KR102517504B1 - 진공 처리 장치, 및 유지보수 장치 - Google Patents

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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 기판을 반송하는 반송계의 오염을 억제하여 소모 파트를 교환하는 것이다. 해결 수단으로서, 유지보수 장치(100)는, 웨이퍼(W)의 반입출에 사용되는 제 1 게이트(84)와는 상이한 제 2 게이트(95)가 처리 용기(30)에 마련된 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 대하여 기밀성을 유지하면서 장착된다. 유지보수 장치(100)는, 제 2 게이트(95)를 거쳐서, 처리 용기(30) 내의 소모 파트의 분리, 처리 용기(30) 내에의 소모 파트의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소 중 적어도 하나를 실행한다.

Description

진공 처리 장치, 및 유지보수 장치{VACUUM PROCESSING APPARATUS AND MAINTENANCE APPARATUS}
본 발명의 여러가지 측면 및 실시형태는 진공 처리 장치, 및 유지보수(maintenance) 장치에 관한 것이다.
종래로부터, 반도체 웨이퍼(이하, 「웨이퍼」라고 칭함) 등의 기판을 진공으로 한 처리 용기에 배치하여, 기판을 가공하는 각종의 처리를 실시하는 진공 처리 장치가 알려져 있다. 예를 들면, 진공 처리 장치로서는, 진공으로 한 처리 용기 내에 웨이퍼를 배치하고, 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 에칭하는 에칭 처리를 실행하는 플라즈마 에칭 장치가 알려져 있다.
이러한 진공 처리 장치는, 기판의 가공으로 실시되는 처리에 의해 소모되는 소모 파트(part)가 처리 용기 내에 존재하고, 소모 파트의 교환을 필요로 할 경우가 있다. 예를 들면, 플라즈마 에칭 장치에서는, 웨이퍼의 외주에 설치된 포커스 링이 에칭 처리에 의해 소모된다. 플라즈마 에칭 장치에서는, 포커스 링의 소모에 의해 에칭 레이트 등에 영향이 있다. 이 때문에, 플라즈마 에칭 장치에서는, 소모량이 많으면 포커스 링의 교환이 필요하게 된다.
이러한 소모 파트의 교환은 처리 용기를 대기 개방하여 실행되고 있다. 그러나, 진공 처리 장치에서는, 처리 용기를 일단 대기 개방했을 경우, 처리 용기 내의 온도 조정, 수분 컨트롤을 위해, 기판 처리를 재개할 때까지 상당한 시간을 필요로 하여, 생산성이 저하한다.
그래서, 진공 상태인 채로 진공 처리 장치에 기판을 반송하는 반송계를 거쳐서 소모 파트를 교환함으로써, 처리 용기를 대기 개방하지 않고 소모 파트를 교환하는 기술이 제안되어 있다(예를 들면, 하기 특허문헌 1 참조).
일본 공개 특허 제 2006-196691 호 공보
그렇지만, 기판을 반송하는 반송계를 거쳐서 소모 파트를 교환할 경우, 반송계가 오염되어버릴 경우가 있다. 예를 들면, 포커스 링은 웨이퍼 1매에 비하면, 신품으로 교환될 때까지의 사이에, 상당한 횟수의 에칭 처리를 실행하고 있어, 그 만큼 에칭 중의 소위, 데포(depot)도 부착되고 있다. 이러한 포커스 링을, 웨이퍼를 반송하는 반송 아암 등의 반송계를 거쳐서 교환했을 경우, 반송계에서의 파티클이 발생하는 요인이 된다. 반송계에 파티클이 발생해버리면, 클리닝을 위해 반송계를 정지시켜서 유지보수를 실행할 필요가 있다.
개시하는 진공 처리 장치는, 하나의 실시 태양에 있어서, 소모 파트와, 처리 용기를 갖는다. 소모 파트는 기판의 가공으로 실시되는 처리에 의해 소모된다. 처리 용기는 소모 파트가 내부에 배치되고, 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트와, 소모 파트를 교환하는 유지보수 장치가 탈착 가능하게 된 제 2 게이트가 마련되어 있다.
또한, 개시하는 유지보수 장치는, 하나의 실시 태양에 있어서, 케이스와, 유지보수 기구를 갖는다. 케이스는, 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 개구부를 장착 가능하게 되어 있다. 유지보수 기구는, 케이스 내부에 수용되고, 개구부를 거쳐서, 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행한다.
개시하는 기판 처리 장치의 하나의 태양에 따르면, 기판을 반송하는 반송계의 오염을 억제하여 소모 파트를 교환할 수 있다는 효과를 발휘한다.
도 1은 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성도,
도 2는 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치를 개략적으로 도시하는 도면,
도 3a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 3b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 4a는 어댑터의 분리를 설명하는 설명도,
도 4b는 분리 기구를 도시한 사시도,
도 5a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 5b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 6a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 6b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 7a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 7b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 8a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 8b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 9는 제 1 실시형태에 따른 장착 유닛을 개략적으로 도시하는 평면도,
도 10a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 10b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 11a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 11b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 12a는 어댑터 분리 유닛과 리니어 스테이지를 착탈 가능하게 하는 구성을 설명하는 설명도,
도 12b는 연결부를 개략적으로 도시하는 사시도,
도 12c는 연결부를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 13a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 13b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 14는 어댑터 서포트를 개략적으로 도시하는 사시도,
도 15a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 15b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 16a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 16b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 17a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 17b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 18a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도,
도 18b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 19는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 20은 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 21은 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 22는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 23은 제 3 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 24는 제 3 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도,
도 25는 프레임의 일례를 개략적으로 도시하는 사시도,
도 26은 프레임을 복수 중첩하여 구성한 케이스의 일례를 개략적으로 도시하는 사시도.
이하, 도면을 참조하여 본원이 개시하는 진공 처리 장치, 및 유지보수 장치의 실시형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일 또는 상당한 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하는 것으로 한다. 또한, 본 실시형태에 의해 개시하는 발명이 한정되는 것이 아니다. 각 실시형태는 처리 내용을 모순시키지 않는 범위에서 적당히 조합시키는 것이 가능하다.
(제 1 실시형태)
[기판 처리 시스템의 구성]
최초로, 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성에 대해서 설명한다. 기판 처리 시스템은 웨이퍼 등의 기판에 대하여 소정의 기판 처리를 실행하는 시스템이다. 본 실시형태에서는, 기판에 대하여, 플라즈마 에칭을 실행할 경우를 예로 설명한다. 도 1은 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성도이다. 기판 처리 시스템(1)은, 반도체 장치 제조용의 기판인 웨이퍼(W)를 기판 처리 시스템(1)에 반입하기 위한 대기 반송실(11)과, 예를 들어 2개의 로드록실(12A, 12B)과, 진공 반송실(13)과, 예를 들어 4개의 진공 처리 장치를 구비하고 있다. 진공 처리 장치는 기판에 대하여 소정의 기판 처리를 실행하는 장치이다. 본 실시형태에서는, 진공 처리 장치를, 기판으로서 웨이퍼(W)에 대하여 플라즈마 에칭을 실행하는 플라즈마 에칭 장치(10)로 했을 경우를 예로 설명한다.
대기 반송실(11)은 로드록실(12A, 12B)을 거쳐서 진공 반송실(13)에 접속되어 있다. 진공 반송실(13)에는, 로드록실(12A, 12B)로부터 구획되도록 플라즈마 에칭 장치(10)가 접속되어 있다.
대기 반송실(11)은, 대기 분위기로 구성되고, 복수 매의 웨이퍼(W)를 수납하는 캐리어(carrier)(C)가 탑재되는 캐리어 탑재대(14)가 마련되어 있다. 대기 반송실(11)의 정면벽에는, 캐리어(C)가 접속되어 캐리어(C)의 덮개와 함께 개폐되는 게이트 도어(GT)가 마련되어 있다. 대기 반송실(11)의 한쪽 측면에는 보관부인 스토커(stocker)(2)가 마련되고, 다른쪽 측면에는 위치맞춤 기구를 이루는 얼라인먼트실(3)이 마련되어 있다. 스토커(2)는 웨이퍼(W) 등을 수납하고, 일시적으로 보관이 가능한 하우징(21)을 구비하고 있다. 하우징(21)에는, 제 1 반송 기구(15)가 진입하기 위한 개구부(22)와, 해당 개구부(22)를 개폐하는 셔터(shutter)(23)가 마련되어 있다. 얼라인먼트실(3)은 수평한 회전 스테이지가 마련되고, 웨이퍼(W) 등의 회전 위치 등 각종의 얼라인먼트의 조정이 가능하게 되어 있다.
또한, 대기 반송실(11)에는, 제 1 반송 기구(15)가 마련되어 있고, 캐리어(C), 로드록실(12A, 12B), 얼라인먼트실(3) 및 스토커(2) 사이에서 웨이퍼(W)를 주고받는다. 제 1 반송 기구(15)는 기부(15a)와, 다관절의 아암(15b)과, 지지부(15c)를 구비하고 있다. 아암(15b)은 기단측이 기부(15a)에 접속되고, 선단측이 지지부(15c)에 접속되어 있다. 기부(15a)는 횡방향으로 이동 가능하고 또한 승강 가능하게 구성된다. 지지부(15c)는 평면에서 보아 U자형으로 형성되고, 웨이퍼(W)를 지지한다.
로드록실(12A, 12B)에는, 웨이퍼(W)가 탑재되는 스테이지와, 승강 가능한 지지 핀이 마련되어 있다. 로드록실(12A, 12B)은 지지 핀에 의해 제 1 반송 기구(15)와 후술하는 제 2 반송 기구(16) 사이에서 웨이퍼(W)를 주고받을 수 있다. 또한, 로드록실(12A, 12B)에는, 도시하지 않은 진공 펌프와 리크 밸브가 마련되어 있고, 대기 분위기와 진공 분위기를 전환할 수 있다. 즉, 대기 반송실(11)의 분위기가 대기 분위기로, 진공 반송실(13)의 분위기가 진공 분위기로 각기 유지되고 있기 때문에, 로드록실(12A, 12B)은, 이들 반송실간에 있어서, 웨이퍼(W)를 반송하기 위해서 분위기를 전환할 수 있게 된다.
진공 반송실(13)은 내부가 진공 분위기로 유지되고, 제 2 반송 기구(16)를 구비하고 있다. 제 2 반송 기구(16)는 제 1 반송 기구(15)와 대략 동일하게 구성되어 있지만, 하나의 기부에 대하여 각 2개의 아암 및 지지부가 마련되어 있다. 제 2 반송 기구(16)의 기부, 아암, 지지부는 각기 16a, 16b, 16c로서 도시하고 있다.
도 1 중의 「G」는 각 실간 및 플라즈마 에칭 장치(10)와 진공 반송실(13) 사이를 칸막이하는 개폐 가능한 게이트 밸브(칸막이 밸브)이다. 통상, 게이트 밸브(G)는 폐쇄되어 있고, 각 실간 및 각 모듈과 진공 반송실(13) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송할 때에 개방된다.
[플라즈마 에칭 장치의 구성]
다음에, 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치(10)의 구성에 대해서 설명한다. 도 2는 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치를 개략적으로 도시하는 도면이다. 플라즈마 에칭 장치(10)는 기밀하게 구성되고, 전기적으로 접지 전위로 된 처리 용기(30)를 갖고 있다. 이 처리 용기(30)는 원통형상으로 되고, 예를 들어 표면에 양극 산화 피막이 형성된 알루미늄 등으로 구성되어 있다. 처리 용기(30)는 플라즈마가 생성되는 처리 공간을 획정한다. 처리 용기(30) 내에는, 웨이퍼(W)를 수평으로 지지하는 탑재대(31)가 수용되어 있다.
탑재대(31)는 상하 방향으로 향하는 상면 및 저면을 갖는 대략 원주형상을 나타내고 있고, 상측의 저면이 탑재면(36d)으로 되어 있다. 탑재대(31)의 탑재면(36d)은 웨이퍼(W)보다 큰 사이즈로 되어 있다. 탑재대(31)는 기대(33)와, 정전 척(36)을 포함하고 있다.
