の下面４１３に配置されてもよい。液体供給口４３２１は、第１部材４１に加えて又は代えて、第２部材４２に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる他の部材に配置されていてもよい。

液体供給口４３２１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４３２１よりも内側に配置されている。但し、液体供給口４３２１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つよりも内側に配置されていなくてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つとＺ軸方向に沿って並ぶように配置されてもよい。

液体供給口４３２１は、流体回収部４４３が備える後述の流体回収口４４３１よりも内側に配置されている。但し、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１よりも内側に配置されていなくてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１よりも外側に配置されていてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１とＺ軸方向に沿って並ぶように配置されてもよい。

液体供給口４３２１は、流体回収部４４３が備える後述の流体回収口４４３１よりも下側に配置されている。但し、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１よりも下側に配置されていなくてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１よりも上側に配置されていてもよい。例えば、液体供給口４３２１は、流体回収口４４３１が配置される水平面と同一の平面に配置されてもよい。

液体供給口４３２１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に断続的に分布するように配置されている。例えば、液体供給口４３２１は、内側面４１１のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの箇所に配置されていてもよい。例えば、第２部材４２がＸ軸方向に沿って移動する場合には、液体供給口４３２１は、Ｘ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されていてもよい（図４参照）。但し、液体供給口４３２１は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように配置されていてもよい。言い換えれば、液体供給口４３２１は、終端光学素子３１を取り囲むように（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように）配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の液体供給口４３２１が配置されていてもよいし、複数の液体供給口４３２１が配置されていてもよい。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が第２部材４２の移動に起因していることを考慮すれば、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動は、第２部材４２の近傍において生じやすい可能性がある。従って、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように液体供給口４３２１が液体ＬＱを供給する場合には、液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１のうち第２部材４２に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、第２部材４２にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、液体供給口４３２１は、内側面４１１のうち第１部材４１の下面４１３に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、下面４１３にできるだけ近接する箇所に配置されていてもよい。言い換えれば、液体供給口４３２１は、内側面４１１のうち相対的に下側の箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、内側面４１１のうちできるだけ下側の箇所に配置されていてもよい。その結果、第２部材４２の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱをかき分けるように移動する第２部材４２の開口４２５の近傍において生じやすい可能性がある。従って、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動を抑制するように液体供給口４３２１が液体ＬＱを供給する場合には、液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１のうち開口４２５に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、開口４２５にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、液体供給口４３２１は、内側面４１１のうち第２部材４２の内側面４２４に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、内側面４２４にできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、開口４２５の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、開口４２５を規定する内側面４２４のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘの近傍において生じやすい可能性がある。なぜならば、第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘは、第２部材４２の移動の方向に交わる方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｙと比較して、相対的に多くの液体ＬＱをかき分けながら（言い換えれば、押しのけながら）移動することになるからである。従って、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように液体供給口４３２１が液体ＬＱを供給する場合には、液体供給口４３２１は、第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘに近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。液体供給口４３２１は、２つの内側面４２４Ｘにできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、２つの内側面４２４Ｘの近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

液体供給路４３２２は、液体供給口４３２１と液体供給装置４３２３とを連結する管路である。液体供給路４３２２は、液体供給口４３２１が配置されている部材（図２に示す例では、第１部材４１）の内部に形成される。

液体供給装置４３２３は、コントローラー９１の制御の下で、クリーンで温度調整された液体ＬＱを、液体供給路４３２２を介して液体供給口４３２１に供給する。つまり、コントローラー９１は、液体ＬＱを供給するように液体供給装置４３２３を制御する。その結果、液体供給口４３２１から、液浸空間ＬＳに対して（言い換えれば、光路空間ＳＰＫに対して）、液体ＬＱが供給される。

尚、液体供給装置４３２３が供給する液体ＬＱの特性（例えば、種類や温度等）は、液体供給装置４３１３が供給する液体ＬＱの特性と同一である。言い換えれば、液体供給装置４３２３が供給する液体ＬＱの特性は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの特性と同一である。但し、液体供給装置４３２３が供給する液体ＬＱの特性は、液体供給装置４３１３が供給する液体ＬＱの特性と異なっていてもよい。言い換えれば、液体供給装置４３２３が供給する液体ＬＱの特性は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの特性と異なっていてもよい。

液体供給口４３２１から光路空間ＳＰＫに対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１５を介して、第１部材４１の下面４１３と第２部材４２の上面４２１との間の空間ＳＰ１に供給されてもよい。液体供給口４３２１から光路空間ＳＰＫに対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４２５を介して、第２部材４２の下面４２２と基板５１の上面との間の空間ＳＰ２に供給されてもよい。液体供給口４３２１から光路空間ＳＰＫに対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１部材４１の内側面４１１と終端光学素子３１の外面３３との間の空間ＳＰ３に供給されてもよい。

続いて、流体回収部４４３について説明する。

流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収する。

流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。尚、液体ＬＱの回収態様の調整の一例として、液体ＬＱの回収のＯＮ（つまり、回収しない状態）／ＯＦＦ（つまり、回収する状態）の切り替えや、液体ＬＱの回収量（例えば、単位時間当たりの回収量や、総回収量）の調整等が一例としてあげられる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動につながり得る。従って、流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。

流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。

尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、例えば、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して変動し得ることは上述したとおりである。このため、流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して、局所的に変動し得る。従って、流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように、液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。

尚、液体回収部４４３が液体ＬＱを回収する動作の詳細については、図１４から図１５等を参照しながら後に詳述する。

流体回収部４４３は、流体回収口４４３１と、流体回収路４４３２と、流体回収装置４４３３とを含んでいる。

流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１に配置されている。流体回収口４４３１は、射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫに面するように配置されている。但し、流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１と終端光学素子３１の外面３３との間に形成される空間ＳＰ３に面するように配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、内側面４１１に加えて又は代えて、第１部材４１の下面４１３に配置されてもよい。流体回収口４４３１は、第１部材４１に加えて又は代えて、第２部材４２に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる他の部材に配置されていてもよい。

流体回収口４４３１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４３２１よりも内側に配置されている。但し、流体回収口４４３１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つよりも内側に配置されていなくてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つよりも外側に配置されていてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３１１並びに流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１のうちの少なくとも一つとＺ軸方向に沿って並ぶように配置されてもよい。

流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも外側に配置されている。但し、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも内側に配置されていなくてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも内側に配置されていてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１とＺ軸方向に沿って並ぶように配置されてもよい。

流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも上側に配置されている。但し、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも上側に配置されていなくてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１よりも下側に配置されていてもよい。例えば、流体回収口４４３１は、液体供給口４３２１が配置される水平面と同一の平面に配置されてもよい。

流体回収口４４３１は、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に断続的に分布するように配置されている。例えば、流体回収口４４３１は、内側面４１１のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの箇所に配置されていてもよい。例えば、第２部材４２がＸ軸方向に沿って移動する場合には、流体回収口４４３１は、Ｘ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されていてもよい（図４参照）。但し、流体回収口４４３１は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように配置されていてもよい。言い換えれば、流体回収口４４３１は、終端光学素子３１を取り囲むように（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように）配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の流体回収口４４３１が配置されていてもよいし、複数の流体回収口４４３１が配置されていてもよい。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が第２部材４２の近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように流体回収口４４３１が液体ＬＱを回収する場合には、流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１のうち第２部材４２に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、第２部材４２にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、流体回収口４４３１は、内側面４１１のうち第１部材４１の下面４１３に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、下面４１３にできるだけ近接する箇所に配置されていてもよい。言い換えれば、流体回収口４４３１は、内側面４１１のうち相対的に下側の箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、内側面４１１のうちできるだけ下側の箇所に配置されていてもよい。その結果、第２部材４２の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が第２部材４２の開口４２５の近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように流体回収口４４３１が液体ＬＱを回収する場合には、流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１のうち開口４２５に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、開口４２５にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、流体回収口４４３１は、内側面４１１のうち第２部材４２の内側面４２４に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、内側面４２４にできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、第２部材４２の開口４２５の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘの近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように流体回収口４４３１が液体ＬＱを回収する場合には、流体回収口４４３１は、第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘに近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。流体回収口４４３１は、２つの内側面４２４Ｘにできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、２つの内側面４２４Ｘの近傍において生じやすい液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が抑制されやすくなる。

流体回収口４４３１には、上述した流体回収口４４１１及び流体回収口４４２１と同様に、メッシュプレート等の多孔部材が配置されていてもよい。但し、流体回収口４４３１には、多孔部材が配置されていなくてもよい。

流体回収路４４３２は、流体回収口４４３１と流体回収装置４４３３とを連結する管路である。流体回収路４４３２は、流体回収口４４３１が配置されている部材（図２に示す例では、第１部材４１）の内部に形成される。

流体回収装置４４３３は、コントローラー９１の制御の下で、流体回収路４４３２を介して流体回収口４４３１から液体ＬＱを回収する。つまり、コントローラー９１は、液体ＬＱを回収するように流体回収装置４４３３を制御する。例えば、コントローラー９１は、流体回収路４４３２における圧力と液浸空間ＬＳの圧力との差を調整するように、流体回収装置４４３３を制御してもよい。例えば、コントローラー９１は、流体回収路４４３２における圧力と液浸空間ＬＳの圧力との差を調整するように、チャンバ装置８を制御してもよい。

尚、流体回収口４４３１からは、液体ＬＱが回収される一方で、気体が回収されなくてもよい。流体回収口４４３１からは、液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。
（１−２−２）液浸部材が備える第２部材の移動態様の具体例
続いて、図５及び図６を参照して、第２部材４２の移動態様の具体例について説明する。図５は、第２部材４２の移動態様の第１の具体例を示す断面図である。図６は、第２部材４２の移動態様の第２の具体例を示す断面図である。尚、図５及び図６では、図面の簡略化のために、図２に示した液浸部材４Ａの構成要件のうちの一部が省略されている。

第１実施形態では、第２部材４２は、基板５１の移動条件に基づいて移動する。言い換えれば、第２部材４２は、基板５１の移動条件（例えば、移動方向、移動速度、加速度及び移動距離のうちの少なくとも一つ）に基づいて定まる態様で移動する。従って、第２部材４２は、基板５１の移動と同期して移動してもよい。第２部材４２は、基板５１の移動に追従して移動してもよい。第２部材４２は、基板５１が移動している期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。いずれの場合であっても、第２部材４２は、基板５１の移動と独立して移動してもよい。

例えば、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が小さくなるように移動してもよい。つまり、第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が小さくなるように移動してもよい。尚、第２部材４２は、コントローラー９１の制御を受ける駆動装置４５１の動作によって移動することは上述したとおりである。従って、以下に説明する第２部材４２の移動は、コントローラー９１の制御によって実現される。

第１部材４１が移動しないことを考慮すれば、第２部材４２が移動しない場合における第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度は、実質的には、第１部材４１に対する基板５１の相対速度及び相対加速度と一致する。従って、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が、第１部材４１に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値よりも小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値を小さくするために、第２部材４２は、基板５１が移動する方向と同一の方向に向かって移動してもよい。言い換えれば、第２部材４２は、基板５１が移動する方向に向かって移動してもよい。

例えば、図５に示すように、基板５１が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ５１であり、第２部材４２のＸ軸方向に沿った移動速度が＋Ｖ４２であるとする。第２部材４２が移動しない場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２が移動する場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、｜Ｖ５１−Ｖ４２｜（＜｜Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２が移動する場合には、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２に対する基板５１の相対速度と同様である。

例えば、図６に示すように、基板５１が−Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、第２部材４２は、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。ここで、基板５１のＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ５１であり、第２部材４２のＸ軸方向に沿った移動速度が−Ｖ４２であるとする。第２部材４２が移動しない場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度の絶対値は、｜−Ｖ５１｜である。一方で、第２部材４２が移動する場合の第２部材４２に対する基板５１の相対速度は、｜−Ｖ５１＋Ｖ４２｜（＜｜−Ｖ５１｜）である。従って、第２部材４２が移動する場合には、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度が小さくなる。尚、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度についても、第２部材４２に対する基板５１の相対速度と同様である。

第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度のうちＸ軸方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。つまり、第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対速度のうちＸ軸方向に沿った速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度のうちＸ軸方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。つまり、第２部材４２は、第２部材４２が移動しない場合と比較して、第２部材４２に対する基板５１の相対加速度のうちＸ軸方向に沿った加速度成分の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２に対する基板５１のＸ軸方向に沿った速度成分及びＸ軸方向に沿った加速度成分の少なくとも一方の絶対値を小さくするために、第２部材４２は、Ｘ軸方向の成分を含む任意の方向に沿って基板５１が移動する場合には、当該Ｘ軸方向の成分と同一の方向に向かって移動してもよい。他方で、第２部材４２は、Ｘ軸方向の成分を含まない方向（例えば、Ｙ軸方向）に沿って基板５１が移動する場合には、移動しなくてもよい。但し、第２部材４２は、Ｘ軸方向の成分を含まない方向（例えば、Ｙ軸方向）に沿って基板５１が移動する場合に、Ｙ軸方向の成分と同一の方向に向かって移動してもよい。

尚、第２部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動してもよいことは上述したとおりである。この場合、コントローラー９１は、第２部材４２が移動している間も液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部４３１並びに流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一つを制御してもよい。このため、第２部材４２は、液体供給部４３１による液体ＬＱの供給と並行して移動してもよい。第２部材４２は、流体回収部４４１による液体ＬＱの回収と並行して移動してもよい。第２部材４２は、流体回収部４４２による液体ＬＱの回収と並行して移動してもよい。

また、上述したように、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値を小さくするために、第２部材４２は、当該第２部材４２の下側に基板５１が存在する状態で移動する。但し、第２部材４２は、第２部材４２の下側に基板５１が存在しない状態で移動してもよい。

以上説明したように、第１実施形態では、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値を小さくするように移動可能である。従って、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液体ＬＱが界面ＬＧ２よりも外側の領域に残留してしまうことが抑制される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板５１が相対的に高速度で移動しても、液浸空間ＬＳに気泡が発生することが抑制される。
（１−３）露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法
続いて、図７から図１１を参照して、露光装置ＥＸ１による基板５１の露光方法について説明する。

露光装置ＥＸ１が基板５１を露光する露光処理に先立って、まずは、コントローラー９１は、液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５を移動させる（つまり、移動させるように駆動システム８２を制御する）。その後、コントローラー９１は、基板交換位置に位置している基板ステージ５に、露光前の基板５１を搬入する（つまり、搬入するように、不図示の基板搬入装置を制御する）。

