KR101683411B1

KR101683411B1 - 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법 및 안전 장치

Info

Publication number: KR101683411B1
Application number: KR1020157017056A
Authority: KR
Inventors: 도모유키 와타나베; 야스히로 스즈키; 가즈히로 요코야마
Original assignee: 가부시키가이샤 니콘
Priority date: 2009-12-18
Filing date: 2010-12-16
Publication date: 2016-12-06
Also published as: CN105185697A; WO2011074649A1; KR101591138B1; TWI599852B; TW201624151A; CN102741978A; TW201137537A; CN105185697B; TWI610146B; KR20120091350A; CN102741978B; JPWO2011074649A1; JP5655793B2; KR20150082670A

Abstract

기판 처리 장치는, 챔버 본체부(51)로 덮여 있고, 기판을 처리하기 위한 정해진 동작을 행하는 구동부가 배치되는 구동 영역(DA1)이, 그 주위의 주위 영역(SA1)과 칸막이부(52)에 의해 구분되어 있다. 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법은, 챔버 본체부(51)에 형성된 제1 개구를 폐색하고 있는 제1 도어(DR1)가 도어 개방되기 전에 X선 조사 장치(20)를 X선 조사를 할 수 없는 상태로 만드는 제1 공정과, 제1 도어(DR1)가 도어 개방된 후, 칸막이부(52)에 형성된 제2 개구를 폐색하고 있는 제2 도어(DR2)가 도어 개방되기 전에 구동부를 정해진 동작을 할 수 없는 상태로 만드는 제2 공정과, 정해진 동작을 할 수 없는 상태로 된 구동부 및 처리부 중 적어도 한쪽의 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 공정을 포함한다. 그 때문에, 구동부의 구동 상태의 관찰 등에 의한 점검을 챔버 내에서 안전하게 행할 수 있다.

Description

기판 처리 장치의 메인터넌스 방법 및 안전 장치{METHOD FOR MAINTAINING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SAFETY APPARATUS FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 노광 장치 등의 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법에 관한 것이다.

액정 표시 패널이나 반도체 장치 등의 제조에 있어서 포토리소그래피 공정에서 사용되는 노광 장치는, 미세한 가공을 기판에 실시하기 때문에, 먼지 등의 오염물 또는 불순물이 장치 내에 진입하지 않도록 챔버로 덮여 있다.

통상, 노광 장치에서는, 장치의 메인터넌스를 위해, 챔버에 설치된 도어를 통하여 작업자가 장치 내부(챔버로 덮인 실내)에 들어갈 필요가 있다. 그때의 작업자의 안전을 확보하기 위해서, 종래의 노광 장치에서는, 챔버의 도어가 열린 경우에 노광 장치 내의 구동부를 정지시키는 안전 장치(인터로크 기구)가 설치되어 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).

특허문헌 1 : 일본 특허공개 2001-160534호 공보

그러나, 특허문헌 1에 기재된 노광 장치에서는, 챔버 도어의 도어 개방에 연동하여 정지시키는 대상이 장치 내의 구동부 전부로 되어 있기 때문에, 구동부의 구동 상태의 관찰 등에 의한 점검을 챔버 내에서 행할 수 없었다.

그래서, 본 발명은, 노광 장치 등의 기판 처리 장치가 구비하는 구동부의 구동 상태를 점검할 수 있으면서, 메인터넌스를 행할 때의 작업자의 안전을 확보할 수 있는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법 및 안전 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제1 양태는, 기판을 처리하기 위한 정해진 동작을 행하는 구동부와, 이 구동부가 배치되는 구동 영역과 이 구동 영역 주위의 주위 영역을 구분하는 칸막이부와, 구동 영역 및 주위 영역을 덮는 챔버 본체부와, 구동 영역 및 주위 영역 중 적어도 한쪽에 설치되어 연(軟) X선을 조사하는 X선 조사 장치와, 기판에 대하여 정해진 처리를 행하는 처리부를 구비하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법이다. 이 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법은, 챔버 본체부에 형성된 제1 개구를 폐색하고 있는 제1 도어가 도어 개방되기 전에 X선 조사 장치를 X선 조사를 할 수 없는 상태로 만드는 제1 공정과, 제1 도어가 도어 개방된 후, 칸막이부에 형성된 제2 개구를 폐색하고 있는 제2 도어가 도어 개방되기 전에 구동부를 정해진 동작을 할 수 없는 상태로 만드는 제2 공정과, 정해진 동작을 할 수 없는 상태로 된 구동부 및 처리부 중 적어도 한쪽의 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 공정을 포함한다.

본 발명의 제2 양태는, 기판을 처리하기 위한 정해진 동작을 행하는 구동부와, 이 구동부가 배치되는 구동 영역과 이 구동 영역 주위의 주위 영역을 구분하는 칸막이부와, 구동 영역 및 주위 영역을 덮는 챔버 본체부와, 구동 영역 및 주위 영역 중 적어도 한쪽에 설치되어 연 X선을 조사하는 X선 조사 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 안전 장치이다. 이 기판 처리 장치의 안전 장치는, 챔버 본체부에 형성된 제1 개구를 폐색하고 있는 제1 도어를 도어 개방하기 위한 동작에 연동하여 X선 조사 장치를 X선 조사를 할 수 없는 상태로 만드는 제1 연동 기구와, 칸막이부에 형성된 제2 개구를 폐색하고 있는 제2 도어를 도어 개방하기 위한 동작에 연동하여 구동부를 정해진 동작을 할 수 없는 상태로 만드는 제2 연동 기구를 구비한다.

본 발명의 양태에 따르면, 노광 장치 등의 기판 처리 장치가 구비하는 구동부의 구동 상태를 점검할 수 있으면서, 메인터넌스를 행할 때의 작업자의 안전을 확보할 수 있다.