기대(33)는 도전성의 금속, 예를 들어 알루미늄 등으로 구성되어 있다. 기대(33)는 하부 전극으로서 기능한다. 기대(33)는 절연체의 지지대(34)에 지지되어 있고, 지지대(34)가 처리 용기(30)의 저부에 설치되어 있다.
정전 척(36)은 상면이 평탄한 원반형상으로 되고, 해당 상면이 웨이퍼(W)가 탑재되는 탑재면(36d)으로 되어 있다. 정전 척(36)은 평면에서 보아 탑재대(31)의 중앙에 마련되어 있다. 정전 척(36)은 전극(36a) 및 절연체(36b)를 갖고 있다. 전극(36a)은 절연체(36b)의 내부에 마련되어 있고, 전극(36a)에는 직류 전원(42)이 접속되어 있다. 정전 척(36)은, 전극(36a)에 직류 전원(42)으로부터 직류 전압이 인가되는 것에 의해, 쿨롱력(coulomb force))에 의해 웨이퍼(W)를 흡착하도록 구성되어 있다. 또한, 정전 척(36)은 절연체(36b)의 내부에 히터(36c)가 마련되어 있다. 히터(36c)는 후술하는 급전 기구를 거쳐서 전력이 공급되고, 웨이퍼(W)의 온도를 제어한다.
또한, 탑재대(31)의 상방의 외주에는, 예를 들어 단결정 실리콘으로 형성된 포커스 링(35)이 마련되어 있다. 더욱이, 탑재대(31) 및 지지대(34)의 주위를 둘러싸도록, 예를 들어 석영 등으로 이루어지는 원통형상의 내벽 부재(37)가 마련되어 있다.
기대(33)에는, 급전봉(50)이 접속되어 있다. 급전봉(50)에는, 제 1 정합기(41a)를 거쳐서 제 1 RF 전원(40a)이 접속되고, 또한 제 2 정합기(41b)를 거쳐서 제 2 RF 전원(40b)이 접속되어 있다. 제 1 RF 전원(40a)은 플라즈마 발생용의 전원이고, 이 제 1 RF 전원(40a)으로부터는 소정의 주파수의 고주파 전력이 탑재대(31)의 기대(33)에 공급되도록 구성되어 있다. 또한, 제 2 RF 전원(40b)은 이온 인입용(바이어스(bias)용)의 전원이고, 이 제 2 RF 전원(40b)으로부터는 제 1 RF 전원(40a)보다 낮은 소정 주파수의 고주파 전력이 탑재대(31)의 기대(33)에 공급되도록 구성되어 있다.
기대(33)의 내부에는, 냉매 유로(33d)가 형성되어 있다. 냉매 유로(33d)는 한쪽 단부에 냉매 입구 배관(33b)이 접속되고, 다른쪽 단부에 냉매 출구 배관(33c)이 접속되어 있다. 플라즈마 에칭 장치(10)는, 냉매 유로(33d) 중에 냉매, 예를 들어 냉각수 등을 각각 순환시키는 것에 의해, 탑재대(31)의 온도를 제어 가능한 구성으로 되어 있다. 또한, 플라즈마 에칭 장치(10)는, 웨이퍼(W)와 포커스 링(35)이 각각 탑재되는 영역에 대응하여, 기대(33)의 내부에 냉매 유로를 별도로 마련하고, 웨이퍼(W)와 포커스 링(35)의 온도를 개별적으로 제어 가능한 구성으로 해도 좋다. 또한, 플라즈마 에칭 장치(10)는 웨이퍼(W)나 포커스 링(35)의 이면측에 냉열 전달용 가스를 공급하여 온도를 개별적으로 제어 가능한 구성으로 해도 좋다. 예를 들면, 탑재대(31) 등을 관통하도록, 웨이퍼(W)의 이면에 헬륨 가스 등의 냉열 전달용 가스(백사이드 가스)를 공급하기 위한 가스 공급관이 마련되어도 좋다. 가스 공급관은 가스 공급원에 접속되어 있다. 이들 구성에 의해, 탑재대(31)의 상면에 정전 척(36)에 의해 흡착 보지된 웨이퍼(W)를 소정의 온도로 제어한다.
한편, 탑재대(31)의 상방에는, 탑재대(31)에 평행하게 대면하도록, 상부 전극으로서의 기능을 갖는 샤워헤드(46)가 마련되어 있다. 샤워헤드(46)와 탑재대(31)는 한쌍의 전극(상부 전극과 하부 전극)으로서 기능한다.
샤워헤드(46)는 처리 용기(30)의 천장벽 부분에 마련되어 있다. 샤워헤드(46)는 본체부(46a)와, 전극판을 이루는 상부 천장판(46b)을 구비하고 있고, 절연성 부재(47)를 거쳐서 처리 용기(30)의 상부에 지지된다. 본체부(46a)는, 도전성 재료, 예를 들어 표면에 양극 산화 피막이 형성된 알루미늄 등으로 이루어지고, 그 하부에 상부 천장판(46b)을 착탈 가능하게 지지할 수 있도록 구성되어 있다.
본체부(46a)의 내부에는, 가스 확산실(46c)이 마련되고, 이 가스 확산실(46c)의 하부에 위치하도록, 본체부(46a)의 저부에는, 다수의 가스 통류 구멍(46d)이 형성되어 있다. 또한, 상부 천장판(46b)에는, 해당 상부 천장판(46b)을 두께 방향으로 관통하도록 가스 도입 구멍(46e)이 상기한 가스 통류 구멍(46d)과 중첩하도록 마련되어 있다. 이러한 구성에 의해, 가스 확산실(46c)에 공급된 처리 가스는 가스 통류 구멍(46d) 및 가스 도입 구멍(46e)을 거쳐서 처리 용기(30) 내에 샤워형상으로 분산되어서 공급된다.
본체부(46a)에는, 가스 확산실(46c)에 처리 가스를 도입하기 위한 가스 도입구(46g)가 형성되어 있다. 이 가스 도입구(46g)에는, 가스 공급 배관(45a)의 일단부가 접속되어 있다. 이 가스 공급 배관(45a)의 타단부에는, 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급원(45)이 접속된다. 가스 공급 배관(45a)에는, 상류측으로부터 순서대로 매스플로우 컨트롤러(mass flow controller; MFC)(45b), 및 개폐 밸브(V2)가 마련되어 있다. 그리고, 처리 가스 공급원(45)으로부터 플라즈마 에칭을 위한 처리 가스가 가스 공급 배관(45a)을 거쳐서 가스 확산실(46c)에 공급되고, 이 가스 확산실(46c)로부터 가스 통류 구멍(46d) 및 가스 도입 구멍(46e)을 거쳐서 처리 용기(30) 내에 샤워형상으로 분산되어서 공급된다.
상기한 상부 전극으로서의 샤워헤드(46)에는, 로우패스 필터(low-pass filter; LPF)(48a)를 거쳐서 가변 직류 전원(48b)이 전기적으로 접속되어 있다. 이 가변 직류 전원(48b)은 온(on)·오프(off) 스위치(48c)에 의해 급전의 온·오프가 가능하게 구성되어 있다. 가변 직류 전원(48b)의 전류·전압 및 온·오프 스위치(48c)의 온·오프는 후술하는 제어부(90)에 의해 제어된다. 또한, 후술하는 바와 같이, 제 1 RF 전원(40a), 제 2 RF 전원(40b)으로부터 고주파가 탑재대(31)에 인가되어 처리 공간에 플라즈마가 발생할 때에는, 필요에 따라서 제어부(90)에 의해 온·오프 스위치(48c)가 온으로 되고, 상부 전극으로서의 샤워헤드(46)에 소정의 직류 전압이 인가된다.
또한, 처리 용기(30)의 측벽으로부터 샤워헤드(46)의 높이 위치보다 상방으로 연장되도록 원통형상의 접지 도체(30a)가 마련되어 있다. 이러한 원통형상의 접지 도체(30a)는 그 상부에 천장벽을 갖고 있다.
처리 용기(30)의 저부에는, 배기구(81)가 형성되어 있고, 이 배기구(81)에는, 배기관(82)을 거쳐서 배기 장치(83)가 접속되어 있다. 배기 장치(83)는 진공 펌프를 갖고 있고, 이 진공 펌프를 작동시키는 것에 의해 처리 용기(30) 내를 소정의 진공도까지 감압할 수 있도록 구성되어 있다.
한편, 처리 용기(30) 내의 측벽에는, 웨이퍼(W)의 반입출에 사용되는 제 1 게이트(84)가 마련되어 있다. 이러한 제 1 게이트(84)에는, 해당 제 1 게이트(84)를 개폐하는 게이트 밸브(G)가 마련되어 있다. 제 1 게이트(84)는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 게이트 밸브(G)를 거쳐서 진공 반송실(13)에 기밀성을 유지하면서 접속되어 있고, 진공 분위기 상태인 채로 진공 반송실(13)로부터 웨이퍼(W)의 반입출이 가능하게 되어 있다.
처리 용기(30)의 측부 내측에는, 내벽면을 따라 데포 실드(depot shield)(86)가 마련되어 있다. 데포 실드(86)는 처리 용기(30)에 에칭 부생성물(데포)이 부착되는 것을 방지한다. 데포 실드(86)는 착탈 가능하게 구성되어 있다.
상기 구성의 플라즈마 에칭 장치(10)는 제어부(90)에 의해 동작이 통괄적으로 제어된다. 제어부(90)는 예를 들어 컴퓨터이며, 플라즈마 에칭 장치(10)의 각부를 제어한다.
그런데, 플라즈마 에칭 장치(10)에서는, 플라즈마를 이용한 에칭 처리에 의해 소모되는 소모 파트가 처리 용기(30) 내에 존재하고, 소모 파트의 교환을 필요로 할 경우가 있다. 예를 들면, 플라즈마 에칭 장치(10)에서는, 웨이퍼(W)의 외주에 설치된 포커스 링(35)이 에칭 처리에 의해 소모된다. 플라즈마 에칭 장치(10)는, 포커스 링(35) 등의 소모 파트의 교환을 처리 용기(30)를 대기 개방하여 실행했을 경우, 처리 용기 내의 온도 조정, 수분 컨트롤을 위해, 웨이퍼(W)에 대한 에칭 처리를 재개할 때까지 상당한 시간을 필요로 하여, 생산성이 저하한다.
그래서, 플라즈마 에칭 장치(10)에 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거쳐서 소모 파트를 교환함으로써, 처리 용기(30)를 대기 개방하지 않고 소모 파트를 교환하는 것을 고려할 수 있다. 예를 들면, 도 1에 도시하는 기판 처리 시스템(1)에서는, 대기 반송실(11)의 제 1 반송 기구(15)나, 로드록실(12A, 12B), 진공 반송실(13)의 제 2 반송 기구(16) 등, 웨이퍼(W)를 플라즈마 에칭 장치(10)로 반송하는 반송계를 거쳐서 포커스 링(35)을 교환하는 것을 고려할 수 있다.
그렇지만, 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거쳐서 포커스 링(35)을 교환할 경우, 반송계가 오염되어버릴 경우가 있다. 예를 들면, 포커스 링(35)은, 웨이퍼(W) 1매에 비하면, 신품으로 교환될 때까지의 사이에, 상당한 횟수의 에칭 처리를 실행하고 있어, 그 만큼 에칭 중의 소위, 데포도 부착되고 있다. 이러한 포커스 링(35)을 교환할 때, 예를 들어 진공 반송실(13)의 제 2 반송 기구(16)에 데포가 부착되었을 경우, 파티클이 발생하는 요인이 된다. 반송계에 파티클이 발생해버리면, 클리닝을 위해 반송계를 정지시켜서 유지보수를 실행할 필요가 있다. 예를 들면, 도 1에 도시하는 바와 같은 기판 처리 시스템(1)에서는, 반송계를 정지시켜서 유지보수를 실행하면, 전체가 정지해버린다.