液浸部材４Ａから離れた基板交換位置に基板ステージ５が位置している間に、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６を移動させる（つまり、移動させるように、駆動システム８２を制御する）。その後、計測ステージ６が保持する計測部材６１は、露光光ＥＬを計測する。

計測部材６１による露光光ＥＬの計測が終了した後、コントローラー９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に、露光前の基板５１が搬入された基板ステージ５を移動させる。

尚、上述の動作が行われている間も、基板ステージ５又は計測ステージ６と終端光学素子３１との間に液浸空間ＬＳが形成され続けてもよい。従って、コントローラー９１は、上述の動作と並行して、液浸空間ＬＳを生成し続けるように、液体供給部４３１並びに流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一つを制御してもよい。但し、液浸空間４Ａは、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に基板ステージ５が位置する間は形成され続ける一方で、終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が位置する間は形成されていなくてもよい。

終端光学素子３１及び液浸部材４ＡとＺ軸方向に沿って対向する位置に露光前の基板５１が搬入された基板ステージ５が移動した後に、コントローラー９１は、基板５１に対する露光処理を開始する。具体的には、コントローラー９１の制御の下で、照明系２がマスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。マスク１１を通過した露光光ＥＬは、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して、基板５１に投影される。その結果、基板５１には、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像が基板５１に投影される。つまり、基板５１が露光される。

第１実施形態では、露光装置ＥＸ１は、マスク１１及び基板５１を同期させながら所定の走査方向（スキャン方向）に沿って移動させる走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である。第１実施形態では、マスク１１の走査方向及び基板５１の走査方向が、共にＹ軸方向であるものとする。従って、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。コントローラー９１は、基板５１のＹ軸方向に沿った移動と同期させながら、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。

ここで、図７を参照しながら、基板５１の移動の態様について説明する。図７は、基板ステージ５に保持されている基板５１の一例を示す平面図である。

図７に示すように、基板５１の上面には、複数のショット領域Ｓがマトリクス状に分布している。ショット領域Ｓは、露光光ＥＬによる１回の露光処理で露光される領域である。

例えば、ある一つのショット領域Ｓ１に対する露光処理を行う際には、当該ショット領域Ｓ１の上側に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。基板５１のＹ軸方向に沿った移動と同期しながら、コントローラー９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。このような基板５１及びマスク１１の移動と並行して、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。その結果、ショット領域Ｓ１は、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して投影される露光光ＥＬによって露光される。

ショット領域Ｓ１が露光終了位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了する。ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了した後には、次のショット領域Ｓ２（例えば、＋Ｘ軸方向側においてショット領域Ｓ１と隣接するショット領域Ｓ２）に対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われる。具体的には、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラー９１は、Ｙ軸方向に交わる方向（例えば、Ｘ軸方向、又は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に対して傾斜する方向）に沿って基板５１を移動する。次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。次のショット領域Ｓ２が露光開始位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光光ＥＬの露光処理と同様の態様で、ショット領域Ｓ２に対する露光光ＥＬの露光処理が開始する。

以下の説明では、ショット領域Ｓに対する露光処理を行うために、投影領域ＰＲに対してショット領域ＳがＹ軸方向に沿って移動するように基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を、適宜“スキャン移動動作”と称する。スキャン移動動作は、ショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態からショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。スキャン移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に沿って等速移動させる動作を含んでいる。但し、スキャン移動動作は、基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、スキャン移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。スキャン移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了した後に次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓが露光開始位置に移動するように基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を、適宜“ステップ移動動作”と称する。ステップ移動動作は、ショット領域Ｓが露光終了位置に位置している状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に位置している状態になるまで、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を含んでいてもよい。ステップ移動動作は、主として、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って加減速移動させる動作を含んでいる。例えば、ステップ移動動作は、基板５１をＸ軸方向に沿って加減速移動させる動作及び基板５１をＹ軸方向に沿って加減速移動させる動作のうちの少なくとも一方を含んでいる。但し、ステップ移動動作は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って等速移動させる動作を含んでいてもよい。尚、上述したように、ステップ移動動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。ステップ移動動作が行われている間は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。

尚、露光開始位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った一方の端部（例えば、投影領域ＰＲの進行方向に対して後方側の端部）を投影領域ＲＰが通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。露光開始位置は、あるショット領域Ｓに対する露光処理を行うためのスキャン移動動作を開始する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（スキャン移動動作開始位置）を含んでいてもよい。露光開始位置は、あるショット領域Ｓに対する露光処理を開始する前に行われるステップ移動動作を終了する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（ステップ移動動作終了位置）を含んでいてもよい。

露光終了位置は、あるショット領域ＳのＹ軸方向に沿った他方の端部（例えば、投影領域ＰＲの進行方向に対して前方側の端部）を投影領域ＲＰが通過する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（言い換えれば、基板５１の位置）を含んでいてもよい。露光終了位置は、あるショット領域Ｓに対する露光処理を行うためのスキャン移動動作を終了する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（スキャン移動動作終了位置）を含んでいてもよい。露光終了位置は、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了した後にステップ移動動作を開始する時点での当該あるショット領域Ｓの位置（ステップ移動動作開始位置）を含んでいてもよい。

また、以下の説明では、あるショット領域Ｓに対する露光処理を行うためにスキャン移動動作が行われる期間を、適宜“スキャン移動期間”と称する。スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓに対する露光処理が行われている期間（いわゆる、露光期間）を含んでいてもよい。スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓが露光開始位置から露光終了位置に移動するまでの間の期間を含んでいてもよい。

一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了してから次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するためにステップ移動動作が行われる期間を、適宜“ステップ移動期間”と称する。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓに対する露光処理が行われていない期間を含んでいてもよい。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に到達してから次のショット領域Ｓが露光開始位置に移動するまでの間の期間を含んでいてもよい。

コントローラー９１は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを交互に繰り返し行う。その結果、基板５１上の複数のショット領域Ｓに対する露光処理が順次行われる。

複数のショット領域Ｓに対する露光処理を行う際に、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１を移動させてもよい。例えば、コントローラー９１は、複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、基板５１の移動条件（例えば、移動速度、加速度、移動距離、移動方向及びＸＹ平面内での移動軌跡のうちの少なくとも一つ）を調整してもよい。例えば、図７に示すように、コントローラー９１は、露光条件に基づいて、投影領域ＰＲが基板５１に対して移動軌跡Ｓｒに沿って相対的に移動するように、基板５１を移動させてもよい。

複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば、露光レシピと称される露光制御情報に規定されている。露光制御情報は、例えばメモリ９２に記憶されている。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓの配列情報（例えば、複数のショット領域Ｓの夫々の位置）を含んでいてもよい。露光制御情報が規定する露光条件は、例えば、複数のショット領域Ｓのサイズ（例えば、複数のショット領域ＳのＹ軸方向の長さ）を含んでいてもよい。

尚、図７に示すように、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部がカバー部材５２上に形成されてもよい。スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板５１とカバー部材５２とに跨るように形成されてもよい。計測ステージ６が基板ステージ５に隣接又は接触した状態で基板５１に対する露光処理が行われる場合には、スキャン移動期間及びステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が基板ステージ５と計測ステージ６とに跨るように形成されてもよい。

第２部材４２は、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。具体的には、第２部材４２は、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が小さくなるように移動してもよい。

第２部材４２は、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。具体的には、第２部材４２は、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が小さくなるように移動してもよい。但し、第２部材４２は、スキャン移動期間中に移動しなくてもよい。つまり、第２部材４２は、照明系２が露光光ＥＬを照射している間（言い換えれば、露光光ＥＬによって基板５１が露光されている間）は、移動しなくてもよい。

ここで、図８を参照しながら、第２部材４２の移動態様について説明する。図８は、第２部材４２の移動態様を示す平面図である。

図８（ａ）から図８（ｅ）に示すように、第２部材４２はＸ軸方向に沿って移動する。但し、第２部材４２がＸ軸方向に交わる方向に沿って移動してもよいことは上述したとおりである。例えば、図８（ａ）は、第２部材４２が、第２部材４２の移動可能範囲のうち最も＋Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｒに配置されている例を示す。図８（ｅ）は、第２部材４２が、第２部材４２の移動可能範囲のうち最も−Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｓに配置されている例を示す。従って、第２部材４２の移動可能範囲は、端部位置Ｊｒから端部位置Ｊｓの間の範囲となる。

図８（ｃ）は、第２部材４２が、第２部材４２の移動可能範囲のうちの中央位置Ｊｍに配置されている例を示す。第２部材４２が中央位置Ｊｍに配置されている場合には、第２部材４２の開口４２５の中心が、光軸ＡＸと一致していてもよい。中央位置Ｊｍ(或いは、開口４２５の中心が光軸ＡＸと一致している場合の第２部材４２の位置）を、原点と称してもよい。

図８（ｂ）は、第２部材４２が、端部位置Ｊｒと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｒｍに配置されている例を示している。図８（ｄ）は、第２部材４２が、端部位置Ｊｓと中央位置Ｊｍとの間の位置Ｊｓｍに配置されている例を示している。但し、第２部材４２は、端部位置Ｊｒｍ及び端部位置Ｊｓｍに限らず、端部位置Ｊｒと端部位置Ｊｓとの間の任意の位置に配置されてもよい。

このような第２部材４２の移動態様を踏まえた上で、図９から図１１を参照して、基板５１の具体的な移動態様と第２部材４２の具体的な移動態様との関係について説明する。図９は、移動軌跡Ｓｒの一具体例を示す平面図である。図１０及び図１１は、夫々、図９に示す態様で基板５１が移動した場合の第２部材４２の移動態様を示す平面図である。

図９に示すように、Ｘ軸方向に沿って隣接する３つのショット領域Ｓ（つまり、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ及びショット領域Ｓｃ）に対する露光処理を行う場合を例にあげる。この場合、コントローラー９１は、移動軌跡Ｓｒに沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。

具体的には、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の位置（つまり、−Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ１からショット領域Ｓａ上の位置（つまり、＋Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ２に到達するまでの経路Ｔｐ１に沿って（つまり、Ｙ軸方向に沿って）投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、−Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓａに対する露光処理が行われる（つまり、ショット領域Ｓａが露光される）。

投影領域ＰＲが位置ｄ１に位置している場合には、図１０（ａ）に示すように、第２部材４２は、移動可能範囲のうち最も−Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｓに配置される。投影領域ＰＲが位置ｄ２に位置している場合には、図１０（ｂ）に示すように、第２部材４２は、移動可能範囲のうち最も＋Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｒに配置される。

つまり、経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、端部位置Ｊｓから端部位置Ｊｒに向かって移動する。経路Ｔｐ１に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向（つまり、ステップ移動期間中に基板５１が移動する方向とは逆の方向）に向かって移動する。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓａ上の位置ｄ２からショット領域Ｓｂ上の位置（つまり、＋Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ３に到達するまでの経路Ｔｐ２に沿って（つまり、Ｙ軸方向に交わる方向に沿って）投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って（例えば、−Ｘ軸方向側に向かう方向を主成分とする方向に向かって）移動させるステップ移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。尚、図９中の位置ｄ２．５は、位置ｄ２と位置ｄ３との間の中間点を示す。

投影領域ＰＲが位置ｄ２．５に位置している場合には、図１０（ｃ）に示すように、第２部材５２は、移動可能範囲の中央位置Ｊｍに配置される。投影領域ＰＲが位置ｄ３に位置している場合には、図１０（ｄ）に示すように、第２部材５２は、移動可能範囲のうち最も−Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｓに配置される。

つまり、経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにステップ移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、端部位置Ｊｒから端部位置Ｊｓに向かって移動する。経路Ｔｐ２に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにステップ移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、−Ｘ軸方向（つまり、ステップ移動期間中に基板５１が移動する方向と同一の方向）に向かって移動する。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の位置ｄ３からショット領域Ｓｂ上の位置（つまり、−Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ４に到達するまでの経路Ｔｐ３に沿って（つまり、Ｙ軸方向に沿って）投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、＋Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓｂに対する露光処理が行われる（つまり、ショット領域Ｓｂが露光される）。

投影領域ＰＲが位置ｄ４に位置している場合には、図１１（ａ）に示すように、第２部材４２は、移動可能範囲のうち最も＋Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｒに配置される。

つまり、経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、端部位置Ｊｓから端部位置Ｊｒに向かって移動する。経路Ｔｐ３に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向（つまり、ステップ移動期間中に基板５１が移動する方向とは逆の方向）に向かって移動する。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｂ上の位置ｄ４からショット領域Ｓｃ上の位置（つまり、−Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ５に到達するまでの経路Ｔｐ４に沿って（つまり、Ｙ軸方向に交わる方向に沿って）投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って（例えば、−Ｘ軸方向側に向かう方向を主成分とする方向に向かって）移動させるステップ移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間は、基板５１が露光されることはない。尚、図９中の位置ｄ４．５は、位置ｄ４と位置ｄ５との間の中間点を示す。

投影領域ＰＲが位置ｄ４．５に位置している場合には、図１１（ｂ）に示すように、第２部材５２は、移動可能範囲の中央位置Ｊｍに配置される。投影領域ＰＲが位置ｄ５に位置している場合には、図１１（ｃ）に示すように、第２部材５２は、移動可能範囲のうち最も−Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｓに配置される。

つまり、経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにステップ移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、端部位置Ｊｒから端部位置Ｊｓに向かって移動する。経路Ｔｐ４に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにステップ移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、−Ｘ軸方向（つまり、ステップ移動期間中に基板５１が移動する方向と同一の方向）に向かって移動する。

その後、コントローラー９１は、ショット領域Ｓｃ上の位置ｄ５からショット領域Ｓｃ上の位置（つまり、＋Ｘ軸方向側の端部位置）ｄ６に到達するまでの経路Ｔｐ５に沿って（つまり、Ｙ軸方向に沿って）投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するように、基板５１を移動させる。つまり、経路Ｔｐ５に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する場合には、コントローラー９１は、基板５１をＹ軸方向に沿って（例えば、−Ｙ軸方向に向かって）移動させるスキャン移動動作を行う。従って、経路Ｔｐ５に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動する間に、ショット領域Ｓｃに対する露光処理が行われる（つまり、ショット領域Ｓｃが露光される）。