도 1은 기판 처리 장치(EX)의 외관을 도시하는 사시도이다.
도 2는 마스크(M) 및 기판(P)이 반송된 노광 장치(FX)의 개략 구성도이다.
도 3은 마스크(M) 및 기판(P)이 반송된 노광 장치(FX)의 사시도이다.
도 4는 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)를 도시한 기판 처리 장치(EX)의 평면도이다.
도 5는 기판 처리 장치(EX)의 1층의 노광 챔버(10A)의 내부 구성을 설명하기 위한 평면도이다.
도 6은 기판 처리 장치(EX)의 2층의 노광 챔버(10B)의 내부 구성을 설명하기 위한 평면도이다.
도 7은 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 및 제3 도어(DR3)의 구성을 도시하는 도면으로, 도 7(a)는 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)가 닫힌 상태를 도시하는 도면이고, 도 7(b)는 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)의 한쪽 도어(D1)(오른쪽의 한쪽 도어)가 열린 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 제1 도어(DR1) 또는 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)를 개방할 때의 조작부(23)의 상태를 도시하는 확대도이다.
도 9는 구동부를 정지시키는 안전 장치를 설명하기 위한 회로 개략도이다.
도 10은 작업자가 노광 챔버(10A) 내부로 들어갈 때의 단계와, 메인터넌스 단계를 도시한 흐름도이다.
도 11은 작업자가 메인터넌스를 마치고 노광 챔버(10A)에서 나올 때의 단계를 도시한 흐름도이다.

<기판 처리 장치의 개요>

도 1은 기판 처리 장치(EX)의 외관을 도시하는 사시도이다. 도 1에 있어서, 연직 방향을 Z축 방향으로 하고, 그 Z축 방향에 수직인 평면을 XY 평면으로 한다.

도 1에 도시된 것과 같이, 기판 처리 장치(EX)는 노광 챔버(10)와, 마스크 로더 챔버(11)와, 기판 로더 챔버(12)와, 제어부(13)를 구비한다. 노광 챔버(10)는 기판에 대하여 노광 처리를 행하는 노광 장치(FX)(도 2 참조)를 수납하고 있다. 마스크 로더 챔버(11)는 마스크 로더(MR)(도 4 참조)를 수납하고 있다. 기판 로더 챔버(12)는 기판 로더(PR)(도 4 참조)를 수납하고 있다. 제어부(13)는 기판 처리 장치(EX)의 제어를 행한다.

도 1에 도시하는 것과 같이, 노광 챔버(10)는 기판 처리 장치(EX)의 중심부 부근에 배치된다. 마스크 로더 챔버(11)는 노광 챔버(10)의 -Y측에 배치된다. 기판 로더 챔버(12)는 노광 챔버(10)의 -X측에 배치되어 있다. 또한, 제어부(13)는, 노광 챔버(10), 마스크 로더 챔버(11) 및 기판 로더 챔버(12)의 외측에 배치되어 있다.

노광 챔버(10), 마스크 로더 챔버(11) 및 기판 로더 챔버(12)는, 공기 중의 오염물 또는 불순물이 노광 장치(FX) 안으로 들어가지 못하게 하는 방진 기능을 갖는다.

<노광 장치의 개요>

노광 장치(FX)의 구성에 관해서 도 2 및 도 3을 참조하면서 자세히 설명한다. 여기서, 마스크(M)는, 기판(P)에 전사되는 디바이스 패턴이 형성된 레티클을 포함한다. 기판(P)은, 예컨대 유리 플레이트 등의 기재 상에 감광막이 형성된, 기재의 1변이 약 2000 mm 이상인 직사각형의 기판을 포함한다.

도 2는 마스크(M) 및 기판(P)이 반송된 노광 장치(FX)의 개략 구성도이다. 도 2는 이해를 쉽게 하기 위해서 노광 광을 조사하는 광원을 생략하여 나타내고 있다. 도 3은 마스크(M) 및 기판(P)이 반송된 노광 장치(FX)의 사시도이다. 도 3은 이해를 쉽게 하기 위해서 마스크(M) 및 기판(P)을 유지하고 있는 칼럼 등의 부재를 또한 생략하여 나타내고 있다.

노광 장치(FX)는, 기판(P)에 전사되는 패턴이 형성된 마스크(M)를 유지하고 이동할 수 있는 마스크 스테이지(MS) 및 그 마스크 스테이지(MS)를 이동시키는 도시하지 않는 마스크 구동 모터를 갖는다. 또한, 노광 장치(FX)는, 기판(P)을 유지하고 이동할 수 있는 기판 스테이지(PS) 및 그 기판 스테이지(PS)를 이동시키는 도시하지 않는 기판 구동 모터를 갖는다. 마스크 구동 모터 및 기판 구동 모터는 예컨대 리니어 모터 등으로 구성된다.

도 3에 도시하는 것과 같이, 마스크 스테이지(MS)는 도시하지 않는 마스크 구동 모터에 의해, 화살표 AR1 방향(X축 방향)으로 이동할 수 있다. 또한 마스크 스테이지(MS)는 Z축을 중심으로 하는 회전 방향(θZ 방향)으로 회전할 수 있다. 기판 스테이지(PS)는 도시하지 않는 기판 구동 모터에 의해 화살표 AR2 방향(X축 방향) 및 화살표 AR3 방향(Y축 방향)으로 이동할 수 있다. 또한 기판 스테이지(PS)는 θZ 방향, X축을 중심으로 한 회전 방향(θX 방향) 및 Y축을 중심으로 한 회전 방향(θY 방향)으로 이동할 수 있다.

다시 도 2로 되돌아가면, 노광 장치(FX)는, 마스크 스테이지(MS) 및 기판 스테이지(PS)의 위치 정보를 계측하는 스테이지 계측 장치로서의 간섭 측장(測長) 시스템을 갖는다. 간섭 측장 시스템은 마스크 스테이지(MS)의 위치 정보를 계측하는 마스크용 레이저 간섭 측장기 유닛(Mk)과, 기판 스테이지(PS)의 위치 정보를 계측하는 기판용 레이저 간섭 측장기 유닛(Pk)을 구비한다. 마스크용 레이저 간섭 측장기 유닛(Mk)은, 마스크 스테이지(MS)에 배치된 계측 미러(18)를 이용하여, 마스크 스테이지(MS)의 위치 정보를 계측할 수 있다. 기판용 레이저 간섭 측장기 유닛(Pk)은, 기판 스테이지(PS)에 배치된 계측 미러(19)를 이용하여, 기판 스테이지(PS)의 위치 정보를 계측할 수 있다.