또한, 예를 들면, 도 1에 도시하는 바와 같이, 진공 반송실(13)에 복수의 플라즈마 에칭 장치(10)를 접속한 기판 처리 시스템(1)에서는, 모든 플라즈마 에칭 장치(10)가 가동하고 있을 때에는, 반송계로서는 끊임없이 웨이퍼(W)를 플라즈마 에칭 장치(10)로 반송하고 있다. 그러나, 기판 처리 시스템(1)에서는, 하나의 플라즈마 에칭 장치(10)가 포커스 링(35)의 교환을 위해 반송계를 사용해버리면, 다른 플라즈마 에칭 장치(10)는 정지하지 않을 수 없다.
그래서, 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치(10)는, 제 1 게이트(84)와는 달리, 소모 파트의 교환용의 게이트를 마련하고 있다. 예를 들면, 플라즈마 에칭 장치(10)는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 웨이퍼(W)가 탑재되는 탑재대(31)에 대하여 제 1 게이트(84)의 반대측에 제 2 게이트(95)가 마련되어 있다. 제 2 게이트(95)는, 교환하는 소모 파트보다 큰 사이즈의 개구로 되고, 어댑터(adapter)(96)에 의해 기밀성을 유지하여 폐색되어 있다. 예를 들면, 제 2 게이트(95)는, 내측으로부터 외측으로의 도중에, 개구의 사이즈가 상하 좌우로 커져서 단부면(95A)이 형성되어 있고, 어댑터(96)와 접촉하는 단부면(95A)에 O 링(O-Ring) 및 나사 구멍이 마련되고, 어댑터(96)가 나사로 고정되어 있다. 또한, 제 2 게이트(95)에는, 후술하는 유지보수 장치(100)가 탈착 가능하게 되어 있다. 예를 들면, 도 1에 도시하는 바와 같이, 플라즈마 에칭 장치(10)는 제 1 게이트(84)가 웨이퍼(W)의 반송계에 접속된다. 이 때문에, 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 1 게이트(84)측의 주변은 빈 공간이 부족하여, 공간을 확보하기 어렵다. 한편, 제 1 게이트(84)의 반대측의 주변은 공간을 확보하기 쉽다. 따라서, 플라즈마 에칭 장치(10)는, 제 1 게이트(84)의 반대측에 제 2 게이트(95)를 마련하는 것에 의해, 유지보수 장치(100)를 배치하기 위한 공간을 쉽게 확보할 수 있다. 작업자는, 소모 파트의 교환을 실시할 경우, 소모 파트를 교환하는 대상의 플라즈마 에칭 장치(10)로부터 어댑터(96)를 고정하는 나사를 분리한다. 그리고, 작업자는, 소모 파트의 교환을 실시할 경우, 소모 파트를 교환하는 대상의 플라즈마 에칭 장치(10)에 대하여, 도 1의 파선에 의해 도시하는 바와 같이, 유지보수 장치(100)를 장착한다.
[유지보수 장치의 구성]
다음에, 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)의 구성에 대해서 설명한다. 도 3a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 3b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 3b는 도 3a의 파선 A-A를 도 3a의 하측으로부터 투영한 단면도이다. 도 3a 및 도 3b는 플라즈마 에칭 장치(10)에 유지보수 장치(100)를 장착한 상태를 도시하고 있다. 또한, 이하에 도시하는 각 도면에서는, 플라즈마 에칭 장치(10)를 간략화하여 도시하고 있다. 또한, 이하에서는, 소모 파트로서, 포커스 링(35)을 교환하는 흐름을 따라, 유지보수 장치(100)의 구성을 적절히 설명한다.
유지보수 장치(100)는 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 대응하는 사이즈의 개구부(101A)가 형성된 케이스(101)를 갖는다. 케이스(101)는 개구부(101A)의 주위의 플라즈마 에칭 장치(10)와 접촉하는 부분에 O 링 등이 마련되어 있다. 유지보수 장치(100)는 제 2 게이트(95)에 개구부(101A)를 대응시켜서 배치하고, 나사 고정하는 것 등에 의해, 제 2 게이트(95)에 대하여 기밀성을 유지하면서 개구부(101A)가 장착된다.
케이스(101)에는, 내부의 진공도를 측정 가능한 진공계(101B)가 마련되어 있다. 소모 파트를 교환할 때, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내부가 처리 용기(30)와 동일한 정도의 진공 분위기로 된다. 예를 들면, 유지보수 장치(100)는, 미도시의 배기관을 거쳐서 플라즈마 에칭 장치(10)의 배기 장치(83)와 접속되고, 배기 장치(83)에 의해 케이스(101) 내부가 소정의 진공도까지 감압된다. 또한, 유지보수 장치(100)가 케이스(101) 내를 배기하는 배기 장치를 구비해도 좋다.
유지보수 장치(100)는, 케이스(101) 내부에, 처리 용기(30) 내의 소모 파트의 분리, 처리 용기(30) 내에의 소모 파트의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구가 마련되어 있다. 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 유지보수 기구로서, 로봇 아암(110)과, 포커스 링(35)의 분리를 실행하는 분리 유닛(120)과, 처리 용기(30) 내의 청소를 실행하는 청소 유닛(130)과, 처리 용기(30) 내에의 포커스 링(35)의 장착을 실행하는 장착 유닛(140)이 마련되어 있다.
케이스(101) 내부에는, 소정 간격의 높이로 3단의 지지대(102)가 마련되어 있다. 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)은 각각 지지대(102)에 탑재되어 있다. 케이스(101)는 일부분이 개폐 가능하게 되어 있고, 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)을 개별적으로 착탈 가능하게 되어 있다. 즉, 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)은 개별적으로 교환 가능하게 되어 있다.
로봇 아암(110)은, 관절에 의해 3개의 아암이 접속된 아암부(111)와, 아암부(111)를 지지하는 지지부(112)와, 아암부(111)의 선단에 마련된 핸드부(113)에 의해 구성되어 있다. 로봇 아암(110)은, 아암부(111)의 3개의 아암을 직선형상으로 신장하거나, 중첩함으로써 신축 가능하게 되고, 핸드부(113)로 물체를 파지하는 것이 가능하게 되어 있다. 로봇 아암(110)은 승강대(114)에 고정되고, 승강대(114)의 승강에 따라 상하로 이동한다. 로봇 아암(110) 및 승강대(114)는 미도시의 제어부에 의해 동작이 통괄적으로 제어된다. 제어부는 각종의 조작 지시의 접수나, 동작 상태를 표시하는 유저 인터페이스를 갖는다. 작업자는 유저 인터페이스에 대하여 조작 지시를 실행한다. 조작 지시는 지지대(102)의 승강이나 로봇 아암(110)의 움직임을 개별적으로 지정하는 것이어도 좋다. 또한, 조작 지시는 일련의 움직임을 지정하는 것이어도 좋다. 예를 들면, 조작 지시는 포커스 링(35)의 분리 시의 지지대(102)의 승강이나 로봇 아암(110)의 일련의 움직임을 포커스 링(35)의 분리 지시로서 지정하는 것이어도 좋다.
또한, 유지보수 장치(100)는 플라즈마 에칭 장치(10)의 어댑터(96)를 분리하는 분리 유닛이 마련되어 있다. 예를 들면, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내의 상부에 볼 나사(105)와 샤프트(106)가 평행하게 배치되어 있다. 볼 나사(105)는, 예를 들어 O 링 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 케이스(101) 외부에 마련한 핸들(H1)에 의해 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 볼 나사(105)와 샤프트(106)에는, 리니어 스테이지(150)가 장착되어 있다. 또한, 리니어 스테이지(150)에는, 어댑터 분리 유닛(160)이 장착되어 있다. 리니어 스테이지(150)는, 볼 나사(105)측의 장착 부분에, 볼 나사(105)에 대응하여 홈이 형성되어 있다. 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)은 볼 나사(105)의 회전에 의해 볼 나사(105) 및 샤프트(106)를 따라 이동한다.
어댑터(96)를 분리하는 경우, 작업자는 핸들(H1)을 회전시켜서 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을, 도 3b 및 도 3a의 파선으로 도시한 바와 같이, 어댑터(96)측으로 이동시킨다.
케이스(101)의 개구부(101A)측의 측면에는, 어댑터 분리 유닛(160)을 어댑터(96)에 고정하기 위한 핸들(H2L, H2R)이 마련되어 있다. 핸들(H2L, H2R)은 어댑터 분리 유닛(160)이 어댑터(96)와 접촉하는 위치가 되면, 핸들(H2L, H2R)의 회전의 구동력을 어댑터 분리 유닛(160)에 전달하는 것이 가능하게 되어 있다.
그런데, 어댑터(96)는, 에칭 처리에서 처리 용기(30)가 진공 상태로 되어 있기 때문에, 처리 용기(30)에 고착해버리고, 유지보수 장치(100)의 케이스(101) 내를 진공 상태로 해도, 분리하기 어려운 경우가 있다. 이 때문에, 본 실시형태에 따른 어댑터 분리 유닛(160)에는, 양단부 부근에 어댑터(96)를 분리하는 분리 기구(170)가 마련되어 있다.
도 4a는 어댑터의 분리를 설명하는 설명도이다. 도 4a에서는, 핸들(H2L)측의 분리 기구(170)에 대하여 설명하지만, 핸들(H2R)측의 분리 기구(170)도 동일한 구성이다. 어댑터(96)는, 단부에, 어댑터 분리 유닛(160)을 안정적으로 고정하기 위한 위치결정 구멍(96A)이 형성되어 있다. 또한, 어댑터(96)는 제 2 게이트(95)의 단부면(95A)과 대향하는 부분에 관통 구멍(96B)이 형성되어 있다. 관통 구멍(96B)은 나사 홈이 형성되어 있고, 오목 나사(암나사) 형상으로 되어 있다. 어댑터 분리 유닛(160)은 위치결정 구멍(96A)에 대응하는 위치에 위치결정 핀(171)이 마련되어 있다. 또한, 어댑터 분리 유닛(160)은 관통 구멍(96B)에 대응하는 위치에 분리 기구(170)를 구성하는 분리 핀(172)이 마련되어 있다.
핸들(H2L)은 회전축(180)에 의해 볼록 결합부(181)와 동축으로 접속되어 있다. 회전축(180)은 O 링(183) 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 볼록 결합부(181)는 핸들(H2L)을 회전시키는 것에 의해 회전한다.
분리 기구(170)는, 볼록 결합부(181)와 동일한 높이에서, 어댑터 분리 유닛(160)이 어댑터(96)와 접촉하는 위치가 되면, 볼록 결합부(181)와 결합하도록 오목 결합부(173)가 마련되어 있다.
도 4b는 분리 기구를 도시한 사시도이다. 분리 기구(170)는, 핸들(H2L)측의 측면에, 오목 결합부(173)로부터 멀어질수록 종방향의 폭이 넓은 홈(174)이 형성되어 있다. 분리 기구(170)는 이 홈(174)에 의해 볼록 결합부(181)를 오목 결합부(173)로 인도할 수 있다. 분리 기구(170)에서는, 볼록 결합부(181)와 오목 결합부(173)가 동축으로 결합되면, 볼록 결합부(181)와 오목 결합부(173)가 회전 가능하게 되고, 핸들(H2L)의 회전의 구동력을 분리 기구(170)에 전달하는 것이 가능하게 되어 있다.
오목 결합부(173)에는, 웜 기어(worm gear)(175)가 동축으로 접속되어 있다. 웜 기어(175)는 베어링(176)에 의해 회전 가능하게 보지되어 있고, 오목 결합부(173)의 회전에 따라 회전한다. 웜 기어(175)에서는, 회전에 따라 휠(177)을 회전시킨다. 분리 핀(172)은 볼록 나사(수나사) 형상의 선단부(172A)와, 신축축(172B)으로 구성된다. 휠(177)과 신축축(172B)은 볼 스플라인 구조로 되어 있다. 또한, 신축축(172B)은 베어링(178)에 의해 회전 가능하게 보지되어 있다.
