JP2016211030A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 搬送機構およびチャンバの構造の簡素化を図ると共に、ガラス基板を安定して搬送し得る真空処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１１を着脱自在に保持する基板ホルダ１４を有する搬送機構１５と、ガラス基板１１に対して真空状態で処理を実行するチャンバ１３を備え、搬送機構１５により基板ホルダ１４を移送することにより、ガラス基板１１をチャンバ１３に搬入すると共にガラス基板１１をチャンバ１３から搬出する真空処理装置において、搬送機構１５は、基板ホルダ１４の移送方向に沿う複数箇所に垂直配置され、基板ホルダ１４をガイドしながら駆動するプーリ１７，１８を備え、移送方向に延びるシャフト２１を基板ホルダ１４に架設し、垂直配置のプーリ１７，１８に基板ホルダ１４のシャフト２１を当接させることにより、垂直配置のプーリ１７，１８に対して基板ホルダ１４を傾斜させる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、基板に対して真空状態で処理を実行するチャンバを備え、搬送機構により基板をチャンバに搬入すると共に基板をチャンバから搬出する真空処理装置に関する。

例えば、真空蒸着装置、スパッタリング装置やプラズマＣＶＤ装置などの真空処理装置には、被処理対象物である基板を立てて搬送する縦型搬送のインライン型スパッタリング装置がある（例えば、特許文献１参照）。

この特許文献１で開示されたインライン型スパッタリング装置は、ディスプレイパネル用のＧ６世代サイズ（１８００ｍｍ×１５００ｍｍ）以上の大型サイズの透明なガラス基板をキャリアに搭載した状態でもってインラインで搬送しながらスパッタ処理を実行し、ガラス基板の一面側に電極用ＩＴＯ膜を成膜する装置である。

このスパッタリング装置において、ガラス基板はローディングチャンバに搬入され、予備チャンバを経てスパッタチャンバに搬入される。このスパッタチャンバにおいて、ガラス基板は、回転部によりキャリアごと１８０°回転されて搬送されながら成膜処理が行われる。この成膜処理後、ガラス基板は、予備チャンバおよびアンローディングチャンバを経て搬出される。

特開２００７−１６２０６３号公報

ところで、Ｇ６世代サイズ以上の大型サイズのガラス基板の撓みを無くして搬送するには、ガラス基板を垂直に立てて搬送すればよい。しかし、ガラス基板を垂直に立てて搬送すると、ガラス基板が左右に振れて不安定な搬送となる。そのため、従来のスパッタリング装置では、ガラス基板を傾斜させた状態で立てて搬送するようにしている。

しかしながら、ガラス基板を傾斜させた状態で立てて搬送する場合、そのガラス基板を支持しながら搬送するための搬送用回転ロールを含む周辺機構も傾ける必要がある。これに対して、ローディングチャンバ、予備チャンバ、スパッタチャンバおよびアンローディングチャンバを水平状態に設置すると、搬送用回転ロールを含む周辺機構とチャンバとで角度が付くことになる。そのため、スパッタリング装置の構造が複雑になり、装置の設計工数および加工工数が増加することになる。

一方、傾斜搬送のガラス基板に合わせてチャンバを傾斜させた場合、チャンバの重心がずれることにより、チャンバが転倒する危険性が発生することになる。また、従来のスパッタリング装置では、搬送駆動用の歯車によりガラス基板をキャリアごと搬送する構造を備えている。このように、歯車を採用した場合、その歯車の噛み合わせがずれることがあり、歯車の噛み合わせ不良により、ガラス基板を安定して搬送することが困難となる。

そこで、本発明は前述の問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするところは、搬送機構およびチャンバの構造の簡素化を図ると共に、ガラス基板を安定して搬送し得る真空処理装置を提供することにある。

