JPH07335714A - ウェーハ搬送プレート - Google Patents
ウェーハ搬送プレートInfo
- Publication number
- JPH07335714A JPH07335714A JP15160894A JP15160894A JPH07335714A JP H07335714 A JPH07335714 A JP H07335714A JP 15160894 A JP15160894 A JP 15160894A JP 15160894 A JP15160894 A JP 15160894A JP H07335714 A JPH07335714 A JP H07335714A
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- JP
- Japan
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- wafer
- transfer plate
- conveying plate
- slopes
- wafer transfer
- Prior art date
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体製造装置のウェーハ移載時にウェーハの
ウェーハ搬送プレートへの安定した乗載を行うと共に、
ウェーハがパーティクルにより汚染されることを防止す
る。 【構成】ウェーハ搬送プレート１８の前部後部に形成さ
れる嵌合部１９，２０の少なくとも一方を斜度の異なる
複数の斜面から形成し、ウェーハ４がウェーハ搬送プレ
ート嵌合部内に乗載されると、ウェーハの下部周縁部が
前記嵌合部の斜面２１，２２，２４，２５を滑ることで
乗載位置及び姿勢の矯正がなされ、安定して支持される
と共に、ウェーハとウェーハ搬送プレートとは線接触と
なり、接触面積は著しく少なくなる。
ウェーハ搬送プレートへの安定した乗載を行うと共に、
ウェーハがパーティクルにより汚染されることを防止す
る。 【構成】ウェーハ搬送プレート１８の前部後部に形成さ
れる嵌合部１９，２０の少なくとも一方を斜度の異なる
複数の斜面から形成し、ウェーハ４がウェーハ搬送プレ
ート嵌合部内に乗載されると、ウェーハの下部周縁部が
前記嵌合部の斜面２１，２２，２４，２５を滑ることで
乗載位置及び姿勢の矯正がなされ、安定して支持される
と共に、ウェーハとウェーハ搬送プレートとは線接触と
なり、接触面積は著しく少なくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置に於い
て、ウェーハを搬送する場合にウェーハを受載するウェ
ーハ搬送プレートに関するものである。
て、ウェーハを搬送する場合にウェーハを受載するウェ
ーハ搬送プレートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８に於いて、半導体製造装置の概略を
説明する。
説明する。
【０００３】反応炉１は半導体製造装置の上部位置に設
けられ、反応管２は該反応炉１の内部に収納されてい
る。該反応炉１の下方にはボートエレベータ３が設けら
れており、該ボートエレベータ３はウェーハ４が装填さ
れたボート５を反応管２内部に装入、引出しする。
けられ、反応管２は該反応炉１の内部に収納されてい
る。該反応炉１の下方にはボートエレベータ３が設けら
れており、該ボートエレベータ３はウェーハ４が装填さ
れたボート５を反応管２内部に装入、引出しする。
【０００４】ウェーハ４はウェーハカセット６に装填さ
れた状態で半導体製造装置と外部との間の搬送が行わ
れ、ウェーハカセット６はウェーハカセット授受部（図
示せず）で中継され、その後内部のバッファカセットス
トッカ７、カセットストッカ８に収納され、ウェーハ移
載機９によりカセットストッカ８に収納されたウェーハ
カセット６のウェーハ４を下降状態にある前記ボート５
に移載する。
れた状態で半導体製造装置と外部との間の搬送が行わ
れ、ウェーハカセット６はウェーハカセット授受部（図
示せず）で中継され、その後内部のバッファカセットス
トッカ７、カセットストッカ８に収納され、ウェーハ移
載機９によりカセットストッカ８に収納されたウェーハ
カセット６のウェーハ４を下降状態にある前記ボート５
に移載する。
【０００５】前記した様に、ボートエレベータ３はボー
ト５を反応管２内に装入し、ウェーハ４の成膜が完了す
るとボート５を反応管２より取出す。
ト５を反応管２内に装入し、ウェーハ４の成膜が完了す
るとボート５を反応管２より取出す。
【０００６】処理後のウェーハは、上記手順の逆を行う
ことで前記ボート５からカセットストッカ８のウェーハ