어댑터(96)를 분리할 경우, 작업자는 핸들(H1)을 회전시켜서 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을, 도 3a 및 도 3b의 파선으로 도시한 바와 같이, 어댑터(96)측으로 이동시킨다. 핸들(H2L, H2R)은, 어댑터 분리 유닛(160)이 어댑터(96)와 접촉하는 위치가 되면, 위치결정 핀(171)이 위치결정 구멍(96A)에 끼워맞춰지고, 분리 핀(172)이 관통 구멍(96B)에 끼워맞춰진다. 그리고, 작업자가 핸들(H2L, H2R)을 회전시키면, 분리 핀(172)의 선단부(172A)의 볼록 나사(수나사)와, 관통 구멍(96B)의 오목 나사(암나사)가 더욱 끼워맞춰지고, 관통 구멍(96B)을 통과하여 단부면(95A)과 접촉하고, 단부면(95A)을 가압한다. 이것에 의해, 어댑터(96)가 처리 용기(30)에 고착했을 경우에도, 어댑터(96)를 분리할 수 있다.
어댑터(96)를 분리했을 경우, 작업자는 핸들(H1)을 분리 시와 반대로 회전시켜서, 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을 당초의 위치로 이동시킨다. 도 5a 및 도 5b는 어댑터(96)를 분리한 상태를 도시하고 있다. 도 5a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 5b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 5b는 도 5a의 파선 A-A를 도 5a의 하측으로부터 투영한 단면도이다. 분리된 어댑터(96)는 어댑터 분리 유닛(160)에 보지되어, 우측으로 이동하고 있다.
다음에, 포커스 링(35)을 분리할 때의 동작을 설명한다. 도 6a 및 도 6b는 포커스 링(35)을 분리할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 6a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 6b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 6b는 도 6a의 파선 A-A를 도 6a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
분리 유닛(120)은 포커스 링(35)과 동일한 정도의 사이즈의 원반의 형상으로 되어 있고, 하측의 면의 포커스 링(35)에 대응하는 외주 영역에 접착층(121)이 마련되어 있다.
플라즈마 에칭 장치(10)의 포커스 링(35)을 분리할 경우, 승강대(114)는 분리 유닛(120)이 탑재된 지지대(102)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은 아암부(111)를 분리 유닛(120)측으로 신장시켜서, 핸드부(113)로 분리 유닛(120)을 파지한다. 그리고, 로봇 아암(110)은 분리 유닛(120)을 파지한 채 아암부(111)를 수축시킨다.
다음에, 도 6a 및 도 6b의 파선으로 도시하는 바와 같이, 승강대(114)는 개구부(101A)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은 아암부(111)를 개구부(101A)측으로 신장시켜서, 개구부(101A)를 거쳐서 분리 유닛(120)을 탑재대(31)의 상부로 운반하고, 아암부(111)를 하강시켜서, 분리 유닛(120)을 탑재대(31)에 접촉시킨다. 이것에 의해, 탑재대(31)에 탑재된 포커스 링(35)이 접착층(121)에 의해 분리 유닛(120)에 접착된다.
로봇 아암(110)은 아암부(111)를 상승시켜서, 탑재대(31)로부터 포커스 링(35)을 분리한다. 그 후, 로봇 아암(110) 및 승강대(114)는, 분리 유닛(120)을 지지대(102)로부터 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 동작하여, 포커스 링(35)을 흡착한 분리 유닛(120)을 원래의 지지대(102)에 격납한다.
다음에, 탑재대(31)의 탑재면(36d)을 클리닝할 때의 동작을 설명한다. 도 7a 및 도 7b는 탑재대(31)의 탑재면(36d)을 클리닝할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 7a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 7b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 7b는 도 7a의 파선 A-A를 도 7a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
청소 유닛(130)은 탑재대(31)의 탑재면(36d)과 동일한 정도의 사이즈의 원반의 형상으로 되어 있고, 하측의 전체면에 접착층(131)이 마련되어 있다.
탑재대(31)의 탑재면(36d)을 청소할 경우, 승강대(114)는 청소 유닛(130)이 탑재된 지지대(102)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은 아암부(111)를 청소 유닛(130)측으로 신장시켜서, 핸드부(113)로 청소 유닛(130)을 파지한다. 그리고, 로봇 아암(110)은 청소 유닛(130)을 파지한 채 아암부(111)를 수축시킨다.
다음에, 도 7a 및 도 7b의 파선으로 도시하는 바와 같이, 승강대(114)는 개구부(101A)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은, 아암부(111)를 개구부(101A)측으로 신장시켜서, 개구부(101A)를 거쳐서 청소 유닛(130)을 탑재대(31)의 상부로 운반하고, 아암부(111)를 하강시켜서, 청소 유닛(130)을 탑재대(31)에 접촉시킨다. 이것에 의해, 탑재대(31) 상의 데포나 먼지 등의 불필요물이 청소 유닛(130)의 접착층(131)에 흡착되어, 탑재대(31)가 클리닝된다.
로봇 아암(110)은 아암부(111)를 상승시켜서, 탑재대(31)로부터 청소 유닛(130)을 이간(離間)시킨다. 그 후, 로봇 아암(110) 및 승강대(114)는 청소 유닛(130)을 지지대(102)로부터 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 동작하여, 불필요물을 흡착한 청소 유닛(130)을 원래의 지지대(102)에 격납한다.
다음에, 교환용의 포커스 링(35)을 탑재대(31)에 장착할 때의 동작을 설명한다. 도 8a 및 도 8b는 교환용의 포커스 링(35)을 탑재대(31)에 장착할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 8a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 8b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 8b는 도 8a의 파선 A-A를 도 8a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
장착 유닛(140)은, 탑재대(31)의 탑재면(36d)과 동일한 정도의 사이즈로 되어 있어, 포커스 링(35)의 착탈이 가능하게 되어 있고, 교환용의 포커스 링(35)이 세팅되어 있다. 장착 유닛(140)의 상세는 후술한다.
교환용의 포커스 링(35)을 탑재대(31)에 장착할 경우, 승강대(114)는 장착 유닛(140)이 탑재된 지지대(102)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은 아암부(111)를 장착 유닛(140)측으로 신장시켜서, 핸드부(113)로 장착 유닛(140)을 파지한다. 그리고, 로봇 아암(110)은 장착 유닛(140)을 파지한 채 아암부(111)를 수축시킨다.
다음에, 도 8a 및 도 8b의 파선으로 도시하는 바와 같이, 승강대(114)는 개구부(101A)에 대응하는 높이로 이동한다. 로봇 아암(110)은, 아암부(111)를 개구부(101A)측으로 신장시켜서, 개구부(101A)를 거쳐서 장착 유닛(140)을 탑재대(31)의 상부로 운반하고, 아암부(111)를 하강시켜서, 장착 유닛(140)을 탑재대(31)에 접촉시킨다.
장착 유닛(140)은, 탑재대(31)에 접촉했을 때에, 세팅된 교환용의 포커스 링(35)을 해방하는 것이 가능하게 되어 있다.
도 9는 제 1 실시형태에 따른 장착 유닛을 개략적으로 도시하는 평면도이다. 장착 유닛(140)은 하면에 위치결정 핀(141)이 마련되어 있다. 위치결정 핀(141)은, 장착 유닛(140)을 탑재대(31)에 탑재할 때, 탑재대(31)의 탑재면(36d)에 마련된 위치결정 구멍(36e)에 끼워맞춰진다. 위치결정 구멍(36e)은 탑재대(31)에 전용으로 마련해도 좋고, 또한 예를 들어 탑재대(31)에 탑재된 웨이퍼(W)를 승강시키는 리프터 핀(lifter pin)이 수용되는 구멍 등, 그 외에도 사용되는 기존의 구멍을 이용해도 좋다.
또한, 장착 유닛(140)은 접촉을 검출하기 위한 핀(142)과, 포커스 링(35)을 해방하기 위한 핀(143)이 마련되어 있다. 핀(143)은 핀(142)의 측면에 접촉하고 있고, 스프링(144)에 의해 핀(142)측으로 바이어싱되어 있다. 핀(142)은, 선단이 장착 유닛(140)의 하면으로부터 돌출하여 있고, 장착 유닛(140)이 탑재대(31)에 탑재되었을 때에 선단이 탑재대(31)에 접촉해서 눌려서, 장착 유닛(140)에 격납된다(도 9의 (1)). 핀(142)은, 장착 유닛(140)에 격납되었을 때에, 핀(143)의 선단이 접촉하는 위치에 홈(142A)이 형성되어 있다. 핀(143)은, 핀(142)이 장착 유닛(140)에 격납되었을 경우, 스프링(144)에 의한 바이어싱에 의해 선단이 핀(142)의 홈(142A)으로 이동한다(도 9의 (2)).
핀(143)에는, 결합 부재(145)의 일단부가 고정되어 있다. 결합 부재(145)는, 타단부가 장착 유닛(140)의 단부로부터 홈(142A)의 깊이보다 작은 거리만큼 돌출하여 있고, 장착 유닛(140)의 단부로부터 돌출한 돌출 부분(145A)에 교환용의 포커스 링(35)이 결합된다. 결합 부재(145)는, 핀(143)의 선단이 홈(142A)으로 이동함에 따라 이동하고, 장착 유닛(140)의 단부로부터 돌출 부분(145A)이 돌출하지 않게 된다((도 9의 (3)). 이것에 의해, 돌출 부분(145A)과 교환용의 포커스 링(35)의 결합이 해방되고, 교환용의 포커스 링(35)이 낙하하여 탑재대(31)에 탑재된다((도 9의 (4)).
포커스 링(35)이 탑재대(31)에 낙하한 후, 로봇 아암(110)은 아암부(111)를 상승시켜서, 탑재대(31)로부터 장착 유닛(140)을 이간시킨다. 그 후, 로봇 아암(110) 및 승강대(114)는, 장착 유닛(140)을 지지대(102)로부터 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 동작하여, 장착 유닛(140)을 원래의 지지대(102)에 격납한다.
작업자는, 이와 같은 순서로 포커스 링(35)의 교환을 실행한 후, 어댑터(96)를 분리했을 때와 반대의 순서로 어댑터(96)를 제 2 게이트(95)에 장착한다. 그리고, 작업자는 유지보수 장치(100)의 케이스(101) 내를 대기압으로 되돌린다. 도 10a 및 도 10b는 포커스 링(35)의 교환이 완료한 상태를 도시하고 있다. 도 10a는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 10b는 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 10b는 도 10a의 파선 A-A를 도 10a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
이와 같이, 본 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치(10)는, 처리 용기(30)에, 웨이퍼(W)의 가공으로 실시되는 처리에 의해 소모되는 포커스 링(35)이 내부에 배치되어 있다. 또한, 플라즈마 에칭 장치(10)는, 처리 용기(30)에, 웨이퍼(W)의 반입출에 사용되는 제 1 게이트(84)와, 유지보수 장치(100)가 탈착 가능하게 된 제 2 게이트(95)가 마련되어 있다. 이것에 의해, 플라즈마 에칭 장치(10)는 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거치지 않고 포커스 링(35)을 교환할 수 있다. 이 결과, 플라즈마 에칭 장치(10)는 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계의 오염을 억제하여 포커스 링(35)을 교환할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 플라즈마 에칭 장치(10)는, 처리 용기(30)에, 제 2 게이트(95)가 탑재대(31)에 대하여 제 1 게이트(84)의 반대측에 마련되어 있다. 이것에 의해, 플라즈마 에칭 장치(10)는 유지보수 장치(100)를 배치하기 위한 공간을 쉽게 확보할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 대응하는 사이즈의 개구부(101A)가 형성되고, 제 2 게이트(95)에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스(101)를 갖는다. 또한, 유지보수 장치(100)는, 케이스(101) 내부에 수용되고, 개구부(101A)를 거쳐서, 처리 용기(30) 내의 포커스 링(35)의 분리, 처리 용기(30) 내에의 포커스 링(35)의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖는다. 이것에 의해, 유지보수 장치(100)는 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거치지 않고 포커스 링(35)을 교환할 수 있다. 이 결과, 유지보수 장치(100)는 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계의 오염을 억제하여 포커스 링(35)을 교환할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 로봇 아암(110)과, 로봇 아암(110)에 탈착 가능하게 된 분리 유닛(120), 장착 유닛(140) 및 청소 유닛(130)을 갖는다. 이것에 의해, 유지보수 장치(100)는 처리 용기(30) 내의 포커스 링(35)의 분리, 처리 용기(30) 내에의 포커스 링(35)의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소를 실행할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 분리 유닛(120)은 포커스 링(35)과 접촉되는 면에 접착층(121)을 갖는다. 이것에 의해, 분리 유닛(120)은 포커스 링(35)과 접촉시키는 것만으로, 포커스 링(35)을 간단히 분리할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는 분리 유닛(120), 장착 유닛(140) 및 청소 유닛(130)이 케이스(101)에 개별적으로 착탈 가능하게 되어 있다. 이것에 의해, 유지보수 장치(100)는 분리 유닛(120), 장착 유닛(140) 및 청소 유닛(130)을 간단히 교환할 수 있다. 또한, 유지보수 장치(100)는 실시하는 유지보수에서 필요로 하는 유닛을 장착할 수 있다.