前述の目的を達成するための技術的手段として、本発明は、基板が着脱自在に保持される基板ホルダを有する搬送機構と、基板に対して真空状態で処理を実行するチャンバを備え、搬送機構により基板ホルダを移送することにより、基板をチャンバに搬入すると共に基板をチャンバから搬出する真空処理装置において、搬送機構は、基板ホルダの移送方向に沿う複数箇所に垂直配置され、基板ホルダをガイドしながら駆動するプーリを備え、移送方向に延びるシャフトを基板ホルダに架設し、垂直配置のプーリに基板ホルダのシャフトを当接させることにより、垂直配置のプーリに対して基板ホルダを傾斜させたことを特徴とする。

本発明の真空処理装置は、基板ホルダの移送方向に沿う複数箇所に垂直配置され、基板ホルダをガイドしながら駆動するプーリを備えた搬送機構を具備する。この真空処理装置では、移送方向に延びるシャフトを基板ホルダに架設し、垂直配置のプーリに基板ホルダのシャフトを当接させることにより、チャンバを水平状態に設置したままで、垂直配置された搬送機構のプーリに対して基板ホルダを容易に傾斜させることができる。その結果、搬送機構およびチャンバの構造を簡素化することができ、プーリにより基板を安定して搬送することもできる。

本発明において、シャフトに円筒部材を回転自在に外挿し、円筒部材をプーリに当接させた構造が望ましい。このようにすれば、プーリに当接する円筒部材がシャフトに対して回転自在となっているので、垂直配置のプーリに対して基板ホルダをより一層容易に傾斜させることができる。

本発明において、シャフトと円筒部材との間に軸受を介在させた構造が望ましい。このようにすれば、プーリに当接する円筒部材が軸受を介してシャフトに対して回転自在となっているので、垂直配置のプーリに対して基板ホルダをより一層容易に傾斜させることができる。

本発明において、プーリのシャフトとの当接部位は、シャフトとの接触面積を低減させる構造を備えていることが望ましい。このようにすれば、プーリとシャフトとの摺接によるゴミの発生を抑制することができる。

本発明におけるプーリは、シャフトとの当接部位の両側に配置された一対の鍔部のうち、一方の鍔部を着脱自在とした構造が望ましい。このようにすれば、プーリの一方の鍔部を取り外すことにより、基板ホルダを一方の鍔部側から搬送機構に取り付けたり、あるいは搬送機構から取り外したりすることができてメンテナンス性の向上が図れる。

本発明における搬送機構は、基板ホルダの下部側に配置され、基板ホルダの移送方向と直交する水平方向に基板ホルダの下部を移動させる水平移動機構部と、基板ホルダの上部側に配置され、基板ホルダの移送方向と直交する垂直方向に基板ホルダの上部を移動させる垂直移動機構部とが付設されていることが望ましい。このような構造を採用すれば、基板ホルダを水平状態から傾斜状態へ移行させたり、あるいは傾斜状態から水平状態へ移行させたりすることができ、基板ホルダの姿勢を変更することが可能となる。

本発明によれば、移送方向に延びるシャフトを基板ホルダに架設し、垂直配置のプーリに基板ホルダのシャフトを当接させることにより、チャンバを水平状態に設置したままで、垂直配置された搬送機構のプーリに対して基板ホルダを容易に傾斜させることができる。これにより、搬送機構およびチャンバの構造を簡素化することができ、プーリにより基板を安定して搬送することもできる。その結果、信頼性の高い簡素な真空処理装置を提供することができる。

本発明の実施形態で、真空処理装置における搬送機構およびチャンバの概略構成を示す断面図である。 図１のＰ矢印方向から見た搬送機構およびチャンバを示す断面図である。 図２のＡ部を示す部分拡大図である。 図１のＢ部を示す部分拡大図である。 図１のＣ部を示す部分拡大図である。 図１の搬送機構のプーリの変形例を示す断面図である。 図６のＤ部を示す部分拡大図である。 図２の搬送機構の円筒部材の変形例を示す断面図である。 図８のＥ部を示す部分拡大図である。 図４の搬送機構のシャフトおよび円筒部材の変形例を示す部分拡大図である。 図１の搬送機構のプーリの変形例を示す拡大図である。 本発明の他の実施形態で、真空処理装置における搬送機構およびチャンバの概略構成を示す断面図である。 図１２のＦ部を示す部分拡大図である。 水平移動機構部および垂直移動機構部で、基板ホルダの水平状態を示す正面図である。 図１４のＸ矢視図である。 水平移動機構部および垂直移動機構部で、基板ホルダの傾斜状態を示す正面図である。 図１６のＹ矢視図である。 図１および図１２の真空処理装置の全体構成を示す概略平面図である。

