JP2000003951A - 搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被処理体の裏面状態や支持部材の摩擦力が変
化しても被処理体を確実に保持できる搬送装置を提供す
る。 【解決手段】 処理装置１００のトランスファチャンバ
１０２内には，搬送アーム１１６が配置される。搬送ア
ーム１１６は，フォーク部１１６ａａを有する上部アー
ム１１６ａと，中部アーム１１６ｂと，下部アーム１１
６ｃから構成される。フォーク部１１６ａａの載置面に
は，保持ピン１２４が設けられる。保持ピン１２４は，
略円錐状で，側面にテーパ面１２４ａが形成される。ウ
ェハＷは，テーパ面１２４ａがウェハＷの外縁部に係止
することにより保持される。保持ピン１２４の最頂部に
は，平面部１２４ｂが形成され，保持ピン１２４の最頂
部がウェハＷの上面よりも下方に配される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，搬送装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】最近，半導体装置の製造工程において
は，スループットの向上や半導体装置の汚染防止などの
観点から，真空搬送室などのトランスファチャンバを中
心として，その周囲にエッチング装置やＣＶＤ装置や冷
却装置などの各種プロセスチャンバや，カセットチャン
バを接続した，いわゆるクラスタ装置化されたマルチチ
ャンバ方式の処理装置が使用されている。この処理装置
は，トランスファチャンバ内に配置された搬送装置，例
えば図８に示すアルミニウム製の搬送アーム１０の作動
により，カセットチャンバ内のカセットに収容された被
処理体，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称す
る。）Ｗを，トランスファチャンバ内を介して各プロセ
スチャンバ内に搬送して，そのウェハＷに所定の処理を
施した後，再びカセットに回収するように構成されてい
る。

【０００３】また，同図に示すように，搬送アーム１０
の載置面には，ウェハＷの裏面に接してウェハＷを保持
（支持）するための保持ピン１２が形成されている。こ
の保持ピン１２は，所定の摩擦係数を有する材料，例え
ばパーフルオロエラストマから成り，略円柱状の形状を
有している。そして，搬送アーム１０の載置面上にウェ
ハＷを載置すると，そのウェハＷは，ウェハＷの裏面と
保持ピン１２の上面との間に生じる摩擦力によって保持
される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，ウェハ
Ｗの保持状態は，ウェハＷの裏面と保持ピン１２との間
で生じる摩擦力に依存しているため，処理時に生じた反
応生成物などの異物が保持ピン１２に付着すると上記摩
擦力が低下し，ウェハＷが搬送アーム１０上でずれた
り，あるいは搬送アーム１０上から落下することもあ
る。従って，保持ピン１２の所定の摩擦力を維持するた
めには，保持ピン１２の洗浄や交換などのメンテナンス
を頻繁に行わなければならず，スループットが低下する
原因となる。また，上記メンテナンスサイクルを延長す
るために，例えば保持ピン１２のウェハＷとの接触面の
面積を広げて上記摩擦力を増加させると，逆に過剰な摩
擦力が生じてウェハＷの受け渡しに影響が及ぶ。

【０００５】また，ウェハＷの裏面の状態は，ウェハＷ
の種類や仕様などに応じて異なるため，所定の摩擦力を
生じさせるためには，それら各ウェハＷのそれぞれに対
応する保持ピン１２を搬送アーム１０に採用しなければ
ならない。その結果，一の搬送装置で異なるウェハＷを
搬送する場合には，保持ピン１２をウェハＷに応じてそ
の都度交換しなければならず，スループットが低下す
る。さらに，その場合には，複数の保持ピン１２を用意
しなければならず，ランニングコストを増加させる原因
となる。

【０００６】本発明は，従来の技術が有する上記のよう
な問題点に鑑みてなされたものであり，保持ピンに異物
が付着したり，あるいは被処理体の裏面の状態がその種
類に応じて異なっても，被処理体を常時均一に保持する
ことができると共に，保持ピンのメンテナンスサイクル
を大幅に延長することが可能な，新規かつ改良された搬
送装置を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に，本発明によれば，請求項１に記載の発明のように，
搬送面に被処理体を支持して搬送する搬送装置であっ
て，搬送面には，被処理体の外縁部に係止して被処理体
を支持する支持部材が形成され，被処理体の上面は，支
持部材の最上部よりも上方に保持されることを特徴とす
る搬送装置が提供される。

