JP5245740B2 - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。図1において、露光装置EXは、マスクMを保持して移動可能なマスクステージ1と、基板Pを保持して移動可能な基板ステージ2と、マスクステージ1に保持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンの像を基板ステージ2に保持されている基板Pに投影する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を制御する制御装置CONTとを備えている。制御装置CONTは、例えばコンピュータシステムを含む。
本実施形態の投影光学系PLは、その投影倍率が例えば1/4、1/5、又は1/8等の縮小系である。なお、投影光学系PLは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系PLの光軸AXは、Z軸と平行である。また、投影光学系PLは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系PLは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
まず、不図示のマスク搬送装置によってマスクMがマスク保持部14に搬送されて保持されると共に、基板Pが基板保持部22に搬送され保持される。制御装置CONTは、露光装置EXの周囲の環境(温度、湿度及びクリーン度を含む)を調整した状態で、基板Pの露光を開始する。
次に、本発明の第2実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図(図5〜図7)では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。
例えば、上記第1実施形態においては、補正装置80及び第2補正装置88が互いの検出結果を別個に補正を行う構成としたが、これに限られることは無く、例えば第2補正装置88の検出結果を用いて補正装置80がレーザ干渉計19Aの位置情報を補正する構成であっても構わない。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (25)
- マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、
前記マスクを移動可能に保持する第1ステージ装置と、
前記第1ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記第1ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、
前記第1ステージ装置の上方に配置され、前記光の光路周辺の空間のうち前記光路の上方の空間の光屈折率を検出し、検出結果及び周波数フィルタ処理を用いて、前記第1ステージ装置の移動方向、移動速度及び位置のうち少なくとも1つに応じて前記情報の補正を行う補正装置と、
前記基板を移動可能に保持する第2ステージ装置と、
前記第2ステージ装置に第2光を照射し、前記第2光の反射光を用いて前記第2ステージ装置の位置に関する第2情報を検出する第2光干渉装置と、
前記第2光の光路周辺の第2空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記第2情報の補正を行う第2補正装置と
を備え、
前記補正装置は、前記第2補正装置の検出結果を用いて前記情報の補正を行う
露光装置。 - 前記補正装置は、前記空間に計測光を照射し、前記計測光を参照光と干渉させることによって前記光屈折率を検出する請求項1に記載の露光装置。
- 前記補正装置は、前記計測光を反射する固定鏡と、前記参照光を反射する参照鏡と、前記固定鏡及び前記参照鏡を支持する支持部材とを有し、
前記支持部材は、防振装置を有する請求項2に記載の露光装置。 - 前記防振装置は、前記支持部材の振動の腹に配置されている請求項3に記載の露光装置。
- 前記第1ステージの上方からダウンフローを発生させる発生装置を更に備え、
前記補正装置は、前記光干渉装置よりも前記ダウンフローの上流側に配置されている請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記補正装置は、前記計測光を反射する固定鏡と、前記参照光を反射する参照鏡と、前記固定鏡及び前記参照鏡を支持する支持部材とを有し、
前記支持部材は、前記発生装置の形状に対応して形成されている請求項5に記載の露光装置。 - 前記発生装置は、平面視で前記第1ステージ装置から外れた位置に配置され、
前記支持部材は、前記発生装置を迂回するように湾曲している請求項6に記載の露光装置。 - 前記露光処理に用いられる露光光を照明する照明装置を更に備え、
前記支持部材は、前記照明装置に固定されている請求項7に記載の露光装置。 - 前記支持部材は、複数のヒンジ部材によってキネマティックに固定されている請求項8に記載の露光装置。
- 前記発生装置は、平面視で前記第1ステージ装置に重なる位置に配置され、
前記支持部材は、平面視で前記発生装置に重なる領域に開口部を有するように枠状に形成されている請求項6に記載の露光装置。 - 前記第1ステージ装置を案内するベース部材を更に備え、
前記支持部材は、前記ベース部材に固定されている請求項10に記載の露光装置。 - 前記光干渉装置及び前記補正装置は、前記ベース部材上に固定された板状部材に一体的に取り付けられている請求項11に記載の露光装置。
- 前記露光処理に用いられる露光光を前記基板に投影する投影光学装置を更に備え、
前記光干渉装置は、前記第1ステージ装置及び前記投影光学装置の両方に対して前記光を照射可能に設けられており、
前記補正装置は、前記第1ステージ装置及び前記投影光学装置の両方に対して前記測定光を照射可能に設けられている請求項12に記載の露光装置。 - マスクを用いて基板に露光処理を行う露光方法であって、
前記マスクを移動可能に保持するステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記第1ステージ装置の位置に関する情報を検出する位置検出工程と、
前記光の光路周辺の空間のうち前記光路の上方の空間の光屈折率を検出し、検出結果及び周波数フィルタ処理を用いて、前記第1ステージ装置の移動方向、移動速度及び位置のうち少なくとも1つに応じて、前記情報の補正を行う補正工程と、
前記基板を移動可能に保持する第2ステージ装置に第2光を照射し、前記第2光の反射光を用いて前記第2ステージ装置の位置に関する第2情報を検出する第2位置検出工程と、
を備え、
前記補正工程は、前記第2補正工程での検出結果を用いて前記情報の補正を行うことを含む
露光方法。 - 前記補正工程では、前記空間に計測光を照射し、前記計測光を参照光と干渉させることによって前記光屈折率を検出する請求項14に記載の露光方法。
- 前記補正工程は、前記計測光を反射する固定鏡と、前記参照光を反射する参照鏡と、前記固定鏡及び前記参照鏡を支持する支持部材を防振する防振工程を含む請求項15に記載の露光方法。
- 前記防振工程では、前記支持部材の振動の腹において前記支持部材を防振する請求項16に記載の露光方法。
- 前記第1ステージの上方からダウンフローを発生させる発生工程を更に備え、
前記補正工程では、前記光干渉装置よりも前記ダウンフローの上流側で前記情報の補正を行う請求項14から請求項17のうちいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記補正工程は、前記計測光を反射する固定鏡と、前記参照光を反射する参照鏡と、前記固定鏡及び前記参照鏡を支持する支持部材を防振する防振工程を含み、
前記発生工程は、前記ダウンフローの発生装置を用いて行われ、
前記支持部材は、前記発生装置の形状に対応して形成されている請求項18に記載の露光方法。 - 前記発生装置は、平面視で前記ステージ装置から外れた位置に配置され、
前記支持部材は、前記発生装置を迂回するように湾曲している請求項19に記載の露光方法。 - 前記露光処理に用いられる露光光を照明する照明装置を更に備え、
前記支持部材は、前記照明装置に固定されている請求項20に記載の露光方法。 - 前記支持部材は、複数のヒンジ部材によってキネマティックに固定されている請求項21に記載の露光方法。
- 前記発生装置は、平面視で前記第1ステージ装置に重なる位置に配置され、
前記支持部材は、平面視で前記発生装置に重なる領域に開口部を有するように枠状に形成されている請求項19に記載の露光方法。 - 前記ステージ装置を案内するベース部材を更に備え、
前記支持部材は、前記ベース部材に固定されている請求項23に記載の露光方法。 - 前記露光処理に用いられる露光光を投影させる投影光学装置を更に備え、
前記位置検出工程では、前記第1ステージ装置及び前記投影光学装置の両方に対して前記光を照射し、
前記補正工程では、前記第1ステージ装置及び前記投影光学装置の両方に対して前記光を照射する請求項24に記載の露光方法。
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