JP2010155683A - 基板搬送機構および基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】大型基板をより安定的に搬送する。
【解決手段】複数本の搬送ローラ３０の駆動により基板Ｗを搬送する基板搬送機構。搬送ローラ３０は、二本の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂと、これら単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに固定されて基板Ｗを支持するローラ本体３２と、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂが同軸上で一体に回転するように単位ローラ軸同士を中継する中継手段３８と、を含む。中継手段３８は、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部のうち一方側の端部に設けられる第１磁石部（磁気連結板３８の磁石）と、他方側の端部に設けられる第２磁石部（磁気連結板３８の磁石）と、これら磁石部が所定隙間を隔てて互いに対向して単位ローラ軸同士を連動させるように各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部位を回転可能に支持する中央支持板４４等と、を含む。
【選択図】図２

Description

本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、光ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板をローラ搬送しながら当該基板に対して各種処理を施す基板処理装置に好適な基板搬送機構および同機構が適用される基板処理装置に関するものである。

従来から、ＬＣＤ用ガラス基板等の基板を処理槽内でローラ搬送しながら、当該基板に処理液を供給することによって現像、エッチング、剥離等のウエット処理を基板に施す基板処理装置が公知である。この種の装置は、処理槽内に複数本の搬送ローラが互いに平行に配列されており、各搬送ローラの回転駆動により基板を搬送する一方で、搬送経路に沿って配置された液供給手段により搬送中の基板に処理液を供給する構成となっている。

近年、処理対象とされる基板の大型化が著しく、これに伴い搬送ローラもその軸長が長くなる傾向にある。このような搬送ローラの長軸化は、搬送ローラのローラ軸の真円度等の精度確保を困難にしており、その結果、例えば搬送ローラの偏心回転による基板の破損（ヒビ割れ等）等、搬送不良を招く要因の一つとなっている。従って、この点を解決することが、大型基板を安定的に搬送しながら処理する上で重要となる。

このような問題を解決するのに有用な技術として特許文献１に次のような基板処理装置が記載されている。すなわち、この文献１には、ローラ軸がその軸方向に分割（３つの軸部に分割）され、隣接する軸部同士が継手によって互いに連結された構造の搬送ローラを備えたものが記載されている。この装置の目的は、処理槽に対する搬送ローラの組込みや交換等の作業性向上にあるが、当該搬送ローラの構造によると、ローラ軸を複数の軸部に分割して精度よく製作することが可能となるため、搬送ローラの長軸化による上記のような問題を解決する上で有効と考えられる。
特開２００５−３２２６７６号公報

ところが、特許文献１の搬送ローラの構造は、隣接する軸部のうち一方側の軸部の端に半月状凹部を具備する軸受部を設けておき、前記凹部に相手側軸部の端部を載せ、当該相手側軸部の端部をその径方向に挟み込むように前記軸受部に結合部材を合体、固定することにより軸部同士を一体化する構造であるため、軸部同士に微小な軸心のずれ（芯ずれ）があっても搬送ローラに軸振れが生じて良好な基板搬送が妨げられ、また、この軸振れにより軸受部に負荷が生じて搬送ローラ等が損傷するなどのトラブルを招き易い。従って、大型基板を安定的に搬送する上では未だ改善の余地がある。

本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、大型の基板をより安定的に搬送しながら当該基板に対して所望の処理を施せるようにすることを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、所定方向に並ぶ複数本の搬送ローラを有し、これら搬送ローラの駆動により前記所定方向に基板を搬送する基板搬送機構において、前記複数本の搬送ローラのうち少なくとも一つは、複数本の単位ローラ軸と、これら単位ローラ軸に固定されて基板を支持するローラ本体と、前記複数本の単位ローラ軸が同軸上で一体に回転するように、隣接する単位ローラ軸同士を中継する中継手段と、を含み、前記中継手段は、互いに隣接する単位ローラ軸の端部のうち一方側の端部に設けられる第１磁石部と、他方側の端部に設けられる第２磁石部と、これら磁石部が所定隙間を隔てて互いに対向して単位ローラ軸同士を連動させるように各単位ローラ軸の端部位を回転可能に支持する軸受部と、を含むものである。

