JP6796200B2 - 極端紫外光生成システム - Google Patents

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Description

本開示は、極端紫外光生成システムに関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系（ｒｅｄｕｃｅｄ ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ｏｐｔｉｃｓ）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特開平１１−１８６１３１号公報 特開平０５−１９２７８３号公報 特開２００９−１８８１２８号公報 特開２０００−３４９３８１号公報
概要
本開示の一態様による極端紫外光生成システムは、発振器から出射するレーザ光の光路を調整する光路調整部を含む第１のエリアと、レーザ光の照射ターゲットであるターゲット物質のプラズマ化により極端紫外光を生成するプラズマ生成領域を内部に有するチャンバを含む第２のエリアと、第１のエリアに配置され、第１のエリア内の検知対象物の状態を検知する第１のインターロックスイッチと、第２のエリアに配置され、第２のエリア内の検知対象物の状態を検知する第２のインターロックスイッチと、第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視、及び、第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視の双方が有効に設定される第１の設定状態と、第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視、及び、第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視の双方が無効に設定される第２の設定状態と、第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視が有効に設定され、第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視が無効に設定される第３の設定状態とを切り替え可能に構成される制御部とを備えるようにしてもよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、極端紫外光生成システムの全体の概略構成例を示す模式図である。 図２は、比較例の極端紫外光生成システムの全体の概略構成例を示す模式図である。 図３は、実施形態の極端紫外光生成システムの全体の概略構成例を示す模式図である。 図４は、制御部の制御処理ルーチンを示すフローチャートである。 図５は、極端紫外光生成システムにおける各種のモードの状態やメンテナンス作業例等を示す表である。 図６は、設定処理ルーチンを示すフローチャートである。 図７は、他の設定処理ルーチンを示すフローチャートである。
実施形態
１．概要
２．極端紫外光生成システムの説明
２．１ 全体構成
２．２ 動作
３．比較例の極端紫外光生成システムの説明
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ 課題
４．実施形態の極端紫外光生成システムの説明
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ 作用・効果
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。
なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．概要
本開示の実施形態は、極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置と、その極端紫外光を生成するために用いられるレーザ装置とに関する。なお、以下本明細書では、極端紫外光をＥＵＶ光という場合がある。
２．極端紫外光生成システムの説明
２．１ 全体構成
図１は、極端紫外光生成システムの全体の概略構成例を示す模式図である。図１に示すように、極端紫外光生成システム１０１は、極端紫外光生成装置１及びレーザ装置２を含むシステムである。極端紫外光生成装置１は第２のエリアＡＲ２内に配置され、レーザ装置２は第１のエリアＡＲ１内に配置される。第２のエリアＡＲ２はクリーンルームであってもよく、第１のエリアＡＲ１はクリーンルームのサブファブルームであってもよい。また、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２とは同じフロアにあり互いに異なるルームであってもよい。
極端紫外光生成装置１は、チャンバ１１及びドロップレット供給部１２を含む。チャンバ１１は、密閉可能かつ減圧可能な容器である。ドロップレット供給部１２は、チャンバ１１内にターゲット物質のドロップレットＤＬを供給するよう構成される。ドロップレット供給部１２は、例えば、コンティニュアスジェット方式により間隔をあけてターゲット物質のドロップレットＤＬをチャンバ１１内に供給するよう構成し得る。ターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンのいずれか、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
チャンバ１１の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられている。この貫通孔は、ウインドウＷによって塞がれ、このウインドウＷを透過してチャンバ１１の内部にレーザ光Ｌが入射する。このレーザ光Ｌは、プリパルスレーザ部から出射するレーザ光ＰＬと、マスターオシレータから出射するレーザ光ＭＬとを含んでいてもよく、当該マスターオシレータから出射するレーザ光ＭＬだけであってもよい。なお、図１に示す例では、レーザ光Ｌは、プリパルスレーザ部から出射するレーザ光ＰＬと、マスターオシレータから出射するレーザ光ＭＬとを含んでいる。
チャンバ１１の内部のうち、ドロップレット供給部１２から供給されるドロップレットＤＬの軌道ＯＴの一部はプラズマ生成領域２１とされる。プラズマ生成領域２１は、ドロップレットＤＬをプラズマ化させる領域である。このプラズマ生成領域２１には、ウインドウＷを透過してチャンバ１１の内部に入射するレーザ光Ｌがレーザ集光光学系２２によって集光される。
レーザ集光光学系２２は、例えば、チャンバ１１の内部に入射したレーザ光Ｌを拡大して反射する凸面ミラーと、拡大されたレーザ光Ｌを反射して集光しながらプラズマ生成領域２１に導く凹面ミラーとにより構成し得る。なお、レーザ集光光学系２２が３軸方向に移動可能なステージＳＴ上に配置され、レーザ集光光学系２２の集光位置が目標位置に集光するようステージＳＴが制御されてもよい。
また、チャンバ１１の内部には、ＥＵＶ光集光ミラー２３が設けられる。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、プラズマ生成領域２１においてドロップレットがプラズマ化されることで生じるＥＵＶ光を集光するよう構成される。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、例えば、プラズマ生成領域２１で生じるＥＵＶ光を反射する回転楕円面形状の反射面２３Ａを有し、第１の焦点がプラズマ生成領域２１に位置し、第２の焦点が中間集光点ＩＦに位置するように構成し得る。ＥＵＶ光集光ミラー２３は、ＥＵＶ光集光ミラー２３の中心軸周りに貫通孔２３Ｂを有していてもよく、チャンバ１１の内部に入射したレーザ光Ｌが貫通孔２３Ｂを通過するようにしてもよい。また、ＥＵＶ光集光ミラー２３には、ＥＵＶ光集光ミラー２３の温度を略一定に保つ温度調整器が設けられていてもよい。なお、ＥＵＶ光集光ミラー２３の中心軸は、反射面２３Ａの第１の焦点及び第２の焦点を通る直線であってもよく、回転楕円面の回転軸であってもよい。
また、極端紫外光生成装置１は、ビーム伝送光学系１３を更に含む。ビーム伝送光学系１３は、第１のエリアＡＲ１から第２のエリアＡＲ２に入射したレーザ光Ｌをチャンバ１１に伝送するよう構成される。上記のように、レーザ光Ｌは、レーザ光ＰＬとレーザ光ＭＬとを含む。ビーム伝送光学系１３は、例えば、レーザ光Ｌに含まれるレーザ光ＰＬを反射するミラーと、当該レーザ光Ｌに含まれるレーザ光ＭＬを反射するミラーとにより構成し得る。なお、図１に示す例では、ミラー数は２つとされているが、複数とされてもよい。
また、極端紫外光生成装置１は、制御部１４を更に含む。制御部１４は、ＣＰＵ（中央処理装置）等を有するコンピュータやＰＬＣ（プログラマブルロジックコントローラ）であり、各種の制御を実行するよう構成される。制御部１４は、例えば、バースト動作するようレーザ装置２を駆動する。バースト動作とは、バースト期間に連続したパルス状のレーザ光を所定の繰り返し周波数で出射し、バースト休止期間にレーザ光Ｌの出射が抑制される動作を意味する。バースト期間とバースト休止期間とは、例えば交互に繰り返される。なお、制御部１４における上記の制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
レーザ装置２は、第１プリパルスレーザ部３１及び第２プリパルスレーザ部３２を含む。第１プリパルスレーザ部３１と第２プリパルスレーザ部３２とはそれぞれ同じパルスレーザ部であっても、異なるパルスレーザ部であってもよい。このようなパルスレーザ部として例えば固体レーザやガスレーザ等が挙げられる。固体レーザとしては、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、或いは、Ｎｄ：ＹＶＯ４レーザや、その高調波光を出射するレーザが挙げられる。またガスレーザとしては、例えば、ＣＯ２レーザ、或いは、エキシマレーザ等が挙げられる。