또한, 노광 장치(FX)는, 기판 스테이지(PS)에 배치된 기판의 위치를 계측하는 도시하지 않는 기판 계측 장치를 갖추고 있다. 이 기판 계측 장치는, 예컨대 기판에 형성된 계측용 패턴을 검출하여 기판의 평면 방향(X 방향 및 Y 방향 중 적어도 한쪽)의 위치를 계측하는 패턴 위치 계측 장치와, 기판 표면에 대하여 비스듬한 방향에서 입사한 빛의 반사광에 기초하여 기판 표면의 법선 방향(Z 방향)의 위치를 계측하는 면 위치 계측 장치 중 적어도 한쪽을 포함하고 있다.

노광 장치(FX)는, 또한 도시하지 않는 광원으로부터의 노광 광에 의해서 마스크(M)를 조명하는 조명 광학계(IL)와, 노광 광에 의해 조명된 마스크(M) 패턴의 상을 기판(P)에 투영하는 투영 광학 장치로서의 투영 광학계(PL)를 구비하고 있다.

도 3에 도시된 것과 같이, 투영 광학계(PL)는 7 라인의 투영 모듈(14)을 지니고, 조명 광학계(IL)는 7 라인의 투영 모듈(14)에 대응하도록 7 라인의 조명 모듈(15)을 갖는다. 도 3에서는, 7 라인의 투영 모듈(14)은, X축 방향을 따라서 3 라인, 그 3 라인의 투영 모듈(14)에 평행하게 4 라인의 투영 모듈(14)이 배치되어 있다. 7 라인의 조명 모듈(15)은, 7 라인의 투영 모듈(14)에 대응하여 동일한 배치로 되어 있다.

투영 모듈(14) 및 조명 모듈(15)의 수는 7 라인에 한정되지 않고, 예컨대 투영 광학계(PL)가 투영 모듈(14)을 11 라인 지니고, 조명 모듈(15)을 11 라인 지니더라도 좋다. 또한, 도 3에 도시된 것과 같이 투영 모듈(14)에 의해 형성된 투영 영역(16)은 화살표 AR4 방향으로 상부 바닥과 하부 바닥을 갖는 사다리꼴 형상이다. 노광 장치(FX)는 마스크(M)와 기판(P)을 각각 화살표 AR1 방향 및 화살표 AR2 방향으로 동기 이동시키면서, 마스크(M) 패턴의 상을 기판(P)에 투영한다.

노광 장치(FX)는, 조명 광학계(IL)로부터의 노광 광으로 마스크(M)를 조명한다. 마스크(M)를 투과한 소정의 패턴은 투영 광학계(PL)를 통해 기판(P)에 투영된다. 마스크(M) 및 기판(P)은, 마스크 스테이지(MS) 및 기판 스테이지(PS)에서 동기 이동되어, 마스크(M)에 그려진 소정 패턴이 기판(P)에 노광된다.

<마스크 로더 및 기판 로더의 구성>

도 4는 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)를 도시한 기판 처리 장치(EX)의 평면도이다. 도 4에 도시된 기판 처리 장치(EX)는, 마스크 로더 챔버(11) 내에, 마스크(M)를 노광 챔버(10) 안으로 반송하는 마스크 로더(MR)를 갖추고 있다. 또한 기판 처리 장치(EX)는, 기판 로더 챔버(12) 내에, 기판(P)을 노광 챔버(10) 안으로 반송하는 기판 로더(PR)를 갖추고 있다.

마스크 로더 챔버(11) 내에는, 도시하지 않는 마스크 버퍼가 배치되고, 마스크 버퍼 내에 복수의 마스크(M)가 격납되어 있다. 마스크 로더(MR)는, +Y축 방향으로 마스크 로더 챔버(11)로부터 노광 챔버(10)까지 이동이 자유로운 마스크 이동 핸드(81)를 갖는다.

마스크 이동 핸드(81)는, 마스크 버퍼로부터 나온 마스크(M)를 유지하여 노광 챔버(10) 안으로 반송한다. 마스크 이동 핸드(81)는, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 위에까지 반송하고 마스크 스테이지(MS)에 얹어 놓는다. 또한, 이 마스크(M)의 사용 종료 후에는, 마스크 이동 핸드(81)는 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)로부터 마스크 로더 챔버(11) 안으로 이동시킨다. 그리고 마스크(M)는 마스크 버퍼 내에 격납된다.

한편, 기판 로더(PR)는, 기판 로더 챔버(12)로부터 노광 챔버(10)까지 이동할 수 있는 도시하지 않는 기판 이동 기구를 갖는다. 이 기판 이동 기구는, 기판 로더 챔버(12) 내의 기판(P)을 노광 챔버(10) 내의 기판 스테이지(PS) 위에까지 반송하고 기판 스테이지(PS)에 얹어 놓는다. 노광이 끝난 기판(P)은, 다시 기판 이동 기구에 의해 노광 챔버(10)로 반송된다.

<1층 부분의 노광 챔버의 구성>

도 1에 도시된 기판 처리 장치(EX)의 노광 챔버(10)는 이층 구조의 구성이다. 우선, 노광 챔버(10)의 1층 부분의 노광 챔버(10A)의 내부 구성에 관해서 도 5를 참조하면서 설명한다. 도 5는 노광 챔버(10A)의 내부 구성을 설명하기 위한 평면도이다.

도 5에 도시된 것과 같이, 노광 챔버(10A)는 외벽(51)과 칸막이부(52)를 포함한다. 칸막이부(52)는, 구동 영역(DA1)과 주위 영역(SA1)을 구분하고 있다. 칸막이부(52)로 둘러싸인 구동 영역(DA1)에는, 노광 장치(FX)의 구동부(기판 스테이지(PS) 등)가 배치되어 있다. 구동 영역(DA1) 주위에 형성된 주위 영역(SA1)은, 작업자가 메인터넌스 작업이나 구동 영역(DA1) 내의 구동부 등을 관찰할 수 있는 영역이다. 한편, 칸막이부(52)는, 주위 영역(SA1)으로부터 구동 영역(DA1) 안을 관찰할 수 있도록, 격자형의 울타리 또는 투명창을 갖는 패널판인 것이 바람직하다.

