KR101161882B1 - 마스크리스 노광기장치 및 그 정렬방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치는 이동이 가능하고 상면에 패널(22)이 안착될 수 있는 스테이지(20)와, 상기 스테이지(20)의 상면에 구비되는 정렬격자(24)와, 상기 스테이지(20) 상에 안착된 패널(22)에 패턴을 형성하기 위한 패턴형성광(28)을 선택적으로 제공하는 것으로 상기 정렬격자(24)로 광을 조사하는 전자유니트(26)를 포함하여 구성된다. 상기 전자유니트(26)는 디이엠디이(DMD)나 엘씨디(LCD)를 사용하여 패턴형성광(28)을 선택적으로 조사한다. 이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법에 의하면 패턴형상의 광을 조사하는 전자유니트와 패널 사이의 정렬이 신속하고 정확하게 되어 패널의 패턴 형성작업성이 좋아지고, 전자유니트의 스캔속도와 패널의 이동속도를 정확하게 맞출 수 있어 패턴이 정확하게 패널에 형성되어 생산수율이 높아지는 이점이 있다.

마스크리스 노광기, 디이엠디이, 패턴, 정렬

Description

마스크리스 노광기장치 및 그 정렬방법{Maskless exposure apparatus and align method the same}

도 1은 종래 기술에 의한 마스크리스 노광기의 개략 구성을 보인 구성도.

도 2는 종래 기술에 의한 마스크리스 노광기에서 스캔방식으로 노광을 수행하는 것을 설명하는 설명도.

도 3은 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치의 구성을 보인 개략사시도.

도 4a에서 도 4d는 본 발명 실시예를 구성하는 전자유니트의 패턴형성을 위한 스캔과정에서 패턴형성을 위한 광이 형성되는 과정을 순차적으로 보인 설명도.

도 5는 본 발명 실시예에서 전자유니트와 스테이지 사이를 정렬하는 것을 보인 설명도.

도 6a에서 도 6c는 본 발명 실시예에서 전자유니트에서 형성되는 패턴형성광의 이동속도와 전자유니트와 스테이지 사이의 상대 속도가 정확하게 설정되는 것을 보인 설명도.

도 7a에서 도 7c는 본 발명 실시예에서 전자유니트에서 형성되는 패턴형성광의 이동속도와 전자유니트와 스테이지 사이의 상대속도가 정확하게 설정되지 않은 것을 보인 설명도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

20: 스테이지 22: 패널

24: 정렬격자 26: 전자유니트

28: 패턴형성광

본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 스캔방식으로 대면적의 패널에 노광을 수행하는 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법에 관한 것이다.

일반적으로 평판디스플레이(FPD: Flat Panel Display)를 구성하는 패널에 패턴을 형성하는 방법은 다음과 같다. 즉, 먼저 패널에 패턴재료를 도포하고, 포토마스크를 사용하여 패턴재료에 선택적으로 노광을 한다. 선택적 노광에 의해 화학적 성질이 달라진 패턴재료 부분 또는 그 이외의 부분을 선택적으로 제거하여 패턴을 형성한다.

최근에 포토마스크를 사용하지 않는 마스크리스 노광기가 많이 사용되고 있다. 마스크리스 노광기에서는 전자유니트(Electronic unit)를 사용하여 전기적인 신호로 만들어진 패턴정보를 이용하여 광선을 패널에 전사시키는 방식을 사용한다. 상기 전자장치의 대표적인 예로서 디이엠디이(DMD: Digital micro-mirror device)가 있다. 상기 디이엠디이는 많은 수의 마이크로미러가 일정한 각도를 가지고 입사된 광을 원하는 각도로 보내고, 그 외의 광은 다른 각도로 보냄으로써, 필요한 광만을 사용하여 하나의 화면을 만드는 원리를 사용한다.

도 1에는 이와 같은 디이엠디이를 사용한 종래 기술에 의한 마스크리스 노광기의 구성이 개시되어 있다. 이에 따르면, 광원(1)은 노광을 위한 광을 제공하는 것이다. 상기 광원(1)에서 나온 광은 제1광학계(3)를 거쳐 디이엠디이(5)로 전달된다. 상기 제1광학계(3)에는 광안내부재(3')와 컨덴싱광학부재(4)가 구비된다. 상기 광안내부재(3')는 광을 원하는 경로로 안내하는 역할을 하고, 상기 컨덴싱광학부재(4)는 광원(1)에서 나온 광을 노광에 사용할 수 있는 광으로 만들어준다.