また、レーザ装置２は、ミラーＭ及びビームコンバイナＢＣを更に含む。ミラーＭは、第１プリパルスレーザ部３１から出射されたレーザ光ＰＬ１をビームコンバイナＢＣに向けて反射する。ビームコンバイナＢＣは、ミラーＭで反射したレーザ光ＰＬ１と第２プリパルスレーザ部３２から出射されたレーザ光ＰＬ２との光路を略一致させる。このようなビームコンバイナＢＣは、例えば偏光ビームスプリッタにより構成し得る。
また、レーザ装置２は、マスターオシレータ３３を含む。マスターオシレータ３３は、パルス状のレーザ光Ｌを出射する。マスターオシレータ３３は、例えば、ヘリウムや窒素等が炭酸ガス中に混合された気体を放電によって励起することで、レーザ光を出射する発振器とされる。あるいは、マスターオシレータ３３は、量子カスケードレーザ発振器とされてもよい。
また、レーザ装置２は、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４を更に含む。複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれは、レーザ光ＭＬの光路上に配置される。なお、図１に示す例では、パワーアンプＰＡ３とパワーアンプＰＡ４との間におけるレーザ光ＭＬの光路上にはミラーＭ１及びミラーＭ２が配置される。複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれは、入射するレーザ光ＭＬのパワーを増幅するよう構成される。例えば、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれは、再生増幅器型のパワーアンプにより構成してもよい。なお、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれは同じ構成のパワーアンプであっても異なる構成のパワーアンプであってもよい。また、パワーアンプ数は４つとされているが、１つとされていてもよく、４つ以外の複数とされていてもよい。
また、レーザ装置２は、光路調整部３４及びビーム伝送光学系３５を含む。光路調整部３４は、プラズマ生成領域２１におけるレーザ光ＭＬの光路を調整するよう構成される。例えば、光路調整部３４は、レーザ光ＭＬの光路上に配置される複数のミラーと、プラズマ生成領域２１に照射されるレーザ光ＭＬの位置や角度等の情報を検出する検出部と、複数のミラーを個別に制御する制御部とにより構成し得る。制御部は、検出部により検出された情報に基づいて複数のミラーの少なくとも１つを制御することで、プラズマ生成領域２１に照射されるレーザ光Ｌが目標位置となるように、レーザ光ＭＬの光路を調整し得る。なお、制御部１４が上記の制御部の制御を担っていてもよい。
ビーム伝送光学系３５は、ビームコンバイナＢＣから出射するレーザ光ＰＬと、光路調整部３４から出射するレーザ光ＭＬとを第２のエリアＡＲ２に伝送するよう構成される。ビーム伝送光学系３５は、例えば、ビーム伝送光学系１３と同様に、レーザ光ＰＬを反射するミラーと、レーザ光ＭＬを反射するミラーとにより構成し得る。レーザ光ＰＬは、第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１と、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２とを含む。なお、図１に示す例では、ミラー数は２つとされているが、複数とされてもよい。
極端紫外光生成システム１０１は、上記の構成に加えて、複数のハウジングＨ１〜Ｈ４及び複数の光路管Ｔ１〜Ｔ８を含む。
複数のハウジングＨ１〜Ｈ４及び複数の光路管Ｔ１〜Ｔ８のそれぞれの内部は真空とされてもよく、当該内部には乾燥空気または不活性ガス等が導入されてもよい。乾燥空気または不活性ガス等が導入される場合、それらの気体は真空に近い低圧とされてもよい。
ハウジングＨ１は第２のエリアＡＲ２内に配置され、当該ハウジングＨ１には１つの扉Ｄ１が設けられる。このハウジングＨ１の内部にはビーム伝送光学系１３が収容される。ハウジングＨ２〜Ｈ４のそれぞれは第１のエリアＡＲ１内に配置される。ハウジングＨ２には１つの扉Ｄ２が設けられ、当該ハウジングＨ２の内部にはビーム伝送光学系３５が収容される。ハウジングＨ３には１つの扉Ｄ３が設けられ、当該ハウジングＨ３の内部には第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２、マスターオシレータ３３及び光路調整部３４が収容される。ハウジングＨ４には４つの扉Ｄ４〜Ｄ７が設けられ、当該ハウジングＨ４の内部には複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４が収容される。なお、それぞれのハウジングＨ１〜Ｈ４に設けられる扉数は、１つ以上であれば、上記の扉数以外であってもよい。
光路管Ｔ１〜Ｔ８のそれぞれは、ハウジングＨ１〜Ｈ４における所定の取付位置に対して着脱可能に構成される。光路管Ｔ１及び光路管Ｔ２のそれぞれは、ハウジングＨ１とチャンバ１１のウインドウＷとの間に配置される。光路管Ｔ１及び光路管Ｔ２のそれぞれの一端がハウジングＨ１に連通し、他端がウインドウＷに当接する状態で、当該光路管Ｔ１及び光路管Ｔ２が取り付けられる。光路管Ｔ３及び光路管Ｔ４のそれぞれはハウジングＨ２とハウジングＨ３とに連通する状態で取り付けられ、光路管Ｔ５及び光路管Ｔ６のそれぞれはハウジングＨ３とハウジングＨ４とに連通する状態で取り付けられる。光路管Ｔ７及び光路管Ｔ８のそれぞれは、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２とをまたがって配置され、第１のエリアＡＲ１内のハウジングＨ１と第２のエリアＡＲ２内のハウジングＨ２とに連通する状態で取り付けられる。
２．２ 動作
極端紫外光生成装置１の制御部１４は、例えば操作入力部から駆動命令を受けると、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動する。また、制御部１４は、駆動命令を受けると、第１発光トリガ信号と、第１発光トリガ信号よりも所定時間だけ遅延する第２発光トリガ信号と、第２発光トリガ信号よりも所定時間だけ遅延する第３発光トリガ信号とを生成する。そして制御部１４は、生成した第１発光トリガ信号を第１プリパルスレーザ部３１に出力し、生成した第２発光トリガ信号を第２プリパルスレーザ部３２に出力し、生成した第３発光トリガ信号をマスターオシレータ３３に出力する。
第１プリパルスレーザ部３１は、第１発光トリガ信号に基づいてバースト動作を開始し、バースト期間にレーザ光ＰＬ１を出射する。第２プリパルスレーザ部３２は、第２発光トリガ信号に基づいてバースト動作を開始し、バースト期間にレーザ光ＰＬ２を出射する。マスターオシレータ３３は、第３発光トリガ信号に基づいてバースト動作を開始し、バースト期間にレーザ光ＭＬを出射する。
なお、上記のように、第１発光トリガ信号と第２発光トリガ信号と第３発光トリガ信号とは、互いに異なるタイミングで制御部１４から出力されている。このため、所定の周期で繰り返されるバースト期間において、レーザ光ＰＬ１とレーザ光ＰＬ２とレーザ光ＭＬとは、パルスの少なくともピークが互いに重ならない状態になっている。
第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１はミラーＭで反射してビームコンバイナＢＣに入射し、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２はビームコンバイナＢＣに入射する。ビームコンバイナＢＣに入射したレーザ光ＰＬ１及びレーザ光ＰＬ２の光路は、当該ビームコンバイナＢＣにより略一致させられる。ビームコンバイナＢＣから出射するレーザ光ＰＬ１とレーザ光ＰＬ２とを含むレーザ光ＰＬは、光路管Ｔ３を経由してハウジングＨ３からハウジングＨ２に進行し、当該ハウジングＨ２のビーム伝送光学系３５に入射する。
マスターオシレータ３３から出射したレーザ光ＭＬは、光路管Ｔ５を経由してハウジングＨ３からハウジングＨ４に進行し、当該ハウジングＨ４の複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４によりそれぞれ増幅される。パワーアンプＰＡ４で増幅されたレーザ光ＭＬは、光路管Ｔ６を経由してハウジングＨ４からハウジングＨ３に進行し、当該ハウジングＨ３の光路調整部３４に入射する。光路調整部３４から出射したレーザ光ＭＬは、光路管Ｔ４を経由してハウジングＨ３からハウジングＨ２に進行し、当該ハウジングＨ２のビーム伝送光学系３５に入射する。
ビーム伝送光学系３５から出射するレーザ光ＰＬとレーザ光ＭＬと含むレーザ光Ｌは、第１のエリアＡＲ１内のレーザ装置２から出力し、光路管Ｔ７及び光路管Ｔ８を経由して、第２のエリアＡＲ２内に配置される極端紫外光生成装置１に入力する。
極端紫外光生成装置１に入力したレーザ光Ｌは、ビーム伝送光学系１３により光路管Ｔ１及び光路管Ｔ２に向けて伝送され、当該光路管Ｔ１及び光路管Ｔ２を経由して、チャンバ１１のウインドウＷに進行する。チャンバ１１のウインドウＷからチャンバ１１内に入射したレーザ光Ｌは、レーザ集光光学系２２によりプラズマ生成領域２１に集光され、ドロップレット供給部１２から供給される少なくとも１つのドロップレットＤＬに照射される。
ドロップレットＤＬは、レーザ光Ｌに含まれるレーザ光ＰＬ１の照射によって、より小さな液滴として分散した状態の２次ターゲットとなる。２次ターゲットは、レーザ光Ｌに含まれるレーザ光ＰＬ２の照射によって、より小さな微粒子として分散した状態の３次ターゲットとなる。３次ターゲットは、レーザ光Ｌに含まれるレーザ光ＭＬの照射によってプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光を含む光が放射する。ＥＵＶ光は、ＥＵＶ光集光ミラー２３の反射面で選択的に反射し、中間集光点ＩＦに集光される。中間集光点ＩＦに集光されたＥＵＶ光は、チャンバ１１に接続された不図示の露光装置に拡散しながら出力する。