カセット６へ移載が行われ、更に半導体製造装置外部に
搬出される。
ことで前記ボート５からカセットストッカ８のウェーハ
カセット６へ移載が行われ、更に半導体製造装置外部に
搬出される。
【０００７】図中、１０，１１はエアクリーンユニット
を示す。
を示す。
【０００８】上記した様に、ボート５とカセットストッ
カ８との間で前記ウェーハ移載機９によるウェーハ４の
自動移送が行われる。
カ８との間で前記ウェーハ移載機９によるウェーハ４の
自動移送が行われる。
【０００９】該ウェーハ移載機９は、昇降可能且回転可
能に支持されたチャッキングヘッド１２を有し、又該チ
ャッキングヘッド１２は複数のウェーハ搬送プレート１
３を有している。該ウェーハ搬送プレート１３を前記ウ
ェーハ４の下方に挿入し、該ウェーハ４を乗載し、前記
ウェーハ搬送プレート１３をボート、或はウェーハカセ
ット等のウェーハ保持器に挿入し、更に前記ウェーハ搬
送プレート１３を若干降下させウェーハ保持器へのウェ
ーハの移載を行う様になっている。
能に支持されたチャッキングヘッド１２を有し、又該チ
ャッキングヘッド１２は複数のウェーハ搬送プレート１
３を有している。該ウェーハ搬送プレート１３を前記ウ
ェーハ４の下方に挿入し、該ウェーハ４を乗載し、前記
ウェーハ搬送プレート１３をボート、或はウェーハカセ
ット等のウェーハ保持器に挿入し、更に前記ウェーハ搬
送プレート１３を若干降下させウェーハ保持器へのウェ
ーハの移載を行う様になっている。
【００１０】図６、図７により従来のウェーハ搬送プレ
ート１３について説明する。
ート１３について説明する。
【００１１】該ウェーハ搬送プレート１３は前記チャッ
キングヘッド１２に把持される把持部１３ａとウェーハ
乗載部１３ｂから成る。該ウェーハ乗載部１３ｂの４隅
には突起部１４が突設され、該突起部１４に段差部１５
が形成されている。該段差部１５は前記ウェーハ乗載部
１３ｂの中央部よりもウェーハ４の撓み分以上の段差を
有する。前記段差部１５は前記ウェーハ４に４点で当接
する。又、前記ウェーハ乗載部１３ｂの所要箇所に通気
孔１６が穿設されている。該通気孔１６はウェーハの乗
載、除去の際の空気の流通を容易にして、ウェーハの乗
載、除去を確実にする。
キングヘッド１２に把持される把持部１３ａとウェーハ
乗載部１３ｂから成る。該ウェーハ乗載部１３ｂの４隅
には突起部１４が突設され、該突起部１４に段差部１５
が形成されている。該段差部１５は前記ウェーハ乗載部
１３ｂの中央部よりもウェーハ４の撓み分以上の段差を
有する。前記段差部１５は前記ウェーハ４に４点で当接
する。又、前記ウェーハ乗載部１３ｂの所要箇所に通気
孔１６が穿設されている。該通気孔１６はウェーハの乗
載、除去の際の空気の流通を容易にして、ウェーハの乗
載、除去を確実にする。
【００１２】前記ウェーハ搬送プレート１３によりウェ
ーハ４を保持すると、前記４箇所の突起部１４の段差部
１５によって支持される。
ーハ４を保持すると、前記４箇所の突起部１４の段差部
１５によって支持される。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従来のウェーハ搬送プ
レートでは、複数箇所（図では４箇所）ではあるが、ウ
ェーハの周縁から数mmの範囲でウェーハ搬送プレートの
段差部で支持されている。該ウェーハ搬送プレートはパ
ーティクルが付着している可能性があり、ウェーハへの
パーティクルの付着は、ウェーハとウェーハ搬送プレー
トとの接触面積に比例する。前記した様に、ウェーハは
周縁から数mmの複数箇所で面接触している為、パーティ
クルの付着が多いという問題があった。
レートでは、複数箇所（図では４箇所）ではあるが、ウ
ェーハの周縁から数mmの範囲でウェーハ搬送プレートの
段差部で支持されている。該ウェーハ搬送プレートはパ
ーティクルが付着している可能性があり、ウェーハへの
パーティクルの付着は、ウェーハとウェーハ搬送プレー
トとの接触面積に比例する。前記した様に、ウェーハは
周縁から数mmの複数箇所で面接触している為、パーティ
クルの付着が多いという問題があった。
【００１４】又、ウェーハが段差部からはみ出した状態
でウェーハ搬送プレートに乗載されると、移載時にウェ
ーハが落下してしまうこともあった。
でウェーハ搬送プレートに乗載されると、移載時にウェ
ーハが落下してしまうこともあった。
【００１５】本発明は斯かる実情に鑑み、ウェーハがパ
ーティクルにより汚染されることを防止し、又移載時に
ウェーハが落下しない様、ウェーハをウェーハ搬送プレ
ートに確実に乗載させようとするものである。
ーティクルにより汚染されることを防止し、又移載時に
