JPH10335237A

JPH10335237A - 露光装置

Info

Publication number: JPH10335237A
Application number: JP9156045A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Ogiwara; 茂荻原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-05-30
Filing date: 1997-05-30
Publication date: 1998-12-18

Abstract

(57)【要約】【課題】大がかりな機構を設けることなく、作業者の
保護を確保することのできる露光装置を提供する。【解決手段】モータ１０７が、露光装置の動作状態に応
じて、取っ手１０５，２０５を扉１０２，２０２内に収
納、または扉１０２，２０２から突出させるので、例え
ば露光動作時またはアライメント動作時等において高強
度なレーザ光が照射されるような場合には、取っ手１０
５，２０５を扉１０２，２０２内に収納することによ
り、作業者が取っ手１０５，２０５を握れないように
し、それにより作業者に扉１０２，２０２を開けること
ができないことを認識させ、あるいは不注意であっても
扉部材１０２，２０２を開けることができないようにし
ている。一方、例えば露光動作時またはアライメント動
作時等が終了した場合には、取っ手１０５，２０５を扉
１０２，２０２から突出させて、レチクル等の交換のた
め、作業者が扉１０２，２０２を開けることができるよ
うにしている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体または、液
晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に
使用される露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体素子等を製造するための
フォトリソグラフィ工程（マスクパターンのレジスト像
を基板上に形成する工程）では、マスクとしてのレチク
ルのパターンを投影光学系を介して、フォトレジストが
塗布された基板（又はウエハ等）上に露光する投影露光
装置（ステッパー等）が使用されている。

【０００３】ところで、近年においてはＵＬＳＩの集積
度が更に高まり、例えば０．３５ミクロン以下の線幅を
有するパターンをウエハに形成することが要求されるよ
うになった。このような線幅の狭いパターンを形成した
いという要求に対し、露光波長としてｉ線等を用いる従
来型のステッパでは対応が困難になりつつあり、これに
代わるものとして、露光用光としてエキシマレーザ光を
使用したエキシマステッパが登場するに至った。

【０００４】ここで、エキシマレーザは高出力レーザで
あるために、作業者保護の観点から、レチクルの交換等
のため作業者がチャンバ内部の露光装置にアクセスする
場合は、所定の扉を開けることによってのみ行えるよう
にしている。

【０００５】更に、エキシマレーザが照射されている間
はかかる扉をロックし、あるいは扉を開けようとしたと
きにはレーザの発振を即座に停止する、いわゆるインタ
ーロック機構が通常設けられている。従って、一般的に
はエキシマレーザが照射されている露光中には、レチク
ルの交換等はできないことになっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、エキシマス
テッパにおいてこのように安全性を優先させた結果、以
下のような問題点が指摘された。エキシマステッパにお
いては、作業者保護の為に設けられたインターロック機
構により、露光中にレチクル交換等のため作業者が不用
意に扉を開けてしまうと、自動的にレーザ発振装置が停
止して、露光していたウエハの露光量が不足する、いわ
ゆるミスショットを招く恐れがあった。また、インター
ロック機構により、レーザ発振装置が停止するようにな
っているといっても、扉が開いたかどうかの検出に遅れ
があると、扉が開きうる状態となっても直ちにレーザ発
振が停止しない場合も考えられ、かかる場合扉が開くこ
とでレーザ発振が停止したと勘違いした作業者が、レー
ザ光が照射されている状態で露光装置にアクセスしてし
まうこともある。

【０００７】このような問題は、多量の半導体素子を製
造する半導体製造工場において、ｉ線を露光波長とする
ｉ線ステッパと共にエキシマステッパが併設されている
場合にしばしば起こりうる。例えばｉ線ステッパにおい
ては、特にインターロック機構を設ける必要がない。更
に、露光に用いられるレチクルやウエハはチャンバ内に
ストックされており、その交換は露光中にも行える。従
って、作業を急ぐ作業者は、露光中か否か特に気にする
ことなくｉ線ステッパのチャンバの扉を開け、レチクル
の交換やウエハの交換を行うことがたびたびある。