３．比較例の極端紫外光生成システムの説明
次に、比較例の極端紫外光生成システムを説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
３．１ 構成
図２は、比較例の極端紫外光生成システムの構成を示す模式図である。図２に示すように、比較例の極端紫外光生成システム１０２は、上記の極端紫外光生成システム１０１の構成に加えて、扉の開放状態を検知する複数のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７を含む。
複数のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７と複数の扉Ｄ１〜Ｄ７とは、一対一で対応している。インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７のそれぞれは、対応する扉Ｄ１〜Ｄ７に設けられ、制御部１４と電気的に接続される。なお、図２では、見易さの観点から、一部のインターロックスイッチＳ１，Ｓ３，Ｓ７と制御部１４とを接続する信号線のみが示され、他のインターロックスイッチＳ２，Ｓ４〜Ｓ６と制御部１４とを接続する信号線は省略されている。また、インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７のそれぞれの構成は同じであるため、当該構成はインターロックスイッチＳ１についてのみ説明する。
インターロックスイッチＳ１は、扉Ｄ１が閉まっているときには正常な接点状態であり、扉Ｄ１が開いているときには異常な接点状態となるよう構成される。例えば、扉Ｄ１の枠材に設けられる固定接触片と扉Ｄ１に設けられる可動接触片とが接触した状態が正常な接点状態であり、当該固定接触片と可動接触片とが非接触となる状態が異常な接点状態となるよう構成される。なお、固定接触片と可動接触片とが非接触である状態が正常な接点状態であり、当該固定接触片と可動接触片とが接触する状態が異常な接点状態となるよう構成されていてもよい。また、インターロックスイッチＳ１の接点数は２以上であってもよい。インターロックスイッチＳ１は、異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。なお、接点数が２以上である場合、インターロックスイッチＳ１は、例えば、それぞれの接点が異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。
また、比較例の極端紫外光生成システム１０２は、上記の極端紫外光生成システム１０１の構成に加えて、光路管の撤去状態を検知する複数のインターロックスイッチＳ１１〜Ｓ２０を含む。
複数のインターロックスイッチＳ１１〜Ｓ１６と、光路管Ｔ１〜Ｔ６とは、一対一で対応している。インターロックスイッチＳ１１〜Ｓ１６のそれぞれは、対応する光路管Ｔ１〜Ｔ６に設けられ、制御部１４と電気的に接続される。なお、図２では、見易さの観点から、それぞれのインターロックスイッチＳ１１〜Ｓ１６と制御部１４とを接続する信号線は省略されている。また、インターロックスイッチＳ１１〜Ｓ１６のそれぞれの構成は同じであるため、当該構成はインターロックスイッチＳ１１についてのみ説明する。
インターロックスイッチＳ１１は、光路管Ｔ１が定位置に取り付けられているときには正常な接点状態であり、光路管Ｔ１が定位置から外れているときには異常な接点状態となるよう構成される。例えば、ハウジングＨ１に設けられる固定接触片と光路管Ｔ１に設けられる可動接触片とが接触した状態が正常な接点状態であり、当該固定接触片と可動接触片とが非接触となる状態が異常な接点状態となるよう構成される。なお、固定接触片と可動接触片とが非接触である状態が正常な接点状態であり、当該固定接触片と可動接触片とが接触する状態が異常な接点状態となるよう構成されていてもよい。また、インターロックスイッチＳ１１の接点数は２以上であってもよい。インターロックスイッチＳ１１は、異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。なお、接点数が２以上である場合、インターロックスイッチＳ１１は、例えば、それぞれの接点が異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。
光路管Ｔ７，Ｔ８のそれぞれは、上記のように第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２とをまたがって配置される。このため、光路管Ｔ７における第１のエリアＡＲ１側にインターロックスイッチＳ１７が設けられ、当該光路管Ｔ７における第２のエリアＡＲ２側にインターロックスイッチＳ１８が設けられる。同様に、光路管Ｔ８における第１のエリアＡＲ１側にインターロックスイッチＳ１９が設けられ、当該光路管Ｔ８における第２のエリアＡＲ２側にインターロックスイッチＳ２０が設けられる。インターロックスイッチＳ１７〜Ｓ２０のそれぞれは制御部１４と電気的に接続される。なお、図２では、見易さの観点から、それぞれのインターロックスイッチＳ１７〜Ｓ２０と制御部１４とを接続する信号線は省略されている。また、インターロックスイッチＳ１７〜Ｓ２０のそれぞれの構成はインターロックスイッチＳ１１の構成と同じであるため、当該インターロックスイッチＳ１７〜Ｓ２０のそれぞれの構成の説明は省略する。
また、比較例の極端紫外光生成システム１０２の制御部１４は、バースト動作するようレーザ装置２を駆動することに加えて、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０ごとに検知信号の出力を監視する。
３．２ 動作
比較例の極端紫外光生成システム１０２における制御部１４は、例えば操作入力部から駆動命令を受けると、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動する。また、制御部１４は、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動する。
また、制御部１４は、例えば操作入力部から駆動命令を受けると、扉Ｄ１〜Ｄ７に設けられる各インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７、及び、光路管Ｔ１〜Ｔ８に設けられる各インターロックスイッチＳ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力を常時的又は定期的に監視する。複数のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０の全てから検知信号が出力されていない場合、全ての扉Ｄ１〜Ｄ７が閉じ、全ての光路管Ｔ１〜Ｔ８が定位置に配置されているため、安全な稼働状態が維持されている。
ここで、インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７のそれぞれは、対応する扉Ｄ１〜Ｄ７の開放状態を検知した場合には検知信号を制御部１４に出力する。インターロックスイッチＳ１１〜Ｓ１６のそれぞれは、対応する光路管Ｔ１〜Ｔ６の撤去状態を検知した場合には検知信号を制御部１４に出力する。インターロックスイッチＳ１７，Ｓ１９のそれぞれは、第１のエリアＡＲ１側の光路管Ｔ７，Ｔ８の撤去状態を検知した場合には検知信号を制御部１４に出力する。インターロックスイッチＳ１８，Ｓ２０のそれぞれは、第２のエリアＡＲ２側の光路管Ｔ７，Ｔ８の撤去状態を検知した場合には検知信号を制御部１４に出力する。
制御部１４は、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０のうち１以上のインターロックスイッチから検知信号の出力を検出すると、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３を停止する。
３．３ 課題
比較例の極端紫外光生成システム１０２では、扉の開放箇所あるいは光路管の撤去箇所が１個所でもあると、制御部１４がレーザ装置２の第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３を停止する。
このため、比較例の極端紫外光生成システム１０２では、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３がそれぞれ駆動しているときには、禁止動作である扉の開放動作及び光路管の撤去動作ができない。従って、メンテナンス等の作業を実施する場合、例えばチャンバ１１の壁などに設けられる計測器を用いてチャンバ１１内に入射したレーザ光Ｌのパワーを計測する作業などのように、禁止動作をすることなく実施し得る種類に制限される。作業の種類が制限されると、極端紫外光生成装置１又はレーザ装置２の稼働率の低下が懸念される。従って、より多様の作業を実施することが要請される。
そこで、以下の実施形態では、より多様の作業を実施し得る極端紫外光生成システムが例示される。
４．実施形態の極端紫外光生成システムの説明
４．１ 構成
図３は、実施形態の極端紫外光生成システムの構成を示す模式図である。図３に示すように、実施形態の極端紫外光生成システム１０３は、比較例の極端紫外光生成システム１０２の構成に加えて、複数の減光部４１〜４３を更に含む。
複数の減光部４１〜４３のそれぞれは、第１のエリアＡＲ１内の所定の光路上におけるセット位置と、当該光路以外のリムーブ位置とに可動し、セット位置では光路を伝搬する光のパワーを減光するよう構成される。なお、図３では、セット位置が破線で示され、リムーブ位置が実線で示されている。複数の減光部４１〜４３のそれぞれは、例えば、上記のセット位置とリムーブ位置とに制御部１４の指令に応じて移動可能なステージと、当該ステージ上に配置されるアッテネータとにより構成し得る。ステージは、エアシリンダにより移動するようにしてもよく、通電により移動するようにしてもよい。また、ステージは、エアー漏れ又は断線等の故障時には、自動的にセット位置に移動するようにしてもよい。アッテネータは、例えば、光の入射角が互いに相反するように配置される偶数のビームスプリッタにより構成し得る。なお、図３に示す例では、一対のビームスプリッタが組とされ、２組のビームスプリッタがステージ上に配置される。