상기 컨덴싱광학부재(4)를 통과한 광은 디이엠디이(5)에서 반사된다. 이때, 상기 디이엠디이(5)는 외부신호에 따라 원하는 패턴정보를 받아 필요한 광만을 아래에서 설명될 제2광학계(7)로 선택적으로 전달한다. 즉, 광원(1)에서 나온 광중에서 필요없는 광은 다른 각도로 반사시키고, 필요한 광만을 제2광학계(7)로 전달한다.

제2광학계(7)는 상기 디이엠디이(5)에서 나온 광을 안내하는 역할을 하는 것으로, 광안내부재(7')와 이미지광학부재(8)를 구비한다. 상기 광안내부재(7')는 광을 원하는 경로로 안내하는 역할을 하고, 상기 이미지광학부재(8)는 광을 패널(10)에 조사시키게 된다. 참고로 상기 광원(1), 제1광학계(3), 디이엠디이(5) 및 제2광학계(7)를, 도 2에 도시된 바와 같이, 디이엠디이유니트(5')라고 정의한다. 도면부호 10'은 패널(10)이 얹어지는 스테이지이다.

이와 같은 구성을 가지는 종래의 마스크리스 노광장치를 사용함에 있어, 최근의 경향은 상기 디이엠디이(5) 자체의 면적이 좁은 반면, 패널(10)의 면적은 점 차 커지고 있어 한번에 패널(10) 전체의 노광을 수행할 수 없다. 따라서, 디이엠디이(5)에서 나온 광이 상기 패널(10) 전체를 노광시키기 위해서는 패널(10)의 표면에 대해 상대적으로 이동되도록 하여 전체를 노광시킨다. 이때, 상기 광이 패널(10)의 표면을 따라 이동하는 것을 스캔한다고 한다. 일반적으로 하나의 패널(10)을 노광시킴에 있어, 다수개의 디이엠디이(5)에서 나와 소정 영역을 노광시킬 수 있는 광이 상기 패널(10)의 표면을 따라 상대적으로 이동하면서 스캔하여 노광을 수행한다. 실제로는 패널(10)이 스테이지(10')에 의해 일정 속도로 이동하여 광이 패널(10) 표면을 따라 이동되면서 노광되는 것으로 된다.

그러나 상기한 바와 같은 종래 기술에 의한 마스크리스 노광장치에서는 다음과 같은 문제점이 있다.

상기 디이엠디이유니트(5')에서 나온 광이 패널(10)에 정확하게 조사되어 패턴이 형성될 수 있도록 하기 위해서는, 상기 디이엠디이유니트(5')와 패널(10)사이의 상대위치가 정확하게 맞아야 한다. 만약, 디이엠디이유니트(5')와 패널(10) 사이가 정확하게 맞지 않으면, 패널(10)에 정확하게 패턴이 형성될 수 없다.

그리고, 상기 디이엠디이유니트(5')가 패널(10)의 표면을 스캔하면서 광을 조사하는 과정에서 상기 디이엠디이유니트(5')에 의해 형성되는 광의 상이 패널(10)의 정확한 위치에 조사되도록 하기 위해서는, 상기 디이엠디이유니트(5')에서 형성되는 광의 상이 상기 패널(10)의 이동속도와 정확하게 맞아야 한다.

하지만, 종래 기술에서는 상기 디이엠디이유니트(5')와 패널(10)사이의 상대위치를 정렬하고 디이엠디이유니트(5')와 패널(10)사이의 상대 이동속도 등을 설정 하기 위해서 웨이퍼나 드라이필름레지스트 글래스(Dfr glass)등을 사용하여 실제로 노광을 수행하여야 했다. 즉, 실제로 웨이퍼나 드라이필름레지스트 글래스 등에 여러번에 걸쳐서 패턴을 형성해보고, 이를 기초로 실제 패널(10)에 패턴을 형성하는 과정을 수행하여야 했다.

하지만, 이와 같이 일일이 실제로 웨이퍼나 드라이필름레지스트 글래스에 패턴을 형성하여 확인하는 방법은 시간과 비용이 많이 드는 문제점이 있다. 특히, 포토레지스트가 코팅된 웨이퍼는 가격이 매우 비싸기 때문에 수많은 패턴 실험이 요구되는 디이엠디이유니트(5')의 세팅에서는 엄청난 비용이 소모된다.