구동 영역(DA1)에는, 도 5에 도시하는 것과 같이, 이온화 장치(20)가 2곳에 설치되어 있다. X선 조사 장치로서의 이온화 장치(20)는 연 X선을 조사하여 분위기를 이온화시켜, 정전기를 중화시킨다. 이온화 장치(20)로부터 조사되는 연 X선은 인체에 악영향을 끼칠 가능성이 있기 때문에, 작업자에게 연 X선이 조사되지 않도록 해야 한다. 한편, 이온화 장치(20)의 설치 장소는 구동 영역(DA1) 안에만 한정되지 않고, 주위 영역(SA1) 안이라도 좋다.

노광 챔버(10A)의 외벽(51)에는 작업자가 들어가고 나오기 위한 제1 개구부(R1)(도 7(b) 참조)가 형성되어 있고, 이 제1 개구부(R1)를 폐색하는 제1 도어(DR1)가 설치되어 있다. 외벽(51)에는 3개의 제1 개구부(R1)가 형성되고, 각각에 제1 도어(DR1)[제1 도어 DR11, DR12 및 DR13]가 설치되어 있다. 제1 도어 DR11은 -Y측의 외벽(51)에 설치되고, 제1 도어 DR12 및 DR13은 +Y측의 외벽(51)에 배치되어 있다.

또한, 칸막이부(52)에는 작업자가 들어가고 나오기 위한 제2 개구부(R2)(도 7(b) 참조)가 형성되어 있고, 이 제2 개구부(R2)를 폐색하는 제2 도어(DR2)가 설치되어 있다. 칸막이부(52)에는 6개의 제2 개구부(R2)가 형성되고, 각각에 제2 도어(DR2)[제2 도어 DR21 내지 DR26]가 설치되어 있다. 제2 도어 DR21 내지 DR23는 +Y측의 칸막이부(52)에 설치되고, 제2 도어 DR24 내지 DR26는 -Y측의 칸막이부(52)에 배치되어 있다.

제1 도어(DR1)(제1 도어 DR11∼DR13) 및 제2 도어(DR2)[제2 도어 DR21 내지 DR26]에는, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR) 등의 구동부의 작동을 정지시켜 동작할 수 없는 상태로 만드는 안전 장치로서의 인터로크 기구가 설치되어 있다. 이 인터로크 기구에 관해서는 후술한다.

또한, 제1 도어(DR1)의 부근(예컨대 1 m 이내의 범위)에는 제2 복귀 버튼(31)이 설치되어 있다. 제2 도어(DR2)의 부근(예컨대 1 m 이내의 범위)에는 제1 복귀 버튼(21)이 설치되어 있다. 제1 복귀 버튼(21)은 제2 도어(DR2) 부근의 구동 영역(DA1) 측에 배치되고, 제2 복귀 버튼(31)은 제1 도어(DR1) 부근의 주위 영역(SA1) 측에 배치되어 있다. 제1 복귀 버튼(21)은, 제2 도어(DR21∼DR26)마다 설치되며 각각 식별 가능한 제1 복귀 버튼(21a∼21f)을 포함하고 있다. 또한, 제2 복귀 버튼(21)은, 제1 도어(DR11∼DR13)마다 설치되며 각각 식별 가능한 제2 복귀 버튼(31a∼31c)을 포함하고 있다.

제1 복귀 버튼(21)은, 구동 영역(DA1) 내에 배치된 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR) 등의 구동부를 인터로크의 작동 상태로부터 복귀시키기(즉, 동작을 할 수 없는 상태를 해제시키기) 위한 버튼이다. 제2 복귀 버튼(31)은, 이온화 장치(20)를 인터로크의 작동 상태로부터 복귀시키기(즉, 연 X선 조사를 할 수 없는 상태를 해제시키기) 위한 버튼이다.

<2층 부분의 노광 챔버의 구성>

이어서, 노광 챔버(10)의 2층 부분의 노광 챔버(10B)의 내부 구성에 관해서 설명한다. 도 6은 노광 챔버(10B)의 내부 구성을 설명하기 위한 평면도이다.

도 6에 도시된 것과 같이, 노광 챔버(10B)는 외벽(61)과 칸막이부(62)를 포함하고 있다. 칸막이부(62)는 구동 영역(DA2)과 주위 영역(SA2)을 구분하고 있다. 칸막이부(62)로 둘러싸인 구동 영역(DA2)에는 노광 장치(FX)의 구동부(마스크 스테이지(MS) 등)가 배치되어 있다. 구동 영역(DA2) 주위에 형성된 주위 영역(SA2)은, 작업자가 메인터넌스 작업이나 구동 영역(DA2)의 구동부를 관찰할 수 있는 영역이다. 한편, 칸막이부(62)는, 주위 영역(SA2)으로부터 구동 영역(DA2) 안을 관찰할 수 있도록, 격자형의 울타리 또는 투명창을 갖는 것이 바람직하다.

칸막이부(62)에는 작업자가 주위 영역(SA2)으로부터 구동 영역(DA2)으로 들어가고 나오기 위한 제3 개구부(R3)(도 7(b) 참조)가 형성되어 있고, 이 제3 개구부(R3)를 폐색하는 제3 도어(DR3)가 설치되어 있다. 칸막이부(62)에는 3개의 제3 개구부(R3)가 형성되고, 각각에 제3 도어(DR3)(제2 도어 DR31 내지 DR33)가 설치되어 있다. 제3 도어 DR31 및 DR32는 +Y측의 칸막이부(62)에 설치되고, 제3 도어 DR33은 -Y측의 칸막이부(62)에 배치되어 있다.

또한, 제3 도어(DR3)의 부근(예컨대 1 m 이내의 범위)에는 제3 복귀 버튼(41)이 설치되어 있다. 제3 복귀 버튼(41)은 제3 도어(DR3) 부근의 구동 영역(DA2) 측에 배치되어 있다. 제3 복귀 버튼(41)은, 제3 도어(DR31∼DR33)마다 설치되며 각각 식별 가능한 제3 복귀 버튼(41a∼41c)을 포함하고 있다.