本実施形態における減光部４１のセット位置は、レーザ光ＰＬ１の光路のうち、ミラーＭよりもレーザ光ＰＬ１の発振源である第１プリパルスレーザ部３１側となる位置とされる。従って、減光部４１は、セット位置では第１プリパルスレーザ部３１から出射されたレーザ光ＰＬ１のパワーを減光し得る。本実施形態における減光部４２のセット位置は、レーザ光ＰＬ２の光路のうち、ビームコンバイナＢＣよりもレーザ光ＰＬ２の発振源である第２プリパルスレーザ部３２側となる位置とされる。従って、減光部４２は、セット位置では第２プリパルスレーザ部３２から出射されたレーザ光ＰＬ２のパワーを減光し得る。本実施形態における減光部４３のセット位置は、レーザ光ＭＬの光路のうち、光路調整部３４よりもレーザ光ＭＬの発振源であるマスターオシレータ３３側となる位置とされる。従って、減光部４３は、セット位置ではマスターオシレータ３３から出射されたレーザ光ＭＬのパワーを減光し得る。
また、実施形態の極端紫外光生成システム１０３は、比較例の極端紫外光生成システム１０２の構成に加えて、複数の遮光部４４及び４５を更に含む。
複数の遮光部４４及び４５のそれぞれは、第１のエリアＡＲ１内の所定の光路上におけるクローズ位置と、当該光路以外のオープン位置とに可動し、クローズ位置では光路を伝搬する光を遮光するよう構成される。なお、図３に示す例では、クローズ位置は破線で示され、オープン位置は実線で示されている。複数の遮光部４４及び４５は、例えば、クローズ位置とオープン位置とに制御部１４の指令に応じて移動可能なステージと、当該ステージ上に配置されるミラーと、クローズ位置にあるミラーで反射する光を遮光するビームダンパとにより構成し得る。ステージは、エアシリンダにより移動するようにしてもよく、通電により移動するようにしてもよい。また、ステージは、エアー漏れ又は断線等の故障時には、自動的にクローズ位置に移動するようにしてもよい。
本実施形態における遮光部４４のクローズ位置は、レーザ光ＰＬの光路のうち、例えばビームコンバイナＢＣとビーム伝送光学系３５との間の所定部位とされる。従って、遮光部４４は、ビームコンバイナＢＣから出射するレーザ光ＰＬを遮光し得る。本実施形態における遮光部４５のクローズ位置は、レーザ光ＭＬの光路のうち、例えば光路調整部３４とビーム伝送光学系３５との間の所定部位とされる。従って、遮光部４５は、光路調整部３４から出射するレーザ光ＭＬを遮光し得る。
また、実施形態の極端紫外光生成システム１０３は、比較例の極端紫外光生成システム１０２の構成に加えて、減光部又は遮光部の動作異常の状態を検知する複数のインターロックスイッチＳ２１〜Ｓ３０を含む。
インターロックスイッチＳ２１は減光部４１のセット位置に設けられ、インターロックスイッチＳ２２は減光部４１のリムーブ位置に設けられる。インターロックスイッチＳ２３は減光部４２のセット位置に設けられ、インターロックスイッチＳ２４は減光部４２のリムーブ位置に設けられる。インターロックスイッチＳ２５は減光部４３のセット位置に設けられ、インターロックスイッチＳ２６は減光部４３のリムーブ位置に設けられる。インターロックスイッチＳ２７は遮光部４４のクローズ位置に設けられ、インターロックスイッチＳ２８は遮光部４４のオープン位置に設けられる。インターロックスイッチＳ２９は遮光部４５のクローズ位置に設けられ、インターロックスイッチＳ３０は遮光部４５のオープン位置に設けられる。また、インターロックスイッチＳ２１〜Ｓ３０のそれぞれは、制御部１４と電気的に接続される。なお、図３では、見易さの観点から、それぞれのインターロックスイッチＳ２１〜Ｓ３０と制御部１４とを接続する信号線は省略されている。また、インターロックスイッチＳ２１〜Ｓ３０のそれぞれの構成は同様であるため、当該構成はインターロックスイッチＳ２１についてのみ説明する。
インターロックスイッチＳ２１は、減光部４１がセット位置に位置するときには正常な接点状態であり、減光部４１がセット位置以外にあるときには異常な接点状態となるよう構成される。インターロックスイッチＳ２１の接点数は２以上であってもよい。インターロックスイッチＳ２１は、異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。なお、接点数が２以上である場合、インターロックスイッチＳ２１は、例えば、それぞれの接点が異常な接点状態となっている期間が所定期間を超えたときに検知信号を制御部１４に出力するよう構成される。
実施形態の極端紫外光生成システム１０３の制御部１４は、通常モードと減光モードと遮光モードと減光遮光モードとを切り替え可能に構成される。なお、制御部１４は、上記のように第２のエリアＡＲ２内に配置されているが、第１のエリアＡＲ１内に配置されてもよく、当該第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２以外に配置されていてもよい。
４．２ 動作
図４は制御部の制御処理ルーチンを示すフローチャートであり、図５は極端紫外光生成システムにおける各種のモードの状態やメンテナンス作業例等を示す表である。
図４に示すように、制御部１４は、例えば操作入力部からモードの実行命令を受けると、ステップＳＰ１に進む。ステップＳＰ１において、制御部１４は、実行命令を受けたモードの種類を認識する。
ここで、ステップＳＰ１で実行命令を受けたモードが通常モードである場合、制御部１４は、ステップＳＰ１１に進む。ステップＳＰ１１において、制御部１４は、通常モードの設定情報を取得する。通常モードでは、図５に示すように、それぞれの減光部４１〜４３の配置位置がリムーブ位置に設定され、それぞれの遮光部４４及び４５の配置位置がオープン位置に設定される。また、通常モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２におけるインターロックスイッチの監視がともに有効に設定され、それぞれのパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４の駆動が有りに設定される。これら設定情報は、例えば、制御部１４の内部メモリに記憶される。
制御部１４は、通常モードの設定情報を取得すると、取得した通常モードの設定情報に基づいて、それぞれの減光部４１〜４３をリムーブ位置に設定するとともに、それぞれの遮光部４４及び４５をオープン位置に設定する。また、制御部１４は、取得した設定情報に基づいて、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を有効に設定した後、ステップＳＰ２１に進む。
ステップＳＰ２１において、制御部１４は、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動した後、レーザ装置２の第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動する。
上記のように、ステップＳＰ１１において減光部４１及び４２はそれぞれリムーブ位置に移動している。このため、図３に示すように、第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１と、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２とは、減光されることなく、ビームコンバイナＢＣに入射する。また上記のように、ステップＳＰ１１において遮光部４４はオープン位置に移動している。このため、図３に示すように、ビームコンバイナＢＣから出射したレーザ光ＰＬ１及びレーザ光ＰＬ２を含むレーザ光ＰＬは、遮光されることなく、ビーム伝送光学系３５に入射する。
また上記のように、ステップＳＰ１１において減光部４３はリムーブ位置に移動し、遮光部４５はオープン位置に移動している。さらに、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４がそれぞれ駆動された後にマスターオシレータ３３が駆動されている。このため、図３に示すように、マスターオシレータ３３から出射したレーザ光ＭＬは、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４によりそれぞれ増幅され、減光又は遮光されることなく、ビーム伝送光学系３５に入射する。
ビーム伝送光学系３５から出射するレーザ光ＰＬとレーザ光ＭＬと含むレーザ光Ｌは、第１のエリアＡＲ１内のレーザ装置２から出力し、光路管Ｔ７及び光路管Ｔ８を経由して、第２のエリアＡＲ２内に配置される極端紫外光生成装置１に入力する。極端紫外光生成装置１に入力したレーザ光Ｌは、上記のようにチャンバ１１のプラズマ生成領域２１に集光される。従って、図５における通常モードの簡易図の欄からも理解し得るように、通常モードでは、第１のエリアＡＲ１から第２のエリアＡＲ２に高パワーのレーザ光Ｌが伝搬する。
また、制御部１４は、ステップＳＰ１１においてそれぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を有効に設定している。このため、ステップＳＰ２１において、制御部１４は、インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０のいずれか１つでも検知信号の出力を検出すると、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３を停止する。従って、通常モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２ともに、それぞれの扉Ｄ１〜Ｄ７の開放動作と、それぞれの光路管Ｔ１〜Ｔ８の撤去動作とが禁止される。