投影領域ＰＲが位置ｄ６に位置している場合には、図１１（ｄ）に示すように、第２部材４２は、移動可能範囲のうち最も＋Ｘ軸方向側の端部位置Ｊｒに配置される。つまり、経路Ｔｐ５に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、端部位置Ｊｓから端部位置Ｊｒに向かって移動する。経路Ｔｐ５に沿って投影領域ＰＲが基板５１に対して相対的に移動するようにスキャン移動動作が行われる場合には、第２部材４２は、＋Ｘ軸方向（つまり、ステップ移動動作が行われることで基板５１が移動する方向とは逆の方向）に向かって移動する。

このように、第１実施形態では、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２は、第２部材４２に対する基板５１の相対速度及び相対加速度の少なくとも一方の絶対値が小さくなるように、基板５１が移動する方向とは逆の方向に向かって移動する。但し、ステップ移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２は、基板５１が移動する方向とは逆の方向に向かって移動しなくてもよい。

一方で、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２は、次のステップ移動期間のうちの少なくとも一部において基板５１が移動する方向とは逆の方向に向かって再度移動することができるように、基板５１が移動する方向に向かって移動する。但し、スキャン移動期間のうちの少なくとも一部の期間中に、第２部材４２は、基板５１が移動する方向に向かって移動しなくてもよい。
（１−４）液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作
続いて、図１２及び図１３を参照して、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の具体例について説明する。尚、図１２及び図１３では、図面の簡略化のために、図２に示した液浸部材４Ａの構成要件のうちの一部が省略されている。

以下の説明では、説明の簡略化のために、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳの少なくとも一部に対して液体ＬＱを供給する（或いは、液体ＬＱの供給態様を調整する）ものとする。但し、上述したように、液体供給部４３２は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動の抑制の実現の有無に関係なく、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳの少なくとも一部に対して液体ＬＱを供給してもよい（或いは、液体ＬＱの供給態様を調整してもよい）。上述したように、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に関わらず、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳの少なくとも一部に対して液体ＬＱを供給してもよい（或いは、液体ＬＱの供給態様を調整してもよい）。
（１−４−１）液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例
はじめに、図１２を参照して、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例について説明する。図１２は、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例を示す断面図である。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例を説明するに当たって、まずは、第２部材４２の移動と液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動との間の関係について説明する。

図１２に示すように、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動するものとする。つまり、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置している一部の第２部材４２が、光軸ＡＸから遠ざかる方向に向かって移動するものとする。

ここで、図１２に示すように、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。言い換えれば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置している一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。言い換えれば、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。

この場合、第２部材４２の移動に伴って、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置している流体回収口４４２１もまた、＋Ｘ軸方向に向かって移動する。つまり、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置している流体回収口４４２１が、光軸ＡＸから遠ざかる方向に向かって移動する。その結果、図１２に示すように、第２部材４２が移動した後には、第２部材４２が移動する前と比較して、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２の体積が増加し得る。つまり、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２における液体ＬＱが不足している状態が一時的に生じ得る。尚、以下、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２を、適宜“空間ＳＰ２（＋Ｘ）”と称する。

空間ＳＰ２（＋Ｘ）における液体ＬＱの不足は、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に向かう液体ＬＱの局所的な移動を引き起こしかねない。例えば、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に隣接する又は近接する空間（例えば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側における一部の光路空間ＳＰＫ、一部の空間ＳＰ１及び一部の空間ＳＰ３のうちの少なくとも一つ）内の液体ＬＱが空間ＳＰ２（＋Ｘ）に向かって移動しかねない。言い換えれば、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に隣接する又は近接する空間内の液体ＬＱが、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に向かって引き込まれかねない。その結果、第２部材４２が移動した後には、第２部材４２が移動する前と比較して、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に隣接する又は近接する空間（例えば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側における一部の光路空間ＰＳＫや一部の空間ＰＳ３）における液体ＬＱが不足している状態が一時的に生じ得る。

空間ＳＰ２（＋Ｘ）に隣接する又は近接する空間における液体ＬＱの不足は、空間ＳＰ２（＋Ｘ）に隣接する又は近接する空間に向かう液体ＬＱの局所的な移動を引き起こしかねない。更には、同様な態様で液体ＬＱの局所的な移動の繰り返し（いわゆる、液体ＬＱの規則的な又は不規則的なうねり）が引き起こされかねない。

このように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足を引き起こしかねない。光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内における液体ＬＱの移動（更には、液体ＬＱのうねり）を引き起こしかねない。少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内における液体ＬＱの移動は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を引き起こしかねない。例えば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足に起因した液体ＬＱの移動は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の減少を引き起こしかねない。

図１２では、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する例を示している。しかしながら、第２部材４２が−Ｘ軸方向に向かって移動する場合においても、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが不足している状態が生じ得る。第２部材４２が任意の所定方向に向かって移動する場合においても、光軸ＡＸよりも所定方向側（つまり、第２部材４２が移動した方向側）に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが不足している状態が生じ得る。言い換えれば、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが不足している状態が生じ得る。

従って、第１の具体例では、液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向（つまり、第２部材４２が移動した方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給する。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給する。その結果、液体供給部４３２は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを供給することができる。

尚、以下の説明では、液体供給部４３２が行う動作は、主としてコントローラー９１の制御の下で行われる。つまり、液体供給部４３２は、コントローラー９１からの制御信号に基づいて、以下に説明する動作を行うものとする。但し、液体供給部４３２が、コントローラー９１からの制御信号に基づくことなく、以下に説明する動作を行ってもよい。つまり、液体供給部４３２が、コントローラー９１に相当する構成を内蔵していてもよい。図１３を参照しながら後に詳述する液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例においても同様である。

また、以下の説明では、説明の簡略化のために、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動した場合の液体供給部４３２の動作に着目して説明を進める。但し、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動した場合には、液体供給部４３２は、以下の説明の“＋Ｘ軸方向”及び“−Ｘ軸方向”という文言を夫々“所定方向”及び“所定方向とは逆向きの他の方向”という文言に置き換える動作を行う。その結果、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動する場合であっても、液体供給部４３２は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを供給することができる。図１３を参照しながら後に詳述する液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例においても同様である。

図１２に示すように、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を増加させてもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を増加させてもよい。

尚、「供給量の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の供給量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の供給量の増加を含んでいてもよい。「供給量の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の供給量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の供給量の増加を含んでいてもよい。

例えば、上述したように、液体供給部４３２が含む液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１のうちＸ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されている（図４参照）。従って、液体供給部４３２は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１から液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する液体供給口４３２１から液体ＬＱを供給してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。尚、以下では、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１を、適宜“液体供給口４３２１（＋Ｘ）”と称する。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で液体供給口４３２１（＋Ｘ）が液体ＬＱを供給していない場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（＋Ｘ）から液体ＬＱを新たに供給してもよい。例えば、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を、ゼロからゼロより大きい供給量Ｓ１１に増加させてもよい。

２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で液体供給口４３２１（＋Ｘ）が液体ＬＱを既に供給している場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を増加させてもよい。例えば、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を、ゼロより大きい供給量Ｓ１２から供給量Ｓ１２とゼロより大きい増加量Δｓ１との総和（つまり、Ｓ１２＋Δｓ１）に増加させてもよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を増加させる場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量を設定してもよい。例えば、供給量をゼロからＳ１１に増加させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量（つまり、Ｓ１１）を設定してもよい。例えば、供給量をＳ１２からＳ１２＋Δｓ１に増加させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量（つまり、Ｓ１２＋Δｓ１）を設定してもよい。但し、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量を設定しなくともよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を増加させる場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の増加量を設定してもよい。例えば、供給量をゼロからＳ１１に増加させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の増加量（つまり、Ｓ１１）を設定してもよい。例えば、供給量をＳ１２からＳ１２＋Δｓ１に増加させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の増加量（つまり、Δｓ１）を設定してもよい。但し、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の増加量を設定しなくてもよい。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動量があげられる。例えば、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、上述した光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得る。つまり、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、上述した液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が大きくなり得る。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど供給量及び増加量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、供給量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動速度があげられる。例えば、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、上述した光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得る。つまり、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、上述した液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が大きくなり得る。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど供給量及び増加量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、供給量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を増加させる場合には、液体供給部４３２は、供給量を増加させるために要する供給増加時間を適宜調整してもよい。例えば、供給量をゼロからＳ１１に増加させる液体供給部４３２は、供給量をゼロからＳ１１に増加させるために要する供給増加時間を適宜調整してもよい。供給量をＳ１２からＳ１２＋Δｓ１に増加させる液体供給部４３２は、供給量をＳ１２からＳ１２＋Δｓ１に増加させるために要する供給増加時間を適宜調整してもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、供給増加時間を調整してもよい。例えば、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど供給増加時間が短くなる（例えば、連続的に又は段階的に短くなる）ように、供給増加時間を調整してもよい。この場合、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど、供給量は急速に増加していく。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を固定してもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量を適宜調整してもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量を動的に増減させてもよい。つまり、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量が適宜変動してもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を増加させている状態を維持してもよい。つまり、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を、増加後の供給量（例えば、上述したＳ１１やＳ１２＋Δｓ１）に設定し続けてもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液体ＬＱの供給量を増加させる一方で、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中に液体ＬＱの供給量を増加させなくてもよい。例えば、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの一部の期間中の液体ＬＱの供給量を、増加後の供給量に設定してもよい。一方で、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中の液体ＬＱの供給量を、増加前の供給量（例えば、上述したゼロやＳ１２）又は増加前の供給量よりも少ない供給量に設定してもよい。

以上説明したように、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例によれば、液体供給部４３２は、液体ＬＱが不足する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を増加させることができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、液体供給部４３２は、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱを供給する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量の増加量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、液浸空間ＬＳを形成するために液体ＬＱを供給する液体供給部４３１は、液体供給部４３２が行う供給動作の第１の具体例と同様の態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。つまり、液体供給部４３１は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。言い換えれば、液体供給部４３１は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。但し、液体供給部４３１は、液体供給部４３２が行う供給動作の第１の具体例と同様の態様で液体ＬＱを供給してもよい。つまり、液体供給部４３１は、液体供給部４３２と協調して又は液体供給部４３２とは別個に、少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給してもよい。言い換えれば、液体供給部４３１は、液体供給部４３２と協調して又は液体供給部４３２とは別個に、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを供給してもよい。
（１−４−２）液体供給部４３２による液体の供給動作の第２の具体例
続いて、図１３を参照して、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例について説明する。図１３は、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例を示す断面図である。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例を説明するに当たって、まずは、第２部材４２の移動と液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動との間の関係について説明する。

図１３に示すように、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動するものとする。つまり、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置している一部の第２部材４２が、光軸ＡＸに近づく方向に向かって移動するものとする。

ここで、図１３に示すように、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。言い換えれば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置している一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。言い換えれば、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目する。

この場合、第２部材４２の移動に伴って、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置している流体回収口４４２１もまた、＋Ｘ軸方向に向かって移動する。つまり、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置している流体回収口４４２１が、光軸ＡＸに近づく方向に向かって移動する。その結果、図１３に示すように、第２部材４２が移動した後には、第２部材４２が移動する前と比較して、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２の体積が減少し得る。つまり、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２における液体ＬＱが余剰となる状態が一時的に生じ得る。尚、以下、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ２を、適宜“空間ＳＰ２（−Ｘ）”と称する。

空間ＳＰ２（−Ｘ）における液体ＬＱの余剰は、空間ＳＰ２（−Ｘ）から流出する液体ＬＱの局所的な移動を引き起こしかねない。例えば、空間ＳＰ２（−Ｘ）に隣接する又は近接する空間（例えば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側における一部の光路空間ＳＰＫ、一部の空間ＳＰ１及び一部の空間ＳＰ３のうちの少なくとも一つ）に向かって、空間ＳＰ２（−Ｘ）内の液体ＬＱが移動しかねない。言い換えれば、空間ＳＰ２（−Ｘ）に隣接する又は近接する空間に向かって、空間ＳＰ２（−Ｘ）内の液体ＬＱが流出することになる。その結果、第２部材４２が移動した後には、第２部材４２が移動する前と比較して、空間ＳＰ２（−Ｘ）に隣接する又は近接する空間（例えば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側における一部の光路空間ＰＳＫや一部の空間ＰＳ３）における液体ＬＱが余剰である状態が一時的に生じ得る。

空間ＳＰ２（−Ｘ）に隣接する又は近接する空間における液体ＬＱの余剰は、空間ＳＰ２（−Ｘ）に隣接する又は近接する空間から流出する液体ＬＱの局所的な移動を引き起こしかねない。更には、同様な態様で液体ＬＱの局所的な移動の繰り返し（いわゆる、液体ＬＱの規則的な又は不規則的なうねり）が引き起こされかねない。

このように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰を引き起こしかねない。光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内における液体ＬＱの移動（更には、液体ＬＱのうねり）を引き起こしかねない。少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内における液体ＬＱの移動は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を引き起こしかねない。例えば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰に起因した液体ＬＱの移動は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の増加を引き起こしかねない。

図１３では、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する例を示している。しかしながら、第２部材４２が−Ｘ軸方向に向かって移動する場合においても、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが余剰である状態が生じ得る。第２部材４２が任意の所定方向に向かって移動する場合においても、光軸ＡＸよりも所定方向とは逆向きの他の方向側（つまり、第２部材４２が移動した方向とは逆向きの他の方向側）に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが余剰である状態が生じ得る。言い換えれば、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが余剰である状態が生じ得る。

従って、第２の具体例では、液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向とは逆向きの他の方向（つまり、第２部材４２が移動した方向とは逆向きの他の方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給する。液体供給部４３２は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給する。その結果、液体供給部４３２は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを供給することができる。

図１３に示すように、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を減少させてもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を減少させてもよい。

尚、「供給量の減少」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の供給量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の供給量の減少を含んでいてもよい。「供給量の減少」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の供給量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の供給量の減少を含んでいてもよい。