그리고, 드라이필름레지스트 글래스는 그 가격이 비쌀 뿐만 아니라, 이를 현상하기 위해서는 반드시 생산라인에 현상설비를 갖추어야 하는 문제점이 있고, 현상에 걸리는 시간 또한 상대적으로 길어 실제 라인에서 적용하기 어려운 점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 마스크리스 노광장치에서 패턴형상의 광을 조사하는 전자유니트와 패널 사이의 정렬을 편리하게 수행하도록 하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 전자유니트에 의한 스캔속도와 패널의 이동속도를 신속하게 맞출 수 있도록 하는 것이다.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명 은 이동이 가능하고 상면에 패널이 안착될 수 있는 스테이지와, 상기 스테이지의 상면에 구비되는 정렬격자와, 상기 스테이지 상에 안착된 패널에 패턴을 형성하기 위한 패턴형성광을 선택적으로 제공하는 것으로 상기 정렬격자로 광을 조사하는 전자유니트를 포함하여 구성된다.

상기 정렬격자는 사각형상으로 형성된다.

상기 전자유니트는 디이엠디이(DMD)나 엘씨디(LCD)를 사용하여 패턴형성광을 선택적으로 조사한다.

상기 전자유니트는, 그 자체의 광원에서 나오는 광을 광학계와 상기 디이엠디이를 통해 선택적으로 스테이지 상에 안착된 패널에 제공한다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 본 발명은 상면에 정렬격자가 형성되고 패널이 안착될 수 있는 스테이지 상에 전자유니트에서 선택적으로 제공되는 패턴형성광을 조사하는 마스크리스 노광장치에 있어서, 스테이지와 전자유니트가 상대이동되지 않는 상태에서, 상기 패턴형성광이 상기 정렬격자 내에 안착되도록 한다.

상기 스테이지와 전자유니트가 상대이동되는 상태에서 상기 패턴형성광이 전자유니트에서 이동되는 속도와 전자유니트에 대해 스테이지가 상대이동되는 속도를 맞춤에 있어, 상기 패턴형성광이 정해진 시간동안 상기 정렬격자의 단위격자에 머무르다 인접하는 단위격자로 이동하는 과정을 반복하도록 한다.

상기 정렬격자에서 그 단위격자의 크기는 상기 전자유니트에서 나오는 패턴형성광의 단위광의 크기와 같거나, 어느 일측이 타측의 정수배가 되도록 된다.

이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방 법에 의하면 패턴형상의 광을 조사하는 전자유니트와 패널 사이의 정렬이 신속하고 정확하게 되어 패널의 패턴 형성작업성이 좋아지고, 전자유니트의 스캔속도와 패널의 이동속도를 정확하게 맞출 수 있어 패턴이 정확하게 패널에 형성되어 생산수율이 높아지는 이점이 있다.

이하 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.

도 3은 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치의 구성을 보인 개략사시도이고, 도 4a에서 도 4d는 본 발명 실시예를 구성하는 전자유니트의 패턴형성을 위한 스캔과정에서 패턴형성을 위한 광이 형성되는 과정을 순차적으로 보인 설명도이다.

이들 도면에 도시된 바에 따르면, 스테이지(20)의 상면에는 작업대상물인 패널(22)이 안착된다. 상기 패널(22)에는 패턴의 형성을 위한 패턴재료(도시되지 않음)가 도포된 상태이다. 상기 스테이지(20)는 그 상면에 대해 평행한 방향 및 수직한 방향으로 이동이 가능하게 구성된다. 즉, 상기 스테이지(20)는 그 상면에 패널(22)을 안착시킨 상태에서 이동이 가능하다. 일반적으로 상기 스테이지(20)는 상기 패널(22)을 흡착하여 고정한다.