この基板搬送機構では、搬送ローラは、複数の単位ローラ軸を有しており、これら単位ローラ軸同士が磁力によって非接触状態で一体に回転し、この回転に伴い各単位ローラ軸に固定されたローラ本体により基板を支持しながら搬送する。この構成によると、中継手段の軸受部により確実に磁石部同士を離間かつ対向させた状態で単位ローラ軸同士を一体に回転させることができ、仮に微小な軸心のずれ（芯ずれ）があっても隣接する単位ローラ軸間で円滑に回転駆動力を伝達させることができる。そのため、搬送ローラのローラ軸を複数の単位ローラ軸から構成しながらも、軸振れを伴うことなく搬送ローラを円滑に回転させることが可能となる。

より具体的に、上記の基板搬送機構は、前記搬送ローラを支持するための基台を備え、この基台上に前記軸受部を介して前記単位ローラ軸が支持されるとともに前記基台に対する前記軸受部の位置が変更可能に設けられている。

この構成によると、単位ローラ軸同士がより円滑に一体回転するように、隣接する単位ローラ軸同士の芯出しの状態を微調整することが可能となる。

なお、上記の中継手段は、単位ローラ軸に設けられる第１，第２の各磁石部が互いに単位ローラ軸の軸方向に対向するように構成されるもの、つまり、単位ローラ軸間に軸方向（スラスト方向）の磁力が作用するように構成されるものでもよいが、より強い磁力によって単位ローラ軸同士を連動させるような場合には、第１，第２の各磁石部が互いに単位ローラ軸の径方向に対向するもの、つまり、単位ローラ軸間に径方向（ラジアル方向）の磁力が生じるように構成されているのが好適である。

具体的には、前記各磁石部は単位ローラ軸の軸心回りに並ぶ複数の磁石を有し、第１磁石部の各磁石の内側に第２磁石部の各磁石が配置されて前記第１磁石部と第２磁石部とが単位ローラ軸の径方向に対向するように前記中継手段が構成される。すなわち、互いに隣接する単位ローラ軸間に軸方向の磁力が生じる構成では、各単位ローラ軸を支持する軸受部に軸方向荷重が作用するため、当該荷重によって軸受部が変形することが考えられ、このような変形を防止するために軸受部に高い強度が求められる。これに対して上記のように互いに隣接する単位ローラ軸間に径方向の磁力が生じる構成によれば、軸受部に対して磁力による荷重が作用することを回避可能となるため、これにより軸受部の強度を低減することが可能となる。

一方、本発明の基板処理装置は、所定方向に基板を搬送する基板搬送機構と、これにより前記所定方向に搬送される基板に対して所定の処理を施す処理手段とを備えた基板処理装置において、前記基板搬送機構として、上記のような基板搬送機構を備えたものである。

このような基板処理装置によれば、搬送ローラの軸長が長いものであっても、軸振れなどを伴うことなく搬送ローラを円滑に回転させることができるため、特に大型基板を搬送しながら当該基板に処理を施す場合に有用なものとなる。

本発明の基板搬送機構によれば、搬送ローラが複数の単位ローラ軸から構成されているため、搬送ローラのローラ軸を単位ローラ軸毎に精度良く製作することができる。また、単位ローラ軸同士に微小な軸心のずれ（芯ずれ）があっても隣接する単位ローラ軸間で円滑に回転駆動力を伝達させることができる。従って、軸長の長い搬送ローラであっても、当該搬送ローラをより円滑かつ安定的に回転させることが可能となり、その結果、大型の基板を安定的に搬送することができるようになる。

また、本発明の基板搬送装置によれば、上記のような基板搬送機構が適用されているため、大型の基板をより安定的に搬送しながら所定の処理を基板に施すことが可能となる。

本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。

図１は、本発明にかかる基板処理装置の一例を示す概略断面図である。この図に示す基板処理装置は、基板Ｗを所定方向に搬送しながら当該基板Ｗに対して薬液処理等の所定のウエット処理を施す処理部１と、処理液を貯溜するタンク２と、前記処理部１とタンク２との間で処理液を循環させる循環系統等とを備える。