例えば、上述したように、液体供給部４３２が含む液体供給口４３２１は、第１部材４１の内側面４１１のうちＸ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されている（図４参照）。従って、液体供給部４３２は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給を停止してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸに近づくように移動する液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給を停止してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。液体供給部４３２は、光軸ＡＸに近づくように移動する液体供給口４３２１からの液体ＬＱの供給態様を調整してもよい。尚、以下では、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている液体供給口４３２１を、適宜“液体供給口４３２１（−Ｘ）”と称する。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で液体供給口４３２１（−Ｘ）が液体ＬＱを供給している場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給を停止してもよい。この場合、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を、ゼロより大きい供給量Ｓ２１からゼロに減少させてもよい。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で液体供給口４３２１（−Ｘ）が液体ＬＱを供給している場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を減少させてもよい。例えば、液体供給部４３２は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量を、ゼロより大きい供給量Ｓ２２から供給量Ｓ２２とゼロより大きい減少量Δｓ２との差分（つまり、Ｓ２２−Δｓ２）に減少させてもよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を減少させる場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量を設定してもよい。例えば、供給量をＳ２２からＳ２２−Δｓ２に減少させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量（つまり、Ｓ２２−Δｓ２）を設定してもよい。但し、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量を設定しなくともよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を減少させる場合には、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の減少量を設定してもよい。例えば、供給量をＳ２２からＳ２２＋Δｓ２に減少させる液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の減少量（つまり、Δｓ）を設定してもよい。但し、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの供給量の減少量を設定しなくてもよい。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動量があげられる。例えば、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得る。つまり、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が大きくなり得る。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど供給量及び減少量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、供給量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動速度があげられる。例えば、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得る。つまり、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が大きくなり得る。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど供給量及び減少量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、供給量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体ＬＱの供給量（例えば、液体供給口４３２１（−Ｘ）からの液体ＬＱの供給量）を減少させる場合には、液体供給部４３２は、供給量を減少させるために要する供給減少時間を適宜調整してもよい。例えば、供給量をＳ２１からゼロに減少させる液体供給部４３２は、供給量をＳ２１からゼロに減少させるために要する供給減少時間を適宜調整してもよい。供給量をＳ２２からＳ２２−Δｓ２に減少させる液体供給部４３２は、供給量をＳ２２からＳ２２−Δｓ２に減少させるために要する供給減少時間を適宜調整してもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２の移動条件に基づいて、供給減少時間を調整してもよい。例えば、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、液体供給部４３２は、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど供給減少時間が短くなる（例えば、連続的に又は段階的に短くなる）ように、供給減少時間を調整してもよい。この場合、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど、供給量は急速に減少していく。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を固定してもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量を適宜調整してもよい。液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量を動的に増減させてもよい。つまり、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの供給量が適宜変動してもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を減少させている状態を維持してもよい。つまり、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの供給量を、減少後の供給量（例えば、上述したゼロやＳ２２−Δｓ２）に設定し続けてもよい。

液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液体ＬＱの供給量を減少させる一方で、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中に液体ＬＱの供給量を減少させなくてもよい。例えば、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの一部の期間中の液体ＬＱの供給量を、減少後の供給量に設定してもよい。一方で、液体供給部４３２は、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中の液体ＬＱの供給量を、減少前の供給量（例えば、上述したＳ２１やＳ２２）又は減少前の供給量よりも多い供給量に設定してもよい。

以上説明したように、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例によれば、液体供給部４３２は、液体ＬＱが余剰である一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を減少させることができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、液体供給部４３２は、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱを供給する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給量の減少量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、液浸空間ＬＳを形成するために液体ＬＱを供給する液体供給部４３１は、液体供給部４３２が行う供給動作の第２の具体例と同様の態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。つまり、液体供給部４３１は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。言い換えれば、液体供給部４３１は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを供給しなくてもよい。但し、液体供給部４３１は、液体供給部４３２が行う供給動作の第２の具体例と同様の態様で液体ＬＱを供給してもよい。つまり、液体供給部４３１は、液体供給部４３２と協調して又は液体供給部４３２とは別個に、少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを供給してもよい。言い換えれば、液体供給部４３１は、液体供給部４３２と協調して又は液体供給部４３２とは別個に、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを供給してもよい。
（１−５）流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作
続いて、図１４及び図１５を参照して、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の具体例について説明する。尚、図１４及び図１５では、図面の簡略化のために、図２に示した液浸部材４Ａの構成要件のうちの一部が省略されている。

以下の説明では、説明の簡略化のために、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳの少なくとも一部から液体ＬＱを回収する（或いは、液体ＬＱの回収態様を調整する）ものとする。但し、上述したように、流体回収部４４３は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動の抑制の実現の有無に関係なく、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳの少なくとも一部から液体ＬＱを回収してもよい（或いは、液体ＬＱの回収態様を調整してもよい）。上述したように、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に関わらず、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳの少なくとも一部から液体ＬＱを回収してもよい（或いは、液体ＬＱの回収態様を調整してもよい）。
（１−５−１）流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例
はじめに、図１４を参照して、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例について説明する。図１４は、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例を示す断面図である。

図１４に示すように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰を引き起こしかねないことは上述した通りである（図１３参照）。

従って、第１の具体例では、流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向とは逆向きの他の方向（つまり、第２部材４２が移動した方向とは逆向きの他の方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収する。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収する。その結果、流体回収部４４３は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを回収することができる。

尚、以下の説明では、流体回収部４４３が行う動作は、主としてコントローラー９１の制御の下で行われる。つまり、流体回収部４４３は、コントローラー９１からの制御信号に基づいて、以下に説明する動作を行うものとする。但し、流体回収部４４３が、コントローラー９１からの制御信号に基づくことなく、以下に説明する動作を行ってもよい。つまり、流体回収部４４３が、コントローラー９１に相当する構成を内蔵していてもよい。図１５を参照しながら後に詳述する流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例においても同様である。

また、以下の説明では、説明の簡略化のために、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動した場合の流体回収部４４３の動作に着目して説明を進める。但し、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動した場合には、流体回収部４４３は、以下の説明の“＋Ｘ軸方向”及び“−Ｘ軸方向”という文言を夫々“所定方向”及び“所定方向とは逆向きの他の方向”という文言に置き換える動作を行う。その結果、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動する場合であっても、流体回収部４４３は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを回収することができる。図１５を参照しながら後に詳述する流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例においても同様である。

図１４に示すように、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を増加させてもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を増加させてもよい。

尚、「回収量の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の回収量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の回収量の増加を含んでいてもよい。「回収量の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の回収量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の回収量の増加を含んでいてもよい。

例えば、上述したように、流体回収部４４３が含む流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１のうちＸ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されている（図４参照）。従って、流体回収部４４３は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する流体回収口４４３１から液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸに近づくように移動する流体回収口４４３１から液体ＬＱを回収してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。尚、以下では、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている一部の流体回収口４４３１を、適宜“流体回収口４４３１（−Ｘ）”と称する。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で流体回収口４４３１（−Ｘ）が液体ＬＱを回収していない場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（−Ｘ）から液体ＬＱを新たに回収してもよい。この場合、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を、ゼロからゼロより大きい回収量Ｒ１１に増加させてもよい。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で流体回収口４４３１（−Ｘ）が液体ＬＱを既に回収している場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を増加させてもよい。例えば、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を、ゼロより大きい回収量Ｒ１２から回収量Ｒ１２とゼロより大きい増加量Δｒ１との総和（つまり、Ｒ１２＋Δｒ１）に増加させてもよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を増加させる場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量を設定してもよい。例えば、回収量をゼロからＲ１１に増加させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量（つまり、Ｒ１１）を設定してもよい。例えば、回収量をＲ１２からＲ１２＋Δｒ１に増加させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量（つまり、Ｒ１２＋Δｒ１）を設定してもよい。但し、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量を設定しなくともよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を増加させる場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の増加量を設定してもよい。例えば、回収量をゼロからＲ１２に増加させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の増加量（つまり、Ｒ１２）を設定してもよい。例えば、回収量をＲ１２からＲ１２＋Δｒ１に増加させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の増加量（つまり、Δｒ１）を設定してもよい。但し、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の増加量を設定しなくてもよい。

流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動量があげられる。例えば、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど回収量及び増加量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、回収量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動速度があげられる。例えば、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど回収量及び増加量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、回収量及び増加量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（−Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を増加させる場合には、流体回収部４４３は、回収量を増加させるために要する回収増加時間を適宜調整してもよい。例えば、回収量をゼロからＲ１１に増加させる流体回収部４４３は、回収量をゼロからＲ１１に増加させるために要する回収増加時間を適宜調整してもよい。回収量をＲ１２からＲ１２＋Δｒ１に増加させる流体回収部４４３は、回収量をＲ１２からＲ１２＋Δｒ１に増加させるために要する回収増加時間を適宜調整してもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、回収増加時間を調整してもよい。例えば、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど回収増加時間が短くなる（例えば、連続的に又は段階的に短く）ように、回収増加時間を調整してもよい。この場合、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど、回収量は急速に増加していく。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を固定してもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量を適宜調整してもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量を動的に増減させてもよい。つまり、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量が適宜変動してもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を増加させている状態を維持してもよい。つまり、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を、増加後の回収量（例えば、上述したＲ１１やＲ１２＋Δｒ１）に設定し続けてもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液体ＬＱの回収量を増加させる一方で、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中に液体ＬＱの回収量を増加させなくてもよい。例えば、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの一部の期間中の液体ＬＱの回収量を、増加後の回収量に設定してもよい。一方で、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中の液体ＬＱの回収量を、増加前の回収量（例えば、上述したゼロやＲ１２）又は増加前の回収量よりも少ない回収量に設定してもよい。

以上説明したように、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例によれば、流体回収部４４３は、液体ＬＱが余剰である一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を増加させることができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、流体回収部４４３は、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱを回収する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量の増加量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、液浸空間ＬＳを形成するために液体ＬＱを回収する流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、流体回収部４４３が行う回収動作の第１の具体例と同様の態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。つまり、流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。言い換えれば、流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。但し、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３が行う回収動作の第１の具体例と同様の態様で液体ＬＱを回収してもよい。つまり、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３と協調して又は流体回収部４４３とは別個に、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収してもよい。言い換えれば、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３と協調して又は流体回収部４４３とは別個に、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを回収してもよい。
（１−５−２）流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例
続いて、図１５を参照して、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例について説明する。図１５は、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例を示す断面図である。

図１５に示すように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足を引き起こしかねないことは上述した通りである（図１２参照）。

従って、第２の具体例では、流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向（つまり、第２部材４２が移動した方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収する。流体回収部４４３は、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収する。その結果、流体回収部４４３は、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液体ＬＱを回収することができる。

図１５に示すように、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を減少させてもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を減少させてもよい。

尚、「回収量の減少」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の回収量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の回収量の減少を含んでいてもよい。「回収量の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の回収量を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の回収量の減少を含んでいてもよい。

例えば、上述したように、流体回収部４４３が含む流体回収口４４３１は、第１部材４１の内側面４１１のうちＸ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されている（図４参照）。従って、流体回収部４４３は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収を停止してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収を停止してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。流体回収部４４３は、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の流体回収口４４３１からの液体ＬＱの回収態様を調整してもよい。尚、以下では、説明の便宜上、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する箇所に配置されている一部の流体回収口４４３１を、適宜“流体回収口４４３１（＋Ｘ）”と称する。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で流体回収口４４３１（＋Ｘ）が液体ＬＱを既に回収している場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収を停止してもよい。この場合、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を、ゼロより大きい回収量Ｒ２１からゼロに減少させてもよい。

第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始める時点で流体回収口４４３１（＋Ｘ）が液体ＬＱを回収している場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を減少させてもよい。例えば、流体回収部４４３は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動し始めることを契機として、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量を、ゼロより大きい回収量Ｒ２２から回収量Ｒ２２とゼロより大きい減少量Δｒ２との差分（つまり、Ｒ２２−Δｒ２）に減少させてもよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を減少させる場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量を設定してもよい。例えば、回収量をＲ２２からＲ２２−Δｒ２に減少させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量（つまり、Ｒ２２−Δｒ２）を設定してもよい。但し、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量を設定しなくともよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を減少させる場合には、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の減少量を設定してもよい。例えば、回収量をＲ２２からＲ２２−Δｒ２に減少させる流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の減少量（つまり、Δｒ２）を設定してもよい。但し、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱの回収量の減少量を設定しなくてもよい。

流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動量があげられる。例えば、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど回収量及び減少量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、回収量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定する際に参照する第２部材４２の移動条件の一例として、第２部材４２の移動速度があげられる。例えば、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど回収量及び減少量のうちの少なくとも一方が多くなる（例えば、連続的に又は段階的に多くなる）ように、回収量及び減少量のうちの少なくとも一方を設定してもよい。

液体ＬＱの回収量（例えば、流体回収口４４３１（＋Ｘ）からの液体ＬＱの回収量）を減少させる場合には、流体回収部４４３は、回収量を減少させるために要する回収減少時間を適宜調整してもよい。例えば、回収量をＲ２１からゼロに減少させる流体回収部４４３は、回収量をＲ２１からゼロに減少させるために要する回収減少時間を適宜調整してもよい。回収量をＲ２２からＲ２２−Δｒ２に減少させる流体回収部４４３は、回収量をＲ２２からＲ２２−Δｒ２に減少させるために要する回収減少時間を適宜調整してもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２の移動条件に基づいて、回収減少時間を調整してもよい。例えば、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが大きくなり得ることは上述したとおりである。従って、流体回収部４４３は、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど回収減少時間が短くなる（例えば、連続的に又は段階的に短く）ように、回収減少時間を調整してもよい。この場合、第２部材４２の移動量及び移動速度の少なくとも一方が大きくなればなるほど、回収量は急速に減少していく。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を固定してもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量を適宜調整してもよい。流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量を動的に増減させてもよい。つまり、第２部材４２が移動している間に、液体ＬＱの回収量が適宜変動してもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を減少させている状態を維持してもよい。つまり、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している間は、液体ＬＱの回収量を、減少後の回収量（例えば、上述したゼロやＲ２２−Δｒ２）に設定し続けてもよい。

流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの少なくとも一部の期間中に、液体ＬＱの回収量を減少させる一方で、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中に液体ＬＱの回収量を減少させなくてもよい。例えば、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの一部の期間中の液体ＬＱの回収量を、減少後の回収量に設定してもよい。一方で、流体回収部４４３は、第２部材４２が移動している期間のうちの他の一部の期間中の液体ＬＱの回収量を、減少前の回収量（例えば、上述したＲ２１やＲ２２）又は減少前の回収量よりも多い回収量に設定してもよい。