本発明に係る真空処理装置の実施形態を以下に詳述する。以下の実施形態では、例えば、ＩＴＯ焼結体をターゲットとし、ガラス基板上にＩＴＯをスパッタリングすることにより、ＩＴＯ膜を成膜するスパッタリング装置を例示する。なお、本発明は、真空蒸着装置やプラズマＣＶＤ装置などの他の薄膜形成装置に適用することも可能であり、さらに、薄膜形成装置以外の他の真空処理装置にも適用可能である。

この実施形態のスパッタリング装置は、例えば、Ｇ６世代サイズ以上の大型サイズのガラス基板の撓みを無くし、安定したガラス基板の搬送を実現するため、ガラス基板を傾斜させた状態で立てて搬送する縦型搬送のインライン型スパッタリング装置である。

このスパッタリング装置は、図１８に示すように、ガラス基板１１にターゲット１２を成膜するスパッタチャンバ１３ａと、そのスパッタチャンバ１３ａのロード側に配置されたローディングチャンバ１３ｂと、スパッタチャンバ１３ａのアンロード側に配置されたアンローディングチャンバ１３ｃと、ガラス基板１１を傾斜させた状態で立てて搬送する基板ホルダ１４を備えた搬送機構１５（図１および図２参照）とで主要部が構成されている。各チャンバ１３ａ〜１３ｃの出入口には、ゲートバルブ１６が設けられている。

このスパッタリング装置において、ガラス基板１１はローディングチャンバ１３ｂを経てスパッタチャンバ１３ａに搬入される。このスパッタチャンバ１３ａでは、第１のポジションでガラス基板１１にターゲット１２を成膜する処理が行われ、回転機構（図示せず）によりガラス基板１１を１８０°旋回された上で、第２のポジションでガラス基板１１にターゲット１２を成膜する処理が行われる。この成膜処理後、ガラス基板１１は、アンローディングチャンバ１３ｃを経て搬出される。

このように、ガラス基板１１をローディングチャンバ１３ｂに搬入し、また、スパッタチャンバ１３ａで搬送し、さらに、アンローディングチャンバ１３ｃから搬出する搬送機構１５を以下に説明する。なお、以下の説明では、ローディングチャンバ１３ｂ、スパッタチャンバ１３ａおよびアンローディングチャンバ１３ｃを総称する場合には、単にチャンバ１３とする。

搬送機構１５は、図１および図２に示すように、ガラス基板１１を保持する基板ホルダ１４と、基板ホルダ１４の移送方向に沿う複数箇所（図２では上下３箇所ずつ）に垂直配置され、基板ホルダ１４をガイドしながら駆動するプーリ１７，１８とを備えている。なお、図１では、チャンバ１３の側壁部にフランジ１９を取り付け、そのフランジ１９に設けられたターゲット１２を基板ホルダ１４に対向配置したスパッタチャンバ１３ａ（図１８参照）を例示している。

基板ホルダ１４は、例えば吸着などの適宜の手段によりガラス基板１１を着脱自在としている。また、基板ホルダ１４の上部および下部には、ガラス基板１１の脱落を防止するための断面コ字状の枠部２０が設けられている。この基板ホルダ１４の上部および下部に、移送方向に延びるシャフト２１が架設されている。シャフト２１は、基板ホルダ１４の上部および下部の両端に設けられたフレーム２２により支持されている。このシャフト２１には、図３に示すように、円筒部材２３が回転自在に外挿されている。

一方、チャンバ１３の上部および下部には、垂直配置のプーリ１７，１８が回転自在に軸支されている。プーリ１７，１８は、基板ホルダ１４の移送方向に沿う３箇所に配置されているが、チャンバ１３の下部に設けられた１つのプーリ１８はモータ等の搬送用駆動源２４を持ち（図１参照）、駆動プーリとして機能する。チャンバ１３の下部に設けられた残り２つのプーリ１８と、チャンバ１３の上部に設けられた３つのプーリ１７はモータ等の駆動源を持たず、ガイドプーリとして機能する。