【０００８】このようにｉ線ステッパの操作に慣れ親し
んだ作業者は、操作対象がエキシマステッパであった場
合、知識として露光中にレチクルの交換等ができないこ
とを十分認識していても、あるいは露光中である旨の警
告表示がなされていたとしても、作業中に無意識にｉ線
ステッパと同様の扱いをし、エキシマステッパの扉を開
けてしまう恐れがある。

【０００９】そもそも、かかる問題が生じるのは、露光
中に作業者がエキシマステッパの扉を開けることができ
てしまう点に根本的な原因がある。一方、露光中はステ
ッパのチャンバの扉を開かないようにロックするように
し、必要な場合にはレーザ発振が停止した段階で初めて
ロックが解除されるようにすることも提案されている。
かかる提案によれば、たとえ誤って作業者が扉を開けよ
うとしても、それが開かない限り作業者保護が確保され
る。

【００１０】ところが、かかる提案には次のような問題
点がある。作業対象がエキシマステッパであるにもかか
わらずｉ線ステッパであるとそもそも勘違いした場合に
は、作業者は露光中か否かに関わらず交換扉は開くもの
と始めから信じ切ってしまう。その為、作業者は無意識
に扉を開けようとするため、扉若しくはそのロック装置
に大きな力が加わる恐れがある。

【００１１】ここで、エキシマレーザ光はアクリルのよ
うな高分子材を透過すると無害な程度に減衰すること、
及びチャンバ内部の状態が一見して把握できることか
ら、扉にはアクリル板等を用いたいという要求がある。
従って、ロック装置の強度をいくら高めても、扉がアク
リル板等で形成されている限り、作業者の力に十分耐え
るようにすることは困難といえる。

【００１２】そこで、本願発明は、大がかりな機構を設
けることなく、作業者の保護を確保することのできる露
光装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決すべ
く、本願発明の露光装置は、マスク（Ｒ）上のパターン
を基板（Ｗ）上に露光転写する露光システムと、露光シ
ステムを囲うチャンバ（１）と、チャンバ（１）に設け
られた開閉可能な扉部材（１０２，２０２）と、扉部材
（１０２，２０２）に設けられた取っ手部材（１０５，
２０５）と、露光システムの動作状態に応じて、取っ手
部材（１０５，２０５）を扉部材（１０２，２０２）内
に収納、または扉部材（１０２，２０２）から突出させ
る駆動装置（１０７）とを有することを特徴とする。

【００１４】本願発明にかかる露光装置によれば、駆動
装置（１０７）が、露光システムの動作状態に応じて、
取っ手部材（１０５，２０５）を扉部材（１０２，２０
２）内に収納、または扉部材（１０２，２０２）から突
出させるので、例えば露光動作時またはアライメント動
作時等において高強度なレーザ光が照射されるような場
合には、取っ手部材（１０５，２０５）を扉部材（１０
２，２０２）内に収納することにより、作業者が取っ手
部材（１０５，２０５）を握れないようにし、それによ
り作業者に扉部材（１０２，２０２）を開けことができ
ないことを認識させ、あるいは不注意であっても扉部材
（１０２，２０２）を開けることができないようにして
いる。一方、例えば露光動作時またはアライメント動作
時等が終了した場合には、取っ手部材（１０５，２０
５）を扉部材（１０２，２０２）から突出させて、レチ
クル等の交換のため、作業者が扉部材（１０２，２０
２）を開けることができるようにしている。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を、
図面を参照して以下に詳細に説明する。図１に示した露
光システムとしての投影露光装置は、レチクルと感光基
板をレチクル上の照明領域に対して同期して走査しなが
ら露光する走査型エキシマステッパの一例である。図１
に示したように、一般に、ステッパは、恒温チャンバ１
の中に設置されている。恒温チャンバ１内では、通常の
クリーンルームよりも精度の高い温度制御がなされてお
り、例えば、クリーンルームの温度制御が±２乃至３℃
の範囲であるのに対して、恒温チャンバ１内では±０．
１℃以内に保たれている。