以上説明したように、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例によれば、流体回収部４４３は、液体ＬＱが不足している一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を減少させることができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、流体回収部４４３は、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、液体ＬＱを回収する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収量の減少量が設定されてもよい。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、液浸空間ＬＳを形成するために液体ＬＱを回収する流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、流体回収部４４３が行う回収動作の第２の具体例と同様の態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。つまり、流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。言い換えれば、流体回収部４４１及び流体回収部４４２は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを回収しなくてもよい。但し、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３が行う回収動作の第２の具体例と同様の態様で液体ＬＱを回収してもよい。つまり、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３と協調して又は流体回収部４４３とは別個に、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で液体ＬＱを回収してもよい。言い換えれば、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方は、流体回収部４４３と協調して又は流体回収部４４３とは別個に、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することが可能な態様で液体ＬＱを回収してもよい。

尚、図１２に示す液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例、図１３に示す液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例、図１４に示す流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例及び図１５に示す流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例のうちのいずれか一つが、単独で行われてもよい。或いは、図１２に示す液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例、図１３に示す液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第２の具体例、図１４に示す流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例及び図１５に示す流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第２の具体例のうちの少なくとも２つ以上が、並行して行われてもよい。例えば、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合に、液体供給部４３２が光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに対する液体ＬＱの供給量を増加させ（つまり、図１２に示す液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例が行われ）、且つ、流体回収部４４３が光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳからの液体ＬＱの回収量を増加させてもよい（つまり、図１４に示す流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例が行われてもよい）。

液浸部材４Ａは、液体供給部４３２を備えていなくともよい。この場合、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例及び第２の具体例の双方が行われなくてもよい。但し、液浸空間ＬＳを形成するための液体供給部４３１が、液体供給部４３２による液体ＬＱの供給動作の第１の具体例及び第２の具体例のうちの少なくとも一方を行ってもよい。つまり、液体供給部４３１が、液体供給部４３２の機能の少なくとも一部を有していてもよい。

液浸部材４Ａは、流体回収部４４３を備えていなくともよい。この場合、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例及び第２の具体例の双方が行われなくてもよい。但し、液浸空間ＬＳを形成するための流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方が、流体回収部４４３による液体ＬＱの回収動作の第１の具体例及び第２の具体例のうちの少なくとも一方を行ってもよい。つまり、流体回収部４４１及び流体回収部４４２のうちの少なくとも一方が、流体回収部４４３の機能の少なくとも一部を有していてもよい。

上述の説明では、第１部材４１と第２部材４２が物理的に分離している液浸部材４Ａについて説明した。しかしながら、第１部材４１と第２部材４２が物理的に結合していてもよい。第１部材４１と第２部材４２が単一の部材であってもよい。この場合、物理的に結合している又は単一の部材となる第１部材４１及び第２部材４２は、上述した第２部材４２の移動の態様と同様の態様で移動してもよい。
（２）第２実施形態
続いて、図１６及び図１７を参照しながら、第２実施形態の露光装置ＥＸ２について説明する。尚、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。

第２実施形態の露光装置ＥＸ２は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液浸部材４Ｂの構成及び動作が異なるという点で異なる。第２実施形態の露光装置ＥＸ２が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第２実施形態の液浸部材４Ｂに着目して説明を進める。
（２−１）第２実施形態の液浸部材４Ｂの構成
はじめに、図１６を参照して、第２実施形態の液浸部材４Ｂの構成について説明する。図１６は、第２実施形態の液浸部材４Ｂの断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。

図１６に示すように、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、第１部材４１Ｂが移動可能であるという点で異なる。

具体的には、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御を受ける駆動装置４５４Ｂの動作によって移動可能である。駆動装置４５４Ｂは、支持部材４５６Ｂを介して装置フレーム３８に固定されている。駆動装置４５４Ｂは、例えばモータ等を含んでいてもよい。駆動装置４５４Ｂは、一端が第１部材４１Ｂに連結され且つ他端が駆動装置４５４Ｂに連結されている支持部材４５５Ｂを移動させる。その結果、支持部材４５５Ｂの移動に伴って、支持部材４５５Ｂに連結されている第１部材４１Ｂが移動する。

第１部材４１Ｂは、終端光学素子３１の光軸ＡＸと垂直な方向（つまり、ＸＹ平面内の任意の方向）に沿って移動してもよい。つまり、第１部材４１Ｂは、ＸＹ平面に沿って移動してもよい。尚、以下の説明では、説明の簡略化のために、第１部材４１Ｂは、Ｘ軸方向に沿って移動するものとする。但し、第１部材４１Ｂは、Ｘ軸方向に沿って移動することに加えて又は代えて、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動してもよい。尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動につながり得る。従って、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて移動してもよい。尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、例えば、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して変動し得ることは上述したとおりである。このため、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように移動してもよい。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して、局所的に変動し得ることは上述したとおりである。従って、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように移動してもよい。

尚、第１部材４１Ｂの移動態様の詳細については、図１７等を参照しながら後に詳述する。

第１部材４１Ｂは、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動可能であってもよい。第１部材４１Ｂの少なくとも一部は、第２部材４２の上側において移動可能であってもよい。第１部材４１Ｂの少なくとも一部は、終端光学素子３１の下側において移動可能であってもよい。第１部材４１Ｂの少なくとも一部は、終端光学素子３１と第２部材４２との間において移動可能であってもよい。

第１部材４１Ｂは、移動可能な第２部材４２に対して、移動可能であってもよい。その結果、第１部材４１Ｂの移動に伴い、第１部材４１Ｂと第２部材４２との間の相対位置が変化してもよい。但し、第１部材４１Ｂと第２部材４２とが同一の態様で移動した場合には、第１部材４１Ｂと第２部材４２との間の相対位置が変化しなくてもよい。例えば、第１部材４１Ｂの移動方向が第２部材４２の移動方向と同じであり且つ第１部材４１Ｂの移動量が第２部材４２の移動量と同一である場合には、第１部材４１Ｂと第２部材４２との間の相対位置が変化しなくてもよい。

第１部材４１Ｂは、第１部材４１Ｂと第２部材４２とが接触しないように移動する。例えば、第１部材４１Ｂは、第１部材４１Ｂが備える外側面４１２と第２部材４２の内側面４２３とが接触しないように移動してもよい。このため、第１部材４１Ｂと第２部材４２とが接触しないような第１部材４１Ｂの移動可能範囲が設定されてもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動する方向と同一の方向に沿って移動可能であってもよい。例えば、第１部材４１Ｂ及び第２部材４２が、共にＸ軸方向に沿って移動可能であってもよい。例えば、第１部材４１Ｂ及び第２部材４２が、共にＸ軸方向に交わる所定方向に沿って移動可能であってもよい。但し、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動する方向に交わる方向に沿って移動可能であってもよい。尚、以下の説明では、説明の簡略化のために、第１部材４１Ｂ及び第２部材４２が、共にＸ軸方向に沿って移動するものとする。

第１部材４１Ｂは、実質的に固定されている終端光学素子３１に対して移動可能であってもよい。その結果、第１部材４１Ｂの移動に伴い、終端光学素子３１と第１部材４１Ｂとの間の相対位置が変化する。このとき、第１部材４１Ｂは、終端光学素子３１と第１部材４１Ｂとが接触しないように移動する。このため、終端光学素子３１と第１部材４１Ｂとが接触しないような第１部材４１Ｂの移動可能範囲が設定されてもよい。

第１部材４１Ｂは、第１部材４１Ｂが移動した場合であっても第１部材４１Ｂの開口４１５の外縁が射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの外側に位置するように、移動する。つまり、第１部材４１Ｂは、第１部材４１Ｂが移動した場合であっても開口４１５の外縁を規定する内側面４１１が射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの外側に位置するように、移動する。このため、第１部材４１Ｂが移動した場合であっても開口４１５の外縁が光路ＡＴＬの外側に位置するような第１部材４１Ｂの移動可能範囲が設定されてもよい。

第１部材４１Ｂは、射出面３２から露光光ＥＬが射出される期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。但し、第１部材４１Ｂは、射出面３２から露光光ＥＬが射出されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、射出面３２の少なくとも一部と基板５１の少なくとも一部との間が液体ＬＱで満たされている状態で移動してもよい。但し、第１部材４１Ｂは、液浸空間ＬＳが形成されていない状態で移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、基板５１が移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、ステップ移動動作が行われている期間（つまり、ステップ移動期間）のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、スキャン移動動作が行われている期間（つまり、スキャン移動期間）のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。但し、第１部材４１Ｂは、基板５１が移動していない期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。但し、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動していない（つまり、静止している）期間のうちの少なくとも一部の期間中に、移動してもよい。

更に、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、液体供給部４３２を備えていないという点で異なる。つまり、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、液体供給口４３２１、液体供給路４３２２及び液体供給装置４３２３を備えていないという点で異なる。

但し、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、液体供給部４３２を備えていてもよい。つまり、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、液体供給口４３２１、液体供給路４３２２及び液体供給装置４３２３を備えていてもよい。この場合、第２実施形態においても、液体供給部４３２は、第１実施形態と同様の態様で動作してもよい。

更に、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、流体回収部４４３を備えていないという点で異なる。つまり、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、流体回収口４４３１、流体回収路４４３２及び流体回収装置４４３３を備えていないという点で異なる。

但し、第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、流体回収部４４３を備えていてもよい。第２実施形態の液浸部材４Ｂは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、流体回収口４４３１、流体回収路４４３２及び流体回収装置４４３３を備えていてもよい。この場合、第２実施形態においても、流体回収部４４３は、第１実施形態と同様の態様で動作してもよい。

尚、第２実施形態の液浸部材４Ｂが備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液浸部材４Ａが備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
（２−２）第１部材４１Ｂの移動態様の具体例
続いて、図１７を参照して、第１部材４１Ｂの移動態様の具体例について説明する。図１７は、第１部材４１Ｂの移動態様の具体例を示す断面図である。尚、図１７では、図面の簡略化のために、図１６に示した液浸部材４Ｂの構成要件のうちの一部が省略されている。

以下の説明では、説明の簡略化のために、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動するものとする。但し、上述したように、第１部材４１Ｂは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動の抑制の実現の有無に関係なく、第２部材４２の移動条件に基づいて移動してもよい。上述したように、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動条件に関わらず、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動してもよい。

図１７に示すように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足を引き起こしかねないことは上述したとおりである（図１２参照）。第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰を引き起こしかねないことは上述したとおりである（図１３参照）。

従って、第２実施形態では、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向（つまり、第２部材４２が移動した方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で移動する。第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で移動する。その結果、第１部材４１Ｂは、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動することができる。

第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向とは逆向きの他の方向（つまり、第２部材４２が移動した方向とは逆向きの他の方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で移動する。第１部材４１Ｂは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で移動する。その結果、第１部材４１Ｂは、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動することができる。

尚、以下の説明では、第１部材４１Ｂは、主としてコントローラー９１の制御の下で移動する。つまり、第１部材４１Ｂは、コントローラー９１からの制御信号に基づく駆動装置４５４Ｂの動作により、以下に説明する動作を行うものとする。但し、第１部材４１Ｂ（或いは、駆動装置４５４Ｂ）が、コントローラー９１からの制御信号に基づくことなく、以下に説明する動作を行ってもよい。つまり、第１部材４１Ｂ（或いは、駆動装置４５４Ｂ）が、コントローラー９１に相当する構成を内蔵していてもよい。

また、以下の説明では、説明の簡略化のために、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動した場合の第１部材４１Ｂの移動態様に着目して説明を進める。但し、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動した場合には、第１部材４１Ｂは、以下の説明の“＋Ｘ軸方向”及び“−Ｘ軸方向”という文言を夫々“所定方向”及び“所定方向とは逆向きの他の方向”という文言に置き換える態様で移動する。その結果、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動する場合であっても、第１部材４１Ｂは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように移動することができる。

図１７に示すように、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が減少するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が減少するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の内側面４１１と外面３３との間の距離が減少するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の内側面４１１と外面３３との間の距離が減少するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂと光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の第１部材４１Ｂと光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する内側面４１１と光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の内側面４１１と光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。

尚、「体積（距離）の減少」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の体積（距離）を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の体積（距離）の減少を含んでいてもよい。「体積（距離）の減少」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の体積（距離）を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の体積（距離）の減少を含んでいてもよい。

図１７に示すように、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が増加するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が増加するように移動してもよい
第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する内側面４１１と外面３３との間の距離が増加するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する内側面４１１と外面３３との間の距離が増加するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂと光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の第１部材４１Ｂと光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する内側面４１１と光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の内側面４１１と光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。

尚、「体積（距離）の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動していない場合の体積（距離）を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の体積（距離）の増加を含んでいてもよい。「体積（距離）の増加」は、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する前の又は直前の体積（距離）を基準とする、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動している場合の体積（距離）の増加を含んでいてもよい。

このような液浸空間ＬＳの局所的な体積の増加及び減少並びに各種距離の増加及び減少のうちの少なくとも一つを実現する態様で移動するために、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動条件に基づいて移動してもよい。

例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動条件に基づいて定まる方向に向かって移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動する方向に基づいて定まる方向に向かって移動してもよい。

具体的には、例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、第２部材４２が移動する方向とは逆向きの方向（つまり、第２部材が移動する方向に対して概ね１８０°の角度差を有する方向）に向かって移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。

例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、第２部材４２が移動する方向に対して９０°より大きく且つ１８０°よりも小さい角度差（つまり、鈍角の角度差）を有する方向に向かって移動してもよい。具体的には、例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、−Ｘ軸方向に向かう方向成分を含む方向に向かって移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、−Ｘ軸方向に向かう方向成分を含む方向及び＋Ｙ軸方向に向かう方向成分を含む方向に向かって移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、−Ｘ軸方向に向かう方向成分を含む方向及び−Ｙ軸方向に向かう方向成分を含む方向に向かって移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の上側に位置する一部の第１部材４１Ｂ（実質的には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂ）が光軸ＡＸに近づくように、移動してもよい。第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の上側に位置する一部の第１部材４１Ｂ（実質的には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂ）が光軸ＡＸから遠ざかるように、移動してもよい。

このような液浸空間ＬＳの局所的な体積の増加及び減少のうちの少なくとも一方を実現する際には、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因する液体ＬＱの量（つまり、実質的には、一部の液浸空間ＬＳの体積）の局所的な変動が、第１部材４１Ｂの移動に起因する一部の液浸空間ＬＳの体積の変動によって相殺されるように移動してもよい。

