JP6812264B2 - 真空処理装置、及びメンテナンス装置 - Google Patents
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Description
[基板処理システムの構成]
最初に、実施形態に係る基板処理システムの概略構成について説明する。基板処理システムは、ウエハ等の基板に対して所定の基板処理を行うシステムである。本実施形態では、基板に対して、プラズマエッチングを行う場合を例に説明する。図1は、実施形態に係る基板処理システムの概略構成図である。基板処理システム1は、半導体装置製造用の基板であるウエハWを基板処理システム1に搬入するための大気搬送室11と、例えば2つのロードロック室12A、12Bと、真空搬送室13と、例えば4つの真空処理装置を備えている。真空処理装置は、基板に対して所定の基板処理を行う装置である。本実施形態では、真空処理装置を、基板としてウエハWに対してプラズマエッチングを行うプラズマエッチング装置10とした場合を例に説明する。
次に、実施形態に係るプラズマエッチング装置10の構成について説明する。図2は、実施形態に係るプラズマエッチング装置を概略的に示す図である。プラズマエッチング装置10は、気密に構成され、電気的に接地電位とされた処理容器30を有している。この処理容器30は、円筒状とされ、例えば表面に陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム等から構成されている。処理容器30は、プラズマが生成される処理空間を画成する。処理容器30内には、ウエハWを水平に支持する載置台31が収容されている。
次に、第1実施形態に係るメンテナンス装置100の構成について説明する。図3Aは、第1実施形態に係るメンテナンス装置を概略的に示す平面図である。図3Bは、第1実施形態に係るメンテナンス装置を概略的に示す断面図である。なお、図3Bは、図3Aの破線A―Aを図3Aの下側から投影した断面図である。図3A及び図3Bは、プラズマエッチング装置10にメンテナンス装置100を取り付けた状態を示している。なお、以下に示す各図では、プラズマエッチング装置10を簡略化して示している。また、以下では、消耗パーツとして、フォーカスリング35を交換する流れに沿って、メンテナンス装置100の構成を適宜説明する。
次に、第2実施形態について説明する。第2実施形態に係る基板処理システム1及びプラズマエッチング装置10は、図1、図2に示す第1実施形態に係る基板処理システム1及びプラズマエッチング装置10と同様の構成であるため、説明を省略する。
次に、第3実施形態について説明する。第3実施形態に係る基板処理システム1及びプラズマエッチング装置10は、図1、図2に示す第1実施形態に係る基板処理システム1及びプラズマエッチング装置10と同様の構成であるため、説明を省略する。
10 プラズマエッチング装置
30 処理容器
31 載置台
35 フォーカスリング
84 第1ゲート
95 第2ゲート
96 アダプタ
100 メンテナンス装置
101 ケース
101A 開口部
110 ロボットアーム
114 昇降台
120 取外ユニット
121 接着層
130 清掃ユニット
140 取付ユニット
200 手動アーム
300 フレーム
300A フレーム
300B フレーム
300C フレーム
Claims (20)
- 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記取り外しユニットは、消耗パーツと接触させる面に粘着層を有する
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記ユニットは、前記ケースに個別に着脱可能とされている
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記ケースは、前記アームおよび前記ユニットの少なくとも一方を収容したフレームを含む複数のフレームを接合して構成されている
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記ケース内には、前記ユニットを支持する支持台を有する
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記取り付けユニットには、前記処理容器内に設けられた載置台に対して位置決めを行う位置決めピンが設けられている
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 前記消耗パーツは、フォーカスリングであり、
前記取り付けユニットは、前記フォーカスリングと係合して支持する係合部材と、前記フォーカスリングとの係合を開放するピンとを有する
請求項1〜5の何れか1つに記載のメンテナンス装置。 - 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記少なくとも1つのユニットは、前記ケース内に縦方向に収容される
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 前記メンテナンス機構は、
前記真空処理装置の前記第2ゲートを閉塞するアダプタを取り外すアダプタ取り外しユニットを更に有する
請求項1〜7の何れか1つに記載のメンテナンス装置。 - 前記アダプタ取り外しユニットは、前記アダプタとの位置決めを行う位置決めピンを有する請求項8に記載のメンテナンス装置。
- 前記アダプタ取り外しユニットは、前記アダプタを取り外す取り外しピンを有し、
前記ケースには、前記取り外しピンを回転させるハンドルが設けられている
請求項8または9に記載のメンテナンス装置。 - 前記ケース内には、取り外した前記アダプタを保持するアダプタサポートが設けられている請求項8〜10の何れか1つに記載のメンテナンス装置。
- 前記ケース内で移動可能に設けられたステージを更に有する請求項8〜11の何れか1つに記載のメンテナンス装置。
- 前記アダプタ取り外しユニットは、前記ステージに着脱可能とされていることを特徴とする請求項12に記載のメンテナンス装置。
- 前記ケースには、前記アダプタ取り外しユニットを前記ステージに着脱させるためのハンドルが設けられている請求項13に記載のメンテナンス装置。
- 基板の搬入出に使用される第1ゲート及び第1ゲートとは異なる第2ゲートが処理容器に設けられた真空処理装置の前記第2ゲートに対応するサイズの開口部が形成され、前記第2ゲートに対して気密性を保ちつつ前記開口部を取り付け可能とされたケースと、
前記ケース内部に収容され、前記開口部を介して、前記処理容器内の消耗パーツの取り外し、前記処理容器内への消耗パーツの取り付け、前記処理容器内の清掃の少なくとも1つを行うメンテナンス機構と、
を有し、
前記メンテナンス機構は、
アームと、
前記アームに脱着可能とされ、前記処理容器内の消耗パーツを取り外す取り外しユニット、前記処理容器内への消耗パーツの取り付けを行う取り付けユニット、または、前記処理容器内の清掃を行う清掃ユニットの何れかのユニットを少なくとも1つ
を有し、
前記アームは、前記ケース内で移動可能に設けられたステージに着脱可能とされている
ことを特徴とするメンテナンス装置。 - 前記アームは、ベース部と、ヘッド部と、前記ヘッド部を前記ベース部から伸縮させる伸縮機構を含み、
前記伸縮機構は、前記ベース部に回転可能に支持されたボールねじと、前記ヘッド部に固定され前記ボールねじに対応して溝が形成された支持部材を含む
請求項15に記載のメンテナンス装置。 - 前記アームは、前記ヘッド部を昇降させる昇降機構を更に含み、
前記昇降機構は、前記ベース部に設けられた第1の回転軸と、前記第1の回転軸に設けられた第1のプーリと、前記ヘッド部に設けられた第2の回転軸と、前記第2の回転軸に設けられた第2のプーリと、前記第1のプーリと前記第2のプーリに巻きかけられたベルトを含む
請求項16に記載のメンテナンス装置。 - 前記真空処理装置の排気装置と接続し、前記ケース内を減圧する排気管
を更に有する請求項1〜17の何れか1つに記載のメンテナンス装置。 - 前記ケース内には、ボールねじと前記ボールねじと平行に配置されたシャフトが設けられ、
前記ステージは、前記ボールねじおよび前記シャフトに取り付けられ、前記ステージには前記ボールねじに対応した溝が形成され、
前記ステージは、前記ボールねじの回転により移動可能に構成される
請求項12または15に記載のメンテナンス装置。 - 前記ケース内に、昇降台を更に有する請求項1〜19の何れか1つに記載のメンテナンス装置。
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