상기 스테이지(20)의 상면에는 정렬격자(24)가 구비된다. 상기 정렬격자(24)는 상기 스테이지(20)의 상면에 작업자 또는 카메라가 인식할 수 있는 선을 그어 형성하거나, 작업자 또는 카메라가 인식가능한 별도의 부재를 스테이지(20)의 상면으로 노출되게 설치한 것일 수 있다. 이때, 상기 정렬격자(24)는 상기 스테이지(20)의 상면에 패널(22)이 흡착되어 안착되는 것이 방해받지 않도록 형성되어야 한 다. 상기 정렬격자(24)는 사각형상으로 되는데, 이는 아래에서 설명될 전자유니트(26)에서 나오는 패턴형성광(28)이 조사되는 형상에 맞도록 한 것이다.ㄷ

상기 정렬격자(24)에서 그 단위 격자의 크기, 즉 가로와 세로 치수는 아래에서 설명될 전자유니트(26)에서 나오는 단위광의 크기와 같거나, 어느 일측이 타측의 정수배가 되도록 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 정렬격자(24)의 단위격자 2개를 합친 것이 전자유니트(26)에서 나오는 단위광의 크기와 같거나, 그 반대로 될 수 있다.

전자유니트(26)는 패널(22)의 표면에 패턴을 형성하기 위한 광을 조사하는 것이다. 상기 전자유니트(26)로는 디이엠디이(DMD)나 엘씨디 등을 이용한 것이 사용될 수 있다. 상기 전자유니트(26)는 광원, 광학계 및 디이엠디이(DMD) 등으로 구성되는 것으로, 도 4에 도시된 바와 같은, 직접 패턴의 형상과 대응되는 형상을 가지는 패턴형성광(28)을 제공하는 것이다. 즉, 전자유니트(26)는 직접 패턴의 형상과 대응되는 패턴형성광(28)을 제공하여 마스크없이 노광할 수 있도록 하는 것을 말한다.

상기 전자유니트(26)는 패널(22)이 점차 대면적화되어감에 의해, 도 3에 도시된 바와 같이 여러 개가 동시에 사용되어 패널(22)에 광을 조사하도록 된다. 그리고, 상기 전자유니트(26)는 패널(22)과 상대 이동되면서 패널(22)의 표면을 따라 해당되는 영역에 맞는 패턴형성광(28)을 조사하여 마스크없이 노광이 이루어지도록 한다.

참고로, 상기 전자유니트(26)가 상기 패널(22)을 스캔할 때, 패턴형성광(28) 이 이동되는 것을 도 4a에서 도 4d를 참고하여 설명한다. 즉, 상기 전자유니트(26)와 상기 패널(22)은 상대 이동하면서 패널(22) 전체를 스캔하게 되는데, 전자유니트(26) 하나가 패널(22) 전체에 한번에 광을 조사할 수 없으므로, 여러개의 전자유니트(26)가 일방향으로 패널(22)을 스캔하는 방식을 사용하게 된다.

따라서, 상기 전자유니트(26)가 상기 패널(22)의 어느 영역에 광을 조사하느냐에 따라, 전자유니트(26)에 형성되는 패턴형성광(28)의 형상이 달라진다. 도 4에는 화살표방향으로 스캔이 이루어질 때, 상기 전자유니트(26)에 형성되는 패턴형성광(28)의 변화를 보이고 있다. 즉, 도 4에 도시된 단위 사각형은 전자유니트(26)가 디이엠디이인 경우 단위 미러를 나타내고, 빗금친 부분은 해당 단위 미러에서 반사된 광이 패널(22)에 조사되어 패턴 형성에 사용되는 패턴형성광(28)임을 표시하고 있다.

도 4에서 알 수 있는 바와 같이, 화살표 방향으로 스캔이 이루어질 때, 도면 상의 상대적으로 하단 줄의 단위 미러에 표시되었던 패턴형성광(28)은 바로 그 상단 줄로 이동하는 것을 알 수 있다. 이와 같은 방식으로 전자유니트(26)에 형성되는 패턴형성광(28)은 패널(22)의 어느 영역에 위치해서 광을 조사하느냐에 따라 달라진다. 이와 같이 패턴형성광(28)이 이동하는 속도와 상기 전자유니트(26)가 패널(22)을 스캔하는 속도, 즉 상기 패널(22)이 전자유니트(26)에 대해 상대 이동하는 속도가 잘 조화되어야, 패널(22)의 정확한 위치에 광을 조사하여 패턴을 형성할 수 있다.