前記処理部１は、箱形の処理槽１０を有している。処理槽１０は、処理される基板Ｗを収容することができる形状を有しており、その全体がＳＵＳや硬質で耐薬品性の高い樹脂材料、例えば塩化ビニル等により構成されている。

この処理槽１０には、後述する基板搬送機構が付加されており、当実施形態では、同図中に矢印で示すように、処理槽１０の側壁のうち一方側（同図左側）の側壁から処理槽１０内に基板Ｗが搬入され、当該側壁に対向する他方側の側壁に向かって基板Ｗが搬送された後、当該側壁から搬出されるようになっている。従って、当該各側壁には、それぞれ横長スリット状の搬入口１２ａ及び搬出口１２ｂが形成され、これら搬入口１２ａ及び搬出口１２ｂが、処理槽１０に付加されるシャッタ１４，１４により開閉可能となっている。

処理槽１０内には、基板Ｗに処理液を供給するための複数のノズル部材１６が、基板Ｗの搬送方向に一定の間隔を隔てて配置されている。各ノズル部材１６は、それぞれ基板Ｗの搬送方向と直交する方向における複数の位置に処理液を噴射するための噴射口を備えており、各噴射口からシャワー状に処理液を噴射する。なお、処理槽１０は、下向きにやや窄んだ漏斗状の内底部１０ａを有しており、各ノズル部材１６から基板Ｗに供給された処理液が内底部１０ａに沿って収集されつつ排出口１３から排出されるよう構成されている。

処理液の循環系統は、ポンプ２２およびフィルタ２４等を具備する送液配管２０と、前記排出口１３を通じて処理槽１０から導出される処理液を回収する回収配管２１とを含み、タンク２から送液配管２０を通じてノズル部材１６に処理液を送液しつつ各ノズル部材１６から基板Ｗに処理液を供給し、使用後の薬液を、回収配管２１を通じてタンク２に回収する構成となっている。

基板搬送機構は、上記の通り、処理槽１０内において基板Ｗを搬入口１２ａから搬出口１２ｂに向けて搬送するものである。この基板搬送機構は、基板搬送方向に並ぶ複数本の搬送ローラ３０と、各搬送ローラ３０を駆動する駆動系５０とを備えている。

各搬送ローラ３０は、図２に示すように、装置前後方向に並ぶ二本の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂと、これら単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに固定されて基板Ｗを支持するローラ本体３２と、前記単位ローラ軸３１ａ，３１ｂが同軸上で一体に回転するように単位ローラ軸同士を中継する中継手段と、を含み、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの回転に伴い基板Ｗをローラ本体３２により支持しつつその接線方向に搬送する。なお、図２中では左側が装置前側となる。

前記中継手段は、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部うち互いに向かい合う部分にそれぞれ設けられる磁気連結板３８と、これら磁気連結板３８が所定隙間を隔てて互いに対向する状態で各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部位を回転可能に支持する後記中央支持板４４等と、を含む。

磁気連結板３８は円盤状の部材で、図５に示すように、樹脂等の非磁性体からなる円盤状のベース３８０に対してその中心軸回りの複数の位置に永久磁石３８１が埋設（保持）された構造となっており、各磁気連結板３８の永久磁石３８１（以下、磁石３８１と略す）同士が軸方向に対向するように単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部に固定されている。磁気連結板３８の各磁石３８１は、隣接するもの同士の磁極の向き（Ｎ極とＳ極の向き）が交互に異なるようにベース３８０に対して埋設されている。

そして、処理槽１０の内底部１０ａ（本発明の基台に相当する）であってその前後方向中央部に中央支持板４４が設けられ、各磁気連結板３８（磁石３８１）が所定隙間を隔てて互いに対向し、かつ両磁気連結板３８間により生じる磁気吸引力により単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ同士が連動するように、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部のうち磁気連結板３８が固定される側の端部位が中央支持板４４により回転可能に支持されるとともにこれとは反対側の端部が、前記内底部１０ａの前後両端に設けられる端部支持板４５により回転可能に支持されている。

