JP5790644B2 - 検査装置および検査方法 - Google Patents
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Description
前記膜厚測定部が前記膜厚を測定するとき、前記照明部は、前記露光装置および前記時間的若しくは固体的に異なる露光装置により露光される前記半導体基板の表面に前記照明光を照射し、前記検出部は、前記照明光が照射された前記半導体基板の表面からの正反射光を検出し、前記膜厚測定部は、前記検出部に検出された前記正反射光の情報から前記膜厚を測定するようにしてもよい。
10 ウェハ(10a FEMウェハ) 20 照明系(照明部)
30 受光系 35 撮像装置(検出部)
40 画像処理部(設定演算部および測定演算部)
41 記憶部
50 膜厚算出部
60 露光装置
Claims (32)
- 露光装置により露光されて表面にパターンが形成された基板を照明光で照明する照明部と、
前記照明光で照明された前記基板からの反射光を検出する検出部と、
前記検出部により検出された前記基板からの反射光の情報から、露光装置の露光条件を算出する演算部とを備え、
前記演算部は、
第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の所定のパターンを形成した第1の基板に対して前記照明部による照明を行うとともに前記検出部により反射光の検出を行って得られた前記検出部から検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第1の情報と、前記露光条件の変化範囲のうち少なくとも一部が重複するように第2の露光装置により露光条件を変化させて複数の前記所定のパターンを形成した第2の基板に対して前記照明部による照明を行うとともに前記検出部により反射光の検出を行って得られた前記検出部からの検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第2の情報とを比較して、前記第1の露光装置に対する前記第2の露光装置の露光条件のずれを算出するように構成され、
前記第1の情報として、前記第1の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第1の近似曲線を用い、
前記第2の情報として、前記第2の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第2の近似曲線を用い、
前記第1の近似曲線と前記第2の近似曲線とを比較して、前記第1の露光装置に対する第2の露光装置の露光条件のずれを算出することを特徴とする検査装置。 - 前記第1の情報として前記第1の露光装置によるフォーカス条件の変化に対する前記検出部により検出された反射光の強度に基づく検出値の変化を関数近似して前記第1の近似曲線で表す第1の変化具合を有し、前記第2の情報として前記第2の露光装置による前記フォーカス条件の変化に対する前記検出部により検出された反射光の強度に基づく検出値の変化を関数近似して前記第2の近似曲線で表す第2の変化具合を有し、
前記第1の情報と前記第2の情報とを比較する際には、前記第1および第2の情報のいずれか一方を他方にマッチングするように前記第1および第2の情報のいずれか一方を移動させたときの移動方向と移動量に基づいて、前記フォーカスと前記ドーズのそれぞれに関する前記第1の露光装置と前記第2の露光装置の露光条件のずれ量を求めることを特徴とする請求項1に記載の検査装置。 - 露光装置により露光されて表面にパターンが形成された基板を照明光で照明する照明部と、
前記照明光で照明された前記基板からの反射光を検出する検出部と、
前記検出部により検出された前記基板からの反射光の情報から、露光装置の露光条件を算出する演算部とを備え、
前記演算部は、
所定の時間において第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の所定のパターンを形成した第1の基板に対して前記照明部による照明を行うとともに前記検出部により反射光の検出を行って得られた前記検出部からの検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第1の情報と、前記露光条件の変化範囲のうち少なくとも一部が重複するように前記所定の時間とは相違する時間において前記第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の前記所定のパターンを形成した第2の基板に対して前記照明部による照明を行うとともに前記検出部により反射光の検出を行って得られた前記検出部からの検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第2の情報とを比較して、前記所定の時間とは相違する時間における前記第1の露光装置の露光条件のずれを算出するように構成され、
前記第1の情報として、前記第1の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第1の近似曲線を用い、
前記第2の情報として、前記第2の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第2の近似曲線を用い、
前記第1の近似曲線と前記第2の近似曲線とを比較して、前記第1の露光装置に対する第2の露光装置の露光条件のずれを算出することを特徴とする検査装置。 - 前記第1の情報として前記所定の時間において前記第1の露光装置によるフォーカス条件の変化に対する前記検出部により検出された反射光の強度に基づく検出値の変化を関数近似して前記第1の近似曲線で表す第1の変化具合を有し、前記第2の情報として前記相違する時間において前記第1の露光装置による前記フォーカス条件の変化に対する前記検出部により検出された反射光の強度に基づき検出値の変化を関数近似して前記第1の近似曲線で表す第2の変化具合を有し、