한편, 상기 전자유니트(26)에서 패턴형성광(28)이 이동하는 속도와 상기 패 널(22)이 전자유니트(26)에 대해 상대 이동하는 속도와 방향을 정확하게 맞추기 위해서도 상기 정렬격자(24)가 사용된다. 즉, 전자유니트(26)에서 패턴형성광(28)이, 예를 들어 도 4a의 상태로 유지되는 동안에는 상기 패턴형성광(28)과 정렬격자(24)가 일치하도록 된다. 하지만, 도 4a의 상태에서 도 4b의 상태로 바뀌는 과정에서는 패턴형성광(28)과 정렬격자(24)가 일치하지는 않는다. 하지만, 도 4b의 상태를 유지하는 동안에는 다시 패턴형성광(28)과 정렬격자(24)가 일치하게 된다.

이하 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법의 작용을 상세하게 설명한다.

먼저, 본 발명의 마스크리스 노광장치에서 스테이지(20)와 전자유니트(26) 사이의 상대 위치가 정확하게 설정되도록 하는 것을 설명한다. 상기 스테이지(20)상에 패널(22)이 안착되지 않은 상태에서, 상기 전자유니트(26)에서 광을 상기 스테이지(20)에 조사한다.

상기 전자유니트(26)에서 조사된 광이 상기 스테이지(20)의 상면에 구비된 정렬격자(24)에 조사되는 영역을 확인하여 상기 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 정렬이 제대로 되었는지를 확인한다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같이, 정렬격자(24) 내에 전자유니트(26)에서 조사된 패턴형성광(28)이 정확하게 위치되도록 상기 전자유니트(26)나 스테이지(20)를 조정하면 된다.

한편, 상기 전자유니트(26)에서 패턴형성광(28)을 제공하고, 상기 전자유니트(26)가 상기 패널(22)을 스캔하면서 노광하도록 하기 위해서는, 상기 전자유니트(26)에서 패턴형성광(28)이 이동하는 속도와 상기 패널(22)의 상대 이동속도가 정 확하게 맞아야 한다.

이를 확인하는 것을 도 6을 참고하여 설명한다. 도 6a에서 도 6c에는 전자유니트(26)와 패널(22) 사이의 상대 이동, 즉 스캔동작이 정확하게 이루어지는가를 확인하는 것이 도시되어 있다.

즉, 패널(22)이 스테이지(20)에 안착되지 않은 상태에서, 상기 스테이지(20)에 상기 전자유니트(26)에서 나온 광을 조사하면서 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 상대 이동(다시 말해 스캔)이 이루어지도록 한다. 이와 같은 상대 이동이 이루어지는 동안, 상기 전자유니트(26)에서 나온 패턴형성광(28)은 상기 정렬격자(24) 내에 정확하게 조사된다.

한편, 상기 전자유니트(26)에서 나오는 패턴형성광(28)은 도 4를 참고하여 설명한 바와 같이, 이동되면서 조사된다. 이때, 상기 전자유니트(26)에서 나오는 패턴형성광(28)이, 도 4a와 도 4b, 도 4b와 도4c, 도4c와 도4d 등의 사이에서 바뀔 때를 제외한 나머지 시간에는 도 6a에서 도 6c에 도시된 바와 같이 상기 정렬격자(24)내에 정확하게 조사된다. 즉, 일정 시간동안 상기 정렬격자(24) 내에 패턴형성광(28)이 조사되다가 인접하는 정렬격자(24)로 이동하는 과정을 되풀이하게 된다.

하지만, 상기 전자유니트(26)에서 패턴형성광(28)이 이동하는 속도와 상기 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 상대 이동속도가 다르게 되면 도 7에 도시된 바와 같이, 된다.

즉, 최초에 도 7a에 도시된 바와 같이, 패턴형성광(28)이 정렬격자(24)에 정확하에 조사되었더라도, 도 7b와 도 7c에 도시된 바와 같이, 결국에는 패턴형성광 (28)과 정렬격자(24)가 서로 일치하지 않게 된다. 물론, 가끔 상기 패턴형성광(28)이 정렬격자(24)에 정확하게 들어가는 경우가 잠깐 있기는 하다. 하지만, 대부분의 시간 동안 상기 패턴형성광(28)이 상기 정렬격자(24)내에 정확하게 조사되지 않는다. 도 7b 및 도 7c의 상태는 전자유니트(26)의 패턴형성광(28)의 이동속도와 전자유니트(26)와 스테이지(20)의 상대 이동속도가 서로 다르게 설정되고, 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 상대 이동방향 또한 정확하게 설정되지 않은 경우이다.