中央支持板４４は、図２および図３に示すように、処理槽１０の前記内底部１０ａに沿う底部４４ａとその前後両端に直立して設けられる一対の支持部４４ｂとを備えた断面Ｕ字型の形状を有している。各支持部４４ｂには、転がり軸受けからなる軸受部材３６が装着されており、これら軸受部材３６に対して両支持部４４ｂの外側から単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部がそれぞれ挿入され、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部のうち両支持部４４ｂの内側に突出した部分に前記磁気連結板３８が固定されている。

各軸受部材３６は、その外周面（外輪の外周面）上に周溝３６ａを有しており、図３に示すように、前記支持部４４ｂに形成された上下に延びるＵ字型の切欠き部４４１に対して上方から挿入され、前記周溝３６ａに切欠き部４４１の縁部が差し込まれた状態で中央支持板４４に装着されている。そして、図４に示すように、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂのうち軸受部材３６を挟んだ両側の位置には、それぞれ止め輪３５が固定され、これにより各中央支持板４４に対する各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの軸方向変位が規制されて各磁気連結板３８（磁石３８１）の間に上記所定隙間が確保されている。すなわち、当実施形態では、中央支持板４４及び軸受部材３６が本発明の軸受部に相当し、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部のうち一方側の端部に固定される磁気連結板３８の磁石３８１が本発明の第１磁石部に相当し、他方側の端部に固定される磁気連結板３８の磁石３８１が本発明の第２磁石部に相当する。

なお、中央支持板４４は、処理槽１０の内底部１０ａに対して高さ調整が可能に設けられている。詳しくは、前記内底部１０ａには基板搬送方向に延びる補強部材１０１が固定されており、この補強部材１０１上に複数のガイドピン１０２が立設されている。そして、中央支持板４４の前記底部４４ａにガイド孔を有するガイド部材４６が組付けられ、当該ガイド部材４６に前記ガイドピン１０２が挿入された状態で補強部材１０１上に中央支持板４４が支持されている。そしてさらに、中央支持板４４の底部４４ａに高さ調整用のボルト４７が螺合装着されるとともに当該ボルト４７を中央支持板４４に固定するためのナット４８が当該ボルト４７に螺合装着されている。つまり、ナット４８を緩めてボルト４７を回転操作すると、中央支持板４４がガイドピン１０２に沿って移動し、所望の高さ位置でナット４８を締めてボルト４７を中央支持板４４に固定すると、その高さ位置に中央支持板４４を保持できる構成となっている。なお、実施形態では、前記ガイドピン１０２もねじ軸から構成されており、中央支持板４４の高さ位置決定後は、ナット４９を当該ガイドピン１０２に装着してガイド部材４６に押し付けることで中央支持板４４をより安定的に固定できるようになっている。

各端部支持板４５は、図２に示すように、処理槽１０の内底部１０ａに沿う底部４５ａとその一端に直立して設けられる支持部４５ｂとを備えた断面Ｌ型の形状を有している。詳しく図示していないが、支持部４５ｂには、上述した中央支持板４４と同様の構造（図３，図４参照）で転がり軸受けからなる軸受部材３６が装着されており、これら軸受部材３６に対して各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部がそれぞれ挿入されている。これにより単位ローラ軸３１ａ，３１ｂのうち前記磁気連結板３８の固定部側とは反対側の軸端部が端部支持板４５によって回転可能に支持されている。

各端部支持板４５も上述した中央支持板４４と同様に（図４参照）、処理槽１０の内底部１０ａに対して高さ調整が可能に設けられている。すなわち、端部支持板４５は、ガイドピン１０２に沿って上下方向に変位可能となるように補強部材１０１上に支持されており、支持部４５ｂに装着される高さ調整用のボルト４７の操作により前記内底部１０ａに対してその高さを調整できるように構成されている。

