JP2018010992A5

JP2018010992A5 - プラズマ処理システム

Info

Publication number: JP2018010992A5
Application number: JP2016139681A
Authority: JP
Filing date: 2016-07-14
Publication date: 2019-08-08
Anticipated expiration: 2036-07-14

Description

本発明は、プラズマ処理システムに関する。

本開示は、生産性を向上させることが可能な技術を提供する。

本開示の一態様のプラズマ処理システムは、プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、前記プラズマ処理装置は、処理室と、前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、を有し、前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、前記制御装置は、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、前記搬出ステップの後、前記載置台の前記フォーカスリングが載置される面をクリーニング処理するクリーニングステップと、前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、を実行するように制御する。

本開示によれば、生産性を向上させることができる。

Claims

プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、
前記プラズマ処理装置は、
処理室と、
前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、
を有し、
前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、
前記制御装置は、
前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、
前記搬出ステップの後、前記載置台の前記フォーカスリングが載置される面をクリーニング処理するクリーニングステップと、
前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、
を実行するように制御する、
プラズマ処理システム。
プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、
前記プラズマ処理装置は、
処理室と、
前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、
を有し、
前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、
前記制御装置は、
前記フォーカスリングが前記処理室内にある状態で、前記処理室内をクリーニング処理するクリーニングステップと、
前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、
前記搬出ステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、
を実行するように制御する、
プラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記搬出ステップの前に、前記プラズマ処理装置のクリーニングを行うように制御する、請求項１に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記搬出ステップの後に、前記プラズマ処理装置のクリーニングを行うように制御する、請求項２に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記搬入ステップの後に、前記プラズマ処理装置のシーズニングを行うように制御する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記搬送装置は、前記処理室に前記基板を搬送可能に構成される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記搬送装置は、前記基板の外周縁部を保持した状態で前記基板を搬送し、前記フォーカスリングの下面を保持した状態で前記フォーカスリングを搬送するように構成される、請求項６に記載のプラズマ処理システム。
前記搬送装置は、旋回可能であり、前記フォーカスリングを搬送する際、旋回半径が最小となるように旋回するように構成される、請求項６又は７に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記搬入ステップにおいて、前記搬送装置により前記フォーカスリングを保持した状態で前記フォーカスリングの位置を検出し、検出した前記フォーカスリングの位置と基準位置とのずれを補正して前記載置台に前記フォーカスリングを載置するように制御する、請求項６乃至８のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記フォーカスリングの内周縁部の位置に基づいて、前記フォーカスリングの有無及び位置を検出するように制御する、請求項９に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記フォーカスリングの交換が必要であるか否かを判定する消耗度判定ステップを更に実行し、
前記制御装置は、前記消耗度判定ステップにおいて前記フォーカスリングの交換が必要であると判定した場合、前記搬出ステップを行うように制御する、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記クリーニング処理は、ＮＰＰＣ（Non Plasma Particle Cleaning）又はプラズマを用いるものである、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記クリーニング処理は、前記載置台に前記基板が載置された状態で行うものである、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
前記消耗度判定ステップでは、高周波電力が供給された時間の積算値であるＲＦ積算時間、所定のプラズマ処理の際に前記処理室において供給された高周波電力の積算値であるＲＦ積算電力、または前記処理室において行われる処理のステップのうちフォーカスリングが削られるステップにおいて高周波電力が供給された時間の積算値や高周波電力の積算値であるレシピの特定ステップの積算値に基づいて、消耗度が判定される、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。
前記制御装置は、前記消耗度判定ステップでフォーカスリングの交換が必要であると判定した場合、前記処理室において基板に処理が行われていないか、または前記処理室において処理が行われている基板と同一のロットの基板の処理が終了しているときに交換可能と判定する、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。