【００１６】また、図示したエキシマステッパは、ダウ
ンフロー型のステッパであり、空気中に浮遊する粒子が
装置に付着するのを防止するためにチャンバ１の天井に
空気吹き出し口２が設置されており、図中矢印で示した
ように吹き出し口２から投影露光系ＰＬの光軸に沿って
チャンバ床方向に温度制御された空気流が移動する。チ
ャンバ１，特に投影光学系を含む露光装置本体部に、ク
リーンルーム内に浮遊する異物（ゴミ）、硫酸イオンや
アンモニウムイオン等が流入するのを防止するため、Ｈ
ＥＰＡ（又はＵＬＰＡ）フィルタ、及びケミカルフィル
タが、チャンバ１の空気取り入れ口または吹き出し口２
の近傍に配置されている。

【００１７】図１の走査型投影露光装置は、ＫｒＦ、Ａ
ｒＦ等のエキシマレーザである光源及び照明光学系（不
図示）、レチクルＲを走査方向に移動するレチクルステ
ージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、ウエハＷを移動するウエ
ハステージＷＳＴ、ウエハの位置合わせ用のアライメン
ト系（１４乃至１８）等から主に構成されている。使用
されるエキシマレーザは、国際基準であるＡＮＳＩ、Ｚ
１３６−１にいうクラス４に分類される、最も強度の高
いものである。また、照明光学系は、フライアイレン
ズ、コンデンサレンズ等からなり、最終的にコンデンサ
レンズ３を介してレチクルＲを照明している。照明光学
系は、光源からの照明光で、回路パターン等が描かれた
マスクであるレチクルＲをほぼ照度均一かつ所定の立体
角で照明する。これらの図示しない光源及び照明光学系
は、一般に、図中、レチクルＲＳＴの上方又は光学反射
系を用いる場合にはレチクルステージＲＳＴの側方に配
置されている。特に、光源はチャンバ１の外側に配置さ
れる。

【００１８】レチクルステージＲＳＴは、投影光学系Ｐ
Ｌの光軸ＡＸ上であって投影光学系ＰＬとコンデンサレ
ンズ３との間に設置され、リニアモータ等で構成された
レチクル駆動部（不図示）により、走査方向（Ｘ方向）
に所定の走査速度で移動可能である。レチクルステージ
ＲＳＴはレチクルＲのパターンエリア全面が少なくとも
投影光学系の光軸ＡＸを横切るだけのストロークで移動
する。レチクルステージＲＳＴは、Ｘ方向端部に、干渉
計６からのレーザビームを反射する移動鏡５を固定して
備え、レチクルステージＲＳＴの走査方向の位置は干渉
計６によって、例えば、０．０１μｍ単位で測定され
る。干渉計６による測定結果は、ステージ制御系２０に
送られ、常時レチクルステージＲＳＴの高精度な位置決
めが行われる。レチクルステージＲＳＴ上には、レチク
ルホルダＲＨが設置され、レチクルＲがレチクルホルダ
ＲＨ上に設置される。レチクルＲは、図示しない真空チ
ャックによりレチクルホルダＲＨに吸着保持されてい
る。また、レチクルステージＲＳＴの上方には、光軸Ａ
Ｘを挟んで対向するレチクルアライメント顕微鏡４が装
着されている。この２組の顕微鏡４によりレチクルＲに
形成された基準マークを観察して、レチクルＲが所定の
基準位置に精度良く位置決められるようにレチクルステ
ージＲＳＴの初期位置を決定する。従って、移動鏡５と
干渉計６によりレチクルＲの位置を測定するだけでレチ
クルＲの位置を十分高精度の調整できる。