例えば、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが不足する。液体ＬＱの不足は、第２部材４２の移動に起因した光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積の実質的な増加によって引き起こされているとも言える。従って、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目すれば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加が、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少によって相殺されるように移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加量と、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少量との差分が小さくなるように（又は、ゼロになるように）移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加量の絶対値と、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少量の絶対値との差分が小さくなるように（又は、ゼロになるように）移動してもよい。

同様に、例えば、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱが余剰となる。液体ＬＱの余剰は、第２部材４２の移動に起因した光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積の実質的な減少によって引き起こされているとも言える。従って、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳに着目すれば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少が、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加によって相殺されるように移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少量と、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加量との差分が小さくなるように（又は、ゼロになるように）移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の減少量の絶対値と、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の増加量の絶対値との差分が小さくなるように（又は、ゼロになるように）移動してもよい。

第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動量（例えば、増加量又は減少量）は、第１部材４１Ｂの移動量に依存する。第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動量は、第２部材４２の移動量に依存する。従って、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動量に基づいて定まる移動量を移動してもよい。

例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど大きくなる（例えば、連続的に又は段階的に大きくなる）移動量を移動してもよい。つまり、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２の移動量が大きくなればなるほど大きくなってもよい。

第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動量は、Ｘ軸方向（つまり、第１部材４１Ｂが移動する方向）に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積に依存する。第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動量は、Ｘ軸方向（つまり、第２部材４２が移動する方向）に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積に依存する。従って、第１部材４１Ｂは、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積とＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積との間の関係に基づいて定まる移動量を移動してもよい。

例えば、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積よりも大きい場合を想定する。この場合、第１部材４１Ｂの移動量が第２部材４２の移動量よりも少なくても、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動が、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動によって相殺されやすくなる。従って、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積よりも大きい場合には、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも小さくてもよい。但し、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも大きくてもよい。第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量と同一であってもよい。

例えば、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積よりも小さい場合を想定する。この場合、第１部材４１Ｂの移動量が第２部材４２の移動量よりも少なければ、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動が、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動によって相殺されにくい。従って、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積よりも小さい場合には、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも大きくてもよい。但し、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも小さくてもよい。第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量と同一であってもよい。

例えば、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積と同一である場合を想定する。この場合、第１部材４１Ｂの移動量が第２部材４２の移動量と同じであれば、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動が、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の変動によって相殺され得る。従って、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面積がＸ軸方向に沿って第２部材４２が液浸空間ＬＳに面する面積と同一である場合には、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量と同一であってもよい。但し、第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも大きくてもよい。第１部材４１Ｂの移動量は、第２部材４２Ｂの移動量よりも小さくてもよい。

尚、図１７に示す例では、Ｘ軸方向に沿って第１部材４１Ｂが液浸空間ＬＳに面する面の面積（典型的には、空間ＳＰ３に面する一部の内側面４１１の面積）が相対的に大きい。このため、図１７に示す例では、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動量よりも大きい移動量を移動してもよい。但し、図１７に示す例においても、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動量よりも小さい移動量を移動してもよい。第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動量と同一の移動量を移動してもよい。

第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量（実質的には、体積の変動速度）と、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量との差分が小さくなる（又は、ゼロになる）ように移動してもよい。というのも、第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量と第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量との差分が大きいほど、液体ＬＱの移動が促進されてしまいかねないからである。

第２部材４２の移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量は、第２部材４２の移動速度に依存する。例えば、第１部材４１Ｂの移動に起因した一部の液浸空間ＬＳの体積の単位時間当たりの変動量は、第１部材４１Ｂの移動速度に依存する。このため、第１部材４１Ｂは、第２部材４１Ｂの移動速度に応じて定まる移動速度で移動してもよい。例えば、第１部材４１Ｂは、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど大きくなる（例えば、連続的に又は段階的に大きくなる）移動速度で移動してもよい。つまり、第１部材４１Ｂの移動速度は、第２部材４２の移動速度が大きくなればなるほど大きくなってもよい。

以上説明したように、第１部材４１Ｂは、液体ＬＱが不足している一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動することができる。第１部材４１Ｂは、液体ＬＱが余剰である一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動することができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足及び緩和の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第１部材４１Ｂは、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足及び余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて移動する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、上述の説明では、第１部材４１Ｂが環状の形状を有する単一の部材である例が例示されている。しかしながら、第１部材４１Ｂが物理的に又は構造的に分割された複数の部材から構成されていてもよい。この場合、第１部材４１Ｂを構成する複数の部材の夫々は、個別に移動可能であってもよい。

例えば、第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に配置される半円状の円弧の如き形状を有する部材４１Ｂ−１と、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に配置される半円状の円弧の如き形状を有する部材４１Ｂ−２とを備えていてもよい。この場合、部材４１Ｂ−１は、部材４１Ｂ−２の移動の有無又は移動の態様に関わらず、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動してもよい。つまり、第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少する一方で、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加しないように、移動してもよい。また、部材４１Ｂ−２は、部材４１Ｂ−１の移動の有無又は移動の態様に関わらず、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動してもよい。つまり、第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少しない一方で、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように、移動してもよい。

このように、複数の部材から構成されている第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少する一方で、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加しないように、移動してもよい。複数の部材から構成されている第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少しない一方で、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように、移動してもよい。もちろん、複数の部材から構成されている第１部材４１Ｂは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少すると共に、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように、移動してもよい。
（３）第３実施形態
続いて、図１８から図２０を参照しながら、第３実施形態の露光装置ＥＸ３について説明する。尚、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。

第３実施形態の露光装置ＥＸ３は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液浸部材４Ｃの構成及び動作が異なるという点で異なる。第３実施形態の露光装置ＥＸ３が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第３実施形態の液浸部材４Ｃに着目して説明を進める。
（３−１）第３実施形態の液浸部材４Ｃの構成
はじめに、図１８を参照して、第３実施形態の液浸部材４Ｃの構成について説明する。図１８は、第２実施形態の液浸部材４Ｃの断面図（ＸＺ平面と平行な断面図）である。

図１８に示すように、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、液浸空間ＬＳに対して任意に挿脱可能な挿脱部材４１６Ｃを更に備えているという点で異なっている。

挿脱部材４１６Ｃは、移動可能な部材である。挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御を受ける駆動装置４５７Ｃの動作によって移動可能である。駆動装置４５７Ｃは、支持部材４５９Ｃを介して装置フレーム３８に固定されている。駆動装置４５７Ｃは、例えばモータ等を含んでいてもよい。駆動装置４５７Ｃは、一端が挿脱部材４１６Ｃに連結され且つ他端が駆動装置４５７Ｃに連結されている支持部材４５８Ｃを移動させる。その結果、支持部材４５８Ｃの移動に伴って、支持部材４５８Ｃに連結されている挿脱部材４１６Ｃが移動する。

挿脱部材４１６Ｃが移動することで、液浸空間ＬＳの外部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が、液浸空間ＬＳに対して新たに挿入されてもよい。挿脱部材４１６Ｃが移動することで、液浸空間ＬＳの外部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が、液体ＬＱを押しのけて液浸空間ＬＳに対して新たに入り込んでもよい。挿脱部材４１６Ｃが移動することで、液浸空間ＬＳの外部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの内部に位置することになってもよい。例えば、挿脱部材４１６Ｃが光軸ＡＸに近づくように移動すると、液浸空間ＬＳの外部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳに新たに挿入される。液浸空間ＬＳの外部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳに挿入されると、当該挿入された挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部の周辺に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積（局所的な体積）は、減少する。

挿脱部材４１６Ｃが移動することで、液浸空間ＬＳの内部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部は、液浸空間ＬＳから取り出されてもよい。挿脱部材４１６Ｃが移動することで、液浸空間ＬＳの内部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの外部に位置することになってもよい。例えば、挿脱部材４１６Ｃが光軸ＡＸから遠ざかるように移動すると、液浸空間ＬＳの内部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳから取り出される。液浸空間ＬＳの内部に位置する挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳから取り出されると、当該挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部の周辺に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積（局所的な体積）は、増加する。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が原点にいる初期状態（つまり、第２部材４２の開口４２５の中心が光軸ＡＸと一致している初期状態）で、当該挿脱部材４１６Ｃの一部が液浸空間ＬＳの外部（例えば、図１８では、第１部材４１Ｃの内部）に存在し且つ当該挿脱部材４１６Ｃの他の一部が液浸空間ＬＳの内部に存在するように配置されている。但し、挿脱部材４１６Ｃは、初期状態で、当該挿脱部材４１６Ｃの全部が液浸空間ＬＳの外部に存在するように配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、初期状態で、当該挿脱部材４１６Ｃの全部が液浸空間ＬＳの内部に存在するように配置されていてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して挿脱されてもよい。尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動につながり得る。従って、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように、液浸空間ＬＳに対して挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて挿脱されてもよい。尚、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、例えば、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して変動し得ることは上述したとおりである。このため、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動を抑制するように挿脱されてもよい。

また、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力は、液浸空間ＬＳ内における第２部材４２の移動に起因して、局所的に変動し得ることは上述したとおりである。従って、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２の移動に伴う液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の局所的な変動を抑制するように挿脱されてもよい。

尚、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の詳細については、図１９及び図２０等を参照しながら後に詳述する。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される際には、終端光学素子３１の光軸ＡＸと垂直な方向（つまり、ＸＹ平面内の任意の方向）に沿って移動してもよい。尚、以下の説明では、説明の簡略化のために、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される際には、Ｘ軸方向に沿って移動するものとする。但し、挿脱部材４１６Ｃは、Ｘ軸方向に沿って移動することに加えて又は代えて、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動してもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される際には、終端光学素子３１と挿脱部材４１６Ｃとが接触しないように移動してもよい。このため、終端光学素子３１と挿脱部材４１６Ｃとが接触しないような挿脱部材４１６Ｃの移動可能範囲が設定されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される際には、第２部材４２と挿脱部材４１６Ｃとが接触しないように移動してもよい。このため、第２部材４２と挿脱部材４１６Ｃとが接触しないような挿脱部材４１６Ｃの移動可能範囲が設定されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される場合には、露光光ＥＬの光路ＡＴの外側において移動してもよい。つまり、挿脱部材４１６Ｃは、挿脱部材４１６Ｃが移動した場合であっても挿脱部材４１６Ｃが射出面３２から射出される露光光ＥＬの光路ＡＴＬの外側に位置するように移動してもよい。このため、挿脱部材４１６Ｃが移動した場合であっても挿脱部材４１６Ｃが光路ＡＴＬの外側に位置するような挿脱部材４１６Ｃの移動可能範囲が設定されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、射出面３２から露光光ＥＬが射出される期間のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃは、射出面３２から露光光ＥＬが射出されていない期間のうちの少なくとも一部の期間中に挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳが形成されている状態で挿脱されてもよい。例えば、挿脱部材４１６Ｃは、射出面３２の少なくとも一部と基板５１の少なくとも一部との間が液体ＬＱで満たされている状態で挿脱されてもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳが形成されていない状態で挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、基板５１が移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。例えば、挿脱部材４１６Ｃは、ステップ移動動作が行われている期間（つまり、ステップ移動期間）のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。例えば、挿脱部材４１６Ｃは、スキャン移動動作が行われている期間（つまり、スキャン移動期間）のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃは、基板５１が移動していない期間のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動する期間のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動していない（つまり、静止している）期間のうちの少なくとも一部の期間中に、挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳの少なくとも一部に面するように配置されている。挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１Ｃの内側面４１１の少なくとも一部に配置されている。挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１の内側面４１１と終端光学素子３１の外面３３との間に形成される空間ＳＰ３に面するように配置されている。挿脱部材４１６Ｃは、終端光学素子３１の外面３３に対向するように配置されている。但し、挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１に加えて又は代えて、第１部材４１の下面４１３に配置されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１に加えて又は代えて、第２部材４２に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１及び第２部材４２とは異なる他の部材に配置されていてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、露光光ＥＬの光路ＡＴの周囲に断続的に分布するように配置されている。例えば、挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの箇所に配置されていてもよい。例えば、第２部材４２がＸ軸方向に沿って移動する場合には、挿脱部材４１６Ｃは、Ｘ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）に配置されていてもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃは、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように配置されていてもよい。言い換えれば、挿脱部材４１６Ｃは、終端光学素子３１を取り囲むように（言い換えれば、露光光ＥＬの光路ＡＴを取り囲むように）配置されてもよい。いずれの場合であっても、単一の挿脱部材４１６Ｃが配置されていてもよいし、複数の挿脱部材４１６Ｃが配置されていてもよい。尚、以下の説明では、説明の簡略化のために、Ｘ軸方向に沿って対向する２つの箇所（つまり、光路ＡＴより＋Ｘ軸方向側に位置する箇所及び光路ＡＴよりも−Ｘ軸方向側に位置する箇所）２つの挿脱部材４１６Ｃが配置されているものとする。

液浸空間ＬＳにおける圧力の変動が第２部材４２の移動に起因していることを考慮すれば、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動は、第２部材４２の近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動を抑制するように挿脱部材４１６Ｃが挿脱される場合には、挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１Ｃの内側面４１１のうち第２部材４２に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１のうち第１部材４１Ｃの下面４１３に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、下面４１３にできるだけ近接する箇所に配置されていてもよい。言い換えれば、挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１のうち相対的に下側の箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１のうちできるだけ下側の箇所に配置されていてもよい。その結果、第２部材４２の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳにおける圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳにおける圧力の変動は、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱをかき分けるように移動する第２部材４２の開口４２５の近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動を抑制するように挿脱部材４１６Ｃが挿脱される場合には、挿脱部材４１６Ｃは、第１部材４１Ｃの内側面４１１のうち第２部材４２の開口４２５に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、開口４２５にできるだけ近接するように配置されていてもよい。言い換えれば、挿脱部材４１６Ｃは、内側面４１１のうち第２部材４２の内側面４２４に近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、内側面４２４にできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、開口４２５の近傍において生じやすい液浸空間ＬＳにおける圧力の変動が抑制されやすくなる。