図４はチャンバ１３の上部に設けられたプーリ１７を示し、図５はチャンバ１３の下部に設けられたプーリ１８を示す。これらプーリ１７，１８は、同図に示すように、シャフト２１の円筒部材２３が当接する受け部２５，２６の両端に一対の鍔部２７，２８を有する。このプーリ１７，１８の受け部２５，２６は、円筒部材２３がその周方向および軸方向に摺動可能なように収容する曲面を持つ。

以上の構造を具備した搬送機構１５では、移送方向に延びるシャフト２１を基板ホルダ１４の上部および下部に架設すると共にそのシャフト２１に円筒部材２３を回転自在に外挿し、垂直配置のプーリ１７，１８に基板ホルダ１４のシャフト２１の円筒部材２３を当接させるようにしている。これにより、垂直配置のプーリ１７，１８に対して基板ホルダ１４を傾斜させるようにしている（図１参照）。基板ホルダ１４は、水平状態に設置されたチャンバ１３の上部で短い回転軸２９により支持されたプーリ１７と、チャンバ１３の下部で長い回転軸３０により支持されたプーリ１８とで保持される。

このように、基板ホルダ１４のシャフト２１の円筒部材２３をプーリ１７，１８の受け部２５，２６に当接させることにより、円筒部材２３の外周面がプーリ１７，１８の受け部２５，２６の凹曲面に対して周方向で摺接することで、垂直配置のプーリ１７，１８に対して基板ホルダ１４を所定の角度（例えば、５〜１０°）でもって傾斜させることが容易となる。円筒部材２３は、シャフト２１とプーリ１７，１８との間に介在することで、基板ホルダ１４の傾斜を補助する機能を発揮する。また、円筒部材２３の外周面がプーリ１７，１８の受け部２５，２６の凹曲面に対して軸方向で摺動することにより、基板ホルダ１４を移送することも可能となっている。

このような構造を搬送機構１５に採用したことにより、プーリ１７，１８や駆動源２４を含む搬送機構１５の周辺機構を水平状態で配置することができ、チャンバ１３も水平状態で設置することが可能となる。その結果、搬送機構１５およびチャンバ１３の構造を簡素化することができ、装置の設計工数および加工工数の低減が図れる。また、プーリ１７，１８に対して基板ホルダ１４を傾斜させることで、ガラス基板１１を安定して搬送することができる。

前述したように、プーリ１７，１８は、シャフト２１の円筒部材２３が当接する受け部２５，２６の両端に一対の鍔部２７，２８を一体的に形成した構造を具備するが、チャンバ１３の上部のプーリ１７を図６および図７に示す構造とすることも可能である。この構造のプーリ１７は、一対の鍔部２７のうち、一方の鍔部２７を受け部２５に対して着脱自在としたものである。この鍔部２７の着脱構造では、受け部２５の鍔部側を円柱状とすることにより、鍔部２７の着脱を容易にしている。なお、鍔部２７は、ピン止めまたはボルト締めにより受け部２５に対して固定する構造が可能である。

このような鍔部２７の着脱構造を採用することにより、プーリ１７の一方の鍔部２７を取り外すことで、基板ホルダ１４を一方の鍔部側から搬送機構１５に取り付けたり、あるいは搬送機構１５から取り外したりすることができてメンテナンス性の向上が図れる。この場合、チャンバ１３の側壁部は、基板ホルダ１４の取り付けおよび取り外しができるように開閉可能な構造とする必要がある。

以上の実施形態では、基板ホルダ１４の両端でフレーム２２により支持されたシャフト２１に対して１つの円筒部材２３を外挿した構造について説明したが、ガラス基板１１の大型化により円筒部材２３が長尺となって撓むことでシャフト２１に対して円筒部材２３が回転し難くなるおそれがある場合には、図８および図９に示すように、複数個（図では３個）の円筒部材２３ａ〜２３ｃに分割した構造が有効である。