(제 2 실시형태)
다음에, 제 2 실시형태에 대해서 설명한다. 제 2 실시형태에 따른 기판 처리 시스템(1) 및 플라즈마 에칭 장치(10)는, 도 1, 도 2에 도시하는 제 1 실시형태에 따른 기판 처리 시스템(1) 및 플라즈마 에칭 장치(10)와 동일한 구성이기 때문에, 설명을 생략한다.
제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)의 구성에 대해서 설명한다. 도 11a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 11b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 11b는 도 11a의 파선 A-A를 도 11a의 하측으로부터 투영한 단면도이다. 도 11a 및 도 11b는 플라즈마 에칭 장치(10)에 유지보수 장치(100)를 장착한 상태를 도시하고 있다. 또한, 상술한 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)와 동일 및 대응하는 부분에 대해서는, 동일한 부호를 부여하여 설명한다. 또한, 이하에서도, 소모 파트로서, 포커스 링(35)을 교환하는 흐름을 따라, 유지보수 장치(100)의 구성을 적절히 설명한다.
유지보수 장치(100)는 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 대응하는 사이즈의 개구부(101A)가 형성된 케이스(101)를 갖는다. 케이스(101)는 개구부(101A)의 주위의 플라즈마 에칭 장치(10)와 접촉하는 부분에 O 링 등이 마련되어 있다. 유지보수 장치(100)는, 제 2 게이트(95)에 개구부(101A)를 대응시켜서 배치하고, 나사 고정하는 것 등에 의해, 제 2 게이트(95)에 대하여 기밀성을 유지하면서 개구부(101A)가 장착된다.
케이스(101)에는, 내부의 진공도를 측정 가능한 진공계(101B)가 마련되어 있다. 소모 파트를 교환할 때, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내부가 처리 용기(30)와 동일한 정도의 진공 분위기로 된다.
유지보수 장치(100)는, 케이스(101) 내부에, 처리 용기(30) 내의 소모 파트의 분리, 처리 용기(30) 내에의 소모 파트의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구가 마련되어 있다. 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 유지보수 기구로서, 수동 아암(200)과, 분리 유닛(120)과, 장착 유닛(140)과, 청소 유닛(130)이 마련되어 있다.
예를 들면, 케이스(101) 내부에는, 하부의 개구부(101A)측에, 종방향으로 나란하게, 수동 아암(200), 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)이 마련되어 있다. 케이스(101)는 일부분이 개폐 가능하게 되어 있고, 수동 아암(200), 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)을 개별적으로 착탈 가능하게 되어 있다. 즉, 수동 아암(200), 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)은 개별적으로 교환 가능하게 되어 있다.
또한, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내의 상부에 볼 나사(105)와 샤프트(106)가 평행하게 배치되어 있다. 볼 나사(105)는 예를 들어 O 링 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 케이스(101) 외부에 마련한 핸들(H1)에 의해 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 볼 나사(105)와 샤프트(106)에는, 리니어 스테이지(150)가 장착되어 있다. 또한, 리니어 스테이지(150)에는, 어댑터 분리 유닛(160)이 장착되어 있다. 리니어 스테이지(150)와 어댑터 분리 유닛(160)은 착탈 가능하게 되어 있다. 유지보수 시의 초기 상태에서는, 어댑터 분리 유닛(160)은 리니어 스테이지(150)에 장착되어 있다.
도 12a는 어댑터 분리 유닛과 리니어 스테이지를 착탈 가능하게 하는 구성을 설명하는 설명도이다. 리니어 스테이지(150)에는, 유닛을 장착하기 위해서, 소정의 간격으로 2개의 로드(151)가 마련되어 있다. 어댑터 분리 유닛(160)에는, 로드(151)에 연결하기 위해서, 2개의 로드(151)에 대응하는 위치에 연결부(161)가 마련되어 있다.
도 12b는 연결부를 개략적으로 도시하는 사시도이다. 도 12c는 연결부를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 연결부(161)는, 오목형상으로 형성된 2개의 연결 부재(161A, 161B)가 오목한 부분(162)을 마주보고 배치되어 있다. 연결 부재(161A, 161B)는 오목한 부분(162)이 로드(151)의 반경보다 약간 작게 형성되어 있다. 연결 부재(161A)는, 나사 구멍(163A)이 형성되고, 어댑터 분리 유닛(160)에 나사(163B)로 고정된다. 연결 부재(161B)도, 나사 구멍(164A)이 형성되고, 어댑터 분리 유닛(160)에 나사(164B)로 고정된다. 나사 구멍(164A)은 연결 부재(161A 및 161B)의 배치 방향을 따라 길게 형성되어 있고, 연결 부재(161B)는 연결 부재(161A 및 161B)의 배치 방향을 따라 전후로 이동 가능하게 고정되어 있다. 또한, 연결부(161)는 지지부(165)에 의해 회전 가능하게 지지된 볼 나사(166)가 마련되어 있다. 볼 나사(166)는 일단부에 오목 결합부(167)가 마련되어 있고, 타단부가 연결 부재(161B)와 접촉하고 있다.
연결부(161)는, 오목 결합부(167)를 회전시켜서 볼 나사(166)에 의해 연결 부재(161B)를 바이어싱하고, 연결 부재(161A)와 연결 부재(161B)의 간격을 변경하는 것이 가능하게 되어 있다. 연결부(161)는, 연결 부재(161A)와 연결 부재(161B)가 오목한 부분(162)에 로드(151)를 배치하고, 오목 결합부(167)를 회전시켜서 연결 부재(161A)와 연결 부재(161B)의 간격을 좁혀서, 연결 부재(161A)와 연결 부재(161B)로 로드(151)를 협지함으로써, 로드(151)에 연결된다. 또한, 로드(151)는 연결 부재(161A) 및 연결 부재(161B)와 접촉하는 부분보다 하측의 부분에서 직경을 약간 크게 하여, 연결부(161)가 로드(151)로부터 빠지기 어렵게 하는 것이 바람직하다.
도 11a 및 도 11b로 돌아와서, 리니어 스테이지(150)는 볼 나사(105)측의 장착 부분에, 볼 나사(105)에 대응하여 홈이 형성되어 있다. 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)은 볼 나사(105)의 회전에 의해 볼 나사(105) 및 샤프트(106)를 따라 이동한다. 어댑터 분리 유닛(160)에는, 분리 기구(170)가 마련되어 있다.
어댑터(96)를 분리할 경우, 작업자는 핸들(H1)을 회전시켜서 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을, 도 11a 및 도 11b의 파선으로 도시한 것 같이, 어댑터(96)측으로 이동시킨다. 그리고, 작업자는 핸들(H2L, H2R)을 회전시켜서, 분리 기구(170)에 의해 처리 용기(30)로부터 어댑터(96)를 분리한다.
어댑터(96)를 분리했을 경우, 작업자는, 핸들(H1)을, 분리 시와 반대로 회전시켜서, 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을 당초의 위치로 이동시킨다. 도 13a 및 도 13b는 어댑터를 분리한 상태를 도시하고 있다. 도 13a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 13b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 13b는 도 13a의 파선 A-A를 도 13a의 하측으로부터 투영한 단면도이다. 분리된 어댑터(96)는 어댑터 분리 유닛(160)에 보지되어, 우측으로 이동하고 있다.
케이스(101)의 개구부(101A)의 반대측의 측면에는, 어댑터 분리 유닛(160)을 리니어 스테이지(150)에 착탈하기 위한 핸들(H3L, H3R)이 마련되어 있다. 핸들(H3L)은 회전축(190L)에 의해 볼록 결합부(191L)와 동축으로 접속되어 있다. 핸들(H3R)은 회전축(190R)에 의해 볼록 결합부(191R)와 동축으로 접속되어 있다. 회전축(190L, 190R)은 O 링 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 볼록 결합부(191L)는 핸들(H3L)을 회전시키는 것에 의해 회전한다. 볼록 결합부(191R)는 핸들(H3R)을 회전시키는 것에 의해 회전한다. 핸들(H3L), 회전축(190L) 및 볼록 결합부(191L)는, 리니어 스테이지(150)가 우측단에 위치할 때에, 어댑터 분리 유닛(160)의, 도 13a에 있어서 상측이 되는 연결부(161)의 오목 결합부(167)와 결합하는 위치에 배치되어 있다. 핸들(H3R), 회전축(190R) 및 볼록 결합부(191R)는, 리니어 스테이지(150)가 우측단에 위치할 때에, 어댑터 분리 유닛(160)의, 도 13a에 있어서 하측이 되는 연결부(161)의 오목 결합부(167)와 결합하는 위치에 배치되어 있다.
볼록 결합부(191L, 191R)는, 리니어 스테이지(150)가 우측단에 위치하면, 각각 오목 결합부(167)와 결합한다. 이것에 의해, 핸들(H3L, H3R)을 회전시킴으로써, 연결부(161)의 조작이 가능하게 되어, 리니어 스테이지(150)로부터 어댑터 분리 유닛(160)의 분리가 가능하게 된다.
유지보수 장치(100)는 우측의 저부에 어댑터 서포트(adapter support)(210)가 마련되어 있다. 도 14는 어댑터 서포트를 개략적으로 도시하는 사시도이다. 어댑터 서포트(210)는 평평한 판형상으로 되고, 어댑터(96) 및 어댑터 분리 유닛(160)을 수평으로 보유 가능하도록, 어댑터(96) 및 어댑터 분리 유닛(160)의 하면의 볼록부에 대응하여 오목부(211)가 형성되어 있다. 오목부(211)는 어댑터 서포트(210)를 관통하도록 형성되어도 좋다. 도 14의 예에서는, 오목부(211)는 어댑터 서포트(210)를 관통하고 있다.
어댑터 서포트(210)는 미도시의 핸들의 조작에 따라서, 케이스(101)의 내측면에 형성된 수직 방향의 레일(212)을 따라 승강이 가능하게 되어 있다. 작업자는 미도시의 핸들을 조작하여, 어댑터 서포트(210)를 상승시켜서, 어댑터(96) 및 어댑터 분리 유닛(160)을 지지시킨다. 그리고, 작업자는 핸들(H3L, H3R)을 회전시켜서, 리니어 스테이지(150)로부터 어댑터 분리 유닛(160)을 분리한다. 작업자는 미도시의 핸들을 조작하여, 어댑터 서포트(210)를 하강시켜서, 어댑터(96) 및 어댑터 분리 유닛(160)을 케이스(101)의 저부로 이동시킨다.
제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는 분리 유닛(120), 장착 유닛(140), 청소 유닛(130)에서 수동 아암(200)을 공용으로 사용한다. 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 분리 유닛(120), 장착 유닛(140), 청소 유닛(130)을 사용할 때에, 최초로 수동 아암(200)을 리니어 스테이지(150)에 장착한다.