液浸空間ＬＳにおける圧力の変動は、開口４２５を規定する内側面４２４のうち第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘ（図３及び４参照）の近傍において生じやすい可能性があることは上述したとおりである。従って、液浸空間ＬＳにおける圧力の変動を抑制するように挿脱部材４１６Ｃが挿脱される場合には、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２の移動の方向に沿って対向する２つの内側面４２４Ｘに近接する又は隣接する箇所に配置されていてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、２つの内側面４２４Ｘにできるだけ近接するように配置されていてもよい。その結果、２つの内側面４２４Ｘの近傍において生じやすい液浸空間ＬＳにおける圧力の変動が抑制されやすくなる。

挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面（つまり、終端光学素子３１の外面３３に対向する面）は、内側面４１１と平行であってもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、内側面４１１に対して傾斜していてもよい。

挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、終端光学素子３１の外面３３と平行であってもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、終端光学素子３１の外面３３に対して傾斜していてもよい。

挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、平面であってもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、曲面を含んでいてもよい。挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、凹面を含んでいてもよい。挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、凸面を含んでいてもよい。

尚、挿脱部材４１６Ｃが液浸空間ＬＳに挿入される際の抵抗を低減するという観点から見れば、挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面は、液浸空間ＬＳに面する側に向かって突き出す凸面状の形状（特に、液浸空間ＬＳに面する側に向かって細くなる錐状の形状）を有していてもよい。

挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面以外の他の面は、平面であってもよい。但し、挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面以外の他の面は、曲面を含んでいてもよい。挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面以外の他の面は、凹面を含んでいてもよい。挿脱部材４１６Ｃのうち液浸空間ＬＳに面する側の面以外の他の面は、凸面を含んでいてもよい。

更に、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、液体供給部４３２を備えていないという点で異なる。つまり、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、液体供給口４３２１、液体供給路４３２２及び液体供給装置４３２３を備えていないという点で異なる。

但し、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、液体供給部４３２を備えていてもよい。つまり、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、液体供給口４３２１、液体供給路４３２２及び液体供給装置４３２３を備えていてもよい。この場合、第３実施形態においても、液体供給部４３２は、第１実施形態と同様の態様で動作してもよい。

更に、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、流体回収部４４３を備えていないという点で異なる。つまり、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと比較して、流体回収口４４３１、流体回収路４４３２及び流体回収装置４４３３を備えていないという点で異なる。

但し、第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、流体回収部４４３を備えていてもよい。第３実施形態の液浸部材４Ｃは、第１実施形態の液浸部材４Ａと同様に、流体回収口４４３１、流体回収路４４３２及び流体回収装置４４３３を備えていてもよい。この場合、第３実施形態においても、流体回収部４４３は、第１実施形態と同様の態様で動作してもよい。

尚、第３実施形態の液浸部材４Ｃが備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液浸部材４Ａが備えるその他の構成要素と同一であってもよい。

尚、第３実施形態の液浸部材４Ｃが備える第１部材４１Ｃは、第２実施形態の液浸部材４Ｂが備える第１部材４１Ｂと同様に、移動可能であってもよい。この場合、第３実施形態においても、第１部材４１Ｃは、第２実施形態と同様の態様で移動してもよい。
（３−２）挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様
続いて、図１９及び図２０を参照して、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の具体例について説明する。尚、図１９及び図２０では、図面の簡略化のために、図１８に示した液浸部材４Ｃの構成要件のうちの一部が省略されている。

以下の説明では、説明の簡略化のために、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２の移動条件に基づいて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように挿脱されるものとする。但し、上述したように、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動の抑制の実現の有無に関係なく、第２部材４２の移動条件に基づいて挿脱されてもよい。上述したように、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２の移動条件に関わらず、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように挿脱されてもよい。
（３−２−１）挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例
はじめに、図１９を参照して、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例について説明する。図１９は、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例を示す断面図である。

図１９に示すように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足を引き起こしかねないことは上述したとおりである（図１２参照）。

従って、第１の具体例では、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも所定方向（つまり、第２部材４２が移動した方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で挿脱される。挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いを緩和することが可能な態様で挿脱される。その結果、挿脱部材４１６Ｃは、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することができる。

尚、以下の説明では、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳに対して挿脱される場合には、主としてコントローラー９１の制御の下で移動する。つまり、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１からの制御信号に基づく駆動装置４５７Ｃの動作により、以下に説明する動作を行うものとする。但し、挿脱部材４１６Ｃ（或いは、駆動装置４５７Ｃ）が、コントローラー９１からの制御信号に基づくことなく、以下に説明する動作を行ってもよい。つまり、挿脱部材４１６Ｃ（或いは、駆動装置４５７Ｃ）が、コントローラー９１に相当する構成を内蔵していてもよい。図２０を参照しながら後に詳述する挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例においても同様である。

また、以下の説明では、説明の簡略化のために、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動した場合の挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様に着目して説明を進める。但し、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動した場合には、挿脱部材４１６Ｃは、以下の説明の“＋Ｘ軸方向”及び“−Ｘ軸方向”という文言を夫々“所定方向”及び“所定方向とは逆向きの他の方向”という文言に置き換える態様で挿脱される。その結果、第２部材４２が＋Ｘ軸方向とは異なる所定方向に向かって移動する場合であっても、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制するように挿脱される。図２０を参照しながら後に詳述する挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例においても同様である。

図１９に示すように、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が減少するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が減少するように挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃと外面３３との間の距離が減少するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃと外面３３との間の距離が減少するように移動してもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃと光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃと光軸ＡＸとの間の距離が減少するように移動してもよい。

尚、第３実施形態における「体積（距離）の減少」は、第２実施形態における「体積（距離）の減少」と同一である。

このような液浸空間ＬＳの局所的な体積（距離）の減少を実現する態様で移動するために、図１９に示すように、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、当該挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳに対して新たに挿入されるように移動してもよい。光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳの外部に位置している挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳに新たに入り込むように、移動してもよい。

例えば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。例えば、光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。例えば、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、光軸ＡＸに近づくように移動してもよい。光軸ＡＸから遠ざかるように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、光軸ＡＸに近づくように移動してもよい。

尚、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動するという意味において、第２実施形態における「光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂ」と同様の機能を有しているとも言える。従って、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２実施形態における光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂと同様の態様で移動してもよい。

以上説明したように、第１の具体例によれば、挿脱部材４１６Ｃは、液体ＬＱが不足している一部の液浸空間ＬＳの体積が減少するように移動することができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第１の具体例によれば、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの不足の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、移動する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。
（３−２−２）挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例
続いて、図２０を参照して、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例について説明する。図２０は、挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例を示す断面図である。

図２０に示すように、第２部材４２の＋Ｘ軸方向に向かう移動は、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する少なくとも一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰を引き起こしかねないことは上述したとおりである（図１３参照）。

従って、第２の具体例では、挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、光軸ＡＸよりも所定方向とは逆向きの他の方向（つまり、第２部材４２が移動した方向とは逆向きの他の方向）側に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で挿脱される。挿脱部材４１６Ｃは、コントローラー９１の制御の下で、第２部材４２が所定方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いを緩和することが可能な態様で挿脱される。その結果、挿脱部材４１６Ｃは、少なくとも一部の液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動を抑制することができる。

図２０に示すように、挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が増加するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する一部の空間ＳＰ３の体積が増加するように挿脱されてもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃと外面３３との間の距離が増加するように挿脱されてもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃと外面３３との間の距離が増加するように移動してもよい。

挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃと光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合には、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃと光軸ＡＸとの間の距離が増加するように移動してもよい。

尚、第３実施形態における「体積（距離）の増加」は、第２実施形態における「体積（距離）の増加」と同一である。

このような液浸空間ＬＳの局所的な体積（距離）の増加を実現する態様で移動するために、図２０に示すように、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、当該挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳから取り出されるように、移動してもよい。光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳの内部に位置している挿脱部材４１６Ｃの少なくとも一部が液浸空間ＬＳから取り出されるように、移動してもよい。

例えば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。例えば、光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２の移動を契機として、−Ｘ軸方向に向かって移動してもよい。例えば、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、光軸ＡＸから遠ざかるように移動してもよい。光軸ＡＸに近づくように移動する一部の第２部材４２の近傍に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２部材４２が移動し始めることを契機として、光軸ＡＸから遠ざかるように移動してもよい。

尚、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動するという意味において、第２実施形態における「光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂ」と同様の機能を有しているとも言える。従って、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃは、第２実施形態における光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する一部の第１部材４１Ｂと同様の態様で移動してもよい。

以上説明したように、第２の具体例によれば、挿脱部材４１６Ｃは、液体ＬＱが余剰である一部の液浸空間ＬＳの体積が増加するように移動することができる。従って、一部の液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合いが緩和される。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。その結果、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱから終端光学素子３１が受ける圧力の変動が好適に抑制される。従って、終端光学素子３１の位置、形状及び光学特性のうちの少なくとも一つの変動が好適に抑制される。このため、露光不良の発生が好適に抑制される。

第２の具体例によれば、挿脱部材４１６Ｃは、液浸空間ＬＳにおける液体ＬＱの余剰の度合い（つまり、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動）に影響を与え得る第２部材４２の移動条件に基づいて、移動する。このため、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの圧力の変動が好適に抑制される。

尚、図１９に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例及び図２０に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例の双方が、並行して行われてもよい。例えば、第２部材４２が＋Ｘ軸方向に向かって移動する場合に、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃが液浸空間ＬＳに挿入されるように移動し、且つ、光軸ＡＸよりも−Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃが液浸空間ＬＳから取り出されるように移動してもよい。図１９に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例が行われる一方で、図２０に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例が行われない場合には、液浸部材４Ｃは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃを備える一方で、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃを備えていなくともよい。図１９に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第１の具体例が行われない一方で、図２０に示す挿脱部材４１６Ｃの挿脱態様の第２の具体例が行われる場合には、液浸部材４Ｃは、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃを備えていない一方で、光軸ＡＸよりも＋Ｘ軸方向側に位置する挿脱部材４１６Ｃを備えていてもよい。

尚、上述した第１実施形態から第３実施形態において、コントローラー９１は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含んでいてもよい。コントローラー９１は、コンピュータシステムと外部装置との間の通信させるためのインタフェースを含んでいてもよい。コントローラー９１には、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、例えば、キーボードやマウスやタッチパネル等の入力機器等を含んでいてもよい。入力装置は、例えば、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含んでいてもよい。コントローラー９１には、液晶ディスプレイ等の表示装置が接続されていてもよい。

メモリ９２は、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）やハードディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体を含んでいてもよい。メモリ９２には、コンピュータシステムを制御するためのＯＳ（オペレーティングシステム）がインストールされていてもよい。メモリ９２には、露光装置ＥＸ１（ＥＸ２、ＥＸ３、以下同じ）を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。メモリ９２には、露光光ＥＬの光路ＡＴ（ＡＴＬ）に満たされた液体ＬＱ（つまり、液浸空間ＬＳの少なくとも一部）を介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光するように露光装置ＥＸ１を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。

これらのメモリ９２に記憶されているプログラムは、コントローラー９１によって読み込まれ且つ実行されてもよい。その結果、液浸部材４Ａ（４Ｂ又は４Ｃ）、基板ステージ５及び計測ステージ６等の露光装置ＥＸ１が備える各種構成要素が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で基板５１を露光する露光処理等の各種処理が行われる。

上述の説明では、終端光学素子３１の射出面３２側（つまり、像面側）が液体ＬＱで満たされている投影光学系３が例示されている。しかしながら、終端光学素子３１の入射側（つまり、物体面側）の光路が液体ＬＱで満たされている投影光学系が用いられてもよい。終端光学素子３１の入射側（つまり、物体面側）の光路が液体ＬＱで満たされている投影光学系の一例は、例えば、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されている。

上述の説明では、液体ＬＱが水（例えば、純水）である例が例示されている。しかしながら、液体ＬＱは、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性を有していてもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有していてもよい。液体ＬＱは、投影光学系３又は基板５１の表面を形成する感光材（つまり、フォトレジスト）等に対して安定しているという特性を有してもよい。このような液体ＬＱの一例として、例えば、フッ素系液体（例えば、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）や、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）や、フォンブリンオイル等）があげられる。液体ＬＱは、様々な流体（例えば、超臨界流体）であってもよい。

上述の説明では、基板５１が半導体デバイス製造用の半導体ウェハを含む例が例示されている。しかしながら、基板５１は、ディスプレイデバイス用のガラス基板を含んでいてもよい。基板５１は、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハを含んでいてもよい。基板５１は、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（例えば、合成石英や、シリコンウェハ）を含んでいてもよい。

上述の説明では、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを同期させながら移動させることでマスク１１に形成されたデバイスパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である例が例示されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを静止させた状態でマスク１１に形成されたデバイスパターンを一括露光すると共に、当該一括露光が終了する毎に基板５１をステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆる、ステッパ）であってもよい。ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、第１マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第１マスク１１に形成された第１デバイスパターンの縮小像を基板５１に露光した後に、第２マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第２マスク１１に形成された第２デバイスパターンの縮小像を、第１デバイスパターンの縮小像に重ねて基板５１に露光する露光装置（いわゆる、スティッチ方式の露光装置）であってもよい。スティッチ方式の露光装置は、基板５１上で２つ以上のデバイスパターンを部分的に重ねて露光すると共に、基板５１を順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、投影光学系３を介して２つのマスク１１のデバイスパターンを基板５１上で合成すると共に、１回の走査露光によって基板５１上のショット領域Ｓをほぼ同時に二重露光する露光装置であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，６１１，３１６号に開示されている。露光装置ＥＸ１は、プロキシミティ方式の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、ミラープロジェクションアライナー等であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５を備えるツインステージ型の露光装置であってもよい。ツインステージ型の露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，３４１，００７号や、米国特許第６，２０８，４０７号や、米国特許第６，２６２，７９６号に開示されている。例えば、図２１に示すように、露光装置ＥＸ１が２つの基板ステージ５Ａ及び５Ｂを備えている場合には、終端光学素子３１の射出面３２と対向するように配置される物体は、一方の基板ステージ５Ａ、当該一方の基板ステージ５Ａに保持された基板５１Ａ、他方の基板ステージ５Ｂ及び当該他方の基板ステージ５Ｂに保持された基板５１Ｂのうちの少なくとも一つであってもよい。

露光装置ＥＸ１は、複数の基板ステージ５及び計測ステージ６を備えるツインステージ型の露光装置であってもよい。

露光装置ＥＸ１は、基板５１に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、液晶表示素子製造用の又はディスプレイ製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（例えば、ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ又はマスク１１（或いは、レチクル）を製造するための露光装置であってもよい。