ウェーハが落下しない様、ウェーハをウェーハ搬送プレ
ートに確実に乗載させようとするものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、前部後部に形
成される嵌合部の少なくとも一方を斜度の異なる複数の
斜面から形成したことを特徴とするものである。
成される嵌合部の少なくとも一方を斜度の異なる複数の
斜面から形成したことを特徴とするものである。
【００１７】
【作用】ウェーハはウェーハ搬送プレート嵌合部内に乗
載されると、ウェーハの下部周縁部が前記嵌合部の斜面
を滑ることで乗載位置及び姿勢の矯正がなされ、安定に
支持されると共に、ウェーハとウェーハ搬送プレートと
は線接触となり、接触面積は著しく少なくなる。
載されると、ウェーハの下部周縁部が前記嵌合部の斜面
を滑ることで乗載位置及び姿勢の矯正がなされ、安定に
支持されると共に、ウェーハとウェーハ搬送プレートと
は線接触となり、接触面積は著しく少なくなる。
【００１８】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。尚、図１、図２中で図７、図８で示したもの
と同一のものには同符号を付し、説明を省略する。
説明する。尚、図１、図２中で図７、図８で示したもの
と同一のものには同符号を付し、説明を省略する。
【００１９】図１に示すウェーハ搬送プレート１８はチ
ャッキングヘッド１２に把持される把持部１８ａとウェ
ーハ乗載部１８ｂから成る。該ウェーハ乗載部１８ｂの
面端部に嵌合部１９，２０を形成する。該嵌合部１９は
直線であり、嵌合部２０はウェーハ４の外径と一致する
円弧である。前記嵌合部１９，２０はそれぞれ斜度の異
なる２つの斜面２１，２２及び２４，２５から成り、該
２つの斜面は前記ウェーハ乗載部１８ｂの中央部から外
側に向かって斜度が急になる様形成する。又、前記斜面
２１と斜面２２は境界線２３を形成し、前記斜面２４と
斜面２５は境界線２６を形成する。又、前記境界線２３
はウェーハ４のオリエンテーションフラットに、又、前
記境界線２６はオリエンテーションフラットに対峙する
ウェーハ４の円弧にそれぞれ一致する様嵌合部１９と嵌
合部２０の対峙距離を決定する。
ャッキングヘッド１２に把持される把持部１８ａとウェ
ーハ乗載部１８ｂから成る。該ウェーハ乗載部１８ｂの
面端部に嵌合部１９，２０を形成する。該嵌合部１９は
直線であり、嵌合部２０はウェーハ４の外径と一致する
円弧である。前記嵌合部１９，２０はそれぞれ斜度の異
なる２つの斜面２１，２２及び２４，２５から成り、該
２つの斜面は前記ウェーハ乗載部１８ｂの中央部から外
側に向かって斜度が急になる様形成する。又、前記斜面
２１と斜面２２は境界線２３を形成し、前記斜面２４と
斜面２５は境界線２６を形成する。又、前記境界線２３
はウェーハ４のオリエンテーションフラットに、又、前
記境界線２６はオリエンテーションフラットに対峙する
ウェーハ４の円弧にそれぞれ一致する様嵌合部１９と嵌
合部２０の対峙距離を決定する。
【００２０】次に、図２によりウェーハ４が前記ウェー
ハ搬送プレート１８に乗載される場合について説明す
る。尚、図２はウェーハ４がウェーハ搬送プレート１８
に対して図中左方にずれている場合を示す。
ハ搬送プレート１８に乗載される場合について説明す
る。尚、図２はウェーハ４がウェーハ搬送プレート１８
に対して図中左方にずれている場合を示す。
【００２１】図２（ａ）に示される様に、ウェーハ搬送
プレート１８をウェーハ４の下方に挿入する。ウェーハ
搬送プレート１８が上昇すると、先ず斜面２１がウェー
ハ４のオリエンテーションフラット下縁に接触する。ウ
ェーハ搬送プレート１８が更に上昇すると、ウェーハ４
のオリエンテーションフラットが前記斜面２１を滑り落
ちる状態となり、ウェーハ４は右方へ移動する。この過
程で、ウェーハ搬送プレート１８に対しウェーハ４の回
転方向の姿勢が正確に一致していない場合は斜面２１と
オリエンテーションフラットとの非平行状態が生じ、こ
の非平行状態は前記斜面２１を滑ることで矯正される。
プレート１８をウェーハ４の下方に挿入する。ウェーハ
搬送プレート１８が上昇すると、先ず斜面２１がウェー
ハ４のオリエンテーションフラット下縁に接触する。ウ
ェーハ搬送プレート１８が更に上昇すると、ウェーハ４
のオリエンテーションフラットが前記斜面２１を滑り落
ちる状態となり、ウェーハ４は右方へ移動する。この過
程で、ウェーハ搬送プレート１８に対しウェーハ４の回
転方向の姿勢が正確に一致していない場合は斜面２１と
オリエンテーションフラットとの非平行状態が生じ、こ
の非平行状態は前記斜面２１を滑ることで矯正される。
【００２２】ウェーハ４のオリエンテーションフラット
