JP5655793B2 - 基板処理装置のメンテナンス方法および安全装置 - Google Patents
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Description
図1は、基板処理装置EXの外観を示す斜視図である。図1において、鉛直方向をZ軸方向とし、そのZ軸方向に垂直な平面をXY平面とする。
露光装置FXの構成について、図2および図3を参照しながら詳しく説明する。ここで、マスクMは、基板Pに転写されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。基板Pは、例えばガラスプレート等の基材上に感光膜が形成された、基材の一辺が約2000mm以上の矩形の基板を含む。
図4は、マスクローダーMRおよび基板ローダーPRを示した基板処理装置EXの平面図である。図4に示された基板処理装置EXは、マスクローダーチャンバー11内に、マスクMを露光チャンバー10内へ搬送するマスクローダーMRを備えている。また基板処理装置EXは、基板ローダーチャンバー12内に、基板Pを露光チャンバー10内へ搬送する基板ローダーPRを備えている。
図1に示された基板処理装置EXの露光チャンバー10は二階建て構成である。まず、露光チャンバー10の1階部分の露光チャンバー10Aの内部構成について、図5を参照しながら説明する。図5は、露光チャンバー10Aの内部構成を説明するための平面図である。
次に、露光チャンバー10の2階部分の露光チャンバー10Bの内部構成について説明する。図6は、露光チャンバー10Bの内部構成を説明するための平面図である。
次に、第1扉DR1、第2扉DR2および第3扉DR3を説明する。
図9は、基板処理装置EXが備えるインターロック機構の概略の回路構成を示す模式図である。図9に示されたスイッチST11〜ST13は、外壁51に設けられた第1扉DR11〜DR13にそれぞれ対応する。スイッチST21〜ST26は、仕切部52に設けられた第1扉DR21〜DR26にそれぞれ対応する。また、スイッチST31〜ST33は、仕切部62に設けられた第3扉DR31〜DR33にそれぞれ対応する。
以下、基板処理装置EXのメンテナンス方法の一例を説明する。図10は、作業者が露光チャンバー10Aの内部に入ってメンテナンスを行う場合の作業手順を示したフローチャートである。
11 マスクローダーチャンバー
12 基板ローダーチャンバー
13 制御部
14 投影モジュール
15 照明モジュール
16 投影領域
17 照明領域
21、31、33、35、41 復帰ボタン
23 操作部
24 レバー
51 外壁
52 仕切部
61 外壁
62 仕切部
DA、DA1、DA2 駆動エリア
DR1(DR11〜DR13)、DR2(DR21〜DR26)、DR3(DR31〜DR33) 扉
EX 基板処理装置
FX 露光装置
IL 照明光学系
LP1、LP2 回路
M マスク
MR マスクローダー
MS マスクステージ
P 基板
PL 投影光学系
PR 基板ローダー
PS 基板ステージ
R1、R2、R3 開口部
SA、SA1、SA2 周囲エリア
ST11〜ST13、ST21〜ST26、ST31〜ST33 スイッチ
Claims (11)
- 基板を処理するための所定動作を行う駆動部と、該駆動部が配置される駆動エリアと該駆動エリアの周囲の周囲エリアとを区分する仕切部と、前記駆動エリアおよび前記周囲エリアを覆うチャンバー本体部と、前記駆動エリアおよび前記周囲エリアの少なくとも一方に設けられて軟X線を照射するX線照射装置と、前記基板に対して所定処理を行う処理部と、を備える基板処理装置のメンテナンス方法であって、
前記チャンバー本体部に設けられた第1開口を閉塞している第1扉が開扉される前に、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせる第1工程と、
前記第1扉が開扉された後、前記仕切部に設けられた第2開口を閉塞している第2扉が開扉される前に、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる第2工程と、
前記所定動作が行えない状態にされた前記駆動部および前記処理部の少なくとも一方のメンテナンスを行うメンテナンス工程と、
を含む基板処理装置のメンテナンス方法。 - 前記第1工程は、前記第1扉の外部側に設けられた第1レバーが回転された際に、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせ、
前記第2工程は、前記第2扉の前記周囲エリア側に設けられた第2レバーが回転された際に、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる請求項1に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。 - 前記第1工程は、前記第1扉の外部側に設けられた第1レバーが基準の位置から第1角度以上回転された際に、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせ、
前記第2工程は、前記第2扉の前記周囲エリア側に設けられた第2レバーが基準の位置から第2角度以上回転された際に、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる請求項2に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。 - 前記仕切部の前記駆動エリア側のうち前記第2扉付近に設けられた第1復帰ボタンを長押しした後、前記第2扉を閉扉して、前記駆動部の前記所定動作が行えない状態を解除させる第3工程と、
前記チャンバー本体部の前記周囲エリア側のうち前記第1扉付近に設けられた第2復帰ボタンを長押しした後、前記第1扉を閉扉して、前記X線照射装置の前記X線照射ができない状態を解除させる第4工程と、
を含む請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。 - 前記所定動作が行えない状態が解除された前記駆動部の初期化を行う初期化工程を含む請求項4に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。
- 前記メンテナンスは、点検、調整、清掃、部品交換、消耗品の補充のうち少なくとも1つを含む請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。
- 前記駆動部は、
前記基板を保持して移動する基板ステージと、
前記基板に転写されるパターンが形成されたマスクを保持して移動するマスクステージと、
前記基板ステージに対して前記基板の搬送を行う基板搬送装置と、
前記マスクステージに対して前記マスクの搬送を行うマスク搬送装置と、の少なくとも1つを含む請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。 - 前記処理部は、
前記パターンの像を前記基板に投影する投影光学装置と、
前記基板ステージおよび前記マスクステージの少なくとも一方の位置を計測するステージ計測装置と、
前記基板の位置を計測する基板計測装置と、の少なくとも1つを含む請求項7に記載の基板処理装置のメンテナンス方法。 - 基板を処理するための所定動作を行う駆動部と、該駆動部が配置される駆動エリアと該駆動エリアの周囲の周囲エリアとを区分する仕切部と、前記駆動エリアおよび前記周囲エリアを覆うチャンバー本体部と、前記駆動エリアおよび前記周囲エリアの少なくとも一方に設けられて軟X線を照射するX線照射装置と、を備える基板処理装置の安全装置であって、
前記チャンバー本体部に設けられた第1開口を閉塞している第1扉を開扉するための動作に連動して、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせる第1連動機構と、
前記仕切部に設けられた第2開口を閉塞している第2扉を開扉するための動作に連動して、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる第2連動機構と、
を備える基板処理装置の安全装置。 - 前記第1連動機構は、前記第1扉の外部側に設けられた第1レバーが回転される動作に連動して、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせ、
前記第2連動機構は、前記第2扉の前記周囲エリア側に設けられた第2レバーが回転される動作に連動して、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる請求項9に記載の基板処理装置の安全装置。 - 前記第1連動機構は、前記第1扉の外部側に設けられた第1レバーが基準の位置から第1角度以上回転される動作に連動して、前記X線照射装置をX線照射ができない状態にさせ、
前記第2連動機構は、前記第2扉の前記周囲エリア側に設けられた第2レバーが基準の位置から第2角度以上回転される動作に連動して、前記駆動部を前記所定動作が行えない状態にさせる請求項10に記載の基板処理装置の安全装置。
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