上述の説明では、マスク１１が、光透過性の透明板の上に所定の遮光パターン（或いは、移動パターン又は減光パターン）を形成した透過型マスクである例が例示されている。しかしながら、マスク１１は、露光すべきデバイスパターンの電子データに基づいて透過パターン、反射パターン又は発光パターンを形成する可変成形マスク（いわゆる、電子マスク、アクティブマスク又はイメージジェネレータ）であってもよい。可変成形マスクの一例は、米国特許第６，７７８，２５７号に開示されている。マスク１１は、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を備えるパターン形成装置であってもよい。

上述の説明では、投影光学系３を備える露光装置ＥＸ１が例示されている。しかしながら、投影光学系３を備えていない露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成すると共に光学部材を介して投影される露光光で基板を露光する露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。

露光装置ＥＸ１は、干渉縞を基板５１に形成することで基板５１にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（いわゆる、リソグラフィシステム）であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されている。

上述の露光装置ＥＸ１は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせ工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせ工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせ工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで露光装置ＥＸ１の全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置ＥＸ１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２２に示す各ステップを経て製造されてもよい。マイクロデバイスを製造するためのステップは、マイクロデバイスの機能及び性能設計を行うステップＳ２０１、機能及び性能設計に基づいたマスク（レチクル）１１を製造するステップＳ２０２、デバイスの基材である基板５１を製造するステップＳ２０３、上述の実施形態に従って、マスク１１のデバイスパターンからの露光光ＥＬで基板５１を露光し且つ露光された基板５１を現像するステップＳ２０４、デバイス組み立て処理（ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理）を含むステップＳ２０５及び検査ステップＳ２０６を含んでいてもよい。

上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法もまた本発明の技術思想に含まれる。

１ マスクステージ
２ 照明系
３ 投影光学系
３１ 終端光学素子
３２ 射出面
３３ 外面
４Ａ、４Ｂ、４Ｃ 液浸部材
４１ 第１部材
４２ 第２部材
４３１、４３２ 液体供給部
４４１、４４２、４４３ 流体回収部
５ 基板ステージ
５１ 基板
６ 計測ステージ
７ 計測システム
８ チャンバ装置
９ 制御装置
９１ コントローラー
ＡＴ、ＡＴＯ、ＡＴＬ 光路
ＡＸ 光軸
ＥＬ 露光光
ＥＸ１ 露光装置
ＬＱ 液体
ＬＳ 液浸空間

Claims (65)

1. 露光光が射出される光学部材と、
   前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、
   前記可動部材の移動に起因した前記液浸空間の少なくとも一部における液体の圧力の変動を抑制する抑制システムと、
   前記抑制システムを制御するコントローラーと
   を備える露光装置。
2. 前記コントローラーは、前記液浸空間の少なくとも一部における前記液体から前記光学部材が受ける圧力の変動を抑制するように、前記抑制システムを制御する請求項１に記載の露光装置。
3. 前記コントローラーは、前記可動部材の移動条件に基づいて、前記抑制システムを制御する請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記移動条件は、前記可動部材の移動方向を含む請求項３に記載の露光装置。
5. 前記移動条件は、前記可動部材の移動量及び前記可動部材の移動速度のうちの少なくとも一つを含む請求項３又は４記載の露光装置。
6. 前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合に、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部における前記液体の圧力の減少を抑制するように、前記抑制システムを制御する請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合に、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部における前記液体の圧力の増加を抑制するように、前記抑制システムを制御する請求項１から６のいずれか一項に記載の露光装置。
8. 前記コントローラーによる前記抑制システムの制御は、前記液浸空間の少なくとも一部に対する液体供給及び前記液浸空間の少なくとも一部からの液体回収のうちの少なくとも一方の制御を含む請求項１から７のいずれか一項に記載の露光装置。
9. 前記抑制システムは、前記液浸空間の少なくとも一部に対して前記液体供給を行う第１供給部を含み、
   前記コントローラーによる前記抑制システムの制御は、前記第１供給部からの液体供給量の制御を含む請求項８に記載の露光装置。
10. 露光光が射出される光学部材と、
    前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、
    前記液浸空間の少なくとも一部に対して液体供給を行う第１供給部と、
    前記可動部材の移動条件に基づいて、前記第１供給部からの液体供給量を制御するコントローラーと
    を備える露光装置。
11. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対して前記第１供給部からの前記液体供給が行われるように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９又は１０に記載の露光装置。
12. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸から遠ざかるように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対して前記第１供給部からの前記液体供給が行われるように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１１のいずれか一項に記載の露光装置。
13. 前記可動部材の少なくとも一部が前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給量が増加するように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１２のいずれか一項に記載の露光装置。
14. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸から遠ざかるように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸から遠ざかるように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給量が増加するように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１３のいずれか一項に記載の露光装置。
15. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給が行われないように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１４のいずれか一項に記載の露光装置。
16. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に近づくように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給が行われないように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１５のいずれか一項に記載の露光装置。
17. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給量が減少するように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１６のいずれか一項に記載の露光装置。
18. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に近づくように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸に近づくように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部に対する前記第１供給部からの前記液体供給量が減少するように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１７のいずれか一項に記載の露光装置。
19. 前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の移動量及び移動速度のうちの少なくとも一つに基づいて、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項９から１８のいずれか一項に記載の露光装置。
20. 前記コントローラーは、前記移動量及び前記移動速度のうちの少なくとも一つが大きくなるほど、前記第１供給部からの前記液体供給量が多くなる又は前記第１供給部からの前記液体供給量の増加量若しくは減少量が多くなるように、前記第１供給部からの前記液体供給量を制御する請求項１９に記載の露光装置。
21. 前記第１供給部は、前記液浸部材に備え付けられている請求項９から２０のいずれか一項に記載の露光装置。
22. 前記液浸部材は、第１部材と、第２部材とを備えており、
    前記可動部材は、前記第２部材を含み、
    前記第１供給部は、前記第１部材の少なくとも一部に備え付けられている請求項２１に記載の露光装置。
23. 前記液浸部材に備え付けられ、前記液浸空間に対して前記液体を供給する第２供給部を更に備え、
    前記第２供給部は、前記抑制システムとして使われない請求項９から２２のいずれか一項に記載の露光装置。
24. 前記抑制システムは、前記液浸空間の少なくとも一部から液体回収を行う第１回収部を含み、
    前記コントローラーによる前記抑制システムの制御は、前記第１回収部による液体回収量の制御を含む請求項８から２３のいずれか一項に記載の露光装置。
25. 露光光が射出される光学部材と、
    前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、
    前記液浸空間の少なくとも一部から液体回収を行う第１回収部と、
    前記可動部材の移動条件に基づいて、前記第１回収部による液体回収量を制御するコントローラーと
    を備える露光装置。
26. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部から前記第１回収部による前記液体回収が行われるように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４又は２５に記載の露光装置。
27. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に近づくように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部から前記第１回収部による前記液体回収が行われるように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から２６のいずれか一項に記載の露光装置。
28. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収量が増加するように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から２７のいずれか一項に記載の露光装置。
29. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に近づくように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸に近づくように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収量が増加するように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から２８のいずれか一項に記載の露光装置。
30. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収が行われないように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から２９のいずれか一項に記載の露光装置。
31. 前記移動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸から遠ざかるように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収が行われないように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から３０のいずれか一項に記載の露光装置。
32. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収量が減少するように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から３１のいずれか一項に記載の露光装置。
33. 前記移動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸から遠ざかるように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸から遠ざかるように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部からの前記第１回収部による前記液体回収量が減少するように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から３２のいずれか一項に記載の露光装置。
34. 前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部の移動量及び移動速度のうちの少なくとも一つに基づいて、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項２４から３３のいずれか一項に記載の露光装置。
35. 前記コントローラーは、前記移動量及び前記移動速度のうちの少なくとも一つが大きくなるほど、前記第１回収部による前記液体回収量が多くなる又は前記第１回収部による前記液体回収量の増加量若しくは減少量が多くなるように、前記第１回収部による前記液体回収量を制御する請求項３４に記載の露光装置。
36. 前記第１回収部は、前記液浸部材に備え付けられている請求項２４から３５のいずれか一項に記載の露光装置。
37. 前記液浸部材は、第１部材と、第２部材とを備えており、
    前記可動部材は、前記第２部材を含み、
    前記第１回収部は、前記第１部材の少なくとも一部に備え付けられている請求項３６に記載の露光装置。
38. 前記液浸部材に備え付けられ、前記液浸空間から前記液体を回収する第２回収部を更に備える請求項２４から３７のいずれか一項に記載の露光装置。
39. 前記第２回収部は、前記第１部材と前記可動部材としての前記第２部材との間の前記液体を回収する請求項３８に記載の露光装置。
40. 前記第２回収部は、前記抑制システムとして使われない請求項３８又は３９に記載の露光装置。
41. 前記コントローラーによる前記抑制システムの制御により、前記液浸空間を規定する規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つが変化する請求項１から４０のいずれか一項に記載の露光装置。
42. 前記抑制システムは、前記液浸空間を規定する前記規定部材の少なくとも一部を移動させることで当該規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させる移動装置を有し、
    前記コントローラーによる前記抑制システムの制御は、前記移動装置の制御を含む請求項４１に記載の露光装置。
43. 露光光が射出される光学部材と、
    前記露光光が通過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、
    前記可動部材の移動条件に基づいて、前記液浸空間を規定する規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させるコントローラーと
    を備える露光装置。
44. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向とは逆向きの他の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部の体積が増加するように、前記規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させる請求項４１から４３のいずれか一項に記載の露光装置。
45. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に近づくように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸に近づくように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部の体積が増加するように、前記規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させる請求項４１から４４のいずれか一項に記載の露光装置。
46. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記光軸よりも前記一の方向側に位置する前記液浸空間の少なくとも一部の体積が減少するように、前記規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させる請求項４１から４５のいずれか一項に記載の露光装置。
47. 前記可動部材の少なくとも一部が、前記光学部材の光軸から遠ざかるように前記光軸に交わる又は直交する一の方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記可動部材の少なくとも一部が前記光軸から遠ざかるように前記一の方向に向かって移動しない場合と比較して、前記可動部材の少なくとも一部の近傍に位置する前記液浸空間の少なくとも一部の体積が減少するように、前記規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させる請求項４１から４６のいずれか一項に記載の露光装置。
48. 前記液浸部材は、第１部材と、第２部材とを備えており、
    前記可動部材は、前記第２部材を含み、
    前記液浸空間を規定する前記規定部材は、前記第１部材を含む請求項４１から４７のいずれか一項に記載の露光装置。
49. 露光光が射出される光学部材と、
    前記露光光が透過する液浸空間を形成すると共に、少なくとも一部が可動部材である液浸部材と、
    コントローラーと
    を備え、
    前記液浸部材は、移動可能な第１部材と、少なくとも一部が前記第１部材の下側に配置される移動可能な、前記可動部材としての第２部材とを備えており、
    前記コントローラーは、前記第２部材の移動条件に基づいて、前記第１部材を移動させる露光装置。
50. 前記コントローラーは、前記第２部材の移動の方向と前記第１部材の移動の方向とがなす角が鈍角となるように前記第１部材を移動させる請求項４８又は４９に記載の露光装置。
51. 前記コントローラーは、前記第２部材の移動の方向と前記第１部材の移動の方向とが逆向きとなるように前記第１部材を移動させる請求項４８から５０のいずれか一項に記載の露光装置。
52. 前記第２部材のうちの少なくとも一部が前記光学部材の光軸に近づく方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記第２部材のうちの少なくとも一部の上方に配置されている前記第１部材の少なくとも一部を、前記光軸から遠ざかる方向に向かって移動させる請求項４８から５１のいずれか一項に記載の露光装置。
53. 前記第２部材のうちの少なくとも一部が前記光学部材の光軸から遠ざかる方向に向かって移動する場合には、前記コントローラーは、前記第２部材のうちの少なくとも一部の上方に配置されている前記第１部材の少なくとも一部を、前記露光光の光軸に近づく方向に向かって移動させる請求項４８から５２のいずれか一項に記載の露光装置。
54. 前記抑制システムは、前記液浸空間の少なくとも一部に出し入れ可能な挿脱部材を有し、
    前記コントローラーによる前記抑制システムの制御は、前記挿脱部材の出し入れの制御を含む請求項１から５３のいずれか一項に記載の露光装置。
55. 前記可動部材は、前記光学部材及び前記液浸部材の内の少なくとも一方の下側で移動する物体との相対速度及び相対加速度のうちの少なくとも一つが小さくなるように移動する請求項１から５４のいずれか一項に記載の露光装置。
56. 前記可動部材は、前記物体の表面が対向する下面を有し、
    前記液浸空間の一部は、前記可動部材の下面と前記物体の表面との間に形成される請求項５５に記載の露光装置。
57. 前記可動部材は、前記露光光が通過する開口を有し、
    前記可動部材の下面は、前記開口の周囲に配置される請求項５６に記載の露光装置。
58. 前記可動部材は、前記物体の表面上の前記液体を回収する第３回収部を、前記下面の周囲に有する請求項５６又は５７に記載の露光装置。
59. 少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、
    前記移動部材の移動に起因した前記液浸空間の少なくとも一部における液体の圧力の変動を抑制する抑制システムを制御することと
    を備える露光方法。
60. 少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の少なくとも一部に対して液体供給を行うことと、
    前記可動部材の移動条件に基づいて液体供給量を制御することと
    を備える露光方法。
61. 少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、
    前記液浸空間の少なくとも一部から液体回収を行うことと、
    前記可動部材の移動条件に基づいて液体回収量を制御することと
    を備える露光方法。
62. 少なくとも一部が可動部材である液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、
    前記可動部材の移動条件に基づいて、前記液浸空間を規定する規定部材の少なくとも一部の位置及び形状のうちの少なくとも一つを変化させることと
    を備える露光方法。
63. 移動可能な第１部材と少なくとも一部が前記第１部材の下側に配置される移動可能な可動部材である第２部材とを備える液浸部材を用いて、光学部材から射出される露光光が通過する液浸空間を形成することと、
    前記第２部材の移動条件に基づいて、前記第１部材を移動させることと
    を備える露光方法。
64. 請求項１から５８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと
    を備えるデバイス製造方法。
65. 請求項５９から６３のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
    露光された前記基板を現像することと
    を備えるデバイス製造方法。