【００１９】レチクルＲは、レチクルステージＲＳＴ上
で、レチクルＲの走査方向（Ｘ方向）に対して垂直な方
向（Ｙ方向）を長手とする長方形（スリット状）の照明
領域で照明される。この照明領域は、レチクルステージ
の上方であってかつレチクルＲと共役な面またはその近
傍に配置された視野絞り（不図示）により画定される。

【００２０】レチクルＲを通過した照明光は投影光学系
ＰＬに入射し、投影光学系ＰＬによるレチクルＲの回路
パターン像がウエハＷ上に形成される。投影光学系ＰＬ
には、複数のレンズエレメントが光軸ＡＸを共通の光軸
とするように収容されている。投影光学系ＰＬは、その
外周部であって光軸方向の中央部にフランジ２４を備
え、フランジ部２４により露光装置本体の架台２３に固
定されている。

【００２１】ウエハ上に投影されるレチクルＲのパター
ン像の投影倍率は、レンズエレメントの倍率及び配置に
より決定される。レチクルＲ上のスリット状の照明領域
（中心は光軸ＡＸにほぼ一致）内のレチクルパターン
は、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影される。
ウエハＷは投影光学系ＰＬを介してレチクルＲとは倒立
像関係にあるため、レチクルＲが露光時に−Ｘ方向（又
は＋Ｘ方向）に速度Ｖｒで走査されると、ウエハＷは速
度Ｖｒの方向とは反対の＋Ｘ方向（又は−Ｘ方向）にレ
チクルＲに同期して速度Ｖｗで走査され、ウエハＷ上の
ショット領域の全面にレチクルＲのパターンが逐次露光
される。走査速度の比（Ｖｒ／Ｖｗ）は、投影光学系Ｐ
Ｌの縮小倍率で決定される。

【００２２】ウエハＷは、ウエハステージＷＳＴ上に保
持されたウエハホルダ（不図示）に真空吸着されてい
る。ウエハステージＷＳＴは、前述の走査方向（Ｘ方
向）の移動のみならず、ウエハＷ上の複数のショット領
域をそれぞれ走査露光できるよう、走査方向と垂直な方
向（Ｙ方向）にも移動可能に構成されており、ウエハＷ
上の各ショット領域を走査する動作と、次のショット領
域の露光開始位置まで移動する動作を繰り返す。モータ
等のウエハステージ駆動部（不図示）によりウエハステ
ージＷＳＴは駆動される。ウエハステージＷＳＴは、前
記比Ｖｒ／Ｖｗに従って移動速度が調節され、レチクル
ステージＲＳＴと同期されて移動する。ウエハステージ
ＷＳＴの端部には移動鏡８が固定され、干渉計９からの
レーザビームを移動鏡８により反射し、反射光を干渉計
９によって検出することによってウエハステージＷＳＴ
のＸＹ平面内での座標位置が常時モニタされる。移動鏡
８からの反射光は干渉計９により、例えば０．０１μｍ
程度の分解能で検出される。干渉計９及びレチクルステ
ージＲＳＴの干渉計６は、投影光学系ＰＬ等の装置の他
の部品と相対的に振動することを防止するために架台２
３上に設置されている。

【００２３】投影露光装置では、ウエハＷ上にすでに露
光により形成されたパターンに対して、新たなパターン
を精度良く重ねて露光する機能がある。この機能を実行
するため、投影露光装置はウエハＷ上の位置合わせ用の
マークの位置を検出して、重ね合わせ露光を行う位置を
決定する機能（ウエハアライメント系）を備える。本例
では、このウエハアライメント系として、投影光学系Ｐ
Ｌとは別に設けられた光学式アライメント系（１４乃至
１８）を備えている。このウエハアライメント系の光源
１３としてレーザ、あるいはハロゲンランプ等が使用さ
れる。この光源１３は熱源となり投影光学系ＰＬの周囲
温度に影響を及ぼすことになる。また、干渉計用のレー
ザ光源１２も投影光学系ＰＬの周囲温度に影響を及ぼ
す。