なお、各支持板４４，４５は、搬送方向に配列された複数本の搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ）を支持するように構成されている。つまり、前記支持部４４ｂ，４５ｂには、基板搬送方向に並ぶように複数の軸受部材３６が一列に装着されており、各軸受部材３６に単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部がそれぞれ挿入されている。当実施形態では、５本の搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ）が共通の中央支持板４４および端部支持板４５により支持されている（図３参照）。

処理槽１０の内底部１０ａのうち中央支持板４４と両端部支持板４５の中間部分には、それぞれ補助支持板４２が設けられている。これら補助支持板４２は、上端部に支持面４２ａを有しており、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに装着される転がり軸受け３５を前記支持面４２ａで支持することにより、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの略中間部分を支持する。図示を省略しているが、補助支持板４２は、前記内底部１０ａに対する前記支持面４２ａの高さを調整できるように構成されている。

駆動系５０は、処理槽１０の後側（装置後側）に設けられており、駆動源であるモータ５２と、前記各搬送ローラ３０にそれぞれ対応して設けられる複数の駆動軸５４と、モータ５２の出力する回転駆動力を各駆動軸５４に伝達するための駆動伝達機構等とを含む。

各駆動軸５４は、処理槽１０の側壁１０ｂを挟んで各搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ）と同軸上に並ぶように、処理槽１０の支持台１１上に設けられた軸支持部材６０により回転可能に支持されている。

駆動伝達機構は、モータ５２の出力軸に固定されるプーリ５３と、各駆動軸５４に固定されるプーリ５６と、図外のアイドルプーリ及びテンションプーリと、これら各プーリ５３，５６に巻き掛けられる駆動伝達ベルト５８とを含み、モータ５２の回転駆動力を、駆動伝達ベルト５８等を介して各駆動軸５４に伝達するように構成されている。

そして、各搬送ローラ３０の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂうち装置後側に位置する単位ローラ軸３１ａの後端部にそれぞれ磁気連結板３９が固定される一方、各駆動軸５４の端部のうち処理槽１０側の端部にそれぞれ磁気連結板５５が固定され、各駆動軸５４の磁気連結板５５と各搬送ローラ３０の磁気連結板３９とが前記側壁１０ｂを挟み、かつ所定間隔を隔てた状態で互いに対向している。これらの磁気連結板３９，５５は、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂを連動させるための上記中継手段の磁気連結板３８と同一構造のものである。つまり、両磁気連結板３９，５５間に生じる磁気吸引力により、搬送ローラ３０の単位ローラ軸３１ａが駆動軸５４に連動するようになっている。

上記の基板処理装置では、モータ５２が回転駆動されると、その回転駆動力が駆動伝達機構により各駆動軸５４に伝達され、さらに各駆動軸５４から側壁１０ｂを介してローラ軸３１ａに非接触で伝達される。そして、この駆動力を受けて単位ローラ軸３１ａ，３１ｂが一体回転することにより、つまり搬送ローラ３０が回転することにより当該搬送ローラ３０の回転に伴い基板Ｗが搬送され、さらにこの基板Ｗの搬送中に前記ノズル部材１６から基板Ｗに処理液が供給されることにより当該基板Ｗに対して所定の処理が施される。

以上説明した本発明に係る基板処理装置によれば、各搬送ローラ３０のローラ軸が複数本の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂから構成されているため、搬送ローラ３０全体としての軸長が長いものであっても、ローラ軸を単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに分けて精度良く製作することができる。また、このようにローラ軸を単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに分割して製作することで、軸長の長い一本のローラ軸を製作する場合に比べて搬送ローラ３０をより安価に製作することが可能となる。

しかも、上記の構成によると、中継手段によって確実に磁気連結板３８同士を離間かつ対向させた状態で単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ同士を一体に回転させることができ、仮に微小な軸心のずれ（芯ずれ）等があっても単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ間で円滑に回転駆動力を伝達させることができる。そのため、搬送ローラ３０のローラ軸を複数（二本）の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂから構成しながらも、軸振れを伴うことなく搬送ローラ３０を円滑に回転させることが可能となる。

