JP5765345B2 - 検査装置、検査方法、露光方法、および半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明に係る検査装置は、露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射する照明部と、前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出する検出部と、パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブとのフィッティングに基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定する演算部とを有し、前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示す。
また、上述の検査装置において、前記ドーズカーブを記憶する記憶部を備えることが好ましい。
また、本発明に係る検査方法は、露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射し、前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出し、パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブとのフィッティングに基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定し、前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示すようになっている。
10 ウェハ(10a 条件振りウェハ)
15a〜15e 計測用ウェハ
20 照明系(照明部)
30 受光系 35 撮像装置(検出部)
40 画像処理部(演算部) 60 検査部
80 制御部 82 通信ポート(入力部)
85 記憶部 90 信号出力部
100 露光装置
Claims (17)
- 露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射する照明部と、
前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出する検出部と、
パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブのうち少なくとも一方をドーズ量の増減方向へ移動させた場合に、前記第1のドーズカーブと前記第2のドーズカーブの相関が良くなるときの移動量に基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定する演算部とを有し、
前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示すことを特徴とする検査装置。 - 露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射する照明部と、
前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出する検出部と、
パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブとのフィッティングに基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定する演算部とを有し、
前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示すことを特徴とする検査装置。 - 前記検出部が前記パターンからの回折光を検出することを特徴とする請求項1または2
に記載の検査装置。 - 前記ドーズカーブを記憶する記憶部を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記検出部は前記パターンからの光を複数回検出し、前記演算部は前記複数回の検出結果を積算した積算信号に基づいて前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に検査装置。
- 前記基板と前記検出部との相対位置と、前記基板と前記照明部との相対位置との少なくとも一方を変更する変更部をさらに備え、
前記演算部は、前記変更前後の複数の前記相対位置における検出結果の平均に基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記照明部は、略平行な光束で前記基板のパターンが形成された面全面を一括して照明し、
前記検出部は、前記全面にあるパターンからの光を一括して検出することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記演算部で判定した前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を、該判定対象のパターンを露光した露光装置にフィードバック可能に出力する出力部をさらに備えることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の検査装置。
- 露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射し、
前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出し、
パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブのうち少なくとも一方をドーズ量の増減方向へ移動させた場合に、前記第1のドーズカーブと前記第2のドーズカーブの相関が良くなるときの移動量に基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定し、
前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示すことを特徴とする検査方法。 - 露光を繰り返して作製された複数のパターンを有する基板の該パターンに照明光を照射し、
前記照明光が照射された前記基板の前記パターンからの光を一括して検出し、
パターンを形成するときのドーズ量と該パターンからの光の検出結果との相関関係を示す第1のドーズカーブと、判定対象のパターンを形成するときのドーズ量と該判定対象のパターンからの光の検出結果との相関関係を示す第2のドーズカーブとのフィッティングに基づいて、前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定し、
前記第1及び第2のドーズカーブは、複数の異なるドーズ量で露光を繰り返して作製された複数のパターンからの光の検出結果と、該パターンを形成するときのドーズ量との相関関係を示すことを特徴とする検査方法。 - 前記パターンからの回折光を検出することを特徴とする請求項9または10に記載の検査方法。
- 前記パターンからの光を複数回検出し、該複数回の検出結果を積算して前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定することを特徴とする請求項9から11のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記照明光の照射状態と、前記パターンからの光の検出状態との少なくとも一方を変更し、前記変更前後に検出された検出結果の平均に基づいて前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を判定することを特徴とする請求項9から12のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記パターンが形成された面全面を一括して照明し、前記全面にある前記パターンからの光を一括して検出することを特徴とする請求項9から13のいずれか一項に記載の検査方法。
- 前記判定対象のパターンが露光されたときのドーズ量を求め、該判定対象のパターンを露光した露光装置にフィードバック可能な情報にすることを特徴とする請求項9から14のいずれか一項に記載の検査方法。
- 請求項15に記載の検査方法により得られた前記フィードバック可能な情報に基づいて、露光条件を決定することを特徴とする露光方法。
- 請求項16に記載の露光方法により作製されたことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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