【０００８】かかる構成によれば，支持部材によって被
処理体の外縁部に係止することにより被処理体を搬送面
上に保持するため，被処理体の裏面の状態が異なる被処
理体を保持する場合でも，常時確実に保持することがで
きる。その結果，被処理体の裏面状態が異なる被処理体
を一の搬送装置で搬送する場合でも，各被処理体ごとに
支持部材を交換する必要がなくなるため，スループット
を向上させることができる。さらに，支持部材の汎用性
を高めることができるため，搬送装置の生産コストを低
下させることができる。また，処理後の被処理体を搬送
すると，支持部材に処理時に生じた反応生成物などの異
物が付着して摩擦力が低下するが，本発明では上述の如
く被処理体の外縁部に係止して被処理体を保持するた
め，支持部材の摩擦力が低下しても，被処理体を所望の
状態で保持することができる。また，被処理体の上面
は，支持部材の最上部よりも上方に保持されるので，支
持部材の摩耗により生じたパーティクルが被処理体の処
理面に付着し難くなり，歩留りを向上させることができ
る。

【０００９】また，支持部材を，例えば請求項２に記載
の発明のように，テーパ面を側面として有する保持ピン
とし，該テーパ面において被処理体の外縁部に係止して
被処理体を支持すれば，被処理体が所定位置からずれて
載置面上に載置された場合でも，許容範囲内であれば被
処理体を保持することができる。すなわち，載置面上で
被処理体を載置することができる領域を広げることがで
きるため，搬送効率を向上させることができる。また，
被処理体を囲うように保持ピンが載置面に配されるた
め，搬送中に被処理体がずれることがなく，被処理体が
搬送面から落下するなどの事故で，搬送装置が停止する
ことを防止できる。さらに，被処理体の外縁部をテーパ
面で保持するため，被処理体の外径が異なる場合でも，
所定範囲内であれば保持ピンの取り付け位置を変更する
ことなく各種被処理体を搬送することができる。

【００１０】さらに，支持部材を，例えば請求項３に記
載の発明のように，回転自在に構成すれば，テーパ面が
被処理体との摩擦により消耗した場合でも，支持部材を
回転させることのみで，所望の状態のテーパ面を確保す
ることができる。その結果，支持部材の着脱回数が減少
して，メンテナンスに要する時間を短縮できるため，ス
ループットを向上させることができる。さらに，支持部
材の交換サイクルを延長できるため，搬送装置のランニ
ングコストを下げることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に，添付図面を参照しなが
ら，本発明にかかる搬送装置をクラスタ装置化されたマ
ルチチャンバ方式の処理装置に適用した実施の形態につ
いて詳細に説明する。

【００１２】（１）処理装置の全体構成 まず，図１を参照しながら，本実施の形態を適用可能な
処理装置１００の全体構成について説明する。処理装置
１００は，ウェハＷに対して所定の処理を連続的に施す
ための装置の集合体で，トランスファチャンバ１０２を
中心として，そのトランスファチャンバ１０２の周囲
に，例えばエッチング装置のプロセスチャンバ１０４
と，ＣＶＤ（成膜）装置のプロセスチャンバ１０６，１
０８と，冷却装置のプロセスチャンバ（冷却室）１１０
と，カセットチャンバ１１２，１１４が配置されてい
る。

【００１３】また，トランスファチャンバ１０２とプロ
セスチャンバ１０４は，ゲートバルブＧ１を介して連通
し，トランスファチャンバ１０２とプロセスチャンバ１
０６は，ゲートバルブＧ２を介して連通し，トランスフ
ァチャンバ１０２とプロセスチャンバ１０８は，ゲート
バルブＧ３を介して連通し，トランスファチャンバ１０
２とプロセスチャンバ１１０は，ゲートバルブＧ４を介
して連通している。さらに，トランスファチャンバ１０
２とカセットチャンバ１１２は，ゲートバルブＧ５を介
して連通し，トランスファチャンバ１０２とカセットチ
ャンバ１１４は，ゲートバルブＧ６を介して連通してい
る。