다음에, 수동 아암(200)을 리니어 스테이지(150)에 장착할 때의 동작을 설명한다. 도 15a 및 도 15b는 수동 아암(200)을 리니어 스테이지(150)에 장착할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 15a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 15b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 15b는 도 15a의 파선 A-A를 도 15a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
종방향으로 배치된 수동 아암(200)은 미도시의 반송 기구에 의해 수평 방향으로 회전되고(도 15b의 (1)), 리니어 스테이지(150) 아래로 반송된다(도 15b의 (2)). 수동 아암(200)에는, 어댑터 분리 유닛(160)의 연결부(161)와 동일한 연결부(201)가 마련되어 있다. 볼록 결합부(191L, 191R)는 수동 아암(200)에 마련된 연결부(201)와 각각 결합한다. 작업자는 핸들(H3L, H3R)을 회전시켜서, 리니어 스테이지(150)에 수동 아암(200)을 장착한다.
다음에, 포커스 링(35)을 분리할 때의 동작을 설명한다. 포커스 링(35)을 분리할 경우, 수동 아암(200)에 분리 유닛(120)을 장착한다. 도 16a 및 도 16b는 수동 아암(200)에 분리 유닛(120)을 장착할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 16a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 16b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 16b는 도 16a의 파선 A-A를 도 16a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
종방향으로 배치된 분리 유닛(120)은 미도시의 반송 기구에 의해 수평 방향으로 회전되고(도 16b의 (1)), 수동 아암(200) 아래로 반송된다(도 16b의 (2) 내지 (4)). 수동 아암(200)은 각 유닛이 착탈 가능하게 되어 있고, 유닛을 장착하기 위한 장착부(220)를 갖는다. 예를 들면, 장착부(220)는 수직 방향의 회전축이 마련되어 있고, 회전축의 상단에, 예를 들어 베벨 기어(bevel grear) 등의 결합부(221)가 마련되어 있다.
케이스(101)의 상면에는, 핸들(H4)이 마련되어 있다. 핸들(H4)은, 회전축(230)에 의해, 예를 들어 베벨 기어 등의 결합부(231)와 동축으로 접속되어 있다. 회전축(230)은 O 링 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 결합부(231)는 핸들(H4)을 회전시키는 것에 의해 회전한다. 핸들(H4), 회전축(230) 및 결합부(231)는, 수동 아암(200)을 장착한 리니어 스테이지(150)가 우측단에 위치할 때에, 결합부(221)와 결합부(231)가 결합하는 위치에 배치되어 있다.
결합부(221)는, 리니어 스테이지(150)가 우측단에 위치하면, 결합부(231)와 결합한다. 이것에 의해, 핸들(H4)을 회전시킴으로써, 회전축(230), 결합부(231), 결합부(221)를 거쳐서 장착부(220)의 회전축이 회전하여, 장착부(220)의 조작이 가능하게 된다. 장착부(220)는 회전축의 회전에 의해 유닛을 착탈 가능한 보지 기구가 마련되어 있다. 보지 기구는 유닛을 착탈 가능하게 보지하는 것이면, 어떠한 구성이어도 좋다. 예를 들면, 원반형상의 유닛의 중심에 핀 등의 보지부가 마련되어 있는 경우, 장착부(220)는 보지부를 보지한다.
작업자는 핸들(H4)을 회전시켜서, 수동 아암(200)에 분리 유닛(120)을 장착한다. 그리고, 작업자는 핸들(H1)을 회전시켜서, 리니어 스테이지(150) 및 수동 아암(200)을 어댑터(96)측으로 이동시킨다. 도 17a 및 도 17b는 리니어 스테이지(150) 및 수동 아암(200)을 어댑터(96)측의 단부로 이동시킨 상태를 도시하고 있다. 도 17a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 17b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 17b는 도 17a의 파선 A-A를 도 17a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
수동 아암(200)은, 평판 판형상의 베이스부(240)와, 장착부(220)가 마련된 헤드부(250)가 마련되어 있고, 베이스부(240)로부터 헤드부(250)를 신축시키는 신축 기구(260)가 마련되어 있다. 예를 들면, 수동 아암(200)은, 신축 기구(260)로서, 베이스부(240)에 회전 가능하게 지지된 볼 나사(262)가 마련되어 있다. 볼 나사(262)의 단부에는, 예를 들어 베벨 기어 등의 결합부(265)와 동축으로 접속되어 있다. 결합부(265)는, 리니어 스테이지(150) 및 수동 아암(200)이 어댑터(96)측의 단부에 위치할 때에, 결합부(231)와 결합하는 위치에 배치되어 있다.
결합부(265)는, 리니어 스테이지(150) 및 수동 아암(200)이 어댑터(96)측의 단부에 위치하면, 결합부(231)와 결합한다. 이것에 의해, 핸들(H4)의 회전에 따라, 볼 나사(262)가 회전한다. 볼 나사(262)에는, 볼 나사(262)에 대응하여 홈이 형성된 지지 부재(263)가 장착되어 있다. 지지 부재(263)는 볼 나사(262)와 평행하게 가이드 구멍(264)이 형성되어 있다. 지지 부재(263)는 가이드 구멍(264)을 거쳐서 헤드부(250)에 고정되어 있다. 이것에 의해, 볼 나사(262)의 회전에 따라, 지지 부재(263) 및 헤드부(250)는 볼 나사(262)의 방향으로 이동한다. 수동 아암(200)은 볼 나사(262)의 회전에 따라, 신축 기구(260)에 의해 베이스부(240)에 대하여 헤드부(250)가 이동함으로써 신축한다.
포커스 링(35)을 분리할 경우, 작업자는 핸들(H4)을 회전시켜서, 베이스부(240)로부터 헤드부(250)를 신장시킨다. 도 18a 및 도 18b는 베이스부(240)로부터 헤드부(250)를 신장시킨 상태를 도시하고 있다. 도 18a는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 평면도이다. 도 18b는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 18b는 도 18a의 파선 A-A를 도 18a의 하측으로부터 투영한 단면도이다.
수동 아암(200)은 헤드부(250)를 승강시키는 승강 기구(270)가 마련되어 있다.
예를 들면, 수동 아암(200)은, 종방향에, 회전 가능하게 지지된 회전축(272)이 마련되어 있다. 회전축(272)의 상방의 단부에는, 예를 들어 베벨 기어 등의 결합부(273)가 마련되어 있다. 또한, 회전축(272)에는, 풀리(274)가 마련되고, 회전축(272)의 회전에 따라 풀리(274)가 회전한다. 또한, 헤드부(250)에도, 종방향에, 장착부(220)의 회전축의 주위에 동축으로, 통형상의 회전축(275)이 마련되어 있다. 회전축(275)에는, 풀리(276)가 마련되어 있다. 풀리(274)와 풀리(276)에는, 벨트(277)가 감겨 걸려 있고, 벨트(277)에 의해 구동력이 전달되고, 풀리(274)의 회전에 따라 풀리(276)가 회전한다. 베이스부(240)는 풀리(276)의 회전에 따른 회전축(275)의 회전에 의해 승강한다.
케이스(101)의 상면에는, 핸들(H5)이 마련되어 있다. 핸들(H5)은, 회전축(280)에 의해, 예를 들어 베벨 기어 등의 결합부(281)와 동축으로 접속되어 있다. 회전축(280)은 O 링 등에 의해 기밀성을 유지한 채, 회전시키는 것이 가능하게 되어 있다. 결합부(281)는 핸들(H5)을 회전시키는 것에 의해 회전한다. 핸들(H5), 회전축(280) 및 결합부(281)는, 베이스부(240)로부터 헤드부(250)를 탑재대(31)의 상부에 대응하는 위치까지 신장시켰을 때에, 결합부(273)와 결합부(281)가 결합하는 위치에 배치되어 있다.
결합부(273)는, 베이스부(240)로부터 헤드부(250)를 탑재대(31)의 상부에 대응하는 위치까지 신장시키면, 결합부(281)와 결합한다. 이것에 의해, 핸들(H5)을 회전시킴으로써, 회전축(280), 결합부(281), 결합부(273), 풀리(274), 벨트(277), 풀리(276), 회전축(275)을 거쳐서 헤드부(250)에 구동력이 전달되고, 베이스부(240)의 승강이 가능하게 된다.
포커스 링(35)을 분리할 경우, 작업자는 핸들(H5)을 회전시켜, 베이스부(240)를 하강시켜서, 분리 유닛(120)을 탑재대(31)에 접촉시킨다. 도 19는 분리 유닛(120)을 탑재대(31)에 접촉시킨 상태를 도시하고 있다. 도 19는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 이것에 의해, 탑재대(31)에 탑재된 포커스 링(35)이 접착층(121)에 의해 분리 유닛(120)에 접착한다. 그 후, 작업자는, 분리 유닛(120)을 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 핸들(H1, H4, H5)을 조작하여, 수동 아암(200) 및 분리 유닛(120)을 도 16b (4)에 도시하는 위치까지 이동시킨다. 그리고, 작업자는 핸들(H4)을 조작하여, 수동 아암(200)으로부터 분리 유닛(120)을 분리한다. 수동 아암(200)으로부터 분리된 분리 유닛(120)은 미도시의 반송 기구에 의해 케이스(101) 내의 개구부(101A)와 반대의 측면쪽으로 반송된다.
도 20은 분리된 분리 유닛(120)을 반송하는 동작을 도시하고 있다. 도 20은 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 예를 들면, 수동 아암(200)으로부터 분리된 분리 유닛(120)은 미도시의 반송 기구에 의해 하강시킨 후(도 20의 (1)), 수직 방향으로 회전시키고(도 20의 (2)), 처리완료의 유닛으로서, 케이스(101) 내의 개구부(101A)와 반대의 측면쪽으로 반송된다(도 20의 (3)).
다음에, 탑재대(31)의 탑재면(36d)을 클리닝할 때의 동작을 설명한다. 탑재대(31)의 탑재면(36d)을 클리닝할 경우, 수동 아암(200)에 청소 유닛(130)을 장착한다. 도 21은 수동 아암(200)에 청소 유닛(130)을 장착할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 21은 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
종방향으로 배치된 청소 유닛(130)은 미도시의 반송 기구에 의해 수평 방향으로 회전되고(도 21의 (1)), 수동 아암(200) 아래로 반송된다(도 21의 (2) 내지 (4)).
작업자는 핸들(H4)을 회전시켜서, 수동 아암(200)에 청소 유닛(130)을 장착한다. 그리고, 작업자는, 포커스 링(35)을 분리할 때와 마찬가지로, 핸들(H1, H4, H5)을 조작하여, 청소 유닛(130)을 탑재대(31)의 상부로 운반한 후, 하강시켜서, 청소 유닛(130)을 탑재대(31)에 접촉시킨다. 그 후, 작업자는, 청소 유닛(130)을 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 핸들(H1, H5)을 조작하여, 수동 아암(200) 및 청소 유닛(130)을 도 21의 (4)에 도시하는 위치까지 이동시킨다. 그리고, 작업자는 핸들(H4)을 조작하여, 수동 아암(200)으로부터 청소 유닛(130)을 분리한다. 수동 아암(200)으로부터 분리된 청소 유닛(130)은 미도시의 반송 기구에 의해 케이스(101) 내의 개구부(101A)와 반대의 측면쪽으로 반송된다.
다음에, 교환용의 포커스 링(35)을 탑재대(31)에 장착할 때의 동작을 설명한다. 교환용의 포커스 링(35)을 탑재대(31)에 장착할 경우, 수동 아암(200)에 장착 유닛(140)을 장착한다. 도 22는 수동 아암(200)에 장착 유닛(140)을 장착할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 22는 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 도 22에서는, 청소 유닛(130)이, 분리 유닛(120)과 나란하도록, 케이스(101) 내의 개구부(101A)와 반대의 측면쪽으로 반송되어 있다.