このような円筒部材２３ａ〜２３ｃの分割構造を採用することにより、ガラス基板１１が大型化しても、短い円筒部材２３ａ〜２３ｃが撓むことを回避でき、シャフト２１に対して円筒部材２３ａ〜２３ｃが回転し易くなるので円筒部材２３ａ〜２３ｃの機能を確実に発揮させることができる。

以上の実施形態では、シャフト２１に対して円筒部材２３を回転自在に外挿した構造について説明したが、図１０に示すように、シャフト２１と円筒部材２３との間に軸受３１を介在させるようにしてもよい。なお、図示しないが、基板ホルダ１４の上部に設けられたシャフト２１についても同様に、シャフト２１と円筒部材２３との間に軸受３１を介在させるようにしてもよい。

このような構造を採用することにより、プーリ１７，１８に当接する円筒部材２３とシャフト２１との間に軸受３１が介在することで、シャフト２１に対して円筒部材２３がより一層回転し易くなり、基板ホルダ１４の傾斜を補助する機能を確実に発揮する。その結果、垂直配置のプーリ１７，１８に対して基板ホルダ１４をより一層容易に傾斜させることができる。

以上の実施形態では、シャフト２１の円筒部材２３が当接するプーリ１７，１８の受け部２５，２６がシャフト２１の外周面と面接触する凹曲面を有する構造について説明したが、このプーリ１７，１８の受け部２５，２６は円筒部材２３が摺接することからゴミが発生するおそれがある場合には、図１１に示すように、プーリ１７，１８は、円筒部材２３との接触面積を低減させる構造を有することが有効である。

この接触面積を低減させる構造としては、プーリ１７，１８の受け部２５，２６に複数条の環状溝３２を形成する構造が可能である。このように、複数条の環状溝３２を形成することにより、各環状溝３２間に位置する複数の凸部３３のみが円筒部材２３と接触することになる。その結果、円筒部材２３との接触面積を低減させることができ、プーリ１７，１８と円筒部材２３との摺接によるゴミの発生を抑制することができる。

以上で説明した真空処理装置に基板ホルダ１４を搬入したり、あるいは真空処理装置から基板ホルダ１４を搬出したりするに際して、図１４〜図１７に示す水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６が付設された搬送機構１５（図１参照）を採用する。これにより、基板ホルダ１４を水平状態で搬入あるいは搬出することが可能となる。なお、図１５では、図１４に示す基板ホルダ１４を図示省略している。同様に、図１７では、図１６に示す基板ホルダ１４を図示省略している。

水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６は、図１８に示すように、ローディングチャンバ１３ｂに基板ホルダ１４を搬入するためにローディングチャンバ１３ｂの前段に設置した場合、基板ホルダ１４の姿勢を水平状態から傾斜状態へ変更する。また、この水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６は、アンローディングチャンバ１３ｃから基板ホルダ１４を搬出するためにアンローディングチャンバ１３ｃの後段に設置した場合、基板ホルダ１４の姿勢を傾斜状態から水平状態へ変更する。

ここで、図１および図４に示す基板ホルダ１４は、シャフト２１を直状のフレーム２２で支持した構造を具備し、チャンバ１３の上部に位置するプーリ１７の下側に円筒部材２３を当接させた状態で搬送される。一方、水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６で使用する基板ホルダ１４は、図１２および図１３に示すように、シャフト２１を屈曲状のフレーム３４で支持した構造を具備し、チャンバ１３の上部に位置するプーリ１７の上側に円筒部材２３を当接させた状態で搬送される。このように、シャフト２１を屈曲状のフレーム３４で支持することにより、水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６において、基板ホルダ１４の姿勢変更を容易にしている。

水平移動機構部３５は、図１４および図１５に示すように、基板ホルダ１４の下部側に配置され、基板ホルダ１４の移送方向と直交する水平方向に基板ホルダ１４の下部を移動させるものである。つまり、この水平移動機構部３５は、水平固定ベース３７に敷設されたガイドレール３８に移動可能に取り付けられた水平可動プレート３９と、その水平可動プレート３９の移動方向に沿うように水平固定ベース３７に架設されたボールねじ４０と、ボールねじ４０を駆動するモータ等の水平移動用駆動源４１とで構成されている。