【００１４】また，トランスファチャンバ１０２には，
ウェハＷを搬送する搬送手段，例えば本実施の形態にか
かる搬送アーム１１６と，ウェハＷの位置決めを行う位
置決め装置１１８が設けられている。また，カセットチ
ャンバ１１２とカセットチャンバ１１４には，未処理の
ウェハＷを収容し，あるいは処理済みのウェハＷを回収
するカセット１２０が配置されている。さらに，カセッ
ト１２０は，それぞれに対応するカセットチャンバ１１
２のドアバルブＤ１とカセットチャンバ１１４のドアバ
ルブＤ２を介して搬入出される。

【００１５】（２）搬送アームの構成 次に，本実施の形態にかかる搬送アーム１１６の構成に
ついて，詳細に説明する。搬送アーム１１６は，図１及
び図４に示すように，従来の搬送アームと同様にスカラ
型アームなどの多関節アームから成り，図示の例では，
ウェハＷの載置面を有するフォーク部１１６ａａを備え
た上部アーム１１６ａと，上部アーム１１６ａの下方に
配される中部アーム１１６ｂと，中部アーム１１６ｂの
下方に配され，不図示の駆動機構に接続される下部アー
ム１１６ｃが各々接続されている。また，上部アーム１
１６ａと中部アーム１１６ｂと下部アーム１１６ｃは，
上記駆動機構の作動により，それぞれ独立して水平方向
に移動可能であると共に，一体として垂直方向にも移動
可能に構成されている。

【００１６】また，上部アーム１１６ａと中部アーム１
１６ｂと下部アーム１１６ｃは，従来のアルミニウム製
の搬送アームとは異なり，アルミニウムよりも高い剛性
を有する板状部材，例えばセラミックス板から形成され
ている。従って，上部アーム１１６ａと中部アーム１１
６ｂと下部アーム１１６ｃの厚みを従来の搬送アームの
厚みよりも相対的に薄くしても，搬送アーム１１６に要
求される所定の強度を維持することができ，特にフォー
ク部１１６ａａを有する上部アーム１１６ａの厚みを減
少させれば，次のような効果を奏することができる。

【００１７】すなわち，図２及び図３に示すカセット１
２０を例に挙げて説明すると，カセット１２０内には，
図示の如く複数のスロット１２２（１２２−１〜１２２
−ｎ）が設けられており，それら各スロット１２２上に
各々ウェハＷが載置されている。そして，カセット１２
０から未処理のウェハＷを搬出する場合には，通常，図
２に示すように，各スロット１２２のうち，最下位スロ
ット１２２−１上のウェハＷから順次搬出していき，最
後に最上位スロット１２２−ｎ上のウェハＷを搬送す
る。逆に，所定の処理が施されたウェハＷをカセット１
２０に回収する場合には，ウェハＷを最上位スロット１
２２−ｎからその下方の各スロット１２２に搬送し，最
後に最下位スロット１２２−１上にウェハＷを搬送す
る。従って，図３に示すように，最下位スロット１２２
−１上からウェハＷを搬出する際，あるいは最下位スロ
ット１２２−１上にウェハＷを搬入する際に，フォーク
部１１６ａａが進入する間隔領域Ａが最も狭くなる。

【００１８】そこで，上述の如くフォーク部１１６ａａ
の厚みを薄くすれば，上記間隔領域Ａを相対的に狭める
ことができ，さらに各スロット１２２間の間隔も狭める
ことができるため，カセット１２０内により多くのスロ
ット１２２を形成できる。その結果，所定の規格に基づ
いて作られたカセット１２０でも，そのカセット１２０
内にさらに多くのウェハＷを収容することができるた
め，長時間の連続処理が可能となると共に，カセット１
２０の交換サイクルを延長でき，スループットを向上さ
せることができる。

【００１９】（３）保持ピン１２４の構成 次に，図４及び図５を参照しながら，本実施の形態にか
かる保持ピン１２４について説明する。保持ピン１２４
は，上記従来の保持ピンの構成材料であるパーフルオロ
エラストマ，または摩擦係数が低く消耗し難い材料，例
えばポリイミドから形成されている。すなわち，従来の
搬送アームは，ウェハＷの裏面と保持ピンとの間に生じ
る摩擦力を利用してウェハＷを保持するため，保持ピン
を相対的に高い摩擦係数を有する材料から構成しなけれ
ばならなかった。これに対して，本実施の形態にかかる
保持ピン１２４は，上記摩擦力を利用するのではなく，
後述のように，ウェハＷを保持ピン１２４のテーパ面１
２４ａに沿って所定の保持位置にまで案内した後，保持
ピン１２４のテーパ面１２４ａでウェハＷの外縁部に係
止してウェハＷを保持するように構成されている。