また、ステップＳＰ１で実行命令を受けたモードが減光モードである場合、制御部１４は、ステップＳＰ１２に進む。ステップＳＰ１２において、制御部１４は、減光モードの設定情報を取得する。減光モードでは、図５に示すように、それぞれの減光部４１〜４３の配置位置がセット位置に設定され、それぞれの遮光部４４及び４５の配置位置がオープン位置に設定される。また、減光モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２におけるインターロックスイッチの監視がともに無効に設定され、パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４それぞれの駆動が無しに設定される。これら設定情報は、例えば、制御部１４の内部メモリに記憶される。
制御部１４は、減光モードの設定情報を取得すると、取得した減光モードの設定情報に基づいて、それぞれの減光部４１〜４３をセット位置に設定するとともに、それぞれの遮光部４４及び４５をオープン位置に設定する。また、制御部１４は、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を無効に設定した後に、ステップＳＰ２２に進む。
ステップＳＰ２２において、制御部１４は、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動することなく、レーザ装置２の第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動する。
上記のように、ステップＳＰ１２において減光部４１及び４２はそれぞれセット位置に移動している。このため、図３に示すように、第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１と、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２とは、減光された後にビームコンバイナＢＣに入射する。また上記のように、ステップＳＰ１２において遮光部４４はオープン位置に移動している。このため、ビームコンバイナＢＣから出射したレーザ光ＰＬ１及びレーザ光ＰＬ２を含むレーザ光ＰＬは、遮光されることなく、ビーム伝送光学系３５に入射する。
また上記のように、ステップＳＰ１２において減光部４３はセット位置に移動し、遮光部４５はオープン位置に移動している。さらに、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４がそれぞれ駆動されることなくマスターオシレータ３３が駆動されている。このため、マスターオシレータ３３から出射したレーザ光ＭＬは、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４によりそれぞれ増幅されることなく減光部４３で減光された後、遮光されることなく、ビーム伝送光学系３５に入射する。
ビーム伝送光学系３５から出射するレーザ光ＰＬとレーザ光ＭＬと含むレーザ光Ｌは、第１のエリアＡＲ１内のレーザ装置２から出力し、光路管Ｔ７及び光路管Ｔ８を経由して、第２のエリアＡＲ２内に配置される極端紫外光生成装置１に入力する。極端紫外光生成装置１に入力したレーザ光Ｌは、上記のようにチャンバ１１のプラズマ生成領域２１に集光される。従って、図５における減光モードの簡易図の欄からも理解し得るように、減光モードでは、第１のエリアＡＲ１から第２のエリアＡＲ２に低パワーのレーザ光Ｌが伝搬する。
また、制御部１４は、ステップＳＰ１２においてそれぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を無効に設定している。従って、ステップＳＰ２２において、制御部１４は、インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０から検知信号の出力を検出しても、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動し続ける。このように減光モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２ともに、それぞれの扉Ｄ１〜Ｄ７の開放動作と、それぞれの光路管Ｔ１〜Ｔ８の撤去動作が許可される。
また、ステップＳＰ１で実行命令を受けたモードが遮光モードである場合、制御部１４は、ステップＳＰ１３に進む。ステップＳＰ１３において、制御部１４は、遮光モードの設定情報を取得する。遮光モードでは、図５に示すように、それぞれの減光部４１〜４３の配置位置がリムーブ位置に設定され、それぞれの遮光部４４及び４５の配置位置がクローズ位置に設定される。また、遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１におけるインターロックスイッチのうち、レーザ光Ｌの進行方向においてクローズ位置よりも上流側に設けられるインターロックスイッチの監視が有効にされる。ただし、第１のエリアＡＲ１におけるインターロックスイッチの全ての監視が有効にされてもよい。また、遮光モードでは、第２のエリアＡＲ２におけるインターロックスイッチの監視が無効に設定される。さらに、遮光モードでは、パワーアンプの駆動が有りに設定される。これらの設定情報は、例えば、制御部１４の内部メモリに記憶される。
制御部１４は、遮光モードの設定情報を取得すると、取得した遮光モードの設定情報に基づいて、それぞれの減光部４１〜４３をリムーブ位置に設定するとともに、それぞれの遮光部４４及び４５をクローズ位置に設定する。また、制御部１４は、第１のエリアＡＲ１における一部のインターロックスイッチＳ３〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０における検知信号の出力の監視を有効に設定する。さらに、制御部１４は、第２のエリアＡＲ２に設けられるそれぞれのインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９における検知信号の出力の監視を無効に設定した後、ステップＳＰ２３に進む。
ステップＳＰ２３において、制御部１４は、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動した後、レーザ装置２の第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動する。
上記のように、ステップＳＰ１３において減光部４１及び４２はそれぞれリムーブ位置に移動している。このため、図３に示すように、第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１と、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２とは、減光されることなく、ビームコンバイナＢＣに入射する。また上記のように、ステップＳＰ１３において遮光部４４はクローズ位置に移動している。このため、ビームコンバイナＢＣから出射したレーザ光ＰＬ１及びレーザ光ＰＬ２を含むレーザ光ＰＬは、遮光部４４により遮光される。
また上記のように、ステップＳＰ１３において減光部４３はリムーブ位置に移動し、遮光部４５はクローズ位置に移動している。さらに、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４がそれぞれ駆動された後にマスターオシレータ３３が駆動されている。このため、マスターオシレータ３３から出射したレーザ光ＭＬは、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４によりそれぞれ増幅され、減光部４３で減光されることなく光路調整部３４を経由した後、遮光部４４により遮光される。従って、図５における遮光モードの簡易図の欄からも理解し得るように、遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１におけるレーザ光Ｌの発振源とクローズ位置に設定される遮光部４４及び４５との間にのみ高パワーのレーザ光Ｌが伝搬する。
また、制御部１４は、ステップＳＰ１３において第１のエリアＡＲ１のインターロックスイッチＳ３〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０の監視のみを設定している。従って、ステップＳＰ２３において、制御部１４は、監視対象として設定した第１のエリアＡＲ１のインターロックスイッチの１つでも検知信号の出力を検出すると、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３を停止する。これに対し、制御部１４は、第２のエリアＡＲ２に設けられるインターロックスイッチから検知信号の出力を検出しても、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動し続ける。このように遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１における扉Ｄ２の開放動作と、第２のエリアＡＲ２における扉Ｄ１の開放動作と、光路管Ｔ１及びＴ２の撤去動作と、光路管Ｔ７及びＴ８における第２のエリアＡＲ２側の端部の撤去動作のみが許可される。
また、ステップＳＰ１で実行命令を受けたモードが減光遮光モードである場合、制御部１４は、ステップＳＰ１４に進む。ステップＳＰ１４において、制御部１４は、減光遮光モードの設定情報を取得する。減光遮光モードでは、図５に示すように、それぞれの減光部４１〜４３の配置位置がセット位置に設定され、それぞれの遮光部４４及び４５の配置位置がクローズ位置に設定される。また、減光遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２におけるインターロックスイッチの監視がともに無効に設定され、パワーアンプの駆動が無しに設定される。これら設定情報は、例えば、制御部１４の内部メモリに記憶される。