水平可動プレート３９には、垂直配置の３つのプーリ４２（図１２のプーリ１８に相当）が回転自在に支持されており、中央に位置する１つのプーリ４２には搬送用駆動源４３（図１２の搬送用駆動源２４に相当）が連結されている。また、ボールねじ４０は、水平固定ベース３７に回転自在に取り付けられたねじ軸４４と、そのねじ軸４４に螺合し、水平可動プレート３９に固定されたナット４５とで構成されている。このねじ軸４４の端部には、前述の水平移動用駆動源４１が連結されている。

垂直移動機構部３６は、図１６および図１７に示すように、基板ホルダ１４の上部側に配置され、基板ホルダ１４の移送方向と直交する垂直方向に基板ホルダ１４の上部を移動させるものである。つまり、この垂直移動機構部３６は、垂直固定ベース４６に敷設されたガイドレール４７に移動可能に取り付けられた垂直可動プレート４８と、その垂直可動プレート４８の移動方向に沿うように垂直固定ベース４６に架設されたボールねじ４９と、ボールねじ４９を駆動するモータ等の垂直移動用駆動源５０とで構成されている。

垂直可動プレート４８には、垂直配置の３つのプーリ５１（図１２のプーリ１７に相当）が回転自在に支持されている。また、ボールねじ４９は、垂直固定ベース４６に回転自在に取り付けられたねじ軸５２と、そのねじ軸５２に螺合し、垂直可動プレート４８に固定されたナット５３とで構成されている。このねじ軸５２の端部には、前述の垂直移動用駆動源５０が連結されている。

以上の構成からなる水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６をローディングチャンバ１３ｂの前段に設置した場合、図１４に示すように、ガラス基板１１を搭載した基板ホルダ１４の下部に設けられたシャフト２１の円筒部材２３を、始点位置（図中左側位置）にある水平可動プレート３９のプーリ４２に載置すると共に、基板ホルダ１４の上部に設けられたシャフト２１の円筒部材２３を、始点位置（図中下方位置）にある垂直可動プレート４８のプーリ５１に載置する。

この状態から、水平移動用駆動源４１を駆動させることにより、ボールねじ４０を介して水平可動プレート３９を図中右側へ水平移動させる。この水平移動用駆動源４１と同期させて垂直移動用駆動源５０を駆動することにより、ボールねじ４９を介して垂直可動プレート４８を図中上方へ垂直移動させる。この時、基板ホルダ１４の上下部に設けられたシャフト２１の円筒部材２３がプーリ４２，５１に対して回転自在に当接していることから、基板ホルダ１４の姿勢は、水平状態からスムーズに起立していくことになる。

そして、図１６に示すように、水平可動プレート３９が終点位置（図中右側位置）に達すると共に垂直可動プレート４８が終点位置（図中上方位置）に達すると、基板ホルダ１５の姿勢は傾斜状態となる。このようにして、基板ホルダ１４の上下部がプーリ４２，５１で支持された状態で、水平可動プレート３９の搬送用駆動源４３を駆動させることにより、基板ホルダ１４をローディングチャンバ１３ｂに搬入することができる。

また、水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６をアンローディングチャンバ１３ｃの後段に設置した場合、水平可動プレート３９の搬送用駆動源４３を駆動させることにより、アンローディングチャンバ１３ｃから搬出されてきた傾斜状態の基板ホルダ１４は、図１６に示すように、下部のシャフト２１の円筒部材２３が、始点位置（図中右側位置）にある水平可動プレート３９のプーリ４２で支持されると共に、上部のシャフト２１の円筒部材２３が、始点位置（図中上方位置）にある垂直可動プレート４８のプーリ５１で支持される。