【００２０】従って，本実施の形態にかかる保持ピン１
２４は，比較的安価なパーフルオロエラストマや，比較
的高価だが摩擦係数が低い材料のいずれの材料からも形
成することができる。ただし，保持ピン１２４を摩擦係
数が高い材料で形成した場合には，ウェハＷがテーパ面
１２４ａで引っかかって，ウェハＷを上記所定の保持位
置にまで案内できなくなり，ウェハＷを確実に保持する
ことが困難になる場合がある。そこで，かかる場合に
は，上述の如く保持ピン１２４をパーフルオロエラスト
マよりも摩擦係数の低い材料から形成すれば，ウェハＷ
を所定の保持位置に案内することができると共に，ウェ
ハＷを確実に保持することができる。

【００２１】また，保持ピン１２４は，図４（ａ）及び
図４（ｂ）に示すように，ウェハＷの輪郭に沿って，上
記載置面の例えば４ヶ所に各々配置されている。また，
保持ピン１２４は，図４（ｂ）及び図５に示すように，
略円錐状の形状であり，その側面に円錐面，すなわち下
り勾配の傾斜を有するテーパ面１２４ａが形成されてい
る。従って，保持ピン１２４をフォーク部１１６ａａの
載置面に取り付けた際には，図４（ｂ）に示すように，
対向する保持ピン１２４のテーパ面１２４ａ間にテーパ
領域が形成される。

【００２２】かかる構成により，ウェハＷをフォーク部
１１６ａａの載置面上に載置すると，そのウェハＷは，
保持ピン１２４のテーパ面１２４ａに沿って所定位置に
案内された後，テーパ面１２４ａがウェハＷの外縁部に
係止してウェハＷが保持される。その結果，ウェハＷ
を，ウェハＷと保持ピン１２４との間で生じる摩擦力で
はなく，ウェハＷの自重を利用して各保持ピン１２４間
にはめ込む，いわゆる落とし込みによって保持できるた
め，ウェハＷの裏面状態が異なるウェハＷを搬送する場
合や，保持ピン１２４に異物が付着して摩擦力が低下し
た場合でも，ウェハＷを確実に保持することができる。

【００２３】さらに，保持ピン１２４の側面は，テーパ
面１２４ａであるため，外径が異なるウェハＷを搬送す
る場合でも，所定の許容誤差の範囲内であれば，保持ピ
ン１２４の配置位置を変えることなく，各種ウェハＷを
保持することができる。その結果，保持ピン１２４の汎
用性を高めることができるため，生産コストを減少させ
ることができる。また，保持ピン１２４は，摩擦係数の
低い材料から形成されているため，テーパ面１２４ａと
ウェハＷの外縁部との間で生じる摩擦力を低下させるこ
とができ，フォーク部１１６ａａの載置面上に載置され
たウェハＷを，所定の保持位置に滑らかに案内すること
ができる。

【００２４】また，図４（ｂ）及び図５に示すように，
保持ピン１２４の最頂部には，平面部１２４ｂが形成さ
れている。従って，図４（ｂ）に示すように，ウェハＷ
を保持した際には，保持ピン１２４の平面部１２４ｂが
ウェハＷの上面Ｗａよりも下方に配置される。すなわ
ち，図示の例では，平面部１２４ｂは，同図中の矢印Ｂ
分だけウェハＷの上面Ｗａよりも下方に配置される。そ
の結果，保持ピン１２４のテーパ面１２４ａが摩耗して
パーティクルが生じても，そのパーティクルがウェハＷ
の被処理面に付着し難くなるため，歩留りを向上させる
ことができる。さらに，ウェハＷの保持時には，同図に
示すように，ウェハＷとフォーク部１１６ａａとの間に
所定の間隔領域Ｃが形成されるため，ウェハＷが直接フ
ォーク部１１６ａａに接触することがなく，ウェハＷが
汚染され難くなる。