<도어의 구성>

이어서, 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 및 제3 도어(DR3)를 설명한다.

도 7(a)는 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)가 닫힌 상태를 도시하고 있는 정면도이다. 도 7(b)는 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)의 오른편의 한쪽 도어(D1)가 열린 상태를 도시하고 있는 정면도이다. 이하, 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 및 제3 도어(DR3)는 모두 동일한 구성이기 때문에, 제1 도어(DR1)를 대표적으로 설명한다.

도 7(a)에 도시된 것과 같이, 제1 도어(DR1)는 일측 도어(D1) 및 타측 도어(D2)로 이루어지는 양문 도어(two-leaf door)이다. 또한, 제1 도어(DR1)의 높이 방향의 중앙부에 일측 도어(D1) 및 타측 도어(D2)에 나뉘어있는 조작부(23)가 설치되어 있다.

도 7(b)에 도시된 것과 같이, 노광 챔버(10A)의 외벽(51)에는 제1 개구부(R1)(사선으로 나타낸 부분)가 형성되어 있다. 이 제1 개구부(R1)는 제1 도어(DR1)에 의해서 폐색된다.

도 8은 제1 도어(DR1)가 열릴 때의 조작부(23)의 상태를 도시한 확대도이다. 도 8에 도시하는 것과 같이, 조작부(23)는, 제1 도어(DR1)를 도어 개방하기 위해서 제1 도어(DR1)의 외부측(노광 챔버(10A)의 외부측)에 설치된 레버(24)를 갖고 있다. 또한, 조작부(23)에는, 레버(24)와 연동하는 스위치(도 8에서는 도시되지 않음; 도 9에 도시하는 ST11 등이 대응)가 설치되어 있다. 여기서, 작업자가 제1 도어(DR1)의 레버(24)를 기준 위치(예컨대, 수평 방향을 따른 위치)에서 시계 방향으로 소정 각도(θ)로 회전시키면, 대응하는 스위치가 끊겨 인터로크가 작동한다. 이때, 이온화 장치(20)(도 5 및 도 6을 참조)는 연 X선을 조사할 수 없는 상태가 되지만, 구동 영역(DA1 또는 DA2) 내에 배치된 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)는 구동 가능한 상태 그대로이다.

칸막이부(52 또는 62)에 설치된 제2 도어(DR21) 또는 제3 도어(DR31)의 레버(24)를 기준 위치(예컨대, 수평 방향을 따른 위치)에서 시계 방향으로 소정 각도(θ)로 회전시키면, 각각 대응하는 스위치가 끊겨 인터로크가 작동한다. 이때, 구동 영역(DA1 또는 DA2) 내에 배치된 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)는 구동할 수 없는 상태가 된다. 한편, 이 인터로크를 작동시키기 위한 레버(24)는, 제2 도어(DR21)의 주위 영역(SA1) 측 또는 제3 도어(DR31)의 주위 영역(SA2) 측에 설치되어 있다.

여기서, 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)가 도어 개방되어 있지 않은 상태에서도, 각 도어에 대응하는 레버(24)가 소정 각도(θ) 이상 회전함으로써 인터로크는 작동한다. 이 때문에, 제1 도어(DR1)가 도어 개방되기 전에 레버(24)가 회전되는 것만으로, 이온화 장치(20)의 연X선의 조사가 정지한다(조사를 할 수 없는 상태가 된다). 또한, 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)가 도어 개방되기 전에 레버(24)가 회전되는 것만으로, 구동 영역(DA1 또는 DA2) 내에 설치된 기판 스테이지(PS), 마스크 스테이지(MS) 등의 구동부가 정지한다(구동할 수 없는 상태가 된다). 따라서, 제1 도어(DR1), 제2 도어(DR2) 또는 제3 도어(DR3)로부터 주위 영역(SA1), 구동 영역(DA1) 또는 구동 영역(DA2)에 입실하는 작업자의 안전을 확실하게 확보할 수 있다.

한편, 도어 잠금되어 있는 레버(24)가 회전하여 스위치가 끊길 때까지의 소정 각도(θ)는, 회전하기 시작하고 나서 제1 도어(DR1)를 개방할 수 있을 때까지의 각도라면 임의의 각도라도 좋다.

<인터로크의 개략 구성>

도 9는 기판 처리 장치(EX)가 구비하는 인터로크 기구의 개략의 회로 구성을 도시하는 모식도이다. 도 9에 도시된 스위치(ST11∼ST13)는 외벽(51)에 설치된 제1 도어(DR11∼DR13)에 각각 대응한다. 스위치(ST21∼ST26)는 칸막이부(52)에 설치된 제2 도어(DR21∼DR26)에 각각 대응한다. 또한, 스위치(ST31∼ST33)는 칸막이부(62)에 설치된 제3 도어(DR31∼DR33)에 각각 대응한다.

여기서, 스위치(ST11∼ST13)는 서로 직렬 연결되고, 스위치(ST21∼ST26) 및 스위치(ST31∼ST33)는 서로 직렬 연결되어 있다. 또한, 스위치(ST11∼ST13)는 스위치(ST21∼ST26) 및 스위치(ST31∼ST33)와 병렬 연결되고, AND 게이트(AG)를 통해 이온화 장치(20)에 접속되어 있다. 이들 회로에 의해, 1점 쇄선으로 둘러싸인 제1 회로(LP1)가 구성되어 있다.

또한, 스위치(ST21∼ST26) 및 스위치(ST31∼ST33)는, 전원(VS)과 여러 가지 구동부를 각각 접속하여, 2점 쇄선으로 둘러싸인 제2 회로(LP2)를 구성하고 있다. 여기서, 구동부는, 구동 영역(DA1 및 DA2) 내에 배치된 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS)와, 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)를 포함한다.

또한, 스위치(ST11∼ST13)에는 제2 복귀 버튼(31a∼31c)이 각각 접속되고, 스위치(ST21∼ST26)에는 제1 복귀 버튼(21a∼21f)이 각각 접속되고, 스위치(ST31∼ST33)에는 제3 복귀 버튼(41a∼41c)이 각각 접속되어 있다.