制御部１４は、減光遮光モードの設定情報を取得すると、取得した減光遮光モードの設定情報に基づいて、それぞれの減光部４１〜４３をセット位置に設定するとともに、それぞれの遮光部４４及び４５をクローズ位置に設定する。また、制御部１４は、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を無効に設定した後、ステップＳＰ２４に進む。
ステップＳＰ２４において、制御部１４は、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のそれぞれを駆動することなく、レーザ装置２の第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動する。
上記のように、ステップＳＰ１４において減光部４１及び４２はそれぞれセット位置に移動している。このため、図３に示すように、第１プリパルスレーザ部３１から出射したレーザ光ＰＬ１と、第２プリパルスレーザ部３２から出射したレーザ光ＰＬ２とは、減光された後にビームコンバイナＢＣに入射する。また上記のように、ステップＳＰ１４において遮光部４４はクローズ位置に移動している。このため、ビームコンバイナＢＣから出射したレーザ光ＰＬ１及びレーザ光ＰＬ２を含むレーザ光ＰＬは、遮光部４４により遮光される。
また上記のように、ステップＳＰ１４において減光部４３はセット位置に移動し、遮光部４５はクローズ位置に移動している。さらに、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４がそれぞれ駆動されることなく、マスターオシレータ３３が駆動されている。このため、マスターオシレータ３３から出射したレーザ光ＭＬは、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４によりそれぞれ増幅されることなく減光部４３で減光され、光路調整部３４を経由した後、遮光部４４により遮光される。従って、図５における減光遮光モードの簡易図の欄からも理解し得るように、減光遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１におけるレーザ光Ｌの発振源とクローズ位置に設定される遮光部４４及び４５との間にのみ低パワーのレーザ光Ｌが伝搬する。
また、制御部１４は、ステップＳＰ１４においてそれぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を無効に設定している。従って、ステップＳＰ２４において、制御部１４は、インターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０から検知信号の出力を検出しても、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３をそれぞれ駆動し続ける。このように減光遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２ともに、それぞれの扉Ｄ１〜Ｄ７の開放動作と、それぞれの光路管Ｔ１〜Ｔ８の撤去動作が許可される。
次に、上記のステップＳＰ１１〜ＳＰ１４のそれぞれにおいて減光部４１〜４３及び遮光部４４及び４５の位置を設定するとともに、検知信号の出力の監視を有効又は無効に設定する具体的な設定処理ルーチンを説明する。ただし、ステップＳＰ１１〜ＳＰ１４のそれぞれにおける設定処理ルーチンでは、減光部４１〜４３及び遮光部４４及び４５に対して設定する位置と、検知信号の出力の監視の種別が異なるものの、当該設定処理ルーチンの内容は同じとなる。従って、ステップＳＰ１２における設定処理ルーチンについてのみ説明する。
図６は、設定処理ルーチンを示すフローチャートである。図６に示すように、制御部１４は、ステップＳＰ１２で減光モードの設定情報を取得すると、設定処理ルーチンを開始し、ステップＳＰ３１に進む。
ステップＳＰ３１において、制御部１４は、ステップＳＰ１２で取得した減光モードの設定情報に基づいて、複数の減光部４１〜４３の設定位置がセット位置であり、遮光部４４及び４５の設定位置がオープン位置であることを認識する。そして、制御部１４は、それぞれの減光部４１〜４３に対してセット位置に移動する移動指令を与えるとともに、それぞれの遮光部４４及び４５に対してオープン位置に移動する移動指令を与えた後、ステップＳＰ３２に進む。
ステップＳＰ３２において、制御部１４は、ステップＳＰ３１で移動指令を与えたそれぞれの指令対象が移動指令を与えてから規定時間内に移動し終えたか否かを判定する。例えば、制御部１４は、それぞれの減光部４１〜４３のセット位置及びリムーブ位置に設けられるインターロックスイッチＳ２１〜Ｓ２６と、それぞれの遮光部４４及び４５のクローズ位置及びオープン位置に設けられるインターロックスイッチＳ２７〜Ｓ３０とからの検知信号の出力を監視する。そして制御部１４は、移動指令を与えてから規定時間内に検知信号を出力するインターロックスイッチの有無を検出することで、当該規定時間内に移動し終えたか否かを判定し得る。なお、インターロックスイッチＳ２１〜Ｓ３０に代えて、それぞれの指令対象に対して問合信号を送信し、当該指令対象から問合信号に対する応答信号を受信するポーリング通信方式が用いられてもよい。このようにしても、指令対象が移動指令を与えてから規定時間内に移動し終えたか否かを判定し得る。なお、規定時間は、例えば１０秒程度とされる。
ここで、ステップＳＰ３１で移動指令を与えたそれぞれの指令対象の全てが規定時間内に移動し終えている場合、制御部１４は、ステップＳＰ３３に進む。ステップＳＰ３３において、制御部１４は、ステップＳＰ１２で取得した減光モードの設定情報に基づいて、それぞれのインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０における検知信号の出力の監視を無効に設定する。その後、制御部１４は、上記のステップＳＰ２３に進む。
これに対し、ステップＳＰ３１で移動指令を与えたそれぞれの指令対象のうち規定時間内に移動し終えていない指令対象が１つでもある場合、当該指令対象では故障等の動作異常が生じている可能性がある。この場合、制御部１４は、ステップＳＰ３４に進む。ステップＳＰ３４において、制御部１４は、動作異常が生じている可能性がある旨の警報を発信する。その後、制御部１４は、上記のステップＳＰ２３に進むことなく、制御処理ルーチンを終了する。つまり、制御部１４は、動作異常が生じている可能性がある旨の警報を発信した場合には、第１プリパルスレーザ部３１、第２プリパルスレーザ部３２及びマスターオシレータ３３を駆動することなく停止し続ける。
なお、検知信号の出力の監視を無効に設定する場合、図７に示すように、ステップＳＰ３１とステップＳＰ３３との間に、当該設定をするか否かをオペレータが入力し得る新たなステップＳＰ４１が設けられてもよい。
ステップＳＰ４１において、制御部１４は、例えば、検知信号の出力の監視を無効に設定する確認メッセージを表示装置に表示し、検知信号の出力の監視を無効に設定するか否かの入力を待機する。入力装置は、例えば、第１のエリアＡＲ１又は第２のエリアＡＲ２に設けられる物理的なスイッチであってもよく、表示装置の表示画面上のボタンであってもよい。ここで、オペレータが検知信号の出力の監視を無効に設定する入力をした場合、制御部１４は、上記のステップＳＰ３３に進む。これに対し、オペレータが検知信号の出力の監視を無効に設定しない入力をした場合、制御部１４は、ステップＳＰ４２に進んで、検知信号の出力の監視を有効に設定する。このようにすれば、監視を無効にするか否かをオペレータが直接的に入力するため、当該オペレータが意図しない監視の無効化を回避し得る。
４．３ 作用・効果
以上説明したように、実施形態の極端紫外光生成システム１０３は、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２とを備える。第１のエリアＡＲ１は、発振器であるマスターオシレータ３３から出射するレーザ光ＭＬの光路を調整する光路調整部３４、及び、第１のインターロックスイッチＳ２〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０を含む。第２のエリアＡＲ２は、レーザ光ＭＬの照射ターゲットであるターゲット物質のプラズマ化によりＥＵＶ光を生成するプラズマ生成領域２１を内部に有するチャンバ１１、及び、第２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９を含む。
実施形態の極端紫外光生成システム１０３は、制御部１４を備える。本実施形態では制御部１４は第２のエリアＡＲ２に含まれるが、上記のように第１のエリアＡＲ１に含まれていてもよく、当該第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２以外に配置されていてもよい。
制御部１４は、図５に示すように、第１の設定状態である通常モードと、第２の設定状態の１つである減光モードと、第３の設定状態である遮光モードとを切り替え可能に構成される。
通常モードでは、第１のインターロックスイッチＳ２〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０から出力される信号の監視、及び、第２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９から出力される信号の監視の双方が有効に設定される。この通常モードでは、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２との双方のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０に対する監視が有効である。このため、極端紫外光生成システム１０３は、通常モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２の双方に進入しないで作業し得る作業環境を提供し得る。