한편, 본 발명에서는 도 5에서 설명한 바와 같은 방식으로 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 정렬을 수행하고, 전자유니트(26)에서의 패턴형성광(28)의 이동속도와 전자유니트(26)와 스테이지(20)(실제로는 패널(22))사이의 상대이동속도를 기억하였다가, 실제로 패널(22)을 스테이지(20)에 장착한 상태에서 작업을 진행하게 된다.

따라서, 특정한 패턴을 패널(22)에 형성함에 있어서, 한번 상기 패턴형성광(28)의 이동속도와 전자유니트(26)와 스테이지(20) 사이의 상대이동속도를 검출하여 확인하고나면, 각각의 패널(22)을 스테이지(20)에 장착할 때, 스테이지(20)에 패널(22)을 정확하게 안착시켜 고정하는 작업만을 정확하게 하면, 패턴을 보다 정확하게 형성할 수 있게 된다.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

위에서 상세히 설명한 바와 같은 본 발명에 의한 마스크리스 노광장치 및 그 정렬방법에서는 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.

먼저, 본 발명에서는 패널이 안착되는 스테이지 상에 정렬격자를 두어 전자유니트에서 조사되는 광이 스테이지 상에 정확하게 조사되는지를 작업자가 직접 확인하거나 카메라를 통해 화상데이터 형태로 확인할 수 있다. 이와 같이 작업자가 직접 또는 카메라를 통해 패턴형성광이 조사되는 것을 확인할 수 있으면, 이를 이용하여 스테이지에 대해 전자유니트가 정확하게 위치설정되도록 할 수 있다. 이와 같이 되면, 패턴형상의 광을 조사하는 전자유니트와 패널 사이의 정렬이 신속하고 정확하게 되어 패널의 패턴 형성작업성이 좋아지는 효과가 있다.

그리고, 본 발명에서는 전자유니트에서 나오는 패턴형성광이 스테이지에 구비된 정렬격자에 조사되는 상태를 통해 전자유니트에서 형성되는 패턴형성광의 이동속도와 패널의 이동속도를 신속하게 맞출 수 있다. 따라서, 전자유니트의 패턴형성광의 이동속도와 패널의 상대 이동에 관련된 속도 데이터를 신속정확하게 얻을 수 있어, 패턴이 정확하게 패널에 형성되어 생산수율이 높아지는 이점이 있다.

Claims (7)

1. 이동이 가능하고 상면에 패널이 안착될 수 있는 스테이지와,

   상기 스테이지의 상면에 구비되는 정렬격자와,

   상기 스테이지 상에 안착된 패널에 패턴을 형성하기 위한 패턴형성광을 선택적으로 제공하는 것으로 상기 정렬격자로 광을 조사하는 전자유니트를 포함하여 구성되고,

   상기 정렬격자에서 그 단위격자의 크기는 상기 전자유니트에서 나오는 패턴형성광의 단위광의 크기와 같거나, 어느 일측이 타측의 정수배가 되도록 됨을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 정렬격자는 사각형상으로 형성됨을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 전자유니트는 디이엠디이(DMD)나 엘씨디(LCD)를 사용하여 패턴형성광을 선택적으로 조사함을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 전자유니트는, 그 자체의 광원에서 나오는 광을 광학계와 상기 디이엠디이를 통해 선택적으로 스테이지 상에 안착된 패널에 제공함을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치.
5. 상면에 정렬격자가 형성되고 패널이 안착될 수 있는 스테이지 상에 전자유니트에서 선택적으로 제공되는 패턴형성광을 조사하는 마스크리스 노광장치에 있어서,

   스테이지와 전자유니트가 상대이동되지 않는 상태에서, 상기 패턴형성광이 상기 정렬격자 내에 안착되고,

   상기 스테이지와 전자유니트가 상대이동되는 상태에서 상기 패턴형성광이 전자유니트에서 이동되는 속도와 전자유니트에 대해 스테이지가 상대이동되는 속도를 맞춤에 있어, 상기 패턴형성광이 정해진 시간동안 상기 정렬격자의 단위격자에 머무르다 인접하는 단위격자로 이동하는 과정을 반복하며,

   상기 정렬격자에서 그 단위격자의 크기는 상기 전자유니트에서 나오는 패턴형성광의 단위광의 크기와 같거나, 어느 일측이 타측의 정수배가 되도록 함을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치의 정렬방법.
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