종방향으로 배치된 장착 유닛(140)은 미도시의 반송 기구에 의해 수평 방향으로 회전되고(도 22의 (1)), 수동 아암(200) 아래로 반송된다(도 22의 (2) 내지 (4)).
작업자는 핸들(H4)을 회전시켜서, 수동 아암(200)에 장착 유닛(140)을 장착한다. 그리고, 작업자는, 포커스 링(35)을 분리할 때와 마찬가지로, 핸들(H1, H4, H5)을 조작하여, 장착 유닛(140)을 탑재대(31)의 상부로 운반한 후, 하강시켜서, 장착 유닛(140)을 탑재대(31)에 접촉시킨다. 장착 유닛(140)은, 탑재대(31)에 접촉했을 때에, 세팅된 교환용의 포커스 링(35)을 해방한다. 이것에 의해, 교환용의 포커스 링(35)이 탑재대(31)에 탑재된다. 그 후, 작업자는, 장착 유닛(140)을 탑재대(31)의 상부로 운반했을 때와 반대의 순서로 핸들(H4, H5)을 조작하여, 수동 아암(200) 및 장착 유닛(140)을 도 22의 (4)에 도시하는 위치까지 이동시킨다. 그리고, 작업자는 핸들(H4)을 조작하여, 수동 아암(200)으로부터 장착 유닛(140)을 분리한다. 수동 아암(200)으로부터 분리된 장착 유닛(1400)은 미도시의 반송 기구에 의해 케이스(101) 내의 개구부(101A)와 반대의 측면쪽으로 반송된다.
어댑터(96)를 개구부(101A)에 장착할 경우, 작업자는 핸들(H3L, H3R)을 회전시켜서, 수동 아암(200)을 리니어 스테이지(150)로부터 분리한다. 리니어 스테이지(150)로부터 분리된 수동 아암(200)은 미도시의 반송 기구에 의해 케이스(101) 내의 개구부(101A)의 측면쪽으로 반송된다. 또한, 개구부(101A)와 반대의 측면쪽에 배치된 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)도, 미도시의 반송 기구에 의해 케이스(101) 내의 개구부(101A)의 측면쪽으로 반송된다.
작업자는, 어댑터(96)를 분리했을 때와 반대의 순서로, 어댑터(96)를 제 2 게이트(95)에 장착한다. 그리고, 작업자는 유지보수 장치(100)의 케이스(101) 내부를 대기압으로 되돌린다.
이와 같이, 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 상술한 제 1 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)와 마찬가지로, 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거치지 않고 포커스 링(35)을 교환할 수 있다.
(제 3 실시형태)
다음에, 제 3 실시형태에 대해서 설명한다. 제 3 실시형태에 따른 기판 처리 시스템(1) 및 플라즈마 에칭 장치(10)는, 도 1, 도 2에 도시하는 제 1 실시형태에 따른 기판 처리 시스템(1) 및 플라즈마 에칭 장치(10)와 동일한 구성이기 때문에, 설명을 생략한다.
제 3 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)의 구성에 대해서 설명한다. 도 23은 제 3 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 또한, 상술한 제 1 및 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)와 동일 및 대응하는 부분에 대해서는, 동일한 부호를 부여하여 설명한다.
유지보수 장치(100)는 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 대응하는 사이즈의 개구부(101A)가 형성된 케이스(101)를 갖는다. 케이스(101)는 개구부(101A)의 주위의 플라즈마 에칭 장치(10)와 접촉하는 부분에 O 링 등이 마련되어 있다. 유지보수 장치(100)는, 제 2 게이트(95)에 개구부(101A)를 대응시켜서 배치하고, 나사 고정하는 것 등에 의해, 제 2 게이트(95)에 대하여 기밀성을 유지하면서 개구부(101A)가 장착된다.
케이스(101)에는, 내부의 진공도를 측정 가능한 진공계(101B)가 마련되어 있다. 소모 파트를 교환할 때, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내부가 처리 용기(30)와 동일한 정도의 진공 분위기로 된다.
유지보수 장치(100)는, 케이스(101) 내부에, 처리 용기(30) 내의 소모 파트의 분리, 처리 용기(30) 내에의 소모 파트의 장착, 처리 용기(30) 내의 청소 중 적어도 하나를 실해하는 유지보수 기구가 마련되어 있다. 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 유지보수 기구로서, 수동 아암(200)과, 분리 유닛(120)과, 청소 유닛(130)과, 장착 유닛(140)이 마련되어 있다. 분리 유닛(120)에는, 수동 아암(200)이 미리 장착되어 있다.
케이스(101) 내부에는, 개구부(101A)측에, 소정 간격의 높이로 지지대(102)가 마련되어 있다. 수동 아암(200)이 장착된 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)은 각각 지지대(102)에 탑재되어 있다. 케이스(101)는 일부분이 개폐 가능하게 되어 있고, 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)을 개별적으로 착탈 가능하게 되어 있다. 즉, 분리 유닛(120), 청소 유닛(130) 및 장착 유닛(140)은 개별적으로 교환 가능하게 되어 있다.
또한, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 내의 상부에 볼 나사(105)와 미도시의 샤프트가 평행하게 배치되어 있다. 볼 나사(105)와 미도시의 샤프트에는, 리니어 스테이지(150)가 장착되어 있다. 리니어 스테이지(150)에는, 어댑터 분리 유닛(160)이 장착되어 있다.
또한, 유지보수 장치(100)는, 케이스(101) 내부의 개구부(101A)와 반대측의 하부에, 승강대(114)가 마련되어 있다.
유지보수 장치(100)는 승강대(114)를 사용하여, 리니어 스테이지(150)에 각 유닛을 장착함으로써, 플라즈마 에칭 장치(10)의 유지보수를 실행한다.
예를 들면, 어댑터(96)를 분리할 경우, 작업자는 핸들(H1)을 회전시켜서 리니어 스테이지(150) 및 어댑터 분리 유닛(160)을, 도 23의 파선으로 도시한 바와 같이, 어댑터(96)측으로 이동시킨다. 예를 들면, 제 2 실시형태와 동일한 조작을 실행하여 어댑터(96)를 분리한다.
또한, 예를 들어 포커스 링(35)을 분리할 경우, 승강대(114)를 사용하여, 리니어 스테이지(150)에 분리 유닛(120)을 장착한다. 도 24는 포커스 링(35)을 분리할 때의 동작을 도시하고 있다. 도 24는 제 3 실시형태에 따른 유지보수 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 예를 들면, 제 2 실시형태와 동일한 조작을 실행하여, 도 24에 도시하는 바와 같이 어댑터(96)를 분리한다.
이와 같이, 본 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)는, 상술한 제 1 및 제 2 실시형태에 따른 유지보수 장치(100)와 마찬가지로, 웨이퍼(W)를 반송하는 반송계를 거치지 않고 포커스 링(35)을 교환할 수 있다.
이상, 본 발명을 실시형태를 이용하여 설명했지만, 본 발명의 기술적 범위는 상기 실시형태에 기재된 범위에는 한정되지 않는다. 상기 실시형태에 다양한 변경 또는 개량을 부가하는 것이 가능하다는 것이 당업자에게는 명확하다. 또한, 그러한 변경 또는 개량을 부가한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함될 수 있다는 것이 특허청구범위의 기재로부터 명확하다.
예를 들면, 제 1 내지 제 3 실시형태에서는, 소모 파트로서, 포커스 링(35)을 교환할 경우를 예로 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 소모 파트는 어느 것이어도 좋다. 또한, 유지보수 장치(100)는, 소모 파트의 교환 이외에, 예를 들어 처리 용기(30) 내의 청소 등의 유지보수에 사용해도 좋다.
또한, 제 1 내지 제 3 실시형태에서는, 유지보수 장치(100)를 플라즈마 에칭 장치(10)의 유지보수에 사용했을 경우를 예로 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 유지보수가 대상으로 하는 장치는 진공으로 한 처리 용기를 갖는 장치이면 어떠한 장치라도 좋다.
또한, 제 1 내지 제 3 실시형태에서는, 케이스(101)를 분리할 수 없는 용기로 한 경우를 예로 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 제 1 및 제 3 실시형태의 케이스(101)는 유닛을 수용 가능한 프레임을 포함하는 복수의 프레임을 중첩하여 케이스(101)를 구성해도 좋다. 도 25는 프레임의 일례를 개략적으로 도시하는 사시도이다. 도 25에 도시하는 프레임(300)은 직사각형상으로 되고, 상부와 하부의 면이 제거되어 있다. 프레임(300)은, 내부의 측면에, 유닛을 결합시키기 위한 레일(301)이 형성되어 있고, 레일(301)에 결합시켜서 유닛을 보지하는 것이 가능하게 되어 있다. 프레임(300)은, 4개의 코너의 상면에, 프레임(300)을 중첩할 때의 위치맞춤용의 오목부(302)가 형성되고, 4개의 코너의 하면에, 오목부(302)에 대응하는 볼록부가 형성되어 있다. 케이스(101)는 이러한 프레임(300)을 복수 접합하여 구성해도 좋다. 도 26은 프레임을 복수 중첩하여 구성한 케이스의 일례를 개략적으로 도시하는 사시도이다. 도 26에 도시하는 케이스(101)는 3개의 프레임(300(300A, 300B, 300C))을 중첩하여 접합한 구성으로 되어 있다. 최상부가 되는 프레임(300A)의 상면은 천장판으로 밀폐되어 있다. 최하부가 되는 프레임(300C)의 저면도 바닥판으로 밀폐되어 있다. 또한, 최상부가 되는 프레임(300A)에는, 하부의 면만이 제거된 상자형상의 프레임을 이용해도 좋다. 또한, 최하부가 되는 프레임(300C)에는, 상부의 면만이 제거된 상자형상의 프레임을 이용해도 좋다. 프레임(300)은, 처리 용기(30)와 동일한 정도의 진공 분위기에 대한 강도를 얻을 수 있는 재료이면, 어느 것이어도 좋다. 예를 들면, 프레임(300)은 수지 등을 이용하여 형성해도 좋다. 개구부(101A)는 최상부의 프레임(300)에 형성해도 좋다. 또한, 개구부(101A)가 형성된 전용의 프레임(300)을 접합해도 좋다. 이와 같이 프레임(300)을 복수 접합하여 케이스(101)를 구성하는 것에 의해, 유지보수 장치(100)는 실시하는 유지보수에 대응시켜서, 유닛을 용이하게 변경할 수 있다. 또한, 유지보수 장치(100)는, 유지보수에 사용하는 유닛만의 프레임으로 케이스(101)를 구성할 수 있기 때문에, 실시하는 유지보수에 대응시켜서 케이스(101)의 사이즈를 작게 할 수 있다. 예를 들면, 처리 용기(30) 내부의 청소만을 실행할 경우, 프레임(300A)에는, 볼 나사(105)와 샤프트(106)가 평행하게 배치되고, 어댑터 분리 유닛(160)이 장착된 리니어 스테이지(150)를 수용한다. 프레임(300B)에는, 수동 아암(200) 및 청소 유닛(130)을 수용한다. 프레임(300C)에는, 승강대(114)를 수용한다. 유지보수 장치(100)는 이러한 프레임(300A, 300B, 300C)을 중첩하여 접합함으로써, 유지보수 장치(100)는 처리 용기(30) 내의 청소만을 실행하는 구성으로 할 수도 있다. 또한, 유지보수 장치(100)는 케이스(101) 단위로 운반할 수 있기 때문에, 용이하게 운반할 수 있다.
또한, 제 1 내지 제 3 실시형태에서는, 일부에서, 작업원이 핸들을 돌림으로써 유닛의 이동이나 어댑터(96)의 분리를 실행할 경우를 예로 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유지보수 장치(100)는 모터 등의 액추에이터의 구동력에 의해 유지보수에 따른 모든 동작을 실시해도 좋다. 또한, 유지보수 장치(100)는 작업원의 구동력에 의해 유지보수에 따른 모든 동작을 실시해도 좋다.