【００２４】図２は、図１のエキシマステッパを囲う恒
温チャンバ１の正面図である。チャンバ１の図中左中央
には、エキシマステッパを操作するための操作パネル１
０１が備えられている。またチャンバ１の中央には３枚
の扉１０２が備えられている。この扉１０２の内部には
レチクルのストック部（不図示）が設けられ、従ってこ
の扉１０２を開けることにより、作業者はレチクル交換
が可能となる。なお、扉１０２は３枚とも同じものであ
り、同じ制御がなされるため、以下の説明においては１
枚の扉１０２に関してのみ説明をする。

【００２５】一方、扉１０２の下方には、スライド可能
な扉１０３が２対設けられている。この扉１０３はウエ
ハキャリヤを交換する際に開けられるが、露光動作中に
作業者が開けようとすることはない。なお、チャンバ１
の上方には空調用の吸気口１０４ａが設けられ、一方チ
ャンバ１の下方には排気口１０４ｂが設けられている。

【００２６】図３、４は、図２のチャンバ１に備えられ
た扉部材としての扉１０２を拡大して示す図であり、図
３は扉の開放が許容されている状態を示し、図４は扉の
開放が禁止されている状態を示している。扉１０２は、
左方中央に取っ手部材としての取っ手１０５を備え、一
方図中右縁をヒンジ（不図示）を介してチャンバ１に取
り付けている。従って作業者は、取っ手１０５を手前に
引くことにより、扉１０２を開けることができる。

【００２７】図５は、図４の扉１０２を鉛直方向に切断
して取っ手１０５と共に示した図である。図５におい
て、扉１０２を貫通する断面円形の孔１０２ｂが２つ上
下に並んでおり、更に孔１０２ｂの外方端を連結するよ
うにして浅い溝１０２ａが形成されている。

【００２８】取っ手１０５は、丸棒を２度同方向に折り
曲げることによって略Ｕ字形に形成されており、それぞ
れ孔１０２ｂに挿入された短い脚部１０５ａと長い脚部
１０５ｂとを有する。短い脚部１０５ａの先端には円盤
状のストッパ１０５ｃが形成されており、一方長い脚部
１０５ｂの先端から中央にかけてラック歯１０５ｄが形
成されている。なお、図５から明らかであるが、孔１０
２ｂの内径は脚部１０５ａ、１０５ｂの外径より大き
く、ストッパ１０５ｃの外径は孔１０２ｂの内径より大
きくなっている。

【００２９】長い脚部１０５ｂの上方には、図示しない
支持台を介してモータ１０７が扉１０２に取り付けられ
ており、駆動装置としてのモータ１０７の回転軸に取り
付けられたピニオン１０７ａは、長い脚部１０５ｂのラ
ック歯１０５ｄに噛み合っている。なお、モータ１０７
は不図示の配線を介してエキシマステッパの制御装置
（不図示）に連結されている。

【００３０】かかる取っ手１０５は、例えば露光のため
エキシマレーザが照射されると制御装置が判断すれば、
モータ１０７が回転することにより、扉１０２の内方へ
引き込まれ、扉１０２の溝１０２ａに一部が収納され
る。この収納状態において、取っ手１０５と溝１０２ａ
との間にはすきまがなく、作業者が取っ手１０５を握る
ことができないようになっている。一方、例えば露光が
終了しもはやレーザは照射されないと制御装置が判断す
れば、モータ１０７が逆転し、取っ手１０５は、ストッ
パ１０５ｃが扉１０２の内側面に当たるまで扉１０２の
外方へと突き出される。この突き出し状態においては、
作業者は取っ手１０５を握ることができ、よって自由に
扉１０２を開けることが可能となる。

【００３１】次に、本実施の形態にかかるエキシマステ
ッパにおいて、露光動作と取っ手の収納動作との制御関
係の概要を以下に説明する。まず露光動作に入る際に取
っ手が突き出されていれば、ステッパの制御装置は扉の
取っ手１０５を収納せよという指令を出し、取っ手１０
５が収納されたことが確認されて初めてエキシマレーザ
光を照射することを許可し、露光動作に移行する。すな
わちレーザ発振中は、取っ手１０５は常に収納されてい
る。