제1 회로(LP1)에 나타낸 것과 같이, 스위치(ST11∼ST13), 스위치(ST21∼ST26) 및 스위치(ST31∼ST33) 중 어느 하나의 스위치가 끊어지면, 이온화 장치(20)는 연 X선을 조사할 수 없는 상태가 된다.

그러나, 스위치(ST11∼ST13) 중 어느 하나의 스위치가 끊어지더라도, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS)와, 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)는 직렬로 연결된 스위치(ST21∼ST26 및 ST31∼ST33)를 통해 전원(VS)에 접속 가능하다. 이 때문에, 스위치(ST11∼ST13) 중 어느 것이 끊어지더라도, 스위치(ST21∼ST26 및 ST31∼ST33)가 접속 상태라면, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)는 동작 가능한 상태를 유지할 수 있다.

또한 제2 회로(LP2)에 나타낸 것과 같이, 스위치(ST21∼ST26) 및 스위치(ST31∼ST33) 중 어느 하나의 스위치가 끊어지면, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)는 구동할 수 없는 상태가 된다.

예컨대, 작업자가 제1 도어(DR12)로부터 노광 챔버(10A) 안으로 들어갈 때, 제1 도어(DR12)의 레버(24)를 소정 각도(θ) 회전시키면, 제1 도어(DR12)에 대응하는 스위치(ST12)가 끊어진다. 이 때문에, 이온화 장치(20)는 연 X선 조사를 할 수 없는 상태가 된다.

또한 예컨대, 작업자가 제2 도어(DR23)로부터 노광 챔버(10A)의 구동 영역(DA1) 안으로 들어갈 때, 제2 도어(DR23)의 레버(24)를 소정 각도(θ) 회전시키면, 제2 도어(DR23)에 대응하는 스위치(ST23)가 도 9에 도시된 것과 같이 끊어진 상태가 된다. 이에 따라, 스위치(ST23)를 포함하고 있는 제2 회로(LP2)가 끊어진다. 따라서, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)가 동작할 수 없는 상태가 된다. 이때, 잘못해서 스위치(ST12)가 복귀되더라도, 스위치(ST23)가 끊어져 있는 상태이기 때문에, 이온화 장치(20)는 연 X선을 조사할 수 없는 상태를 유지한다.

<기판 처리 장치(EX)의 메인터넌스 방법>

이하, 기판 처리 장치(EX)의 메인터넌스 방법의 일례를 설명한다. 도 10은 작업자가 노광 챔버(10A)의 내부로 들어와 메인터넌스를 행하는 경우의 작업 순서를 도시한 흐름도다.

단계 S111에 있어서, 작업자는, 노광 챔버(10A)의 내부로 들어가기 위해서, 노광 챔버(10A)에 설치된 제1 도어(DR1)의 레버(24)를 회전시킨다.

단계 S112에 있어서, 작업자는, 제1 도어(DR1)의 레버(24)를 소정 각도(θ) 이상 회전시켜, 이온화 장치(20)를 연 X선 조사를 할 수 없는 상태로 한다.

단계 S113에 있어서, 작업자는, 제1 도어(DR1)가 도어 개방된 제1 개구부(R1)를 통하여 주위 영역(SA1) 안으로 들어가, 주위 영역(SA1) 내에 배치된 설비의 메인터넌스 또는 구동 영역(DA1) 내의 노광 장치(FX) 동작 등을 관찰한다.

단계 S114에 있어서, 작업자는, 주위 영역(SA1)으로부터 구동 영역(DA1)으로 들어가기 위해서, 칸막이부(52)에 설치된 제2 도어(DR2)의 레버(24)를 회전시킨다.

단계 S115에 있어서, 작업자는, 제2 도어(DR2)의 레버(24)를 소정 각도(θ) 이상 회전시켜, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR)를 동작을 할 수 없는 상태로 되게 한다. 이에 따라, 작업자가 구동 영역(DA1) 안으로 안전하게 들어갈 수 있는 상태가 된다.

단계 S116에 있어서, 작업자는, 제2 도어(DR2)가 도어 개방된 제2 개구부(R2)를 통하여 구동 영역(DA1) 안으로 들어가, 구동 영역(DA1) 내에 배치된 장치의 메인터넌스를 행한다. 메인터넌스 작업으로서는, 예컨대 마스크 스테이지(MS) 및 기판 스테이지(PS) 등에 대한 점검, 조정, 청소, 부품 교환, 소모품의 보충 등 중 적어도 하나가 포함된다.

도 11은 작업자가 메인터넌스를 끝내고 노광 챔버(10A)에서 나올 때의 작업 순서를 도시한 흐름도이다.

단계 S211에서는, 메인터넌스를 종료한 작업자가, 구동 영역(DA1) 내부에 다른 작업자가 없음을 확인한다.

단계 S212에서는, 작업자는, 도어 개방되어 있는 제2 도어(DR2) 부근에 설치된 제1 복귀 버튼(21)을 길게 누른다.

단계 S213에 있어서, 작업자는, 제2 도어(DR2)가 도어 개방되어 있는 제2 개구부(R2)를 통하여 주위 영역(SA1)으로 들어가, 주위 영역 측에서 제2 도어(DR2)를 닫는다. 이들 단계 S212, S213을 실시함으로써, 마스크 스테이지(MS), 기판 스테이지(PS), 마스크 로더(MR) 및 기판 로더(PR) 등의 구동부에 대하여 작동하고 있었던 인터로크가 해제된다(즉, 동작을 할 수 없는 상태가 해제된다).

단계 S214에 있어서, 구동 영역(DA1)으로부터 나온 작업자는 주위 영역(SA1) 안에 다른 작업자가 없음을 확인한다.

단계 S215에 있어서, 작업자는, 도어 개방되어 있는 제1 도어(DR1) 부근에 설치된 제2 복귀 버튼(31)을 길게 누른다.

단계 S216에 있어서, 작업자는, 제1 도어(DR1)가 도어 개방되어 있는 제1 개구부(R1)를 통하여 노광 챔버(10A) 밖으로 나와, 노광 챔버(10A)의 외측에서 제1 도어(DR1)를 닫는다. 이들 단계 S215, S216을 실시함으로써, 이온화 장치(20)에 대하여 작동하고 있었던 인터로크가 해제된다(즉, X선 조사를 할 수 없는 상태가 해제된다).