下縁が境界線２３に接した状態では、対峙する境界線２
６にもウェーハ４の周縁が接した状態であり、ウェーハ
４の移動は生ぜず、安定に保持される。又、境界線２３
とオリエンテーションフラットは直線の線接触、境界線
２６とウェーハ４の周縁とは円弧の接触であるので、回
転方向の動きも拘束する。ウェーハ４が図中右方にずれ
ていた場合にも同様に矯正され保持される。
下縁が境界線２３に接した状態では、対峙する境界線２
６にもウェーハ４の周縁が接した状態であり、ウェーハ
４の移動は生ぜず、安定に保持される。又、境界線２３
とオリエンテーションフラットは直線の線接触、境界線
２６とウェーハ４の周縁とは円弧の接触であるので、回
転方向の動きも拘束する。ウェーハ４が図中右方にずれ
ていた場合にも同様に矯正され保持される。
【００２３】而して、乗載前のウェーハ４がウェーハ搬
送プレート１８に対して嵌合部１９と嵌合部２０の間に
位置する状態であれば、ウェーハ４の位置及び姿勢の矯
正がなされて、適正に保持される（図２（ｂ），図２
（ｃ）参照）。
送プレート１８に対して嵌合部１９と嵌合部２０の間に
位置する状態であれば、ウェーハ４の位置及び姿勢の矯
正がなされて、適正に保持される（図２（ｂ），図２
（ｃ）参照）。
【００２４】前記した様に、ウェーハ４は下側周縁のみ
が前記嵌合部１９，２０に当接するので、前記ウェーハ
搬送プレート１８に線接触で支持されることとなり、ウ
ェーハ４のパーティクルによる汚染が著しく減少する。
が前記嵌合部１９，２０に当接するので、前記ウェーハ
搬送プレート１８に線接触で支持されることとなり、ウ
ェーハ４のパーティクルによる汚染が著しく減少する。
【００２５】尚、上記実施例で示した嵌合部１９，２０
の態様は適宜変更可能であり、図３に示す様に中央部を
切除して両端の４箇所に嵌合部１９ａ，１９ｂ，２０
ａ，２０ｂを形成してもよい。この様にすると、ウェー
ハ４はウェーハ搬送プレート１８の幅の僅かな嵌合部１
９ａ，１９ｂ，２０ａ，２０ｂによって支持され、ウェ
ーハ搬送プレート１８との線接触の長さは更に短くなる
ので、ウェーハ４のパーティクルによる汚染は一層減少
する。
の態様は適宜変更可能であり、図３に示す様に中央部を
切除して両端の４箇所に嵌合部１９ａ，１９ｂ，２０
ａ，２０ｂを形成してもよい。この様にすると、ウェー
ハ４はウェーハ搬送プレート１８の幅の僅かな嵌合部１
９ａ，１９ｂ，２０ａ，２０ｂによって支持され、ウェ
ーハ搬送プレート１８との線接触の長さは更に短くなる
ので、ウェーハ４のパーティクルによる汚染は一層減少
する。
【００２６】更に又、図４、図５に示す様に、嵌合部１
９，２０のいずれか一方の急斜面を省略し、緩斜面のみ
で形成することも可能である（図４、図５は嵌合部２０
の急斜面２４を省略した場合を示す。）。尚、前記斜面
２２と斜面２５は僅かにでも傾斜していればよい。
９，２０のいずれか一方の急斜面を省略し、緩斜面のみ
で形成することも可能である（図４、図５は嵌合部２０
の急斜面２４を省略した場合を示す。）。尚、前記斜面
２２と斜面２５は僅かにでも傾斜していればよい。
【００２７】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ウェー
ハ搬送プレートとウェーハとの接触面積が著しく少ない
のでウェーハへのパーティクル付着が減少し、又ウェー
ハ乗載部に形成した嵌合部により、ウェーハ乗載位置及
び姿勢の矯正が可能となるので安定したウェーハ搬送が
実現でき、ウェーハ処理の歩留まりが向上するという優
れた効果を発揮する。
ハ搬送プレートとウェーハとの接触面積が著しく少ない
のでウェーハへのパーティクル付着が減少し、又ウェー
ハ乗載部に形成した嵌合部により、ウェーハ乗載位置及
び姿勢の矯正が可能となるので安定したウェーハ搬送が
実現でき、ウェーハ処理の歩留まりが向上するという優
れた効果を発揮する。
【図１】本発明の一実施例を示す平面図である。
【図２】（ａ）（ｂ）（ｃ）は本実施例に係るウェーハ
搬送プレートのウェーハ乗載部によるウェーハ乗載位置
及び姿勢の矯正を示す説明図である。
搬送プレートのウェーハ乗載部によるウェーハ乗載位置
及び姿勢の矯正を示す説明図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図４】本発明の更に他の実施例を示す平面図である。
【図５】図４の部分側面図である。
【図６】従来例の平面図である。
【図７】図６のＡ矢視拡大図である。
【図８】半導体製造装置の概略を示す斜視図である。
４ ウェーハ １８ ウェーハ搬送プレート １９ 嵌合部 ２０ 嵌合部 ２１ 斜面 ２２ 斜面 ２４ 斜面 ２５ 斜面