【００２５】また，図５に示すように，各保持ピン１２
４は，フォーク部１１６ａａの載置面上で，保持ピン１
２４の円周方向に回転自在に構成されているため，保持
ピン１２４のテーパ面１２４ａが摩耗した場合でも，保
持ピン１２４を適宜回転させることのみで所望の状態の
テーパ面１２４ａを確保することができる。その結果，
保持ピン１２４の着脱回数の減少に伴って，保持ピン１
２４のメンテナンス時間を短縮することができ，スルー
プットを向上させることができる。さらに，保持ピン１
２４の交換時期を延長することができるため，ランニン
グコストも低下させることができる。

【００２６】本実施の形態にかかる搬送装置は，以上の
ように構成されており，保持ピン１２４のテーパ面１２
４ａがウェハＷの外縁部に係止してそのウェハＷを保持
するため，ウェハＷと保持ピン１２４との間の摩擦力が
変化してもウェハＷを保持することができる。その結
果，保持ピン１２４に異物が付着したり，ウェハＷの裏
面の状態が異なる場合でも，ウェハＷを常時確実に保持
することができる。さらに，保持ピン１２４の側面がテ
ーパ面１２４ａであるため，ウェハＷの外径が許容誤差
内の範囲内で異なる場合であれば，保持ピン１２４の取
り付け位置を変更しなくても，各種ウェハＷを処理する
ことができる。

【００２７】（４）本実施の形態に適用可能な他の保持
ピンの構成 次に，搬送装置１００に適用できる保持ピン３００，４
００について説明する。なお，以下の説明において，上
記保持ピン１２４と略同一の機能及び構成を有する構成
要素については，同一の符号を付することにより，重複
説明を省略する。また，保持ピン３００，４００は，上
記保持ピン１２４と略同一の材料から形成されていると
共に，保持ピン１２４と同一の位置に配置されている。
さらに，保持ピン３００，４００は，その最頂部がウェ
ハＷの上面よりも上方に突出することがなく，かつウェ
ハＷがフォーク部１１６ａａの載置面に接触しないよう
に構成されている。

【００２８】（ａ）保持ピン３００の構成 まず，図６を参照しながら，保持ピン３００について説
明すると，この保持ピン３００のテーパ面１２４ａに
は，保持ピン３００の最頂部から底部にかけて複数のス
リップサイン３００ａが形成されている。このスリップ
サイン３００ａは，図示の例では，テーパ面１２４ａに
描かれた線から成り，テーパ面１２４ａがウェハＷを所
定の状態で保持できなくなる程度に摩耗した際に，その
スリップサイン３００ａが消える程度の深さに設定され
ている。従って，スリップサイン３００ａの有無を確認
することのみで，テーパ面１２４ａの状態を把握するこ
とができるため，保持ピン３００のメンテナンスを容易
に行うことができる。さらに，保持ピン３００は，上記
保持ピン１２４と同様に，回転可能に構成されているた
め，スリップサイン３００ａが消えた際には，保持ピン
３００を回転させることにより，所望の状態のテーパ面
１２４ａを確保することができると共に，保持ピン３０
０を回転させるタイミングも容易に把握することができ
る。なお，保持ピン３００の最頂部には，上記保持ピン
１２４と同様に，平面部１２４ｂが形成されている。

【００２９】（ｂ）保持ピン４００の構成 次に，図７を参照しながら，保持ピン４００について説
明すると，この保持ピン４００は，図示の例では，略立
方体の一面，すなわちウェハＷ側面に所定の張り出し部
４００ａが形成されている。また，張り出し部４００ａ
の先端には，角部４００ｂが形成されていると共に，こ
の角部４００ｂは，張り出し部４００ａの先端に向かっ
て下り勾配を有している。そして，ウェハＷは，角部４
００ｂがウェハＷの外縁部に係止することにより保持さ
れる。従って，保持ピン４００によりウェハＷを保持す
れば，保持ピン４００とウェハＷとの当接面積を減少さ
せることができるため，保持ピン４００の摩耗によって
生じるパーティクルの発生を抑制することができる。

【００３０】以上，本発明の好適な実施の形態につい
て，添付図面を参照しながら説明したが，本発明はかか
る構成に限定されるものではない。特許請求の範囲に記
載された技術的思想の範疇において，当業者であれば，
各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり，それ
ら変更例及び修正例についても本発明の技術的範囲に属
するものと了解される。