단계 S217에 있어서, 작업자는, 인터로크가 해제된 각 부(바꿔 말하면, 인터로크가 작동하고 있었던 각 부)를 초기화 커맨드에 의해서 초기화한다.

이상, 최적의 실시형태에 관해서 설명했지만, 당업자에게 분명한 바와 같이, 본 발명은 그 기술적 범위 내에서 실시예에 여러 가지 변경을 가하여 실시할 수 있다. 예컨대, 상술한 실시형태에서는, 기판에 대하여 소정 처리를 행하는 처리부로서 노광 처리를 행하는 노광 장치를 갖추는 기판 처리 장치에 대하여 본 발명의 양태를 적용하는 것으로 하여 설명했지만, 노광 장치에 한정되지 않고, 기판에 대하여 감광제 등의 성막을 행하는 성막 장치, 감광제 등의 현상을 행하는 현상 장치, 기판 검사를 행하는 검사 장치 등을 갖추는 기판 처리 장치에 대하여도 본 발명의 양태를 적용할 수 있다.

10, 10A, 10B : 노광 챔버 11 : 마스크 로더 챔버
12 : 기판 로더 챔버 13 : 제어부
14 : 투영 모듈 15 : 조명 모듈
16 : 투영 영역 17 : 조명 영역
21, 31, 33, 35, 41 : 복귀 버튼 23 : 조작부
24 : 레버 51 : 외벽
52 : 칸막이부 61 : 외벽
62 : 칸막이부 DA, DA1, DA2 : 구동 영역
DR1(DR11∼DR13), DR2(DR21∼DR26), DR3(DR31∼DR33) : 도어
EX : 기판 처리 장치 FX : 노광 장치
IL : 조명 광학계 LP1, LP2 : 회로
M : 마스크 MR : 마스크 로더
MS : 마스크 스테이지 P : 기판
PL : 투영 광학계 PR : 기판 로더
PS : 기판 스테이지 R1, R2, R3 : 개구부
SA, SA1, SA2 : 주위 영역
ST11∼ST13, ST21∼ST26, ST31∼ST33 : 스위치