減光モードでは、第１のインターロックスイッチＳ２〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０から出力される信号の監視、及び、第２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９から出力される信号の監視の双方が無効に設定される。この遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２との双方のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０に対する監視が無効である。このため、極端紫外光生成システム１０３は、減光モードでは、第１のエリアＡＲ１及び第２のエリアＡＲ２の双方に進入して作業し得る作業環境を提供し得る。
遮光モードでは、第１のインターロックスイッチＳ３〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０から出力される信号の監視が有効に設定され、第２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９から出力される信号の監視が無効に設定される。この遮光モードでは、少なくとも第２のエリアＡＲ２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９の監視が無効である。このため、極端紫外光生成システム１０３は、遮光モードでは、第１のエリアＡＲ１には進入しないで作業しつつも第２のエリアＡＲ２には進入して作業し得る作業環境を提供し得る。
このように極端紫外光生成システム１０３は、通常モードと減光モードと遮光モードとを切り替え可能に構成される制御部１４を備えることで、異なる種類の作業可能な作業環境を提供することができる。また極端紫外光生成システム１０３は、作業の種類に応じて通常モードと減光モードと遮光モードとを切り替えることもできる。こうして、より多様な作業を行わせ得る極端紫外光生成システム１０３が提供される。
また、本実施形態の第１のエリアＡＲ１は、減光部４３を更に含む。この減光部４３は、レーザ光ＭＬの光路のうち光路調整部３４に対してレーザ光ＭＬが入射する側となる所定のセット位置と、当該光路以外のリムーブ位置とに可動し、セット位置ではレーザ光ＭＬを減光する。
このため、減光部４３がセット位置にある場合には、当該減光部４３により減光された低パワーのレーザ光ＭＬが光路調整部３４に入射する。従って、第１のエリアＡＲ１の第１のインターロックスイッチＳ２〜Ｓ７，Ｓ１３〜Ｓ１６，Ｓ１８，Ｓ２０に対する監視を無効にすれば、第１のエリアＡＲ１内の光路調整部３４を用いて、プラズマ生成領域２１に対するレーザ光ＭＬの光軸を調整し得る。
第１のエリアＡＲ１は、遮光部４５を更に含む。この遮光部４５は、レーザ光ＭＬの光路上において光路調整部３４に対してレーザ光ＭＬが出射する側となる所定のクローズ位置と、当該光路以外のオープン位置とに可動し、クローズ位置ではレーザ光ＭＬを遮光する。
このため、遮光部４５がクローズ位置にある場合には、当該遮光部４５によりレーザ光ＭＬが第１のエリアＡＲ１内で遮光され、当該レーザ光ＭＬは第２のエリアＡＲ２に非入射の状態となる。従って、第２のエリアＡＲ２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９に対する監視を無効にすれば、第２のエリアＡＲ２でチャンバ１１のメンテナンス等の作業を実施し得る。
また、本実施形態の通常モードでは、減光部４３はリムーブ位置に設定され、遮光部４５はオープン位置に設定される。
このため、通常モードでは、レーザ光ＭＬが減光又は遮光されることなくチャンバ１１内のプラズマ生成領域２１に照射される。上記のように、通常モードでは、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２との双方のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０に対する監視が有効である。従って、極端紫外光生成システム１０３は、図５の作業例に示すように、例えば、ＥＵＶ発光、プラズマ点出力計測、レーザ出力計測、スポット重心位置調整、あるいは、制御特性調整などの作業を実施する作業環境を提供し得る。
なお、ＥＵＶ発光は、ドロップレットＤＬに対してレーザ光ＭＬを照射することである。また、プラズマ点出力計測はチャンバ２に設けられる計測器を用いてプラズマ生成領域２１で放射する光のパワーを計測することであり、レーザ出力計測は当該計測器を用いてチャンバ１１内に入射するレーザ光Ｌ１のパワーを計測することである。また、スポット重心位置調整は、レーザ集光光学系２２の集光位置が目標位置に集光するようステージＳＴを調整することである。制御特性調整は、制御部１４を含む制御系の制御が所望となるように調整することである。
また、本実施形態の減光モードでは、減光部４３はセット位置に設定され、遮光部４５はオープン位置に設定される。
このため、減光モードでは、減光部４３により減光された低パワーのレーザ光ＭＬが光路調整部３４を経由して第２のエリアＡＲ２のチャンバ１１内のプラズマ生成領域２１に照射される。上記のように、減光モードでは、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２との双方のインターロックスイッチＳ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ２０に対する監視が無効である。従って、極端紫外光生成システム１０３は、図５の作業例に示すように、光路調整部３４を用いて、プラズマ生成領域２１に対するレーザ光ＭＬの光軸を調整する作業環境を提供し得る。
また、本実施形態の遮光モードでは、減光部４３はリムーブ位置に設定され、遮光部４５はクローズ位置に設定される。
このため、遮光モードでは、遮光部４５によりレーザ光ＭＬが第１のエリアＡＲ１内で遮光され、当該レーザ光ＭＬは第２のエリアＡＲ２に非入射の状態となる。上記のように、遮光モードでは、少なくとも第２のエリアＡＲ２のインターロックスイッチＳ１，Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１７，Ｓ１９に対する監視が無効である。従って、極端紫外光生成システム１０３は、第２のエリアＡＲ２ではチャンバ１１のメンテナンス等の作業を実施する一方、第１のエリアＡＲ１ではレーザ光ＭＬのパワー計測等の作業を実施する作業環境を提供し得る。この作業環境によれば、第１のエリアＡＲ１と第２のエリアＡＲ２とで個別に異なる作業を同時期に実施でき、当該作業の効率化を図り得る。
また、本実施形態の制御部１４は、通常モード、減光モード及び遮光モードに加えて、上記の第２の設定状態の他の１つである減光遮光モードも切り替え可能に構成される。この減光遮光モードでは、減光部４３はセット位置に設定され、遮光部４５はクローズ位置に設定される。
この減光遮光モードは、上記の減光モードと遮光モードを組み合わせた状態となる。従って、上記のように、第２のエリアＡＲ２ではチャンバ１１のメンテナンス等の作業を実施する一方、第１のエリアＡＲ１では光路調整部３４を用いて、プラズマ生成領域２１に対するレーザ光ＭＬの光軸を調整する作業環境が提供され得る。
また、本実施形態の制御部１４は、図６を用いて説明したように、減光部４３と遮光部４５との少なくとも一方を指令対象として移動指令を与え、当該移動指令を与えてから規定時間内に指令対象が移動し終えていない場合には、発振器であるマスターオシレータ３３を停止する。
なお、指令対象が移動指令を与えてから規定時間内に移動し終えたか否かを判定する場合、本実施形態では、ポーリング通信方式ではなく、インターロックスイッチが用いられる。すなわち、本実施形態では、第１のエリアＡＲ１は、減光部４３の動作異常の状態を検知して検知信号を出力する減光部用のインターロックスイッチＳ２５，Ｓ２６を含む。また、第１のエリアＡＲ１は、遮光部４５の動作異常の状態を検知して検知信号を出力する遮光部用のインターロックスイッチＳ２９，Ｓ３０を含む。制御部１４は、減光部４３と遮光部４５との少なくとも一方の指令対象から検知信号が出力された場合には、マスターオシレータ３３を停止する。
このようにした場合、減光部４３により減光される予定のレーザ光ＭＬが減光されない、あるいは、遮光部４５により遮光される予定のレーザ光ＭＬが遮光されないといった不慮の事態が生じることを事前に回避し得る。
また、本実施形態の制御部１４は、図７を用いて説明したように、検知信号の出力の監視を無効に設定する場合、当該設定前に確認メッセージを表示装置に表示し、検知信号の出力の監視を無効に設定するか否かについての入力を待機する。
このようにすれば、監視を無効にするか否かをオペレータが直接的に入力するため、当該オペレータが意図しない監視の無効化を回避し得る。
なお、本実施形態では、第１のエリアＡＲ１は、パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４を更に含む。パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４は、減光部４３と発振器であるマスターオシレータ３３との間に設けられており、パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４は、通常モード及び遮光モードでは駆動され、減光モードでは停止される。