【００３２】このように収納された状態では取っ手を握
ることができないため、作業者がレチクルやウエハカセ
ットの交換をしようとするときは、まず操作パネル１０
１（図２）に設けられたレーザ発振停止スイッチを押す
ことを要求する。かかるスイッチのオンによりレーザの
発振は一旦停止する。このとき露光中である場合には、
現ショットの露光動作が終了した時点でレーザ発振が停
止するか遮光される。レーザ停止スイッチはチャンバ側
面にあっても良い。

【００３３】更にレーザ発振が完全に停止するか、遮光
が完了した時点で、扉１０２より取っ手１０５が突き出
される。それにより作業者は扉１０２を開けてレチクル
交換等の作業を行うことができる。作業が終了し扉１０
２が閉じられたことがドアセンサ等により確認された時
点で、レーザ停止状態から復帰する。扉１０２の取っ手
１０５が収納されたことが確認された後に、露光中であ
った場合には次ショットからの残りの露光が再開される
こととなる。

【００３４】上述した露光動作と取っ手の収納動作との
制御関係を、フローチャートを参照して更に具体的に説
明する。図６は、本実施の形態にかかるエキシマステッ
パにおいて、レーザの発振から終了までの工程を示すフ
ローチャートである。

【００３５】まずステッパは露光動作前であり、作業者
がチャンバの扉を開けてレチクル交換等ができるよう、
取っ手１０５は突き出した状態にあるものとする。この
状態から、ステップＳ１０１において、ステッパの制御
装置からレーザ発振開始命令が出されると、ステップＳ
１０２で取っ手１０５が収納される。更に、ステップＳ
１０３において、取っ手１０５の収納が確認されると、
ステップＳ１０４でレーザ発振が開始される。

【００３６】レーザの発振動作あるいは遮光状態につい
ては、それぞれの状態が把握できるようなコマンドステ
ータスがあるが、これを利用することにより、露光動作
が終了したか否か確認できる（ステップＳ１０５）。し
かしながら、レーザの状態検出用センサが装備されてい
る場合には、かかるセンサを用いて露光動作の終了を確
認しても良い。ここで、レーザ発振が終了していれば、
取っ手１０５を突き出してもかまわないはずであるが、
引き続き露光動作がなされる場合もある。次のレーザ発
振を行うまであまり時間がないときは、取っ手１０５を
突き出さない方が作業促進等に有利である。そこで、ス
テップＳ１０６において、次のレーザ発振までの時間が
十分長いか否か判断し、長い場合に限りステップＳ１０
７において取っ手１０５を突き出す。

【００３７】なお、「次のレーザ発振までの時間は十分
長いか」については、次のレーザ発振までの時間間隔が
取っ手の出し入れに要する時間と比較して長いかどうか
についての判断である。これは予め、露光命令やアライ
メント命令時に、レーザの発振間隔についての情報を示
すフラグ等を立てることで容易に判断することが出来
る。一方、ステップＳ１０６において、次のレーザ発振
までの時間が短いと判断した場合、取っ手１０５を収納
した状態で指令待ちとなる（ステップＳ１０８）。

【００３８】図７は、発振中のレーザを停止させる動作
を示すフローチャートであり、一方図８は、発振停止中
のレーザの発振を再開させる動作を示すフローチャート
である。図７のステップＳ２０１においてレーザ発振が
開始された後、操作パネル１０１（図２）内のレーザ発
振停止ボタンが押されたと判断されると（ステップＳ２
０２）、続くステップＳ２０３において、中断できない
最低限の露光（例えば１ショット）が終了したか否か判
断される。かかる最低限の露光が終了すれば、ステップ
Ｓ２０４でレーザ発振が停止される。