Claims (1)
- 【請求項１】 前部後部に形成される嵌合部の少なくと
も一方を斜度の異なる複数の斜面から形成したことを特
徴とするウェーハ搬送プレート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15160894A JPH07335714A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | ウェーハ搬送プレート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15160894A JPH07335714A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | ウェーハ搬送プレート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07335714A true JPH07335714A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15522257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15160894A Pending JPH07335714A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | ウェーハ搬送プレート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07335714A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002134586A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-10 | Assist Japan Kk | 基板保持装置 |
| JP2011119347A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | エッジグリップ装置、それを備える搬送ロボット及び半導体プロセス用ウエハの解放方法 |
| JP2011238962A (ja) * | 2011-07-28 | 2011-11-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 載置プレート、基板移載装置および基板処理装置 |
| JP2018010992A (ja) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | フォーカスリング交換方法 |
-
1994
- 1994-06-09 JP JP15160894A patent/JPH07335714A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002134586A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-10 | Assist Japan Kk | 基板保持装置 |
| JP4600856B2 (ja) * | 2000-10-24 | 2010-12-22 | ムラテックオートメーション株式会社 | 基板保持装置 |
| JP2011119347A (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-16 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | エッジグリップ装置、それを備える搬送ロボット及び半導体プロセス用ウエハの解放方法 |
| JP2011238962A (ja) * | 2011-07-28 | 2011-11-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 載置プレート、基板移載装置および基板処理装置 |
| JP2018010992A (ja) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | フォーカスリング交換方法 |
| US12094696B2 (en) | 2016-07-14 | 2024-09-17 | Tokyo Electron Limited | Focus ring replacement method and plasma processing system |
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