前記第1の情報と前記第2の情報とを比較する際には、前記第1および第2の情報のいずれか一方を他方にマッチングするように前記第1および第2の情報のいずれか一方を移動させたときの移動方向と移動量に基づいて、前記フォーカスと前記ドーズのそれぞれに関する前記所定の時間における前記第1の露光装置と前記相違する時間における前記第1の露光装置の露光条件のずれ量を求めることを特徴とする請求項3に記載の検査装置。 - 前記第1の変化具合と前記第2の変化具合とのパターンマッチングを利用して前記比較が行われることを特徴とする請求項2もしくは4に記載の検査装置。
- 前記第1の変化具合を記憶する記憶部をさらに備え、
前記記憶部に記憶された前記第1の変化具合に基づいて前記ずれの算出を行うことを特徴とする請求項2、4もしくは5に記載の検査装置。 - 前記第1の基板に形成した前記複数の所定のパターンのそれぞれについて測定装置によりパターン形状を測定し、前記測定装置による測定結果に基づいて前記第1の情報における最適露光条件を求め、前記第1の情報に対する前記最適露光条件との関係を用いて、前記第1の情報と前記第2の情報を比較し、前記第1の露光装置に対する前記第2の露光装置の露光条件のずれ、もしくは前記第1の露光装置における前記所定の時間および前記相違する時間でのずれを算出することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記露光条件はフォーカスおよびドーズの少なくとも一方であることを特徴とする請求項7に記載の検査装置。
- 前記検出部は、1回の露光で形成されるパターン内の複数の部分の前記反射光を検出することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記照明部は、前記所定のパターンが形成された前記基板の表面全体に略平行な光束である前記照明光で一括照明し、
前記検出部は、前記照明光が照射された前記基板の表面全体からの光を一括で検出することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記検出部は、前記照明光が照射されて前記基板の前記所定のパターンで発生した回折光を検出することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記照明部は、前記照明光として略直線偏光を前記基板の表面に照射し、
前記検出部は、前記基板で反射した略直線偏光の振動方向と略直交する振動方向の偏光成分を検出することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記算出されたずれに基づく情報を露光装置に入力可能に出力することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記所定のパターンを露光する前のレジスト膜の膜厚を測定する膜厚測定部を備え、
前記演算部は、前記膜厚測定部においてそれぞれ測定された前記膜厚に基づいて、前記比較の補正を行うことを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記膜厚測定部は、前記照明部で照明された前記レジスト膜からの正反射光に基づいて膜厚を測定することを特徴とする請求項14に記載の検査装置。
- 前記膜厚測定部は、複数の波長の光でそれぞれ照明された前記レジスト膜からの正反射光に基づいて膜厚を測定することを特徴とする請求項14もしくは15に記載の検査装置。
- 露光装置により露光されて表面にパターンが形成された基板を照明光で照明する照明ステップと、
前記照明光で照明された前記基板からの反射光を検出する検出ステップと、
前記検出ステップにおいて検出された前記基板から射出される光の情報から、露光装置の露光条件を算出する演算ステップとを備え、
前記演算ステップにおいて、
第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の所定のパターンを形成した第1の基板に対して前記照明ステップによる照明を行うとともに前記検出ステップにより反射光の検出を行って得られた検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第1の情報と、前記露光条件の変化範囲のうち少なくとも一部が重複するように第2の露光装置により露光条件を変化させて複数の前記所定のパターンを形成した第2の基板に対して前記照明ステップによる照明を行うとともに前記検出ステップにより反射光の検出を行って得られた検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第2の情報とを比較して、前記第1の露光装置に対する前記第2の露光装置の露光条件のずれを算出するように構成され、
前記第1の情報として、前記第1の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第1の近似曲線を用い、
前記第2の情報として、前記第2の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第2の近似曲線を用い、
前記第1の近似曲線と前記第2の近似曲線とを比較して、前記第1の露光装置に対する第2の露光装置の露光条件のずれを算出することを特徴とする検査方法。 - 前記第1の情報として前記第1の露光装置によるフォーカス条件の変化に対する前記検出ステップにおいて検出された反射光の強度に基づく検出値の変化を関数近似して前記第1の近似曲線で表す第1の変化具合を有し、前記第2の情報として前記第2の露光装置による前記フォーカス条件の変化に対する前記検出ステップにおいて検出された反射光の強度に基づく検出値の変化を関数近似して前記第2の曲線で表す第2の変化具合を有し、
前記第1の情報と前記第2の情報とを比較する際には、前記第1および第2の情報のいずれか一方を他方にマッチングするように前記第1および第2の情報のいずれか一方を移動させたときの移動方向と移動量に基づいて、前記フォーカスと前記ドーズのそれぞれに関する前記第1の露光装置と前記第2の露光装置の露光条件のずれ量を求めることを特徴とする請求項17に記載の検査方法。 - 露光装置により露光されて表面にパターンが形成された基板を照明光で照明する照明ステップと、