【００３９】レーザ発振停止中のエキシマステッパにお
いて、作業者がレチクル交換等を行った後、再び露光を
再開しようとするときは、図８のステップＳ３０１にお
いて、レーザ発振停止の解除要求として、操作パネル１
０１の再開ボタンを押すことになる。そうすると、続く
ステップＳ３０２において、不図示の検出装置により扉
１０２が完全に閉まっているか否か判断される。

【００４０】ステップＳ３０２において、扉１０２が完
全に閉まっていると判断されれば、取っ手１０５が収納
され（ステップＳ３０３）、その後ステップＳ３０４に
おいて、レーザ発振が再開される。ステップＳ３０５に
おいて、レーザ発振停止前に未露光であった残りのウエ
ハの露光（所定のタスク）が終了したと判断されれば、
露光動作は終了する（ステップＳ３０６）。

【００４１】以上述べたように、本実施の形態によれ
ば、エキシマステッパにおいてレーザ照射がなされてい
る若しくはなされようとしている場合には、チャンバの
扉の取っ手を扉内に収納することによって、作業者が取
っ手を握ることができないようにし、それにより無意識
であっても作業者はかかる扉を開けることができず、作
業者の保護は確保される。更に、露光中等において不注
意により扉が開放されると安全装置であるインターロッ
ク機構が作動し、レーザがダウンして露光中のショット
がミスショットになってしまう恐れがあるが、本実施の
形態によればこのようなことがミスショットを防止する
ことができる。また、このように取っ手を収納すれば、
かかる時点ではレチクルやウエハの交換が許可されてい
ないことを作業者に視覚的に認識させる効果もあり、よ
って特別な開閉禁止の表示を要しないという利点があ
る。

【００４２】なお、例えばアライメントに用いられるＨ
ｅ−Ｎｅレーザについてもその出力によっては、人体の
保護装置が不要となるクラス１（ＡＮＳＩ、Ｚ１３６−
１）を満たさなくなる場合がある。従って、アライメン
ト用レーザがクラス２（同上）以上の高い出力を有する
ときは、アライメント用のレーザが発振中で、かつシャ
ッタ等による遮光がなされていない場合は、エキシマレ
ーザと同様にインターロック機構が働くようになってい
る。そのようなアライメント用のレーザ発振にも、本願
発明が適用できることはもちろんである。例えば、上述
した実施の形態において励磁した露光に用いるエキシマ
レーザ発振を、アライメントに用いるＨｅ−Ｎｅレーザ
発振に置き換えることも可能である。

【００４３】次に、本願発明の第２の実施の形態を図面
を参照して説明する。図９，１０は、第２の実施の形態
にかかる扉２０２を取っ手２０５と共に示した図であ
る。第２の実施の形態が、上述した第１の実施の形態と
異なるのは、扉２０２に、取っ手２０５の外形と同じ内
形の溝２０２ａが形成され、収納時には取っ手２０５
は、端部を中心に鉛直線回りに９０度回転し、この溝２
０２ａに嵌まり込むようになっている点である。なお、
取っ手２０５を回転させるには、第１の実施の形態のよ
うにモータを適宜設ければ良く、よって以下に詳細は記
載しない。

【００４４】更に、上述した実施の形態においては、レ
ーザ発振停止時には自動的に取っ手が突き出すようにし
たが、通常は収納状態にあり要求があったときのみ取っ
手を突き出すようにすることも可能である。

【００４５】その場合には、不図示の収納解除ボタンを
作業者が押すことで、取っ手が出てくるようにすれば足
りる。なお、かかる場合に取っ手が突き出した状態で
は、レーザ発振中は解除ボタンを押しても解除が効かな
いようにして、作業者の保護を確保する。

【００４６】更に、作業者に扉の開閉が可能かどうかが
分かりやすいように、解除ボタンの近くや、扉の近くあ
るいは操作パネルに開閉可能状態を示すＬＥＤやその他
のディスプレイ装置を設けても良い。