【００３１】例えば，上記実施の形態において，保持ピ
ンをフォーク部の載置面の４ヶ所に取り付けた構成を例
に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定される
ものではなく，搬送装置の載置面の少なくとも３ヶ所に
保持ピンが設けられていれば，本発明を実施することが
できる。なお，３個の保持ピンを上記載置面上に設ける
場合には，１２０゜間隔で配置することが好ましい。

【００３２】また，上記実施の形態において，テーパ面
を有する略円錐状の保持ピンを例に挙げて説明したが，
本発明はかかる構成に限定されるものではなく，そのテ
ーパ面を多面体構造にした場合，例えばテーパ面に，テ
ーパ面の上方から下方にかけて複数の平面部を形成した
場合でも本発明を実施することができる。

【００３３】さらに，上記実施の形態において，保持ピ
ンを回転可能に構成した例を挙げて説明したが，本発明
はかかる構成に限定されるものではなく，支持部材を固
定しても本発明を実施することができる。

【００３４】また，上記実施の形態において，保持ピン
を略円錐形や張り出し部を有する立方体に形成した例を
挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるも
のではなく，被処理体の外縁部に係止して被処理体を支
持する支持部材であれば，いかなる形状の支持部材であ
っても本発明を実施することができる。

【００３５】さらに，上記実施の形態において，保持ピ
ンによりウェハを保持する構成を例に挙げて説明した
が，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，Ｌ
ＣＤ用ガラス基板などの各種被処理体を保持する場合で
も，本発明を適用することができる。

【００３６】さらにまた，上記実施の形態において，ク
ラスタ装置化されたマルチチャンバ方式の処理装置に設
けられた搬送アームを例に挙げて説明したが，本発明は
かかる構成に限定されるものではなく，被処理体を搬送
する搬送装置であれば，いかなる装置の搬送装置にも本
発明を適用することができる。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば，搬送面上に載置された
被処理体を，支持部材によって被処理体の外縁部に係止
して支持するため，被処理体の裏面状態が異なったり，
処理時に生じた異物が支持部材に付着して支持部材の摩
擦力が変化した場合でも，被処理体を確実に保持するこ
とができる。また，被処理体の保持時には，被処理体の
上面が支持部材の最上部よりも上方に配置されるため，
支持部材の摩耗によって生じるパーティクルが被処理体
に付着し難くなり，歩留りを向上させることができる。
さらに，支持部材の側面にテーパ面を形成したため，搬
送面上に載置された被処理体をそのテーパ面に沿って所
定の保持位置に確実に案内することができる。その結
果，被処理体が搬送面上にずれて載置されても，被処理
体を確実に保持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用可能な処理装置を示す概略的な断
面図である。

【図２】図１に示すカセットを表した概略的な斜視図で
ある。

【図３】図２に示すカセットを同図中のＸ−Ｘ線に沿う
平面において切断した概略的な断面図である。

【図４】図１に示す搬送アームのフォーク部を説明する
ための概略的な説明図である。

【図５】図１に示す搬送アームの保持ピンを表す概略的
な斜視図である。

【図６】図１に示す搬送アームに適用可能な他の保持ピ
ンを表す概略的な斜視図である。

【図７】図１に示す搬送アームに適用可能な他の保持ピ
ンを表す概略的な斜視図である。

【図８】従来の搬送アームを説明するための概略的な説
明図である。

【符号の説明】

１００ 処理装置 １０２ トランスファチャンバ １１２，１１４ カセットチャンバ １１６ 搬送アーム １１６ａａ フォーク部 １２０ カセット １２４ 保持ピン Ｗ ウェハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 隆信 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者 戸澤 孝 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 Ｆターム(参考） 3F061 BE43 DB04 5F031 AA10 BB01 CC01 CC12 CC13 CC63 KK06 KK07 LL05 LL07

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送面に被処理体を支持して搬送する搬
   送装置であって：前記搬送面には，前記被処理体の外縁
   部に係止して前記被処理体を支持する支持部材が形成さ
   れ；前記被処理体の上面は，前記支持部材の最上部より
   も上方に保持されること；を特徴とする，搬送装置。
2. 【請求項２】 前記支持部材は，テーパ面を側面として
   有する保持ピンであり，該テーパ面において前記被処理
   体の外縁部に係止するものであることを特徴とする，請
   求項１に記載の搬送装置。
3. 【請求項３】 前記支持部材は，回転自在であることを
   特徴とする，請求項１又は２に記載の搬送装置。