上記のように、減光モードでは、光路調整部３４を用いて、プラズマ生成領域２１に対するレーザ光ＭＬの光軸を調整し得るため、パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４が停止されることが好ましい。ただし、減光モードにおいて減光部４３に入射する時点のレーザ光ＭＬの強度が、通常モードのときの強度よりも小さければ、パワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４を停止することに限定されない。例えば、複数のパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４のうち一部だけが停止されてもよく、それぞれのパワーアンプＰＡ１〜ＰＡ４が通常モードのときの増幅度よりも小さい増幅度で増幅するようにしてもよい。あるいは、マスターオシレータ３３が通常モードのときのレーザ光ＭＬの強度よりも小さい強度で出射するようにしてもよい。なお、減光モードにおいて減光部４３に入射する時点のレーザ光ＭＬの強度が、通常モードのときの強度よりも小さければ、減光部４３がリムーブ位置にあってもよい。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態や変形例に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１・・・極端紫外光生成装置、２・・・レーザ装置、１１・・・チャンバ、１４・・・制御部、２１・・・プラズマ生成領域、３１・・・第１プリパルスレーザ部、３２・・・第２プリパルスレーザ部、３３・・・マスターオシレータ、３４・・・光路調整部、４１〜４３・・・減光部、４４，４５・・・遮光部、Ｄ１〜Ｄ７・・・扉、Ｈ１〜Ｈ４・・・ハウジング、ＰＡ１〜ＰＡ４・・・パワーアンプ、Ｓ１〜Ｓ７，Ｓ１１〜Ｓ３０・・・インターロックスイッチ、Ｔ１〜Ｔ８・・・光路管

Claims (20)

  1. 発振器から出射するレーザ光の光路を調整する光路調整部を含む第１のエリアと、
    前記レーザ光の照射ターゲットであるターゲット物質のプラズマ化により極端紫外光を生成するプラズマ生成領域を内部に有するチャンバを含む第２のエリアと、
    前記第１のエリアに配置され、前記第１のエリア内の検知対象物の状態を検知する第１のインターロックスイッチと、
    前記第２のエリアに配置され、前記第２のエリア内の検知対象物の状態を検知する第２のインターロックスイッチと、
    前記第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視、及び、前記第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視の双方が有効に設定される第１の設定状態と、前記第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視、及び、前記第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視の双方が無効に設定される第２の設定状態と、前記第１のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視が有効に設定され、前記第２のインターロックスイッチから出力される検知信号の監視が無効に設定される第３の設定状態とを切り替え可能に構成される制御部と
    を備える極端紫外光生成システム。
  2. 請求項１に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアは、減光部を更に含み、
    前記減光部は、前記レーザ光の光路上において前記光路調整部に対して前記レーザ光が入射する側となる所定のセット位置と、当該光路以外のリムーブ位置とに可動し、前記セット位置では前記レーザ光を減光する。
  3. 請求項２に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアは、遮光部を更に含み、
    前記遮光部は、前記レーザ光の光路上において前記光路調整部に対して前記レーザ光が出射する側となる所定のクローズ位置と、当該光路以外のオープン位置とに可動し、前記クローズ位置では前記レーザ光を遮光する。
  4. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１の設定状態では、前記減光部は前記リムーブ位置に設定され、前記遮光部は前記オープン位置に設定される。
  5. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第２の設定状態では、前記減光部は前記セット位置に設定され、前記遮光部は前記オープン位置に設定される。
  6. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第２の設定状態では、前記減光部は前記セット位置に設定され、前記遮光部は前記クローズ位置に設定される。
  7. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第３の設定状態では、前記減光部は前記リムーブ位置に設定され、前記遮光部は前記クローズ位置に設定される。
  8. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のインターロックスイッチは、前記レーザ光の進行方向において前記遮光部の前記クローズ位置よりも上流側と下流側とにそれぞれ配置され、
    前記制御部は、前記遮光部を前記クローズ位置に設定する場合、前記クローズ位置よりも上流側に設けられる前記第１のインターロックスイッチの監視を有効に設定し、前記クローズ位置よりも下流側に設けられる前記第１のインターロックスイッチの監視を無効に設定する。
  9. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記制御部は、前記減光部と前記遮光部との少なくとも一方を指令対象として移動指令を与え、前記移動指令を与えてから規定時間内に前記指令対象が移動し終えていない場合には、前記発振器を停止する。
  10. 請求項９に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のインターロックスイッチは、前記減光部の動作異常の状態を検知して前記検知信号を出力する減光部用のインターロックスイッチと、前記遮光部の動作異常の状態を検知して前記検知信号を出力する遮光部用のインターロックスイッチとを含み、
    前記制御部は、前記規定時間内に前記指令対象から前記検知信号が出力された場合には、前記発振器を停止する。
  11. 請求項３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアは、前記減光部と前記発振器との間に設けられ、前記発振器から出射する前記レーザ光を増幅するパワーアンプを更に含む。
  12. 請求項１１に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１の設定状態及び前記第３の設定状態では、前記パワーアンプが駆動され、
    前記第２の設定状態では、前記減光部に入射するレーザ光の強度が前記第１の設定状態及び前記第３の設定状態のときの前記レーザ光の強度よりも小さくされる。
  13. 請求項１２に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第２の設定状態では、前記パワーアンプは停止される。
  14. 請求項１３に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアは、前記発振器及び前記光路調整部が収容される第１のハウジングと、前記パワーアンプが収容される第２のハウジングと、前記第１のハウジングと前記第２のハウジングとに連結される前記レーザ光の光路管とを含み、
    前記第１のインターロックスイッチは、前記光路管の撤去状態を検知して前記検知信号を出力する光路管用のインターロックスイッチを含み、
    前記制御部は、前記光路管用のインターロックスイッチから出力される前記検知信号の監視が有効に設定される場合には、前記検知信号を検出すると、前記発振器を停止する。
  15. 請求項１４に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のインターロックスイッチは、前記ハウジングの扉の開放状態を検知して前記検知信号を出力する扉用のインターロックスイッチを含み、
    前記制御部は、前記扉用のインターロックスイッチから出力される前記検知信号の監視有効に設定される場合には、前記検知信号を検出すると、前記発振器を停止する。
  16. 請求項１に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記制御部は、前記監視を無効に設定する場合、当該設定前に確認メッセージを表示装置に表示し、前記監視を無効に設定するか否かの入力を待機する。
  17. 請求項１に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアは、前記光路調整部から出射する前記レーザ光を前記第２のエリアに伝送する第１のビーム伝送系を更に含む。
  18. 請求項１７に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第２のエリアは、前記第１のエリアから前記第２のエリアに入射した前記レーザ光を前記チャンバに伝送する第２のビーム伝送系を更に含む。
  19. 請求項１に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記第１のエリアと前記第２のエリアとをまたがって配置される光路管を更に含む。
  20. 請求項１９に記載の極端紫外光生成システムであって、
    前記光路管における前記第１のエリア側に前記第１のインターロックスイッチが設けられ、前記光路管における前記第２のエリア側に前記第２のインターロックスイッチが設けられる。

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