JP6313552B2 - 計測装置、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 61
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 36
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 35
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 29
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Description
本発明の第1実施形態のステージ装置100について、図1を参照しながら説明する。第1実施形態のステージ装置100は、加工や計測の対象となる対象物を保持して移動可能なステージ1と、ステージ1の位置を計測する計測装置20と、制御部30とを含む。ステージ1は、例えば、X方向、Y方向、Z方向、ωX方向(X軸周りの回転方向)、ωY方向(Y軸周りの回転方向)およびωZ方向(Z軸周りの回転方向)に移動可能に構成されている。また、ステージ1には、計測装置20からの光を反射する被検面2axを有する反射板2xがX方向側に、並びに、計測装置20からの光を反射する被検面2ayを有する反射板2yがY方向側に備えられている。
E1=L−L0=L・(1−cosθ1) ・・・(1)
E2=L・tanθ1・tanθ2 ・・・(2)
h=f・tanθ1 ・・・(3)
本発明の第2実施形態のステージ装置200について、図4を参照しながら説明する。第2実施形態のステージ装置200は、第1実施形態のステージ装置100と比較して、検出部9の構成が異なる。第1実施形態の検出部9は、光源3の射出口3aから射出されるレーザ光4の射出角度の変化(θ1)を検出する。しかしながら、射出口3aから射出されるレーザ光4は、射出角度の変化(θ1)が生じるだけではなく、平行シフトが生じる場合がある。レーザ光4に平行シフトが生じると、被検面2aに入射する位置が変化してしまうため、被検面2aの傾き(θ2)が生じているときには、射出角度の変化(θ1)と同様に、誤差が生じてしまいうる。そのため、第2実施形態の検出部9は、レーザ光4の射出角度の変化(θ1)だけではなく、レーザ光4の平行シフトも検出するように構成されている。以下では、第2実施形態の検出部9における構成について説明する。
E3=A/tanθ2 ・・・(4)
本発明の実施形態に係るステージ装置を有する露光装置300について、図5を参照して説明する。図5は、本発明の露光装置300の構成を示す概略図である。本発明の露光装置300は、マスク50のパターンを基板51(例えば、ガラス基板や半導体基板)に投影して基板51を露光するように構成される。露光装置300は、マスク50に光を照射する照明光学系52と、マスク50を保持するマスクステージ53と、マスク50のパターンを基板51に投影する投影光学系54と、ステージ装置55とを備える。ステージ装置55は、例えば、第1実施形態のステージ装置100や、第2実施形態のステージ装置200が適用されうる。そして、基板51は、ステージ装置55に含まれるステージ1によって保持される。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (9)
- 被検面の位置を計測する計測装置であって、
光を射出する射出口を有する光源と、
前記射出口から射出された光の射出角度を検出する第1検出部と、
前記被検面の傾きを検出する第2検出部と、
前記射出口から射出されて前記被検面で反射した光と前記射出口から射出されて参照面で反射した光との干渉光に基づいて、前記射出口と前記被検面との間の光路長を求め、前記光路長に基づいて前記被検面の位置を決定する処理部と、
を有し、
前記処理部は、前記干渉光に基づいて求められた前記光路長をL、前記第1検出部によって検出された前記射出角度をθ 1 、前記第2検出部によって検出された前記被検面の傾きをθ 2 としたとき、C 2 =L・tanθ 1 ・tanθ 2 からなる第2補正値C 2 を用いて前記光路長を補正し、該補正された光路長に基づいて前記被検面の位置を決定する、ことを特徴とする計測装置。 - 前記第1検出部は、前記射出口から射出された光のうち一部の光を受光して前記射出角度を検出する、ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記干渉光に基づいて求められた前記光路長をL、前記第1検出部によって検出された前記射出角度をθ1としたとき、C1=L・(1−cosθ1)からなる第1補正値C1を用いて前記光路長を補正する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の計測装置。
- 前記第1検出部は、前記射出口から射出された光の一部を第1光と第2光とに分割するビームスプリッタと、前記第1光を受光する第1受光面と、前記第2光を受光する第2受光面とを含み、
前記第1受光面と前記第2受光面とは、前記第1光の光路の長さと前記第2光の光路の長さとが互いに異なるように配置され、
前記第1検出部は、前記第1受光面における前記第1光の入射位置の変化と前記第2受光面における前記第2光の入射位置の変化との差が閾値以下であるときに、前記射出口から射出された光が平行にシフトしたことを検出する、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 前記処理部は、前記被検面の位置を逐次的に決定する、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記第2検出部は、基準面に対する前記被検面の傾きを検出し、
前記基準面は、前記射出口からの光が垂直に前記被検面に入射するときの前記被検面と平行な面である、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - 請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の計測装置と、
前記被検面を有し移動可能なステージと、
を含むことを特徴とするステージ装置。 - 基板を露光する露光装置であって、
請求項7に記載のステージ装置を含み、
前記ステージは前記基板を保持する、ことを特徴とする露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013150984A JP6313552B2 (ja) | 2013-07-19 | 2013-07-19 | 計測装置、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013150984A JP6313552B2 (ja) | 2013-07-19 | 2013-07-19 | 計測装置、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015021875A JP2015021875A (ja) | 2015-02-02 |
JP2015021875A5 JP2015021875A5 (ja) | 2016-10-20 |
JP6313552B2 true JP6313552B2 (ja) | 2018-04-18 |
Family
ID=52486441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013150984A Expired - Fee Related JP6313552B2 (ja) | 2013-07-19 | 2013-07-19 | 計測装置、ステージ装置、露光装置および物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6313552B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10242248A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-11 | Canon Inc | 移動ステージの位置測定方法と装置 |
JP3413122B2 (ja) * | 1998-05-21 | 2003-06-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
DE102007036815B4 (de) * | 2007-08-03 | 2010-03-04 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zur Bestimmung des durch die Substrattopologie und eine Koordinaten-Messmaschine bedingten systematischen Fehlers bei der Vermesung von Positionen von Kanten von Strukturen eines Substrats |
TWI395071B (zh) * | 2008-06-26 | 2013-05-01 | Ind Tech Res Inst | 步進排列式干涉微影方法與系統 |
JP5245740B2 (ja) * | 2008-11-13 | 2013-07-24 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
-
2013
- 2013-07-19 JP JP2013150984A patent/JP6313552B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015021875A (ja) | 2015-02-02 |
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