この状態から、水平移動用駆動源４１を駆動させることにより、ボールねじ４０を介して水平可動プレート３９を図中左側へ水平移動させる。この水平移動用駆動源４１と同期させて垂直移動用駆動源５０を駆動することにより、ボールねじ４９を介して垂直可動プレート４８を図中下方へ垂直移動させる。この時、基板ホルダ１４の上下部に設けられたシャフト２１の円筒部材２３がプーリ４２，５１に対して回転自在に当接していることから、基板ホルダ１４の姿勢は、傾斜状態からスムーズに倒れていくことになる。

そして、図１４に示すように、水平可動プレート３９が終点位置（図中左側位置）に達すると共に垂直可動プレート４８が終点位置（図中下方位置）に達すると、基板ホルダ１４の姿勢は水平状態となる。このようにして、水平状態となったガラス基板１１および基板ホルダ１４は、水平可動プレート３９のプーリ４２および垂直可動プレート４８のプーリ５１から取り外し可能となる。

以上のような水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６を採用することにより、水平状態でガラス基板１１および基板ホルダ１４を供給した上で、その基板ホルダ１４を水平状態から傾斜状態へ移行させて基板ホルダ１４の姿勢を変更することにより、ローディングチャンバ１３ｂに搬入することができる。また、アンローディングチャンバ１３ｃから搬出されてきた基板ホルダ１４を傾斜状態から水平状態へ移行させて基板ホルダ１４の姿勢を変更することで、ガラス基板１１および基板ホルダ１４を水平状態で取り出すことが可能となる。

なお、以上の実施形態では、水平固定ベース３７および垂直固定ベース４６に対して、ガイドレール３８，４７、水平可動プレート３９および垂直可動プレート４８、ボールねじ４０，４９を設けた直動機構を例示したが、本発明はこれに限定されることなく、他のガイド機構および直動機構を採用することも可能である。

以下のような簡素な構造の水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６を採用することにより、ロボット等の複雑な設備を必要とすることなく、水平状態および傾斜状態からなる基板ホルダ１４の姿勢を簡単に変更することが可能となる。また、簡素な構造の水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６を搬送機構１５に連設することで、水平移動機構部３５および垂直移動機構部３６が搬送機構１５の邪魔になることはなく、動作上のトラブルが発生することもない。

本発明は前述した実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、および範囲内のすべての変更を含む。

１１ 基板（ガラス基板）
１３ チャンバ
１４ 基板ホルダ
１５ 搬送機構
１７，１８ プーリ
２１ シャフト
２３ 円筒部材
３１ 軸受
２７，２８ 鍔部
３５ 水平移動機構部
３６ 垂直移動機構部

Claims (6)

1. 基板が着脱自在に保持される基板ホルダを有する搬送機構と、基板に対して真空状態で処理を実行するチャンバを備え、前記搬送機構により基板ホルダを移送することにより、基板をチャンバに搬入すると共に基板をチャンバから搬出する真空処理装置において、
   前記搬送機構は、基板ホルダの移送方向に沿う複数箇所に垂直配置され、基板ホルダをガイドしながら駆動するプーリを備え、移送方向に延びるシャフトを基板ホルダに架設し、垂直配置のプーリに基板ホルダのシャフトを当接させることにより、垂直配置のプーリに対して基板ホルダを傾斜させたことを特徴とする真空処理装置。
2. 前記シャフトに円筒部材を回転自在に外挿し、前記円筒部材をプーリに当接させた請求項１に記載の真空処理装置。
3. 前記シャフトと円筒部材との間に軸受を介在させた請求項２に記載の真空処理装置。
4. 前記プーリのシャフトとの当接部位は、シャフトとの接触面積を低減させる構造を備えている請求項１〜３のいずれか一項に記載の真空処理装置。
5. 前記プーリは、シャフトとの当接部位の両側に配置された一対の鍔部のうち、一方の鍔部を着脱自在とした請求項１〜４のいずれか一項に記載の真空処理装置。
6. 前記搬送機構は、基板ホルダの下部側に配置され、前記基板ホルダの移送方向と直交する水平方向に基板ホルダの下部を移動させる水平移動機構部と、基板ホルダの上部側に配置され、前記基板ホルダの移送方向と直交する垂直方向に基板ホルダの上部を移動させる垂直移動機構部とが付設されている請求項１〜５のいずれか一項に記載の真空処理装置。

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