【００４７】また、別の実施の形態として、チャンバの
扉の取っ手の取付方法自体を変えることも考えられる。
これは例えば、レーザが非発振中・もしくはレーザ光を
遮光中にのみ電磁石を通電して取っ手を扉に吸着させ、
それにより作業者がかかる取っ手を握って扉を開けるこ
とができるようにするものである。一方、レーザが発振
中である場合には、電磁石の通電を中止しそれにより取
っ手が扉から取り外し可能な状態にしておく。それによ
り、レーザ発振中に誤って作業者が取っ手を引いたとき
でも、取っ手が扉から外れるため扉が開くことはない。

【００４８】なお、扉から取っ手が外れても取っ手が紛
失しないように、取っ手と扉の間を非発塵性で伸縮性の
あるロープで連結しても良い。

【００４９】更に、別の実施の形態としては、例えばオ
ーディオキャビネットの扉のように、その上端を一度押
すと、指を差し込める程度に扉が開き、もう一度押す
と、扉が閉じる機構を用いることも考えられる。この実
施の形態においては、レーザ発振中には、例えば電磁ア
クチュエータの駆動端を扉の裏面に当てて、扉を押せな
いようにすることにより、扉の開放を防止するものであ
る。

【００５０】

【発明の効果】以上述べたように、本願発明の露光装置
によれば、駆動装置が、露光システムの動作状態に応じ
て、取っ手部材を扉部材内に収納、または扉部材から突
出させるので、例えば露光動作時またはアライメント動
作時等において高強度なレーザ光が照射されるような場
合には、取っ手部材を扉部材内に収納することにより、
作業者が取っ手部材を握れないようにし、それにより作
業者に扉部材を開けることができないことを認識させ、
あるいは不注意であっても扉部材を開けることができな
いようにしている。一方、例えば露光動作時またはアラ
イメント動作時等が終了した場合には、取っ手部材を扉
部材から突出させて、レチクル等の交換のため、作業者
が扉部材を開けることができるようにしている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明によるエキシマステッパの概略図であ
る。

【図２】図１のエキシマステッパを囲う恒温チャンバ１
の正面図である。

【図３】図２のチャンバ１に備えられた扉１０２を拡大
して示す図であり、扉の開放が許容されている状態を示
している。

【図４】図２のチャンバ１に備えられた扉１０２を拡大
して示す図であり、扉の開放が禁止されている状態を示
している。

【図５】図４の扉１０２を鉛直方向に切断して取っ手１
０５と共に示した図である。

【図６】本実施の形態にかかるエキシマステッパにおい
て、レーザの発振から終了までの工程を示すフローチャ
ートである。

【図７】発振中のレーザを停止させる動作を示すフロー
チャートである。

【図８】発振停止中のレーザの発振を再開させる動作を
示すフローチャートであ

【図９】第２の実施の形態にかかる扉２０２を取っ手２
０５と共に示した図である。

【図１０】第２の実施の形態にかかる扉２０２を取っ手
２０５と共に示した図である。

【符号の説明】

１………照明系２………レチクルアライメント顕微鏡３………レチクルステージ３ａ………レチクルステージのアクチュエータ４………ミラー８………ウエハステージ８ａ………ウエハステージのアクチュエータ９ａ、９ｂ………ミラー１３………基準指標１０２、２０２………扉１０５、２０５………取っ手１０７………モータＲ………レチクルＷ………ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｂ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスク上のパターンを基板上に露光転写
する露光システムと、前記露光システムを囲うチャンバと、前記チャンバに設けられた開閉可能な扉部材と、前記扉部材に設けられた取っ手部材と、前記露光システムの動作状態に応じて、前記取っ手部材
を前記扉部材内に収納、または前記扉部材から突出させ
る駆動装置とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記駆動装置は、前記露光システムが露
光動作及びアライメント動作の少なくとも一方を行って
いるときに、前記取っ手部材を、前記扉部材に収納する
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記露光システムは、前記マスクのパタ
ーン像を前記基板上に露光するための露光光、及び前記
マスクと前記基板との位置合わせのためのアライメント
光の少なくとも一方に、エキシマレーザを用いることを
特徴とする請求項１記載の露光装置。