従って、従来のこの種の装置、つまり、軸部同士に微小な軸心のずれ（芯ずれ）があっても搬送ローラに軸振れが生じて良好な基板搬送が妨げられ、また、この軸振れにより軸受け部分に負荷が生じて搬送ローラ等が損傷する等のトラブルを招くおそれがある従来装置に比べると、軸長の長い搬送ローラ３０をより円滑に回転させることが可能となり、その結果、大型の基板Ｗをより安定的に搬送しながら当該基板Ｗに対して所定の処理を施すことができるようになる。

また、上記基板処理装置では、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの軸方向両端が支持板４４，４５により支持された上で、処理槽１０の内底部１０ａに対する支持板４４，４５の高さが変更（調整）可能に設けられている。そのため、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ同士がより円滑に一体回転するように、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ軸同士の芯出しの状態を微調整することができ、この点でも、各搬送ローラ３０をより円滑に回転させることができるという利点がある。

ところで、以上説明した基板処理装置は、本発明に係る基板処理装置（本発明に係る基板搬送機構が適用される基板処理装置）の実施形態の一例であって、その具体的な構成は本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変形可能である。

例えば、上記実施形態では、搬送ローラ３０の中継手段は、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに固定される各磁気連結板３８の磁石３８１同士を互いに軸方向に対向させる構成、つまり、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ間に軸方向（スラスト方向）の磁気吸引力が作用する構成であるが、図６，図７に示すように、各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに固定される各磁気連結板３８Ａ，３８Ｂの磁石３８１同士が径方向に対向するもの、つまり、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ間に径方向（ラジアル方向）の磁力が生じる構成としてもよい。

具体的に説明すると、一方側の単位ローラ軸３１ａに固定される磁気連結板３８Ａは、他方側の単位ローラ軸３１ｂに向かって開く断面円形の凹部３８２を有したベース３８０を有し、このベース３８０の前記凹部３８２の内周面に沿った複数の位置に磁石３８１が埋設（保持）された構成となっている。これに対して、他方側の単位ローラ軸３１ｂに固定される磁気連結板３８Ｂは、略円柱状のベース３８０を有し、その外周面に沿った複数の位置に磁石３８１が埋設（保持）された構成となっている。なお、磁気連結板３８Ａ，３８Ｂの各磁石３８１は、同図に示すように、周方向に隣接するもの同士の磁極の向き（Ｎ極とＳ極の向き）が交互に異なるように設けられている。

そして、磁気連結板３８Ａ，３８Ｂの磁石３８１同士が径方向に対向するように、磁気連結板３８Ａの前記凹部３８２に対して磁気連結板３８Ｂが挿入された状態で単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部に磁気連結板３８Ａ，３８Ｂが固定されている。これにより単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ間に径方向の磁気吸引力が生じ、当該磁気吸引力により単位ローラ軸３１ａ，３１ｂが連動するようになっている。

このような構成によれば、搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ）を支持する支持板４４，４５や軸受部材３６等の強度を低減することができるという利点がある。すなわち、図２〜図４に示すような実施形態の構成では、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ間に軸方向（スラスト方向）の磁気吸引力が生じるため、これを支持する支持板４４，４５等にも前記軸方向の荷重が作用する。そのため、より強い磁力によって単位ローラ軸３１ａ，３１ｂ軸同士を連動させるような場合には、前記軸方向荷重により支持板４４，４５等が変形して単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの円滑な回転が阻害されることが考えられ、これを防止するためには支持板４４，４５等に高い強度が求められる。これに対して、図６，図７のように単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの径方向（ラジアル方向）に磁気吸引力が生じる構成によると、支持板４４，４５等に対して磁力による荷重が作用することを回避できるため、支持板４４，４５の強度を低減することができ、その結果、装置構成を簡素で安価なものにすることができる。なお、この例では、磁気連結板３８Ａの磁石３８１が本発明の第１磁石部に相当し、磁気連結板３８Ｂの磁石３８１が本発明の第２磁石部に相当する。また、上記実施形態では、搬送ローラ３０のローラ軸は、二本の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂからなるが、より軸長の長い搬送ローラ３０については、ローラ軸を３本又４本以上の単位ローラ軸によって構成するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂを支持する支持板４４，４５は、処理槽１０の内底部１０ａに対して高さ調整が可能となっているが、さらに基板搬送方向の位置を調整（変更）できるようにしてもよい。