前記照明光で照明された前記基板からの反射光を検出する検出ステップと、
前記検出ステップにおいて検出された前記基板からの反射光の情報から、露光装置の露光条件を算出する演算ステップとを備え、
前記演算ステップにおいて、
所定の時間において第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の所定のパターンを形成した第1の基板に対して前記照明ステップによる照明を行うとともに前記検出ステップにより反射光の検出を行って得られた検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第1の情報と、前記露光条件の変化範囲のうち少なくとも一部が重複するように前記所定の時間とは相違する時間において前記第1の露光装置により露光条件を変化させて複数の前記所定のパターンを形成した第2の基板に対して前記照明ステップによる照明を行うとともに前記検出ステップにより反射光の検出を行って得られた検出値の、前記露光条件の変化に対する変化具合に関する第2の情報とを比較して、前記所定の時間とは相違する時間における前記第1の露光装置の露光条件のずれを算出するように構成され、
前記第1の情報として、前記第1の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第1の近似曲線を用い、
前記第2の情報として、前記第2の基板からの反射光の検出値を前記露光条件の変化に対して関数近似した第2の近似曲線を用い、
前記第1の近似曲線と前記第2の近似曲線とを比較して、前記第1の露光装置に対する第2の露光装置の露光条件のずれを算出することを特徴とする検査方法。 - 前記第1の情報として前記所定の時間において前記第1の露光装置によるフォーカス条件の変化に対する前記検出ステップにおいて検出された反射光の強度変化を関数近似して前記第1の近似曲線で表す第1の変化具合を有し、前記第2の情報として前記相違する時間において前記第1の露光装置による前記フォーカス条件の変化に対する前記検出ステップにおいて検出された反射光の強度変化を関数近似して前記第2の曲線で表す第2の変化具合を有し、
前記第1の情報と前記第2の情報とを比較する際には、前記第1および第2の情報のいずれか一方を他方にマッチングするように前記第1および第2の情報のいずれか一方を移動させたときの移動方向と移動量に基づいて、前記フォーカスと前記ドーズのそれぞれに関する前記所定の時間における前記第1の露光装置と前記相違する時間における前記第1の露光装置の露光条件のずれ量を求めることを特徴とする請求項19に記載の検査方法。 - 前記第1の変化具合と前記第2の変化具合とのパターンマッチングを利用して前記比較が行われることを特徴とする請求項18もしくは20に記載の検査方法。
- 前記第1の変化具合を記憶する記憶ステップをさらに備え、
前記記憶ステップにおいて記憶された前記第1の変化具合に基づいて前記ずれの算出を行うことを特徴とする請求項18、20もしくは21に記載の検査方法。 - 前記第1の基板に形成した前記複数の所定のパターンのそれぞれについて測定装置によりパターン形状を測定する測定ステップを有し、前記測定ステップにおける測定結果に基づいて前記第1の情報における最適露光条件を求め、前記第1の情報に対する前記最適露光条件との関係を用いて、前記第1の情報と前記第2の情報を比較し、前記第1の露光装置に対する前記第2の露光装置の露光条件のずれ、もしくは前記第1の露光装置における前記所定の時間および前記相違する時間でのずれを算出することを特徴とする請求項17〜22のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記露光条件はフォーカスおよびドーズの少なくとも一方であることを特徴とする請求項23に記載の検査方法。
- 前記検出ステップにおいては、1回の露光で形成されるパターン内の複数の部分の前記反射光を検出することを特徴とする請求項17〜24のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記照明ステップにおいて、前記所定のパターンが形成された前記基板の表面全体に略平行な光束である前記照明光で一括照明し、
前記検出ステップにおいて、前記照明光が照射された前記基板の表面全体からの光を一括で検出することを特徴とする請求項17〜25のいずれか一項に記載の検査方法。 - 前記検出ステップにおいて、前記照明光が照射されて前記基板の前記所定のパターンで発生した回折光を検出することを特徴とする請求項17〜26のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記照明ステップにおいて、前記照明光として略直線偏光を前記基板の表面に照射し、
前記検出ステップにおいては、前記基板で反射した略直線偏光の振動方向と略直交する振動方向の偏光成分を検出することを特徴とする請求項17〜26のいずれか一項に記載の検査方法。 - 前記算出されたずれに基づく情報を露光装置に入力可能に出力することを特徴とする請求項17〜28のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記所定のパターンを露光する前のレジスト膜の膜厚を測定する膜厚測定ステップを備え、
前記演算ステップにおいて、前記膜厚測定ステップにおいてそれぞれ測定された前記膜厚に基づいて、前記比較の補正を行うことを特徴とする請求項17〜29のいずれか一項に記載の検査方法。 - 前記膜厚測定ステップにおいて、前記照明ステップで照明された前記レジスト膜からの正反射光に基づいて膜厚を測定することを特徴とする請求項30に記載の検査方法。
- 前記膜厚測定ステップにおいて、複数の波長の光でそれぞれ照明された前記レジスト膜からの正反射光に基づいて膜厚を測定することを特徴とする請求項30もしくは31に記載の検査方法。
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