또한, 제 1 실시형태 내지 제 3 실시형태에서는, 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)가 어댑터(96)에 의해 기밀성을 유지해서 폐쇄되어 있을 경우를 예로 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 플라즈마 에칭 장치(10)의 제 2 게이트(95)에 게이트 밸브(G)를 마련하여 개폐 가능하게 해도 좋다. 이러한 경우, 유지보수 장치(100)는 어댑터(96)를 분리하는 유닛이 불필요하게 된다.
1 : 기판 처리 시스템 10 : 플라즈마 에칭 장치
30 : 처리 용기 31 : 탑재대
35 : 포커스 링 84 : 제 1 게이트
95 : 제 2 게이트 96 : 어댑터
100 : 유지보수 장치 101 : 케이스
101A : 개구부 110 : 로봇 아암
114 : 승강대 120 : 분리 유닛
121 : 접착층 130 : 청소 유닛
140 : 장착 유닛 200 : 수동 아암
300 : 프레임 300A : 프레임
300B : 프레임 300C : 프레임

Claims (26)

  1. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하고, 장착 위치에서 상기 처리 용기에 인접한 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리 또는 상기 처리 용기 내에의 교환 파트의 장착 중 적어도 하나와, 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는, 상기 케이스에 탑재된 제 1 반송 기구를 구비하고, 제 1 수축 위치 및 제 2 신장 위치 사이에서 이동 가능하고, 상기 제 1 수축 위치에서 상기 제 1 반송 기구는 상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 케이스가 상기 장착 위치에 있을 때 상기 제 2 신장 위치에서 상기 제 1 반송 기구는 상기 케이스의 상기 개구부를 넘어 상기 처리 용기로 신장되고,
    상기 소모 파트의 분리 이후 및 상기 교환 파트의 장착 이전에 상기 처리 용기의 내부 표면을 청소하도록 청소 유닛을 상기 케이스의 외부로 이동시키도록 상기 제 1 반송 기구를 제어하고, 상기 처리 용기의 상기 내부 표면의 청소 이후에 상기 청소 유닛이 상기 케이스로 되돌아 오도록 상기 제 1 반송 기구를 더 제어하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지보수 기구는 상기 제 1 반송 기구가 상기 제 2 신장 위치에 있을 때 상기 처리 용기로 신장하는 상기 청소 유닛을 더 구비하고, 상기 유지보수 기구는 적어도 하나의 유지보수 유닛을 더 구비하고,
    상기 적어도 하나의 유지보수 유닛은 (i) 상기 제 1 반송 기구가 상기 제 2 신장 위치에 있을 때 상기 처리 용기로 신장하고, 상기 제 1 반송 기구가 상기 제 2 신장 위치로부터 상기 케이스로 되돌아 올 때에 상기 처리 용기 내의 상기 소모 파트를 파지해서 상기 소모 파트를 상기 케이스로 이동시키는 분리 유닛, 또는 (ii) 상기 제 1 반송 기구가 상기 제 2 신장 위치에 있을 때 상기 처리 용기로 신장하고, 상기 처리 용기 내에 상기 교환 파트를 장착하는 장착 유닛 중 적어도 하나를 구비하고,
    상기 청소 유닛은 상기 처리 용기의 내부 표면을 청소하고, 상기 소모 파트의 분리 이후 및 상기 교환 파트의 장착 이전에 상기 케이스의 외부로 및 상기 처리 용기의 내부로 신장하여 상기 처리 용기 내에서 청소를 실행하는
    유지보수 장치.
  3. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 유닛은 소모 파트와 접촉되는 면에 접착층을 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  4. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 유닛은 상기 케이스에 개별적으로 착탈 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  5. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 케이스는, 상기 아암 및 상기 유닛 중 적어도 한쪽을 수용한 프레임을 포함하는 복수의 프레임을 접합하여 구성되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  6. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 케이스 내에는, 상기 유닛을 지지하는 지지대를 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  7. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 장착 유닛에는, 상기 처리 용기 내에 마련된 탑재대에 대하여 위치결정을 실행하는 위치결정 핀이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 소모 파트는 포커스 링이며, 상기 장착 유닛은 상기 포커스 링과 결합하여 지지하는 결합 부재와, 상기 포커스 링과의 결합을 해방하는 핀을 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  9. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 적어도 하나의 유닛은 상기 케이스 내에 종방향으로 수용되는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  10. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트를 폐색하는 어댑터를 분리하는 어댑터 분리 유닛을 더 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 어댑터 분리 유닛은 상기 어댑터와의 위치결정을 실행하는 위치결정 핀을 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 어댑터 분리 유닛은 상기 어댑터를 분리하는 분리 핀을 갖고, 상기 케이스에는, 상기 분리 핀을 회전시키는 핸들이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 케이스 내에는, 분리된 상기 어댑터를 보지하는 어댑터 서포트가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 케이스 내에서 이동 가능하게 마련된 스테이지를 더 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 어댑터 분리 유닛은 상기 스테이지에 착탈 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 케이스에는, 상기 어댑터 분리 유닛을 상기 스테이지에 착탈시키기 위한 핸들이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  17. 기판의 반입출에 사용되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트와는 상이한 제 2 게이트가 처리 용기에 마련된 진공 처리 장치의 상기 제 2 게이트에 대응하는 사이즈의 개구부가 형성되고, 상기 제 2 게이트에 대하여 기밀성을 유지하면서 상기 개구부를 장착 가능하게 된 케이스와,
    상기 케이스 내부에 수용되고, 상기 개구부를 거쳐서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트의 분리, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착, 상기 처리 용기 내의 청소 중 적어도 하나를 실행하는 유지보수 기구를 갖고,
    상기 유지보수 기구는,
    아암과,
    상기 아암에 탈착 가능하게 된 유닛으로서, 상기 처리 용기 내의 소모 파트를 분리하는 분리 유닛, 상기 처리 용기 내에의 소모 파트의 장착을 실행하는 장착 유닛 또는 상기 처리 용기 내의 청소를 실행하는 청소 유닛 중 적어도 하나인, 상기 유닛을 갖고,
    상기 아암은 상기 케이스 내에서 이동 가능하게 마련된 스테이지에 착탈 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 아암은, 베이스부와, 헤드부와, 상기 헤드부를 상기 베이스부로부터 신축시키는 신축 기구를 포함하며, 상기 신축 기구는, 상기 베이스부에 회전 가능하게 지지된 볼 나사와, 상기 헤드부에 고정되고 상기 볼 나사에 대응하여 홈이 형성된 지지 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 아암은 상기 헤드부를 승강시키는 승강 기구를 더 포함하며, 상기 승강 기구는, 상기 베이스부에 마련된 제 1 회전축과, 상기 제 1 회전축에 마련된 제 1 풀리와, 상기 헤드부에 마련된 제 2 회전축과, 상기 제 2 회전축에 마련된 제 2 풀리와, 상기 제 1 풀리와 상기 제 2 풀리에 감겨 걸려진 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  20. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진공 처리 장치의 배기 장치와 접속하고, 상기 케이스 내를 감압하는 배기관을 더 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  21. 제 14 항에 있어서,
    상기 케이스 내에는, 볼 나사와, 상기 볼 나사와 평행하게 배치된 샤프트가 마련되고, 상기 스테이지는 상기 볼 나사 및 상기 샤프트에 장착되고, 상기 스테이지에는 상기 볼 나사에 대응한 홈이 형성되고, 상기 스테이지는 상기 볼 나사의 회전에 의해 이동 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  22. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 케이스 내에, 승강대를 더 갖는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  23. 개구를 갖고, 처리 용기에 장착되는 케이스 -상기 케이스의 상기 처리 용기로의 장착 위치에서 상기 케이스의 상기 개구는 상기 처리 용기의 게이트를 향하고, 상기 게이트는 상기 게이트를 선택적으로 개폐하는 어댑터를 구비함- 와,
    (i) 상기 처리 용기의 내부로부터 파트를 분리하는 분리 유닛, (ii) 상기 처리 용기 내의 부분을 청소하는 청소 유닛, 또는 (iii) 상기 처리 용기 내에 파트를 장착하는 장착 유닛 중 적어도 하나를 구비하는 적어도 하나의 유지보수 유닛과,
    상기 케이스 내에 위치한 지지대와,
    상기 지지대로부터 상기 적어도 하나의 유지보수 유닛을 파지하거나 상기 지지대에 상기 적어도 하나의 유지보수 유닛을 되돌리는 유지보수 유닛 반송 기구 -상기 유지보수 유닛 반송 기구는 상기 케이스의 상기 개구를 통해 신장하여 상기 적어도 하나의 유지보수 유닛을 상기 지지대로부터 상기 케이스의 외부로 및 처리 용기 내로 이동시킴- 를 구비하고,
    상기 적어도 하나의 유지보수 유닛은 상기 청소 유닛을 구비하고,
    상기 처리 용기로부터의 상기 파트의 분리 이후 및 상기 처리 용기 내로의 상기 파트의 장착 이전에 상기 처리 용기 내의 상기 부분을 청소하도록 상기 청소 유닛을 상기 케이스의 내부로부터 상기 케이스의 외부로 반송하도록 상기 유지보수 유닛 반송 기구를 제어하고, 상기 처리 용기 내의 상기 부분의 청소 이후에 상기 케이스 내로 상기 청소 유닛이 되돌아오도록 상기 유지보수 유닛 반송 기구를 더 제어하는 제어부를 구비하는
    유지보수 장치.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 케이스 내부에 위치하고, 상기 게이트를 개방하기 위해 상기 게이트로부터 상기 어댑터를 분리하는 어댑터 분리 유닛과,
    상기 케이스의 내부에 위치하고, 상기 어댑터 분리 유닛을 탑재하는 어댑터 분리 유닛 이동 기구 -상기 어댑터 분리 유닛 이동 기구는 상기 어댑터 분리 유닛을 이동시키고 상기 케이스의 상기 개구에 인접한 분리 위치에 정지하며, 상기 어댑터 분리 유닛은 상기 분리 위치에서 상기 게이트로부터 상기 어댑터를 분리함-를 구비하고,
    상기 어댑터 분리 유닛 이동 기구는 상기 어댑터 분리 유닛을 상기 분리 위치로부터, 상기 분리 위치로부터 떨어진 상기 케이스 내의 수축 위치로 반송시키고, 상기 수축 위치에서 상기 어댑터 분리 유닛은 상기 케이스 내에서 상기 어댑터를 지지하고 있는 것을 특징으로 하는
    유지보수 장치.
  25. 처리 용기에 연결될 개구를 갖는 케이스와,
    적어도 하나의 유지보수 유닛과,
    상기 적어도 하나의 유지보수 유닛을 상기 케이스의 내부로부터, 상기 개구를 통하여 상기 처리 용기 내로 반송하는 유지보수 유닛 반송 기구를 구비하고,
    상기 적어도 하나의 유지보수 유닛은 상기 처리 용기의 내부 표면을 청소하는 청소 유닛을 구비하고,
    상기 케이스 내의 지지대 -상기 청소 유닛은 상기 지지대에 탑재되고, 상기 유지보수 유닛 반송 기구는 상기 청소 유닛을 상기 지지대로부터 분리하여 상기 케이스의 외부로 및 상기 처리 용기의 내로 반송시켜 청소 동작을 실행하도록 하고, 그 이후에 상기 청소 유닛을 상기 지지대로 되돌림- 와,
    상기 처리 용기로부터 파트를 분리한 이후 및 상기 처리 용기 내의 교환 파트의 부착 이전에 상기 처리 용기의 내부 표면을 청소하도록 상기 청소 유닛을 상기 케이스의 내부로부터 상기 케이스의 외부로 반송하도록 상기 유지보수 유닛 반송 기구를 제어하고, 상기 처리 용기의 내부 표면의 청소 이후 상기 케이스의 내부로 상기 청소 유닛을 되돌리도록 상기 유지보수 유닛 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비하는
    유지보수 장치.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 케이스의 내부에 위치하여, 상기 처리 용기의 게이트를 폐쇄하는 어댑터를 분리하는 어댑터 분리 유닛을 구비하는
    유지보수 장치.
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