また、上記実施形態では、モータ５２の回転駆動力を、磁力を利用して駆動軸５４から搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ）に非接触で伝達するように構成されているが、例えば搬送ローラ３０の一方側の単位ローラ軸３１ａを、処理槽１０の側壁１０ｂを貫通させて装置後側に延設するとともにこの延設部分にプーリを装着し、当該プーリに対して直接駆動伝達ベルト５８を掛け渡すことにより、前記モータ５２の回転駆動力を搬送ローラ３０（単位ローラ軸３１ａ）に伝達するように構成してもよい。

また、上記実施形態では、基板Ｗに処理液を供給して所定の処理を施す、いわゆるウエット処理タイプの基板処理装置に本発明を適用しているが、本発明の適用は、このようなウエット処理タイプの基板処理装置に限定されるものではなく、基板Ｗを搬送しながら所定の処理を基板に施す各種の基板処理装置に適用可能である。

本発明の実施の形態に係る基板処理装置（処理液の循環系統を含む）を示す側面模式図である。 基板搬送機構の構成を示す図１のII−II線断面図である。 搬送ローラを構成する単位ローラ軸同士の中継部分の構成を示す斜視図である。 搬送ローラを構成する単位ローラ軸同士の中継部分の構成を示す図３のIV矢視図である。 磁気連結板の構成を示す模式図である。 単位ローラ軸同士の中継部分の構成の変形例を示す断面図である。 単位ローラ軸同士の中継部分の構成の変形例を示す図６のVII−VII線断面図である。

符号の説明

１０ 処理槽
３０ 搬送ローラ
３１ａ，３１ｂ 単位ローラ軸
３２ ローラ本体
３６ 軸受部材
３８，３８Ａ，３８Ｂ，３９，５５ 磁気連結板
４４ 中央支持板
４５ 端部支持板
５０ 駆動系
Ｗ 基板

Claims (4)

1. 所定方向に並ぶ複数本の搬送ローラを有し、これら搬送ローラの駆動により前記所定方向に基板を搬送する基板搬送機構において、
   前記複数本の搬送ローラのうち少なくとも一つは、複数本の単位ローラ軸と、これら単位ローラ軸に固定されて基板を支持するローラ本体と、前記複数本の単位ローラ軸が同軸上で一体に回転するように、隣接する単位ローラ軸同士を中継する中継手段と、を含み、
   前記中継手段は、互いに隣接する単位ローラ軸の端部のうち一方側の端部に設けられる第１磁石部と、他方側の端部に設けられる第２磁石部と、これら磁石部が所定隙間を隔てて互いに対向して単位ローラ軸同士を連動させるように各単位ローラ軸の端部位を回転可能に支持する軸受部と、を含むことを特徴とする基板搬送機構。
2. 請求項１に記載の基板搬送機構において、
   前記搬送ローラを支持するための基台を備え、この基台上に前記軸受部を介して前記単位ローラ軸が支持されるとともに前記基台に対する前記軸受部の位置が変更可能に設けられていることを特徴とする基板搬送機構。
3. 請求項１に記載の基板搬送機構において、
   前記各磁石部は単位ローラ軸の軸心回りに並ぶ複数の磁石を含み、第１磁石部の各磁石の内側に第２磁石部の各磁石が配置されて前記第１磁石部と第２磁石部とが単位ローラ軸の径方向に対向するように前記中継手段が構成されることを特徴とする基板搬送機構。
4. 所定方向に基板を搬送する基板搬送機構と、これにより前記所定方向に搬送される基板に対して所定の処理を施す処理手段とを備えた基板処理装置において、
   前記基板搬送機構として、請求項１乃至３の何れか一項に記載の基板搬送機構を備えていることを特徴とする基板処理装置。

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