Claims

기판을 처리하는 처리부와, 상기 처리부를 덮는 챔버 본체와, 상기 챔버 본체 내를 상기 처리부가 배치되는 처리 영역과 상기 처리 영역 이외의 주위 영역으로 구분하는 칸막이부와, 상기 처리 영역 및 상기 주위 영역 중 적어도 한쪽의 영역에 설치되어 연(軟) X선을 조사하는 이온화 장치와, 상기 처리부와 상기 이온화 장치에 전원을 공급하는 전원부와, 상기 처리부와 상기 이온화 장치 중 적어도 한쪽의 동작 상태를 제어하는 제어부를 구비하는 기판 처리 장치의 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 방법으로서,
상기 제어부는, 상기 챔버 본체에 설치되는 제1 스위치에 의해 상기 전원부와 상기 이온화 장치를 접속하는 제1 접속과, 상기 칸막이부에 설치되는 제2 스위치에 의해 상기 전원부와 상기 처리부를 접속하는 제2 접속이 각각 접속된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사 가능한 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 접속 및 제2 접속 중 적어도 어느 한쪽의 접속이 절단된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리를 할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리를 개시할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제2항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 동작 가능한 상태로 유지시키는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제5항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부에 의한 처리 - 상기 처리는 상기 기판에 대한 처리임 - 를 할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1 스위치는, 상기 챔버 본체에 설치되는 제1 도어의 개폐 상태에 연동하여 상기 제1 접속의 접속과 절단을 전환하고,
상기 제2 스위치는, 상기 칸막이부에 설치되는 제2 도어의 개폐 상태에 연동하여 상기 제2 접속의 접속과 절단을 전환하며,
상기 제1 접속은, 상기 제1 도어가 도어 개방되면 절단되고, 상기 제1 도어가 도어 잠금되면 접속되며,
상기 제2 접속은, 상기 제2 도어가 도어 개방되면 절단되고, 상기 제2 도어가 도어 잠금되면 접속되는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제3항에 있어서, 상기 처리 영역측의 상기 칸막이부에 설치되고, 상기 처리부의 동작 상태를 변경하는 제1 복귀 버튼을 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 제1 복귀 버튼이 조작되고, 또한, 상기 제2 접속이 접속된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리가 불가한 상태로부터 처리 가능한 상태로 변경하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제8항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리가 불가한 상태로부터 처리 가능한 상태로 변경된 경우, 상기 처리부의 초기화를 행하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제8항에 있어서, 상기 주위 영역측의 상기 챔버 본체에 설치되고, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 변경하는 제2 복귀 버튼을 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 제2 복귀 버튼이 조작되고, 또한, 상기 제1 접속이 접속된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사 불가한 상태로부터 상기 연 X선을 조사 가능한 상태로 변경하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항에 있어서, 상기 제2 스위치는, 상하 방향에 대하여, 상기 제2 스위치와는 상이한 위치에 배치되는 제3 스위치를 포함하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제11항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 스위치, 상기 제2 스위치, 상기 제3 스위치 중 적어도 어느 하나의 스위치의 조작에 의해 상기 제1 및 제2 접속 중 적어도 어느 한쪽의 접속이 절단된 경우, 상기 이온화 장치가 연 X선을 조사할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제12항에 있어서, 상기 칸막이부는, 기판 스테이지와 상기 챔버 본체를 구획하는 제1 칸막이부와, 상기 제3 스위치가 설치되고, 상기 기판 스테이지의 상방에 설치된 마스크 스테이지와 상기 챔버 본체를 구획하는 제2 칸막이부를 갖는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리부는,
상기 기판을 유지하여 이동하는 기판 스테이지와,
상기 기판에 전사되는 패턴이 형성된 마스크를 유지하여 이동하는 마스크 스테이지와,
상기 기판 스테이지에 대하여 상기 기판의 반송을 행하는 기판 반송 장치와,
상기 마스크 스테이지에 대하여 상기 마스크의 반송을 행하는 마스크 반송 장치
중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제14항에 있어서, 상기 처리부는,
상기 패턴의 상을 상기 기판에 투영하는 투영 광학 장치와,
상기 기판 스테이지 및 상기 마스크 스테이지 중 적어도 한쪽의 위치를 계측하는 스테이지 계측 장치와,
상기 기판의 위치를 계측하는 기판 계측 장치 중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제15항에 있어서, 상기 칸막이부는, 상기 챔버 본체 내의 진입자가, 상기 처리부의 동작 상태를 확인 가능하게 설치된 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제15항에 있어서, 상기 메인터넌스는, 점검, 조정, 부품 교환, 소모품의 보충 중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제17항에 있어서, 상기 기판은, 사이즈가 500 ㎜ 이상의 기판인 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
제17항에 있어서, 상기 기판은, 플랫 패널 디스플레이 장치에 이용되는 기판인 기판 처리 장치의 메인터넌스 방법.
기판을 처리하는 처리부와,
상기 처리부를 덮는 챔버 본체와,
상기 챔버 본체 내를 상기 처리부가 배치되는 처리 영역과 상기 처리 영역 이외의 주위 영역으로 구분하는 칸막이부와,
상기 처리 영역 및 상기 주위 영역 중 적어도 한쪽의 영역에 설치되어 연(軟) X선을 조사하는 이온화 장치와,
상기 처리부와 상기 이온화 장치에 전원을 공급하는 전원부와,
상기 처리부와 상기 이온화 장치 중 적어도 한쪽의 동작 상태를 제어하는 제어부를 구비하여 메인터넌스를 행하는 기판 처리 장치의 안전 장치로서,
상기 제어부는, 상기 챔버 본체에 설치되는 제1 스위치에 의해 상기 전원부와 상기 이온화 장치를 접속하는 제1 접속과, 상기 칸막이부에 설치되는 제2 스위치에 의해 상기 전원부와 상기 처리부를 접속하는 제2 접속이 각각 접속된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사 가능한 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 접속 및 제2 접속 중 적어도 어느 한쪽의 접속이 절단된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리를 할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리를 개시할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제21항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 접속이 절단된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 동작 가능한 상태로 유지시키는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제24항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제2 접속이 절단된 경우, 상기 처리부에 의한 처리 - 상기 처리는 상기 기판에 대한 처리임 - 를 할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항에 있어서, 상기 제1 스위치는, 상기 챔버 본체에 설치되는 제1 도어의 개폐 상태에 연동하여 상기 제1 접속의 접속과 절단을 전환하고,
상기 제2 스위치는, 상기 칸막이부에 설치되는 제2 도어의 개폐 상태에 연동하여 상기 제2 접속의 접속과 절단을 전환하며,
상기 제1 접속은, 상기 제1 도어가 도어 개방되면 절단되고, 상기 제1 도어가 도어 잠금되면 접속되며,
상기 제2 접속은, 상기 제2 도어가 도어 개방되면 절단되고, 상기 제2 도어가 도어 잠금되면 접속되는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제22항에 있어서, 상기 처리 영역측의 상기 칸막이부에 설치되고, 상기 처리부의 동작 상태를 변경하는 제1 복귀 버튼을 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 제1 복귀 버튼이 조작되고, 또한, 상기 제2 접속이 접속된 경우, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리가 불가한 상태로부터 처리 가능한 상태로 변경하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제27항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 처리부의 동작 상태를 상기 기판에 대한 처리가 불가한 상태로부터 처리 가능한 상태로 변경된 경우, 상기 처리부의 초기화를 행하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제27항에 있어서, 상기 주위 영역측의 상기 챔버 본체에 설치되고, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 변경하는 제2 복귀 버튼을 더 구비하고,
상기 제어부는, 상기 제2 복귀 버튼이 조작되고, 또한, 상기 제1 접속이 접속된 경우, 상기 이온화 장치의 동작 상태를 상기 연 X선을 조사 불가한 상태로부터 상기 연 X선을 조사 가능한 상태로 변경하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항에 있어서, 상기 제2 스위치는, 상하 방향에 대하여, 상기 제2 스위치와는 상이한 위치에 배치되는 제3 스위치를 포함하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제30항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 스위치, 상기 제2 스위치, 상기 제3 스위치 중 적어도 어느 하나의 스위치의 조작에 의해 상기 제1 및 제2 접속 중 적어도 어느 한쪽의 접속이 절단된 경우, 상기 이온화 장치가 연 X선을 조사할 수 없는 상태로 하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제31항에 있어서, 상기 칸막이부는, 기판 스테이지와 상기 챔버 본체를 구획하는 제1 칸막이부와, 상기 제3 스위치가 설치되고, 상기 기판 스테이지의 상방에 설치된 마스크 스테이지와 상기 챔버 본체를 구획하는 제2 칸막이부를 갖는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제20항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리부는,
상기 기판을 유지하여 이동하는 기판 스테이지와,
상기 기판에 전사되는 패턴이 형성된 마스크를 유지하여 이동하는 마스크 스테이지와,
상기 기판 스테이지에 대하여 상기 기판의 반송을 행하는 기판 반송 장치와,
상기 마스크 스테이지에 대하여 상기 마스크의 반송을 행하는 마스크 반송 장치
중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제33항에 있어서, 상기 처리부는,
상기 패턴의 상을 상기 기판에 투영하는 투영 광학 장치와,
상기 기판 스테이지 및 상기 마스크 스테이지 중 적어도 한쪽의 위치를 계측하는 스테이지 계측 장치와,
상기 기판의 위치를 계측하는 기판 계측 장치 중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제34항에 있어서, 상기 칸막이부는, 상기 챔버 본체 내의 진입자가, 상기 처리부의 동작 상태를 확인 가능하게 설치된 기판 처리 장치의 안전 장치.
제34항에 있어서, 상기 메인터넌스는, 점검, 조정, 부품 교환, 소모품의 보충 중 적어도 하나를 포함하는 기판 처리 장치의 안전 장치.
제36항에 있어서, 상기 기판은, 사이즈가 500 ㎜ 이상의 기판인 기판 처리 장치의 안전 장치.
제36항에 있어서, 상기 기판은, 플랫 패널 디스플레이 장치에 이용되는 기판인 기판 처리 장치의 안전 장치.